JP3040934B2 - 洗浄剤組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、洗浄剤組成物に関す
る。さらに詳しくは、本発明は、フロン洗浄剤や１,１,
１−トリクロロエタン洗浄剤の代替洗浄剤として、電子
部品洗浄工程、金属部品洗浄工程に使用され、油脂類、
指紋、微粒子（パーティクル）、イオン性物質の除去に
有効なすぐれた洗浄力をもち、かつ、生分解性で環境を
汚染することのない洗浄剤組成物に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】精密電子部品、例えば、コンピュータ記
憶デバイスとして使用されるハードディスクドライブ周
辺部品等は、組み立て工程において、金型成型部品、樹
脂成型部品から組み立てられる。各々成型部品には、鉱
物油系切削油、水溶性切削油、さらには、極圧添加剤等
を含んだ微粒子状汚染物が残渣として表面に存在してい
る。これらの汚染物質が残存すると、電気回路の電気特
性の劣化あるいは回路の破壊の原因となることがあるた
め、これらを成型部品から洗浄除去することが不可欠と
なっている。従来、精密電子部品の洗浄には、トリクロ
ロフルオロエタン、１,１,１−トリクロロエタン等のハ
ロゲン化炭化水素溶剤が使用されてきたが、オゾン層破
壊等の環境汚染問題から、これらのハロゲン化炭化水素
溶剤の使用が規制され、また将来の使用禁止が決定され
たことにより、これに変わる新たな洗浄剤の開発が急務
となっている。近時、フロン代替、トリクロロエタン代
替の精密洗浄剤が、種々開発されている。主なものは、
アルコール系、テルペン系、水系洗浄剤、及び炭化水素
系の洗浄剤である。しかしながら、従来開発されてきた
水系洗浄剤は、水溶性であるため引火性はないが、精密
電子部品の洗浄力が弱く、金属腐食性のおそれがある。
溶剤を用いた洗浄剤は、油脂類の溶解性、電子部品の細
部への浸透性には問題はないが、引火性、臭気、水リン
ス性に問題がある。このように、洗浄性、引火性、臭気
等のすべての要求性能を十分に満足するものが、未だ見
出されてないのが現状である。また、最近の精密電子部
品業界では、小型化、高精密化が急速に進んでおり、よ
り洗浄性が強く、金属腐食性が低く、プラスチックへの
影響の少ない、すぐれた洗浄剤が要求されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来のフロ
ン系や１,１,１−トリクロロエタン系洗浄剤では満足さ
せることのできなかった、洗浄性、金属への腐食防止
性、低温及び高温領域での洗浄剤組成物のpH安定性を改
善し、さらに引火性及び臭気のない洗浄剤組成物を提供
することを目的としてなされたものである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、ポリオキシ
エチレンラウリルエーテルとジプロピレングリコールメ
チルエーテルを主成分とし、これにアルキル安息香酸、
トリエタノールアミン及び２,２'−メチレンビス（４−
エチル−６−tert−ブチルフェノール）を含有せしめて
なる洗浄剤組成物が、安定性、洗浄力及び生分解性のす
べてにすぐれていることを見いだし、この知見に基づい
て本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、 （１）（Ａ）一般式［１］ Ｃ₁₂Ｈ₂₅Ｏ(Ｃ₂Ｈ₄０)_nＨ …［１］ （ただし、式中、ｎは６〜９である。）で表されるポリ
オキシエチレンラウリルエーテル０.１〜１重量％、
（Ｂ）ジプロピレングリコールメチルエーテル０.１〜
１重量％、（Ｃ）一般式［２］

【化３】 （ただし、式中、Ｒは炭素数３〜７を有するアルキル基
である。）で表されるアルキル安息香酸０.０５〜０.１
重量％、（Ｄ）トリエタノールアミン０.０５〜０.２重
量％、及び、（Ｅ）２,２'−メチレンビス（４−エチル
−６−tert−ブチルフェノール）０.０００１〜０.０１
重量％を含有することを特徴とする洗浄剤組成物、及
び、（２）（Ａ）一般式［１］ Ｃ₁₂Ｈ₂₅Ｏ(Ｃ₂Ｈ₄０)_nＨ …［１］ （ただし、式中、ｎは６〜９である。）で表されるポリ
オキシエチレンラウリルエーテル２〜２０重量％、
（Ｂ）ジプロピレングリコールメチルエーテル２〜２０
重量％、（Ｃ）一般式［２］

【化４】 （ただし、式中、Ｒは炭素数３〜７を有するアルキル基
である。）で表されるアルキル安息香酸１〜２重量％、
（Ｄ）トリエタノールアミン１〜４重量％、（Ｅ）２,
２'−メチレンビス（４−エチル−６−tert−ブチルフ
ェノール）０.００２〜０.２重量％を含有することを特
徴とする洗浄剤組成物、を提供するものである。本発明
の洗浄剤組成物の一態様は、低濃度の成分を含有するも
のであり、精密電子部品製造工場などにおいて、直ちに
工程で使用することができるものである。本態様の洗浄
剤組成物は、使用前の希釈などの前処理を必要とせず、
簡便に使用することができる。本発明の洗浄剤組成物の
他の一態様は、高濃度の成分を含有するものであり、精
密電子部品工場などにおいて、適当な濃度に希釈して使
用するものである。本態様の洗浄剤組成物は、運搬及び
保管に要する費用を節減しうるのみならず、防かび剤の
添加がない洗浄剤組成物中でも、微粒子の原因となる微
生物が繁殖しないので、長期にわたり保存することがで
きる。防かび剤は金属類の腐食の原因となることがある
ので、防かび剤を含有しないことは洗浄剤組成物にとっ
て望ましい。

【０００５】以下に、本発明の洗浄剤組成物について詳
細に説明するが、まず、比較的低濃度の成分を含有する
態様について述べる。本発明の洗浄剤組成物は、（Ａ）
一般式［１］ Ｃ₁₂Ｈ₂₅Ｏ(Ｃ₂Ｈ₄０)_nＨ …［１］ （ただし、式中、ｎは６〜９である。）で表されるポリ
オキシエチレンラウリルエーテル０.１〜１重量％、及
び、（Ｂ）式［３］ ＣＨ₃Ｏ(Ｃ₃Ｈ₆Ｏ)₂Ｈ …［３］ で表されるジプロピレングリコールメチルエーテル０.
１〜１重量％を含有する。ポリオキシエチレンラウリル
エーテル及びジプロピレングリコールメチルエーテルが
共存すると、相乗効果により精密電子部品に付着する油
脂類、指紋、微粒子、イオン性物質などに対して強力な
洗浄効果を発揮する。ポリオキシエチレンラウリルエー
テルもジプロピレングリコールメチルエーテルも水溶性
であるために、本発明の洗浄剤組成物は水系洗浄剤とし
て使用することができる。また、ポリオキシエチレンラ
ウリルエーテルもジプロピレングリコールメチルエーテ
ルも良好な生分解性を有しているので、活性汚泥法など
により容易に排水を処理することができ、環境を汚染す
ることがない。ポリオキシエチレンラウリルエーテルの
含有量が０.１重量％未満であると、洗浄力が十分でな
いおそれがある。ポリオキシエチレンラウリルエーテル
の含有量が１重量％を超えると、洗浄後のリンス工程に
要する純水の量が増え、排水処理の負荷が増す。ジプロ
ピレングリコールメチルエーテルの含有量が０.１重量
％未満であると、洗浄力が十分でないおそれがある。ジ
プロピレングリコールメチルエーテルの含有量が１重量
％を超えると、洗浄後のリンス工程に要する純水の量が
増え、排水処理の負荷が増す。本発明の洗浄剤組成物
は、（Ｃ）一般式［２］

【化５】 （ただし、式中、Ｒは炭素数３〜７を有するアルキル基
である。）で表されるアルキル安息香酸０.０５〜０.１
重量％を含有する。アルキル安息香酸は防錆効果を有し
ていて、アルキル安息香酸を含有せしめることにより、
ステンレス鋼、アルミニウム、マグネシウムなどの金属
への錆の発生を防止することができる。アルキル安息香
酸の含有量が０.０５重量％未満であると、防錆効果が
十分でなく、酸性又はアルカリ性条件下では錆が発生す
るおそれがある。防錆効果はアルキル安息香酸の含有量
０.１重量％以下で十分であり、アルキル安息香酸の含
有量が０.１重量％を超えて使用することもできるが、
アルキル安息香酸の含有量が０.１重量％を超えてもそ
れ以上の効果は期待できない。

【０００６】本発明の洗浄剤組成物は、（Ｄ）式［４］ Ｎ(Ｃ₂Ｈ₄ＯＨ)₃ …［４］ で表されるトリエタノールアミン０.０５〜０.２重量％
を含有する。トリエタノールアミンを含有せしめること
により、洗浄剤組成物のpHを安定化せしめることができ
る。オキシアルキレン構造を有する界面活性剤を含有す
る洗浄剤組成物は、高温に長時間保たれるとオキシアル
キレン構造部分に酸化が起こり、酸が生成するためにpH
が低下することが多い。pHが低下し洗浄剤組成物が酸性
になると、被洗浄物や洗浄設備に腐食や錆の発生などの
悪影響を与えるおそれがある。本発明の洗浄剤組成物
は、高温に長時間保ってもpHが変動することがない。ト
リエタノールアミンの含有量が０.０５重量％未満であ
ると、pHの安定化効果が十分でなく洗浄剤組成物が酸性
になるおそれがある。pHの安定化効果は、トリエタノー
ルアミンの含有量０.２重量％以下で十分であり、トリ
エタノールアミンの含有量が０.２重量％を超えて使用
することもできるが、トリエタノールアミンの含有量が
０.２重量％を超えてもそれ以上の効果は期待できな
い。本発明の洗浄剤組成物は、（Ｅ）式［５］

【化６】 で表される２,２'−メチレンビス（４−エチル−６−te
rt−ブチルフェノール）０.０００１〜０.０１重量％を
含有する。２,２'−メチレンビス（４−エチル−６−te
rt−ブチルフェノール）を含有せしめることにより、洗
浄剤組成物の酸化を防止することができる。酸化防止剤
は、フェノール系、硫黄系、リン系など数多くのものが
知られており、フェノール系に限っても、２,６−ジ−t
ert−ブチル−ｐ−クレゾールなどのモノ型、２,２'−
メチレンビス（４−メチル−６−tert−ブチルフェノー
ル）などのビス型、１,１,３−トリス（２−メチル−４
−ヒドロキシ−５−tert−ブチルフェニル）ブタンなど
の高分子型などがあるが、これらの酸化防止剤の中で
２,２'−メチレンビス（４−エチル−６−tert−ブチル
フェノール）が、本発明の洗浄剤組成物において特異的
にすぐれた酸化防止効果を発揮する。２,２'−メチレン
ビス（４−エチル−６−tert−ブチルフェノール）の含
有量が０.０００１重量％未満であると、酸化防止効果
が十分でなく、例えば、高温に長時間保たれると酸化が
起こるおそれがある。酸化防止効果は、２,２'−メチレ
ンビス（４−エチル−６−tert−ブチルフェノール）の
含有量０.０１重量％以下で十分であり、２,２'−メチ
レンビス（４−エチル−６−tert−ブチルフェノール）
の含有量が０.０１重量％を超えて使用することもでき
るが、２,２'−メチレンビス（４−エチル−６−tert−
ブチルフェノール）の含有量が０.０１重量％を超えて
もそれ以上の効果は期待できない。本発明の洗浄剤組成
物には、必要に応じて防かび剤を含有せしめることがで
きる。含有せしめる防かび剤には特に制限はなく、例え
ば、テトラメチルチウラムジスルフィド、ｏ−フェニル
フェノール、フタル酸フェニル水銀、ペンタクロロフェ
ノール、サリチルアニリド、ナフテン酸銅、ビス（５−
クロロ−２−ヒドロキシフェニル）メタンなどを挙げる
ことができるが、本発明の洗浄剤組成物においては、２
−ブロモ−２−ニトロ−１,３−プロパンジオールを特
に好適に使用することができる。２−ブロモ−２−ニト
ロ−１,３−プロパンジオールの含有量は、０.００２〜
０.０５重量％であることが好ましい。

【０００７】本発明の洗浄剤組成物の高濃度の成分を含
有する他の一態様においては、洗浄剤組成物は上記の
（Ａ）成分を２〜２０重量％、（Ｂ）成分を２〜２０重
量％、（Ｃ）成分を１〜２重量％、（Ｄ）成分を１〜４
重量％及び（Ｅ）成分を０.００２〜０.２重量％含有す
る。各成分を高濃度化することにより、洗浄剤組成物の
中で生菌が増殖しなくなる。生菌の増殖を抑制する機構
は明らかでないが、ポリオキシエチレンラウリルエーテ
ル、ジプロピレングリコールメチルエーテル及びアルキ
ル安息香酸の３者が相乗的に作用して生菌の増殖を抑制
するものと推定される。ポリオキシエチレンラウリルエ
ーテルの含有量が２重量％未満であり、ジプロピレング
リコールメチルエーテルの含有量が２重量％未満であ
り、アルキル安息香酸の含有量が１重量％未満である
と、洗浄剤組成物に生菌を加えると増殖する。トリエタ
ノールアミンの含有量が１重量％未満であると、洗浄剤
組成物を使用するために希釈したとき、pH安定化効果が
十分でない。２,２'−メチレンビス（４−エチル−６−
tert−ブチルフェノール）の含有量が０.００２重量％
未満であると、洗浄剤組成物を使用するために希釈した
とき、酸化を防止する効果が十分でない。本発明の洗浄
剤組成物の高濃度の成分を含有する態様において、ポリ
オキシエチレンラウリルエーテルの含有量が２０重量％
を超え、ジプロピレングリコールメチルエーテルの含有
量が２０重量％を超え、アルキル安息香酸の含有量が２
重量％を超え、トリエタノールアミンの含有量が４重量
％を超え、２,２'−メチレンビス（４−エチル−６−te
rt−ブチルフェノール）の含有量が０.２重量％を超え
ると、洗浄剤組成物が均一な組成物とならず、相分離を
起こすおそれがある。本発明の洗浄剤組成物において、
上記の（Ａ）〜（Ｅ）成分、及び必要に応じて添加する
他の成分以外の残余は、溶剤として水を使用する。使用
する水は、金属イオンやハロゲンイオンなどのイオン
類、微生物、微細異物粒子などを除去した純水であるこ
とが望ましい。必要に応じて、水に可溶な溶剤をさらに
添加することができる。このような溶剤としては、例え
ば、メタノール、エタノール、プロパノール、フルフリ
ルアルコールなどのアルコール類、ジオキサン、テトラ
ヒドロフランなどの環状エーテル類、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
プロピレングリコールなどのグリコール類、エチレング
リコールモノアセテート、エチレングリコールモノエチ
ルエーテルアセテートなどのエステル類、アセトン、メ
チルエチルケトンなどのケトン類などを挙げることがで
きる。

【０００８】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら限
定されるものではない。 実施例１ ヘプタオキシエチレンラウリルエーテル０.４重量％、
ジプロピレングリコールメチルエーテル０.４重量％、
ｐ−tert−ブチル安息香酸０.０７５重量％、トリエタ
ノールアミン０.１重量％、２,２'−メチレンビス（４
−エチル−６−tert−ブチルフェノール）０.０００２
重量％を含有し、残余が純水である洗浄剤組成物を調製
した。洗浄基板として、指紋をつけたテクスチャー透明
導電膜付きガラス、エアブローしたテクスチャー透明導
電膜付きガラス、エアブローしたコーニングガラス及び
レーザースクライブしたテクスチャー透明導電膜付きガ
ラスの４種、大きさはいずれも１００mm×１００mmのも
のを準備し、洗浄前のパーティクル個数を目視及び光学
顕微鏡により観察した。スピン方式の洗浄機［長瀬産業
(株)製、モデルＧＰＣ−３５００］を用い、上記の４種
の洗浄基板のそれぞれを、高圧市水スプレー３０秒、ス
ピン３００rpm、市水リンス３０秒、スピン５００rpm、
上記の洗浄剤組成物併用ブラシ洗浄４０秒、スピン１０
０rpm、高圧市水スプレー３０秒、スピン５００rpm、市
水リンス３０秒、スピン５００rpm、乾燥６０秒、スピ
ン２０００rpmの６工程で洗浄した。なお、スプレー及
びリンスに用いた市水は、あらかじめ０.２μｍフィル
ターでろ過したものであり、ブラシは毛先０.１mmのナ
イロン製で、洗浄剤組成物はブラシ先端から吐出される
構造となっている。洗浄後の洗浄基板のパーティクル個
数及びブラシ跡を目視及び光学顕微鏡により観察した。
結果を第１表に示す。

【０００９】

【表１】

【００１０】指紋をつけたテクスチャー透明導電膜付き
ガラスには、洗浄後は指紋は認められなかった。洗浄後
のテクスチャー透明導電膜付きガラス上のパーティクル
個数、ブラシ跡ともに少なく、ブラシを用いた洗浄方法
は、テクスチャー透明導電膜付きガラスを傷つけること
なく、良好な洗浄が行われたことが分かる。実施例２及
び比較例１５インチシリコンウエハーに、第２表に示す
汚染物質を１０００rpm、３００秒でスピンコートし、
そのまま、あるいは、さらに１５０℃で１時間ポストベ
ークしたものを洗浄用の試料とした。実施例１で調製し
たものと同じ洗浄剤組成物を用い、第１洗浄槽は洗浄剤
組成物により５０℃で１分、第２洗浄槽は洗浄剤組成物
により５０℃で１分洗浄、第１リンス槽は純水により常
温で２分、第２リンス槽は純水により常温で１分、第３
リンス槽は純水により常温で１分リンス、温純水引上槽
は６０℃で１分かけ毎秒３mmで引き上げ、乾燥機は５５
℃の熱風により５分乾燥という７工程で洗浄を行った。
なお、第１洗浄槽より第３リンス槽までは、３８kHz、
６００ワットの超音波をかけた。洗浄後のウエハーにつ
いて目視で汚染物質の残存状態を観察し、パーティクル
カウンターによりウエハー上に残るパーティクルをカウ
ントした。さらに、ウエハーを四塩化炭素に浸漬し、超
音波を併用してウエハー上の残渣を抽出し、抽出液につ
いて２８０nmの透過率と吸光度を測定した。結果を第２
表に示す。比較例１として、本発明の洗浄剤組成物の代
わりにフロン１１３を用いて実施例２と全く同じ操作を
繰り返した。結果を第２表に示す。

【００１１】

【表２】

【００１２】本発明の洗浄剤組成物を使用した実施例２
の結果と、フロン１１３を使用した比較例１の結果を比
較すると、目視による汚染物質の残存状態の観察では、
鉱物系切削油をベークした１点を除いて、本発明の洗浄
剤組成物が同等又は良好な結果を与えている。また、ウ
エハー上のパーティクルの個数は、すべての試料につい
て、本発明の洗浄剤組成物を使用した方がフロン１１３
を使用した場合よりも少ない。さらに、２８０nmの紫外
線の透過率は、鉱物系切削油をベークした試料と、水溶
性切削油をベークした試料の２点を除いた８点の試料に
ついて、本発明の洗浄剤組成物を使用した方が透過率が
大きい。これらの点から総合的に評価すると、本発明の
洗浄剤組成物はその性能において、フロン１１３よりは
るかにすぐれていることが分かる。 実施例３及び比較例２ スピン方式の洗浄機［Ｕｌｔｒａｔｅｃｈ(株)製、モデ
ルＰＣ−６０２］を用い、４インチシリコーンウエハー
を、高圧ジェット３０秒、スピン５００rpm、ブラシ洗
浄４０秒、スピン５００rpm、高圧ジェット５０秒、ス
ピン２０００rpm、純水リンス３０秒、スピン５００rp
m、赤外スピンドライ９０秒、スピン２０００rpm、スピ
ンドライ１０秒、スピン２０００rpmの６工程で洗浄し
た。実施例３においては、ブラシ洗浄工程で、実施例１
で調製したものと同じ洗浄剤組成物を用い、比較例２に
おいては洗浄剤組成物を使用することなく、純水のみを
使用して洗浄を行った。洗浄前の試料及び洗浄後の試料
について、パーティクルカウンターにより、ウエハー上
に残るパーティクルを、その粒径別にカウントした。結
果を第３表に示す。

【００１３】

【表３】

【００１４】純水のみを使用した比較例２と比べると、
本発明の洗浄剤組成物を用いた実施例３ではウエハー上
に残存するパーティクルの数が少なく、特に純水のみに
よる洗浄では除去が困難な、粒径の小さいパーティクル
が効率よく除去されていることが分かる。 実施例４及び比較例３ ヘプタオキシエチレンラウリルエーテル１０重量％、ジ
プロピレングリコールメチルエーテル１０重量％、ｐ−
tert−ブチル安息香酸３.７５重量％、トリエタノール
アミン５重量％、２,２'−メチレンビス（４−エチル−
６−tert−ブチルフェノール）０.１重量％を含有し、
残余が純水である高濃度の洗浄剤組成物を調製した。ま
た、実施例１で調製したものと同じ低濃度の洗浄剤組成
物を、生菌増殖試験の比較例３として用いた。調製後、
洗浄剤組成物を２７℃で保存し、１週目から１週間ごと
にそれぞれの洗浄剤組成物１mlをとり、無菌シャーレ内
で５０℃の寒天培地９mlと混釈し、洗浄剤組成物を寒天
培地に均一に分散させた。冷却して平板状に固化させ、
培養器内で培養を行い、培地面に形成されたコロニーを
計数し、洗浄剤組成物１ml中の生菌数を求めた。結果を
第４表に示す。

【００１５】

【表４】

【００１６】比較例３の低濃度の洗浄剤組成物では、１
ml中の生菌数が１週目に９.６×１０²、２週目に８.９
×１０⁴、３週目には９.８×１０⁴と急激に増加してい
るのに対し、実施例４の高濃度の洗浄剤組成物では、４
週間経過後も生菌は全く発生しなかった。

【００１７】

【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物は、水系の洗浄剤
であって強い洗浄力を有しており、電子部品を洗浄し、
その後水でリンスするのみで、油脂類、パーティクル、
イオン性残渣などを除去することができる。水系の洗浄
剤であるために火災などのおそれがなく、プラスチック
の劣化や金属類の腐食を起こすことなく、また、生分解
性であるので環境を汚染することがない。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｃ１１Ｄ 3:20 3:30） (72)発明者 奥村 和史 福井県福井市文京４丁目23番１号 日華 化学株式会社内 (72)発明者 杉田 勝 東京都中央区日本橋小舟町５番１号 長 瀬産業株式会社内 (72)発明者 大関 貴志 茨城県真壁郡関城町関館字大茶367−２ 茨城日本電気株式会社内 (56)参考文献 特開 平６−80995（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−297653（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−3290（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C11D 1/68 C11D 3/20 C11D 3/30 ＣＡ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ) ＷＰＩＤＳ（ＳＴＮ)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】（Ａ）一般式［１］ Ｃ₁₂Ｈ₂₅Ｏ(Ｃ₂Ｈ₄０)_nＨ …［１］ （ただし、式中、ｎは６〜９である。）で表されるポリ
   オキシエチレンラウリルエーテル０.１〜１重量％、
   （Ｂ）ジプロピレングリコールメチルエーテル０.１〜
   １重量％、（Ｃ）一般式［２］ 【化１】 （ただし、式中、Ｒは炭素数３〜７を有するアルキル基
   である。）で表されるアルキル安息香酸０.０５〜０.１
   重量％、（Ｄ）トリエタノールアミン０.０５〜０.２重
   量％、及び、（Ｅ）２,２'−メチレンビス（４−エチル
   −６−tert−ブチルフェノール）０.０００１〜０.０１
   重量％を含有することを特徴とする洗浄剤組成物。
2. 【請求項２】（Ａ）一般式［１］ Ｃ₁₂Ｈ₂₅Ｏ(Ｃ₂Ｈ₄０)_nＨ …［１］ （ただし、式中、ｎは６〜９である。）で表されるポリ
   オキシエチレンラウリルエーテル２〜２０重量％、
   （Ｂ）ジプロピレングリコールメチルエーテル２〜２０
   重量％、（Ｃ）一般式［２］ 【化２】 （ただし、式中、Ｒは炭素数３〜７を有するアルキル基
   である。）で表されるアルキル安息香酸１〜２重量％、
   （Ｄ）トリエタノールアミン１〜４重量％、（Ｅ）２,
   ２'−メチレンビス（４−エチル−６−tert−ブチルフ
   ェノール）０.００２〜０.２重量％を含有することを特
   徴とする洗浄剤組成物。