JP3035870B2 - 石炭誘導燃料ガスからHClとHFを除去する方法 - Google Patents
石炭誘導燃料ガスからHClとHFを除去する方法Info
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- JP3035870B2 JP3035870B2 JP3178913A JP17891391A JP3035870B2 JP 3035870 B2 JP3035870 B2 JP 3035870B2 JP 3178913 A JP3178913 A JP 3178913A JP 17891391 A JP17891391 A JP 17891391A JP 3035870 B2 JP3035870 B2 JP 3035870B2
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
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- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/46—Removing components of defined structure
- B01D53/68—Halogens or halogen compounds
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は石炭誘導燃料ガスから高
温で、そのガスを吸収剤例えば粉末状のナコライト(na
hcolite)、重炭酸ナトリウムまたは炭酸ナトリウムと
接触させることにより、SならびにHClおよび/また
はHFを除去するプロセスに関する。
温で、そのガスを吸収剤例えば粉末状のナコライト(na
hcolite)、重炭酸ナトリウムまたは炭酸ナトリウムと
接触させることにより、SならびにHClおよび/また
はHFを除去するプロセスに関する。
【0002】
【従来技術】石炭ガス化プロセスでは、石炭誘導燃料ガ
スはHClおよびHFを両者合せて約50ないし100
0ppmの濃度で含有する。これらガス化学種は水分を
持つ環境下では酸性を示す。従って、下流側にある装置
の腐蝕防止ならびに酸性ガスの外部環境への放出を最小
にするために除去されることが望ましい。
スはHClおよびHFを両者合せて約50ないし100
0ppmの濃度で含有する。これらガス化学種は水分を
持つ環境下では酸性を示す。従って、下流側にある装置
の腐蝕防止ならびに酸性ガスの外部環境への放出を最小
にするために除去されることが望ましい。
【0003】同時に、また石炭ガス化法から誘導される
ガスは硫黄化合物を含有する。これは環境基準を守り、
装置の損傷防止のためには除去されねばならない。
ガスは硫黄化合物を含有する。これは環境基準を守り、
装置の損傷防止のためには除去されねばならない。
【0004】一般に、これら硫黄化合物は、硫化水素
(H2S)が主で、量は少ないが、硫化カルボニル(C
OS)等を含む。ガスから硫黄化合物の除去法について
は多大の関心が集められてきた。例えば米国特許第1,
816,533号、第2,259,409号、第2,6
82,444号、第2,983,573号、第4,08
8,736号、第4,089,809号、第4,25
1,495号、第4,273,749号、第4,31
0,497号、第4,435,371号、第4,44
2,078号、第4,478,800号、および第4,
489,047号参照。
(H2S)が主で、量は少ないが、硫化カルボニル(C
OS)等を含む。ガスから硫黄化合物の除去法について
は多大の関心が集められてきた。例えば米国特許第1,
816,533号、第2,259,409号、第2,6
82,444号、第2,983,573号、第4,08
8,736号、第4,089,809号、第4,25
1,495号、第4,273,749号、第4,31
0,497号、第4,435,371号、第4,44
2,078号、第4,478,800号、および第4,
489,047号参照。
【0005】石炭誘導燃料ガスから硫黄化学種および微
粒子の除去方法は同一譲受け人の米国特許第4,85
7,285号に開示された。ここではその全文を引例参
照する。
粒子の除去方法は同一譲受け人の米国特許第4,85
7,285号に開示された。ここではその全文を引例参
照する。
【0006】要約すると、この特許は、次の段階により
熱ガスからガス状硫黄化合物を除去する方法である。す
なわち、 (a)熱ガスと向流して移動する金属酸化物吸収剤移動
層で少なくとも1種の金属酸化物吸収剤と熱ガスとを接
触させ、金属酸化物吸収剤が硫化水素および他の硫化物
などの化合物と反応してスペントすなわち硫黄に富んだ
金属吸収剤ならびに硫黄化合物の少ないすなわちその含
有量の低い熱ガスを生成する段階。
熱ガスからガス状硫黄化合物を除去する方法である。す
なわち、 (a)熱ガスと向流して移動する金属酸化物吸収剤移動
層で少なくとも1種の金属酸化物吸収剤と熱ガスとを接
触させ、金属酸化物吸収剤が硫化水素および他の硫化物
などの化合物と反応してスペントすなわち硫黄に富んだ
金属吸収剤ならびに硫黄化合物の少ないすなわちその含
有量の低い熱ガスを生成する段階。
【0007】(b)金属吸収剤床から硫黄含有量の低い
熱ガスを除去する段階。
熱ガスを除去する段階。
【0008】(c)硫黄含有量の高い金属吸収剤を第1
の酸素含有ガスと接触させる段階。但し、第1の酸素含
有ガスは第1相の再生では硫黄に富んだ金属吸収剤移動
床と並流移動し、発熱反応で硫黄に富んだ金属吸収剤を
部分的に硫化物化された吸収剤(部分的スペント金属硫
黄化合物)に変換し、二酸化硫黄含有ガスを形成する段
階。
の酸素含有ガスと接触させる段階。但し、第1の酸素含
有ガスは第1相の再生では硫黄に富んだ金属吸収剤移動
床と並流移動し、発熱反応で硫黄に富んだ金属吸収剤を
部分的に硫化物化された吸収剤(部分的スペント金属硫
黄化合物)に変換し、二酸化硫黄含有ガスを形成する段
階。
【0009】(d)部分的硫化物化吸収剤を第2の酸素
含有ガスと接触させる段階。但し、第2の酸素含有ガス
は第2相の再生では部分的硫化物化吸収剤移動床と並流
移動し、発熱反応で部分的硫化物化吸収剤を再生された
すなわち再使用できる金属酸化物に変換し、さらに二酸
化硫黄含有ガスを形成する。ここで第1の酸素含有ガス
の酸素濃度は第2の酸素含有ガスの酸素濃度より小さ
い。
含有ガスと接触させる段階。但し、第2の酸素含有ガス
は第2相の再生では部分的硫化物化吸収剤移動床と並流
移動し、発熱反応で部分的硫化物化吸収剤を再生された
すなわち再使用できる金属酸化物に変換し、さらに二酸
化硫黄含有ガスを形成する。ここで第1の酸素含有ガス
の酸素濃度は第2の酸素含有ガスの酸素濃度より小さ
い。
【0010】(e)再生された金属酸化物を空気、酸素
の含有量を高めた空気、または酸素と接触させる段階。
但し、これは再生された金属酸化物移動床と向流移動
し、再生を確実に完結させ、再生された金属酸化物を冷
却し、再生された金属酸化物をパージして二酸化硫黄含
有ガスを一掃する。
の含有量を高めた空気、または酸素と接触させる段階。
但し、これは再生された金属酸化物移動床と向流移動
し、再生を確実に完結させ、再生された金属酸化物を冷
却し、再生された金属酸化物をパージして二酸化硫黄含
有ガスを一掃する。
【0011】(f)再生された金属酸化物からパージさ
れた二酸化硫黄含有ガスを取り去る段階。
れた二酸化硫黄含有ガスを取り去る段階。
【0012】(g)再生された金属酸化物を段階(a)
で再使用する段階。
で再使用する段階。
【0013】さらに任意に選択できるオプション段階と
して、この特許は次の段階を挙げている。すなわち、硫
黄化合物含有量の低い高温ガスのスリップガス流が再生
された金属酸化物に通されて、再生された金属酸化物中
の残留金属硫酸塩化合物が分解されて、酸化再生された
金属酸化物が化学的に還元される段階である。
して、この特許は次の段階を挙げている。すなわち、硫
黄化合物含有量の低い高温ガスのスリップガス流が再生
された金属酸化物に通されて、再生された金属酸化物中
の残留金属硫酸塩化合物が分解されて、酸化再生された
金属酸化物が化学的に還元される段階である。
【0014】HClおよびHFの除去が硫黄化合物の除
去と平行して実施できれば、当然のことながら好都合で
あるがそのようなプロセスはいままで可能ではなかっ
た。本発明は米国特許第4,857,285号に記載の
ような脱硫プロセスと結合され得るHClおよび/また
はHFの除去プロセスに関する。
去と平行して実施できれば、当然のことながら好都合で
あるがそのようなプロセスはいままで可能ではなかっ
た。本発明は米国特許第4,857,285号に記載の
ような脱硫プロセスと結合され得るHClおよび/また
はHFの除去プロセスに関する。
【0015】基礎背景として実験的に次のことが確認さ
れた。すなわち、HClは吸収剤例えばナコライトとの
接触により石炭ガスから除去されうることが確認され
た。HClとナコライトとの化学反応は次のように知ら
れている。
れた。すなわち、HClは吸収剤例えばナコライトとの
接触により石炭ガスから除去されうることが確認され
た。HClとナコライトとの化学反応は次のように知ら
れている。
【0016】 (1)NaHCO3+HCl→NaCl+CO2+H2O 同様に、HFとナコライトとの化学反応は次の通りであ
る。
る。
【0017】 (2)NaHCO3+HF→NaF+CO2+H2O 両反応の生成物は、ガス状のCO2とH2O、および固体
塩すなわち、反応(1)の場合はNaClであり、反応
(2)の場合はNaFである。
塩すなわち、反応(1)の場合はNaClであり、反応
(2)の場合はNaFである。
【0018】クリシュナン(Krishnan)らは、題名「融
解カーボネートフューエルセル用高温石炭ガス塩化物除
去、最終報告」(ジー・エヌ・クリシュネン、ジー・テ
ィー・タン、ビー・ジェイ・ウード及びエヌ・コーレン
(G.N.Krishnen,G.T.Tong,B.J.Wood and N.Koren
s)、1986年、11月で、次の実験を報告した。す
なわち、石炭ガス塩化物除去は527ないし650℃で
行われた。そしてHClは固定床においてかなり短い滞
留時間で300ppmの濃度から1ないし5ppmの濃
度に有効に除去されうることが見出された。
解カーボネートフューエルセル用高温石炭ガス塩化物除
去、最終報告」(ジー・エヌ・クリシュネン、ジー・テ
ィー・タン、ビー・ジェイ・ウード及びエヌ・コーレン
(G.N.Krishnen,G.T.Tong,B.J.Wood and N.Koren
s)、1986年、11月で、次の実験を報告した。す
なわち、石炭ガス塩化物除去は527ないし650℃で
行われた。そしてHClは固定床においてかなり短い滞
留時間で300ppmの濃度から1ないし5ppmの濃
度に有効に除去されうることが見出された。
【0019】彼等の提案した商業規模のHCl除去はペ
レット化したナコライトを有する2つの固定床の槽構成
を有する概念であった。1つの槽はHClとHFを吸収
し、他の槽は予備用または吸収剤/反応生成物の充填/
取出し用にそれぞれ用いられる。
レット化したナコライトを有する2つの固定床の槽構成
を有する概念であった。1つの槽はHClとHFを吸収
し、他の槽は予備用または吸収剤/反応生成物の充填/
取出し用にそれぞれ用いられる。
【0020】本発明は、石炭誘導燃料ガスの処理におい
て、前記米国特許第4,857,285号に開示のよう
に従来の硫黄化合物除去プロセスと、簡単にしてコスト
的に有利なHClおよび/またはHF除去プロセスを結
合するプロセスに関する。その結果、得られるシステム
は石炭誘導燃料ガスから主たる汚染物質をすべて除去可
能である。
て、前記米国特許第4,857,285号に開示のよう
に従来の硫黄化合物除去プロセスと、簡単にしてコスト
的に有利なHClおよび/またはHF除去プロセスを結
合するプロセスに関する。その結果、得られるシステム
は石炭誘導燃料ガスから主たる汚染物質をすべて除去可
能である。
【0021】次に図1を参照し説明する。高温加圧下石
炭誘導燃料ガスから硫黄化学種および微粒子を除去する
システムは10で示される。温度350ないし700
℃、圧力600psig以下で、微粒子物質、H2S、
COSおよびCS2を含む硫黄化学種、ならびにHCl
とHFを有する石炭誘導燃料ガスのガス流12は1次サ
イクロン14に流入し、ここで同伴微粒子をガス流16
へ除去する。
炭誘導燃料ガスから硫黄化学種および微粒子を除去する
システムは10で示される。温度350ないし700
℃、圧力600psig以下で、微粒子物質、H2S、
COSおよびCS2を含む硫黄化学種、ならびにHCl
とHFを有する石炭誘導燃料ガスのガス流12は1次サ
イクロン14に流入し、ここで同伴微粒子をガス流16
へ除去する。
【0022】1次サイクロン14からのガス排出物は1
次サイクロンからガス流18を経て吸収装置20に入
る。吸収装置20は、向流移動床反応器からなり、粒状
の金属酸化物を含有する。金属酸化物は吸収剤であって
硫黄化学種と反応して金属硫化物を形成する。また吸収
装置は粒状床フィルタを有し、ガス流18から同伴粒子
をさらに除去する。
次サイクロンからガス流18を経て吸収装置20に入
る。吸収装置20は、向流移動床反応器からなり、粒状
の金属酸化物を含有する。金属酸化物は吸収剤であって
硫黄化学種と反応して金属硫化物を形成する。また吸収
装置は粒状床フィルタを有し、ガス流18から同伴粒子
をさらに除去する。
【0023】吸収装置20により捕獲された微粒子はガ
ス流22で再生装置24へ床物質と共に移動する。ガス
流26は、再生装置24からの微粒子を再生装置の下の
位置に設けられた微細粒子分離装置28に送る。分離装
置28内で分離された微細粒子はガス流30で分離装置
28から送出される。一方微細粒子分離装置28からの
粗物質はガス流32を経由して吸収剤エレベータ34に
送られる。これは粗物質をガス流36を経由して吸収装
置20の頂部にリサイクルして戻す。
ス流22で再生装置24へ床物質と共に移動する。ガス
流26は、再生装置24からの微粒子を再生装置の下の
位置に設けられた微細粒子分離装置28に送る。分離装
置28内で分離された微細粒子はガス流30で分離装置
28から送出される。一方微細粒子分離装置28からの
粗物質はガス流32を経由して吸収剤エレベータ34に
送られる。これは粗物質をガス流36を経由して吸収装
置20の頂部にリサイクルして戻す。
【0024】吸収装置20からの浄化されたガスの1次
ガス流38は、2次サイクロン40に送られ、さらに微
粒子の除去が行われる。厳重な放出規制のある場合には
2次サイクロンを従来のバリヤーフィルタ等に置換える
必要があることは当業者には明白である。微粒子は2次
サイクロンまたはバリヤーフィルタ40からガス流42
を経由して送出される。一方浄化されたガスは2次サイ
クロンまたは別の微粒子除去システムからガス流44を
経由して流出する。
ガス流38は、2次サイクロン40に送られ、さらに微
粒子の除去が行われる。厳重な放出規制のある場合には
2次サイクロンを従来のバリヤーフィルタ等に置換える
必要があることは当業者には明白である。微粒子は2次
サイクロンまたはバリヤーフィルタ40からガス流42
を経由して送出される。一方浄化されたガスは2次サイ
クロンまたは別の微粒子除去システムからガス流44を
経由して流出する。
【0025】
【発明が解決しようとする課題】この発明によるプロセ
スは、前記のように、硫黄化学種および微粒子の除去と
を組合わせた石炭誘導燃料ガスからのHClおよび/ま
たはHFの除去プロセスに関するもので、本発明の目的
は簡単でコスト的にも有用なこの組合わせの改良プロセ
スを提供することにある。
スは、前記のように、硫黄化学種および微粒子の除去と
を組合わせた石炭誘導燃料ガスからのHClおよび/ま
たはHFの除去プロセスに関するもので、本発明の目的
は簡単でコスト的にも有用なこの組合わせの改良プロセ
スを提供することにある。
【0026】特に、高温で石炭誘導燃料ガス流を粉末状
でナコライト(nahcolite:重炭酸ナトリウムの天然産
品)、重炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、またはトロ
ナ(torna:重炭酸ナトリウムと炭酸ナトリウムの混合
物の天然産品)と接触させることによりHClとHFの
除去が達成される。前述の硫黄除去システムについて
は、米国特許第4,857,285号に開示のように、
吸収剤物質の導入には4つの別々の位置が示されたがこ
こではさらに詳しく述べる。
でナコライト(nahcolite:重炭酸ナトリウムの天然産
品)、重炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、またはトロ
ナ(torna:重炭酸ナトリウムと炭酸ナトリウムの混合
物の天然産品)と接触させることによりHClとHFの
除去が達成される。前述の硫黄除去システムについて
は、米国特許第4,857,285号に開示のように、
吸収剤物質の導入には4つの別々の位置が示されたがこ
こではさらに詳しく述べる。
【0027】
【課題を解決するための手段】広義には、本発明は、H
2S、COSならびに、HClおよび/またはHFを含
有する高温の石炭誘導燃料ガス流から、ガスタービンゼ
ネレータの上流側で硫黄化合物を除去する既知プロセス
において、HClおよび/またはHFを除去する改良プ
ロセスである。ここで、本発明の方法は、(a)硫黄化
合物を除去する位置、硫黄化合物を除去する前の位置、
およびガスタービンゼネレータの上流側で、かつ硫黄化
合物を除去した後の位置からなる群から選ばれた少なく
とも1つの位置で、HClおよびHFの構成成分を固体
塩ならびにガス状CO2およびH2Oに分解するのに有
効な量のHCl/HF吸収剤を導入する段階と、(b)
前記ガス流から固体塩を除去する段階とからなることを
特徴とする方法である。
2S、COSならびに、HClおよび/またはHFを含
有する高温の石炭誘導燃料ガス流から、ガスタービンゼ
ネレータの上流側で硫黄化合物を除去する既知プロセス
において、HClおよび/またはHFを除去する改良プ
ロセスである。ここで、本発明の方法は、(a)硫黄化
合物を除去する位置、硫黄化合物を除去する前の位置、
およびガスタービンゼネレータの上流側で、かつ硫黄化
合物を除去した後の位置からなる群から選ばれた少なく
とも1つの位置で、HClおよびHFの構成成分を固体
塩ならびにガス状CO2およびH2Oに分解するのに有
効な量のHCl/HF吸収剤を導入する段階と、(b)
前記ガス流から固体塩を除去する段階とからなることを
特徴とする方法である。
【0028】別の特徴として、本発明は、SならびにH
Clおよび/またはHFを有する高温のガス流からガス
タービンゼネレータの上流側で汚染物質を除去する方法
において、本発明の方法は次の段階を有する。
Clおよび/またはHFを有する高温のガス流からガス
タービンゼネレータの上流側で汚染物質を除去する方法
において、本発明の方法は次の段階を有する。
【0029】(a)ガス流を1次サイクロンに通す段
階。
階。
【0030】(b)1次サイクロンからの排出ガスを、
硫黄吸収剤を有する吸収装置に通す段階。
硫黄吸収剤を有する吸収装置に通す段階。
【0031】(c)1次流からの微粒子物質をさらに除
去するために、吸収装置からの浄化ガスの1次流を2次
サイクロンもしくは微粒子除去システムに通す段階。
去するために、吸収装置からの浄化ガスの1次流を2次
サイクロンもしくは微粒子除去システムに通す段階。
【0032】(d)段階(c)と同時に、吸収装置で捕
獲された微粒子を再生装置に通す段階。
獲された微粒子を再生装置に通す段階。
【0033】(e)再生装置で捕獲された微粒子を微細
粒子分離装置に通す段階。
粒子分離装置に通す段階。
【0034】(f)微細粒子分離装置から粗物質を吸収
剤エレベータに通す段階。
剤エレベータに通す段階。
【0035】(g)吸収剤エレベータから粗物質を吸収
装置にリサイクルする段階。
装置にリサイクルする段階。
【0036】(h)ガス流中のHClおよび/またはH
Fと反応して固体のNaClおよび/またはNaF、ガ
ス状のCO2およびH2Oを生成するのに有効な量のH
Cl/HF吸収剤を、2次サイクロンの上流側でガス流
に導入し、2次サイクロンからの浄化ガスをガスタービ
ンゼネレータに供給する段階である。
Fと反応して固体のNaClおよび/またはNaF、ガ
ス状のCO2およびH2Oを生成するのに有効な量のH
Cl/HF吸収剤を、2次サイクロンの上流側でガス流
に導入し、2次サイクロンからの浄化ガスをガスタービ
ンゼネレータに供給する段階である。
【0037】次の実施例の説明から、本発明の他の目的
および利点は明白となる。
および利点は明白となる。
【0038】
【実施例】図2を参照して、本発明の改良プロセスを説
明するが図中図1と共通の要素には同じ番号の符号を用
いた。
明するが図中図1と共通の要素には同じ番号の符号を用
いた。
【0039】本発明の第1の実施例は次の通りである。
HCl/HF吸収剤、好ましくはナコライトは、ホッパ
46から吸収装置20の底部近傍のガス流48に、好ま
しくはガス流18から吸収装置への燃料ガス導入面の真
上に直接導入される。
HCl/HF吸収剤、好ましくはナコライトは、ホッパ
46から吸収装置20の底部近傍のガス流48に、好ま
しくはガス流18から吸収装置への燃料ガス導入面の真
上に直接導入される。
【0040】次にHCl/HF吸収剤粉末は、吸収装置
20内で下方に移動する金属酸化物/硫化物移動床を通
り、空気圧で上方に移動して、反応滞留時間を長くす
る。生成固体塩はガス流22を経由して再生装置24に
送られ、最終的には微細粒子分離装置28で分離され
る。ガス中に飛散されたHCl/HF吸収剤はガス流3
8を経由して2次サイクロンまたはバリヤーフィルタ4
0で捕獲される。
20内で下方に移動する金属酸化物/硫化物移動床を通
り、空気圧で上方に移動して、反応滞留時間を長くす
る。生成固体塩はガス流22を経由して再生装置24に
送られ、最終的には微細粒子分離装置28で分離され
る。ガス中に飛散されたHCl/HF吸収剤はガス流3
8を経由して2次サイクロンまたはバリヤーフィルタ4
0で捕獲される。
【0041】本発明の別の実施例を次に説明する。HC
l/HF吸収剤は、ガス流52を経由してホッパ50か
ら1次サイクロン14の上方の石炭誘導燃料ガス流18
に直接導入される。この方式では、吸収剤はガス流18
内で比較的短いフロー時間中にHCl/HFと反応す
る。そして、そこで金属酸化物吸収剤床で捕獲され、さ
らにHCl/HF除去が行われる。
l/HF吸収剤は、ガス流52を経由してホッパ50か
ら1次サイクロン14の上方の石炭誘導燃料ガス流18
に直接導入される。この方式では、吸収剤はガス流18
内で比較的短いフロー時間中にHCl/HFと反応す
る。そして、そこで金属酸化物吸収剤床で捕獲され、さ
らにHCl/HF除去が行われる。
【0042】捕獲された粉末の1部は、粗な硫黄吸収剤
とガス流22を経由して再生装置24に移動する。その
後、ガス流26を経由して微細粒子分離装置28に移動
する。そこでガス流30を経由して微細物質と共に送出
される。吸収剤の残部はさらにHClを捕獲する床を通
り抜け、吸収装置20の頂部よりガス流38に入り、2
次サイクロンまたはバリヤーフィルタ40で捕獲され
る。
とガス流22を経由して再生装置24に移動する。その
後、ガス流26を経由して微細粒子分離装置28に移動
する。そこでガス流30を経由して微細物質と共に送出
される。吸収剤の残部はさらにHClを捕獲する床を通
り抜け、吸収装置20の頂部よりガス流38に入り、2
次サイクロンまたはバリヤーフィルタ40で捕獲され
る。
【0043】次に本発明による第3の別の実施例を説明
する。ホッパー54からのHCl/HF吸収剤は、微細
粒子分離装置28と吸収剤エレベータ34の間のガス流
32の硫黄吸収剤に直接にガス流56を経由して導入さ
れる。混合吸収剤は次に吸収剤エレベータ34を用いて
吸収装置20に供給される。HCl/HF吸収剤は吸収
装置20の頂部で石炭誘導燃料ガスと接触する。
する。ホッパー54からのHCl/HF吸収剤は、微細
粒子分離装置28と吸収剤エレベータ34の間のガス流
32の硫黄吸収剤に直接にガス流56を経由して導入さ
れる。混合吸収剤は次に吸収剤エレベータ34を用いて
吸収装置20に供給される。HCl/HF吸収剤は吸収
装置20の頂部で石炭誘導燃料ガスと接触する。
【0044】HCl/HF吸収剤の1部は吸収装置2
0、再生装置24を通って微細粒子分離装置28に移動
する。吸収剤の残部は吸収装置(反応器)の上部で移動
中にHCl/HFと反応し、吸収装置(反応器)からガ
ス流38に入って2次サイクロンまたはバリヤーフィル
タ40に導入される。
0、再生装置24を通って微細粒子分離装置28に移動
する。吸収剤の残部は吸収装置(反応器)の上部で移動
中にHCl/HFと反応し、吸収装置(反応器)からガ
ス流38に入って2次サイクロンまたはバリヤーフィル
タ40に導入される。
【0045】石炭誘導ガスからHClとHFの除去が必
要とするプロセス用には説明した実施例が好ましいがそ
れは次の範囲である。
要とするプロセス用には説明した実施例が好ましいがそ
れは次の範囲である。
【0046】すなわち、吸収装置20へのHCl/HF
吸収剤の導入は、移動床反応器により与えられる滞留時
間の増加を利用するものであり、それによってHClと
HFの化合物除去を最適化する。
吸収剤の導入は、移動床反応器により与えられる滞留時
間の増加を利用するものであり、それによってHClと
HFの化合物除去を最適化する。
【0047】次に本発明の第4の別の実施例を説明す
る。ホッパ58からのHCl/HF吸収剤は2次サイク
ロンまたはバリヤーフィルタ40の上流の石炭誘導燃料
ガスライン38にガス流60を経由して導入される。
る。ホッパ58からのHCl/HF吸収剤は2次サイク
ロンまたはバリヤーフィルタ40の上流の石炭誘導燃料
ガスライン38にガス流60を経由して導入される。
【0048】この場合、吸収剤はガス流38において比
較的短い走行時間中HCl/HFと反応し、次にバリヤ
ーフィルタ40に捕獲されて、部分的に反応した吸収剤
のケーキを形成し、これがさらにHClとHFと反応す
る。
較的短い走行時間中HCl/HFと反応し、次にバリヤ
ーフィルタ40に捕獲されて、部分的に反応した吸収剤
のケーキを形成し、これがさらにHClとHFと反応す
る。
【0049】前述の実施例では、それぞれ実質上全て、
例えば98ないし99%の範囲、のHClとHFは石炭
誘導ガス流から除去されうる。その結果、システム全体
としては、石炭誘導ガス流から主なる汚染物質を事実上
すべて除去することができる。HClとHF除去に必要
な吸収剤の量は、当業者には明白であるが、ガス流中に
存在するHClとHFの量から反応式(1)と(2)に
矛盾無きよう求められる。
例えば98ないし99%の範囲、のHClとHFは石炭
誘導ガス流から除去されうる。その結果、システム全体
としては、石炭誘導ガス流から主なる汚染物質を事実上
すべて除去することができる。HClとHF除去に必要
な吸収剤の量は、当業者には明白であるが、ガス流中に
存在するHClとHFの量から反応式(1)と(2)に
矛盾無きよう求められる。
【0050】HCl/HF吸収剤のガス流への導入場所
は、利用プロセスの特定の周辺環境に応じ、前述の場所
のいずれでも若しくは全てでも明らかに可能である。
は、利用プロセスの特定の周辺環境に応じ、前述の場所
のいずれでも若しくは全てでも明らかに可能である。
【0051】前述のプロセスの実施にあたり、各種ハー
ドウェア要素は既知でここで説明の要はない。本発明は
現時点で最も実用的かつ好ましい実施例で説明された
が、本発明はそれに限定されるものでは決してなく本発
明の請求範囲の精神のなかで各種変形例が可能でありそ
れらはすべて本発明に包含されるものである。
ドウェア要素は既知でここで説明の要はない。本発明は
現時点で最も実用的かつ好ましい実施例で説明された
が、本発明はそれに限定されるものでは決してなく本発
明の請求範囲の精神のなかで各種変形例が可能でありそ
れらはすべて本発明に包含されるものである。
【0052】
【発明の効果】以上述べたごとく、本発明の方法により
簡単でコスト的にも有利に、硫黄化合物と微粒子の除去
と組合わせてHClとHFの除去ができる。
簡単でコスト的にも有利に、硫黄化合物と微粒子の除去
と組合わせてHClとHFの除去ができる。
【図1】石炭誘導燃料ガスから硫黄化合物を除去する従
来プロセスを示す概略流れ線図である。
来プロセスを示す概略流れ線図である。
【図2】図1に対しさらに本発明に従い別の場所に吸収
剤を追加導入するプロセスを示す概略流れ線図である。
剤を追加導入するプロセスを示す概略流れ線図である。
10 硫黄化合物等の除去システム 12 ガス流 14 (1次)サイクロン 16 ガス流 18 ガス流 20 吸収装置(反応器) 22 ガス流 24 再生装置 26 ガス流 28 微細分離装置 30 ガス流 32 ガス流 34 (吸収剤)エレベータ 36 ガス流 38 ガス流 40 (2次)サイクロン(バリヤーフィルタ) 42 ガス流 44 ガス流 46 ホッパ 48 ガス流 50 ホッパ 52 ガス流 54 ホッパ 56 ガス流 58 ホッパ 60 ガス流
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 チャールス クック アメリカ合衆国 19087 ペンシルバニ ア州 ウェイン、 ランスドダウヌ ア ヴェニュ 218番 (72)発明者 エリ ガル アメリカ合衆国 17543 ペンシルバニ ア州 リティッツ、 ランドルフ ドラ イブ 512番 (56)参考文献 特開 昭58−67323(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C10K 1/32 B01D 53/68 B01J 20/04
Claims (4)
- 【請求項1】 SならびにHClおよび/またはHFを
有する高温の石炭誘導燃料ガス流から、ガスタービンゼ
ネレータの上流側で硫黄化合物を除去する方法におい
て、 (a)硫黄化合物を除去する位置、硫黄化合物を除去す
る前の位置、およびガスタービンゼネレータの上流側
で、かつ硫黄化合物を除去した後の位置からなる群から
選ばれた少なくとも1つの位置で、HClおよびHFの
構成成分を固体塩ならびにガス状CO2およびH2Oに
分解するのに有効な量のHCl/HF吸収剤を導入する
段階と、 (b)前記ガス流から固体塩を除去する段階とからなる
ことを特徴とする方法。 - 【請求項2】 SならびにHClおよび/またはHFを
有する高温のガス流からガスタービンゼネレータの上流
側で汚染物質を除去する方法において、 (a)ガス流を1次サイクロンに通す段階と、 (b)1次サイクロンからの排出ガスを、硫黄吸収剤を
有する吸収装置に通す段階と、 (c)1次流からの微粒子物質をさらに除去するため
に、吸収装置からの浄化ガスの1次流を2次サイクロン
もしくは微粒子除去システムに通す段階と、 (d)段階(c)と同時に、吸収装置で捕獲された微粒
子を再生装置に通す段階と、 (e)再生装置で捕獲された微粒子を微細粒子分離装置
に通す段階と、 (f)微細粒子分離装置から粗物質を吸収剤エレベータ
に通す段階と、 (g)吸収剤エレベータから粗物質を吸収装置にリサイ
クルする段階と、 (h)ガス流中のHClおよび/またはHFと反応して
固体のNaClおよび/またはNaF、ガス状のCO2
およびH2Oを生成するのに有効な量のHCl/HF吸
収剤を、2次サイクロンの上流側でガス流に導入し、2
次サイクロンからの浄化ガスをガスタービンゼネレータ
に供給する段階とからなることを特徴とする方法。 - 【請求項3】 HCl/HF吸収剤を吸収装置に直接導
入する請求項2に記載の方法。 - 【請求項4】 1次サイクロンと吸収装置の間、微細粒
子分離装置と吸収剤エレベータの間、および吸収装置と
2次サイクロンの間からなる群から選ばれた少なくとも
1つで、HCl/HF吸収剤をガス流に導入する請求項
2に記載の方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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US07/543,131 US5118480A (en) | 1990-06-25 | 1990-06-25 | Method for removing hcl and hf from coal derived fuel gas |
US543131 | 1990-06-25 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Family
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1991
- 1991-05-24 EP EP91108413A patent/EP0463367B1/en not_active Revoked
- 1991-05-24 DE DE69107126T patent/DE69107126T2/de not_active Revoked
- 1991-05-24 ES ES91108413T patent/ES2067797T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1991-06-25 JP JP3178913A patent/JP3035870B2/ja not_active Expired - Lifetime
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