JP3025354B2 - 金属塊の空中浮揚加熱方法及びその装置 - Google Patents

金属塊の空中浮揚加熱方法及びその装置

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JP3025354B2 JP3254357A JP25435791A JP3025354B2 JP 3025354 B2 JP3025354 B2 JP 3025354B2 JP 3254357 A JP3254357 A JP 3254357A JP 25435791 A JP25435791 A JP 25435791A JP 3025354 B2 JP3025354 B2 JP 3025354B2
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  • General Induction Heating (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、金属塊を空中に浮揚し
て高周波誘導加熱する方法及び装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】金属塊を高温に加熱するに当っては、他
の部材と接触して反応を生じないように空中浮揚状態で
高周波誘導加熱するのが最も理想的である。そこで、本
出願人は、先に、図4及び図5に示す空中浮揚加熱装置
1を提案した。
【0003】本装置1を用いて金属塊の加熱を行なうに
際しては、加熱すべき金属塊2を、複数のスリット3を
有する金属製円筒体4の中空部内に配置すると共に、こ
の円筒体4の外周を取り囲むように配設された螺旋状の
高周波誘導加熱コイル5に高周波電源6から高周波電流
を供給することにより、金属塊2に上方に向う電磁力を
作用せしめて空中浮揚状態の下で高周波誘導加熱するよ
うにしている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
如き空中浮揚加熱装置1を用いた加熱方法では、高周波
誘導加熱コイル5がいわゆる単巻き(ワンターン)の螺
旋状コイル、すなわち、周方向には単一の巻線から成る
コイルであるため、次のような問題点がある。
【0005】すなわち、高周波誘導加熱コイル5に高周
波電流を流すと、これに応じて円筒体4の軸線を中心に
発生する磁束はコイル中央部が最も多く、このコイル中
央部からコイル上端部及びコイル下端部に向かうにつれ
て徐々に少くなる。従って、円筒体4の中空部内におい
ては、図6に示すように、コイル中央部の磁束密度が最
も大きくなり、コイル上端部及びコイル下端部の磁束密
度が最も小さくなる。
【0006】ところで、金属塊2を浮揚加熱するに際し
ては、図4に明示するように金属塊2を高周波誘導加熱
コイル5の上端部付近に配置して浮揚させるようにして
いる。これは、金属塊2を最も効率良く空中浮揚させる
のに適しているからである。
【0007】ここで、その理由について説明すれば、次
の通りである。まず、高周波誘導加熱イコル5に高周波
電流J0 が図4において矢印で示す方向に流れるのに伴
い、この高周波電流J0 によって磁束φが円筒体4の軸
線を中心に発生する。この磁束φは金属塊2を貫通、作
用し、この金属塊2の表面に図示の方向に高周波誘導電
流Je が流れる。そして、この高周波誘導電流Je によ
り、金属塊2はジュール加熱される。他方、金属塊2の
表面に流れる誘導電流Je と、その表面付近の磁束(磁
束密度B0 の磁束)との相互作用により、その表面に電
磁力F0 が発生する。この電磁力F0 は誘導電流Je
磁束密度B0 との積に比例し、その方向は、フレミング
左手の法則により、図4において矢印で示す方向にな
る。この電磁力F0 は、前記円筒体4の軸心に向う力F
C と、金属塊2を浮揚する力Fu とに分力される。この
浮揚力Fu が、この金属塊2の表面全体にわたって発生
し、金属塊2を浮揚するのである。
【0008】以上の浮揚原理を要約すると、高周波誘導
加熱コイル5の上下方向の中央部(磁束φの方向はコイ
ル軸線に平行)から上方側にゆくにつれて磁束φは図6
に示す如くコイル軸線に対し屈曲するので、金属塊2に
は上方に向う分力Fu (電磁力)が浮揚力として作用す
るのである。従って、金属塊2の浮揚を行なうには、高
周波誘導加熱コイル5の上下方向の中央部よりも上方位
置にあることが必要最小条件となり、コイル上端部で浮
揚を行なうのが最も有効である。これが、金属塊2をコ
イル上端部付近で浮揚させることの理由である。
【0009】しかし、既述の如く、高周波誘導加熱コイ
ル5の上端部付近の磁束密度B0 は最も小さい部分であ
るため、金属塊2の表面に流れる高周波誘導電流Je
小さな値となる。この高周波誘導電流Je と磁束φとの
相互作用にて電磁力が発生して金属塊2が浮揚されるわ
けであるが、弱い磁束φの中で金属塊2を浮揚させるに
は、浮揚力が小さいため、大きな浮揚電流(高周波誘導
加熱コイル5に供給する高周波電流)を必要とし、大き
な容量の高周波電源を必要とする。
【0010】本発明は、このような実状に鑑みてなされ
たものであって、その目的は、金属塊を高周波誘導加熱
コイルの上端部付近において効率良く空中浮揚させて加
熱すこことができるような金属塊の空中浮揚加熱方法及
びその装置を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明に係る金属塊の空中浮揚加熱方法において
は、半径方向に沿って放射状に延びる複数のスリットが
形成され、かつ、軸線が鉛直方向に配置された金属製の
円筒体を、上端部付近に最も強い電磁力が発生されるよ
うに構成された高周波誘導加熱コイルにて取り囲み、前
記高周波誘導加熱コイルに高周波電流を供給することに
より、前記円筒体の中空部内の上部箇所において金属塊
に上方に向かう電磁力を作用せしめて、前記金属塊を空
中浮揚させながら高周波誘導加熱するようにしている。
また、本発明に係る金属塊の空中浮揚加熱装置において
は、(A) 半径方向に沿って放射状に延びる複数のス
リットが形成され、かつ、軸線が鉛直方向に配置された
金属製の円筒体と、(B) 前記円筒体の上端面から距
離を隔てた高さ位置に最上端の巻回部が配置されて前記
円筒体の外周を取り囲むように設置され、かつ、前記最
上端の巻回部或いはその近傍部分における磁束密度が最
も大きくなるように巻回された高周波誘導加熱コイル
と、(C) 前記高周波誘導加熱コイルに高周波電流を
供給する高周波電源と、(D) 加熱すべき金属塊を前
記円筒体の中空部内の上部箇所に移送する移送機構と、
をそれぞれ具備し、前記金属塊を前記移送機構にて前記
円筒体の中空部内の上部箇所に配置して前記高周波誘導
加熱コイルに前記高周波電源から高周波電流を供給する
ことにより、前記金属塊に上方に向う電磁力を作用せし
め、前記円筒体の中空部内の上部箇所で前記金属塊を空
中浮揚させながら高周波誘導加熱するように構成してい
る。
【0012】
【実施例】以下、本発明の一実施例に付き図1〜図3を
参照して説明する。
【0013】図1は、本発明に係る空中浮揚加熱方法を
実施するための空中浮揚加熱装置10を示すものであ
る。この装置10は、加熱すべき金属塊9を内部空間
(中空部)に収容する銅製の円筒体11と、この円筒体
11の外周を取り囲むように配設された高周波誘導加熱
コイル12と、このコイル12に高周波電流(電力)を
供給する高周波電源13と、金属塊9を前記円筒体11
の中空部内へ移送する移送機構14とをそれぞれ具備し
ている。
【0014】上述の円筒体11は、図2に示すように、
半径方向に沿って放射状に延びる複数のスリット16を
有しており、その軸線が鉛直方向に一致するように配置
されている。なお、円筒体11の下端部においては各セ
グメント17が互いに結合されている。そして、各セグ
メント17の内部には冷却水通路18が形成され、この
冷却水通路18の一端は導水パイプ19に、その他端は
排水パイプ20に接続されている。
【0015】一方、高周波誘導加熱コイル12は、コイ
ル上端部付近の磁束密度を大ならしめるように、コイル
最上端の巻回部12aのみを同一平面上において複数回
の多重巻きにした巻回構造とし、他の部分は単巻きの螺
旋状に巻回されている。また、このコイル12は銅パイ
プから成り、コイル12自体を冷却するために冷却水が
その中空部に供給されるように構成されると共に、リー
ド線21a,21bを介して高周波電源13に接続され
ている。
【0016】また、上述の高周波誘導加熱コイル12は
前記円筒体11の外周を取り囲むように円筒体11と同
軸状に配置されその軸線が鉛直方向に一致されている。
そして、高周波誘導加熱コイル12の最上端巻回部12
aは円筒体11の上端面11aから前記金属塊9の寸法
・形状に応じた距離Hだけ下方の位置に対応配置されて
いる。
【0017】また、上述の移送機構14は、図1に示す
ように、載置台(保持治具)23と、この載置台23を
上下方向に移送する昇降移送装置24と、この昇降移送
装置24を水平方向に移送する水平移送装置25より構
成されている。前記載置台23は、高周波誘導加熱の影
響を避けるため、セラミックス材より構成され、その載
置部分は金属塊9が安定載置されるように成形されてい
る。
【0018】次に、本装置10を用いて金属塊9を空中
浮揚加熱する際の動作並びに作用に付き説明する。
【0019】まず、加熱すべき金属塊9を移送機構14
の載置台23上に載置し、この移送機構14の水平移送
装置25及び昇降移送装置24により、金属塊9を円筒
体11の下方から円筒体11の中空部内に移送して、高
周波誘導加熱コイル12の最上端の多重巻回部12aに
対応する浮揚加熱開始位置に配置する。しかる後に、高
周波電源13から前記コイル12に高周波電流を供給
し、これに伴って発生する電磁力Fの垂直分力Fu にて
金属塊9を浮揚させる。一方、これと同時に、移送機構
15を作動させることにより、金属塊9の載置台23を
円筒体11の下方に移動せしめて円筒体11の直下位置
から外れた位置に移動させる。
【0020】そして、金属塊9を円筒体11の上部領
域、すなわち、円筒体11の上端面11aと高周波誘導
加熱コイル12の最上端の多重巻回部12aとの間の空
間内で浮揚させた状態の下で、金属塊9を所要温度に高
周波誘導加熱する。
【0021】このようにして、加熱した金属塊9は、次
工程において焼入処理が施され、或いは、加熱により金
属塊9を溶解してその溶湯を鋳型に鋳込むことにより鋳
造製品が製造される。
【0022】上述の如き空中浮揚加熱装置10並びに本
装置10を用いて行なう空中浮揚加熱方法によれば、最
上端部が多重巻きにされている高周波誘導加熱コイル1
2を採用しているので、低電力にて効率よく金属塊9を
浮揚しかつ加熱できる。
【0023】その理由は次の通りである。すなわち、こ
のコイル12の最上端の巻回部12aが多重巻きである
ため、高周波誘導加熱コイル12の通電時にコイル上端
部付近に発生する磁束の密度は他の部分よりも大きく、
コイル上端部付近の磁界が最も強い分布となる(図3参
照)。その結果、金属塊9に流れる高周波電流Je は、
図1に示す如く、単巻きのコイル5の場合に比べて大き
な値となり、従って、電磁力Fが大きくなる。なお、こ
の場合、図3と図6とを対比すれば明らかなように、本
例の場合には磁束Φの方向がコイル軸線の側に沿う方向
になってしまうので、前記電磁力Fの方向は水平面に対
する仰角がより大きくなり、その分だけ鉛直上方へ向か
う分力(浮揚力として寄与する分力Fu )が小さくな
る。しかし、前記電磁力F自体の大きさが相対的により
大きくなっているため、電磁力Fの鉛直成分たる浮揚力
u は従来の場合に比べて充分に大きなものとなる。従
って、低い電力(小さな高周波電流)にて効率良く金属
塊9を空中浮揚でき、円筒体11に対して非接触状態の
下で金属塊9を加熱することができる。
【0024】以下に、本発明に係る装置10にて本発明
に係る空中浮揚加熱方法を実施した具体例を示す。具体例 (1) 金属塊の材料:純チタン (2) 金属塊の形状:30mmφ(直径)×30mm
(高さ) (3) 金属塊の重量:100g (4) 円筒体の形状:内径50mmφ 外径70mmφ スリット幅1mm セグメント数8 (5) 高周波誘導加熱コイル:内径74mmφ :最上端の巻回数3回 (6) コイル上端部から円筒 体の上端面までの距離:30mm (7) 高周波数加熱条件 〈i〉 周波数 :10kHz 〈ii〉 浮揚出力:16kW
【0025】この具体例と同じ条件の下で、従来の高周
波誘導加熱コイル(周方向には単一の巻線から成るコイ
ル)を用いた場合の浮揚出力を測定したところ、100
gの金属塊を浮揚するのに要する電力は34kWであっ
た。
【0026】この例からも明白なように、本発明によれ
ば、従来の場合に比べて半分以下の消費電力にて金属塊
を浮揚させることができ、非常に効率が良いことが確認
された。
【0027】以上、本発明の一実施例に付き述べたが、
本発明は既述の実施例に限定されるものではなく、本発
明の技術的思想に基いて各種の変形及び変更が可能であ
る。例えば、既述の実施例では、高周波誘導加熱コイル
12の最上端部分のみを多重巻きにしたが、このコイル
12の上端部付近に生じる磁束が他の部分に比べて大き
くなるようなコイル形状であれば、どのような巻回構造
にしてもよい。
【0028】
【発明の効果】以上の如く、本発明に係る空中浮揚加熱
方法及びその装置によれば、金属塊の浮揚高さ位置に対
応する高周波誘導加熱コイルの上端部付近が最も大きな
磁束密度となるようなコイル形状(巻回構造)に構成し
たものであるから、金属塊の浮揚に寄与する電磁力を大
幅に増大することができ、従って、低い消費電力にて金
属塊を効率良く浮揚して加熱することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る金属塊の空中浮揚加熱方法を実施
するための空中浮揚加熱装置の断面図である。
【図2】前記装置の平面図である。
【図3】高周波誘導加熱コイルから発生する磁束の密度
分布を示す説明図である。
【図4】単巻きの高周波誘導加熱コイルを用いた従来の
空中浮揚加熱装置の断面図である。
【図5】前記従来の装置の平面図である。
【図6】単巻きの高周波誘導加熱コイルから発生する磁
束の密度分布を示す説明図である。
【符号の説明】
9 金属塊 10 空中浮揚加熱装置 11 円筒体 11a 上端面 12 高周波誘導加熱コイル 12a 最上端の巻回部 13 高周波電源 14 移送機構 16 スリット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) F27B 14/00 - 14/20 F27D 11/06 H05B 6/32

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半径方向に沿って放射状に延びる複数の
    スリットが形成され、かつ、軸線が鉛直方向に配置され
    た金属製の円筒体を、上端部付近に最も強い電磁力が発
    生されるように構成された高周波誘導加熱コイルにて取
    り囲み、前記高周波誘導加熱コイルに高周波電流を供給
    することにより、前記円筒体の中空部内の上部箇所にお
    いて金属塊に上方に向かう電磁力を作用せしめて、前記
    金属塊を空中浮揚させながら高周波誘導加熱するように
    したことを特徴とする金属塊の空中浮揚加熱方法。
  2. 【請求項2】(A) 半径方向に沿って放射状に延びる
    複数のスリットが形成され、かつ、軸線が鉛直方向に配
    置された金属製の円筒体と、 (B) 前記円筒体の上端面から距離を隔てた高さ位置
    に最上端の巻回部が配置されて前記円筒体の外周を取り
    囲むように設置され、かつ、前記最上端の巻回部或いは
    その近傍部分における磁束密度が最も大きくなるように
    巻回された高周波誘導加熱コイルと、 (C) 前記高周波誘導加熱コイルに高周波電流を供給
    する高周波電源と、 (D) 加熱すべき金属塊を前記円筒体の中空部内の上
    部箇所に移送する移送機構と、 をそれぞれ具備し、前記金属塊を前記移送機構にて前記
    円筒体の中空部内の上部箇所に配置して前記高周波誘導
    加熱コイルに前記高周波電源から高周波電流を供給する
    ことにより、前記金属塊に上方に向う電磁力を作用せし
    め、前記円筒体の中空部内の上部箇所で前記金属塊を空
    中浮揚させながら高周波誘導加熱するように構成したこ
    とを特徴とする金属塊の空中浮揚加熱装置。
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