JP3020745B2 - 光学的記録材料及び光学的記録基板 - Google Patents
光学的記録材料及び光学的記録基板Info
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- JP3020745B2 JP3020745B2 JP4210222A JP21022292A JP3020745B2 JP 3020745 B2 JP3020745 B2 JP 3020745B2 JP 4210222 A JP4210222 A JP 4210222A JP 21022292 A JP21022292 A JP 21022292A JP 3020745 B2 JP3020745 B2 JP 3020745B2
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- thermoplastic resin
- light transmittance
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- transparent thermoplastic
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光学的記録材料及びこ
のものを成形してなる光学的記録基板に関する。更に詳
しくは、多方式の光学的記録に対応できる光学的記録材
料及び光学的記録基板に関する。
のものを成形してなる光学的記録基板に関する。更に詳
しくは、多方式の光学的記録に対応できる光学的記録材
料及び光学的記録基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザー光によりディスク基板上に設け
た微細な凹凸を検出して音声や画像を再生する方式（以
下 ROM方式という）、基板片面に設けた情報記録層を用
いて情報を記録し、再生する方式（以下WO方式とい
う）、更には記録を何回も消去や重ね書きができる方式
（以下 REW方式という）が注目されている。かかる方式
で使用するディスク基板には高い透明性、寸法安定性、
低複屈折性が要求され、主としてポリカーボネート樹
脂、ポリアクリル系樹脂、非晶性のポリオレフィン樹脂
が使用されている。
た微細な凹凸を検出して音声や画像を再生する方式（以
下 ROM方式という）、基板片面に設けた情報記録層を用
いて情報を記録し、再生する方式（以下WO方式とい
う）、更には記録を何回も消去や重ね書きができる方式
（以下 REW方式という）が注目されている。かかる方式
で使用するディスク基板には高い透明性、寸法安定性、
低複屈折性が要求され、主としてポリカーボネート樹
脂、ポリアクリル系樹脂、非晶性のポリオレフィン樹脂
が使用されている。
【０００３】これらの樹脂は優れた光学特性を有し、殆
ど無色透明で使用されており、一部差別化のために黒色
ディスク（特開平２−３３７４２号公報）、オレンジ色
ディスク（特開平１−１０２５０５号公報）が提案され
ている。これらはいずれも装飾性のためのみに特定の可
視光線帯を選択吸収し、７８０nmのレーザー波長の部分
は可能な限り影響のないように配慮して作成されたもの
である。
ど無色透明で使用されており、一部差別化のために黒色
ディスク（特開平２−３３７４２号公報）、オレンジ色
ディスク（特開平１−１０２５０５号公報）が提案され
ている。これらはいずれも装飾性のためのみに特定の可
視光線帯を選択吸収し、７８０nmのレーザー波長の部分
は可能な限り影響のないように配慮して作成されたもの
である。
【０００４】一方、光ディスクの再生においては、 ROM
方式では信号反射率が７０％以上あり、WOや REW方式で
は信号反射率が３０％以上と各々の信号反射率が大きく
異なっている。その上、 REW方式では主として光磁気方
式（以下MO方式という）を用いるために磁気の回転角を
検出して信号を読取る必要があった。
方式では信号反射率が７０％以上あり、WOや REW方式で
は信号反射率が３０％以上と各々の信号反射率が大きく
異なっている。その上、 REW方式では主として光磁気方
式（以下MO方式という）を用いるために磁気の回転角を
検出して信号を読取る必要があった。
【０００５】最近の光ディスクでは、ミニディスク（以
下 FMDという）のように ROM方式とREW方式の両方式の
ディスクを同一の再生装置で再生する方式が、今後の光
ディスクの応用として大きく伸展することが期待されて
いる。しかしながら、両方式間には信号反射率に大きな
差があり、各々の方式の反射率に対応する二水準の検出
器を設けるか、ハード側の機構で修正する必要があり、
経済的にも機構的にもドライブの大きな負担になってい
る。
下 FMDという）のように ROM方式とREW方式の両方式の
ディスクを同一の再生装置で再生する方式が、今後の光
ディスクの応用として大きく伸展することが期待されて
いる。しかしながら、両方式間には信号反射率に大きな
差があり、各々の方式の反射率に対応する二水準の検出
器を設けるか、ハード側の機構で修正する必要があり、
経済的にも機構的にもドライブの大きな負担になってい
る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、 REW
方式の反射率と同一水準の反射率を有する ROM方式の光
学的記録用基板を提供し、 ROM方式と REW方式の両ディ
スクを再生する機構を大幅に簡素化せんとするものであ
り、且つ将来高密度記録の目的でレーザー波長が短波長
化されても、問題なく対応できる光学的記録用基板を提
供せんとするものである。
方式の反射率と同一水準の反射率を有する ROM方式の光
学的記録用基板を提供し、 ROM方式と REW方式の両ディ
スクを再生する機構を大幅に簡素化せんとするものであ
り、且つ将来高密度記録の目的でレーザー波長が短波長
化されても、問題なく対応できる光学的記録用基板を提
供せんとするものである。
【０００７】本発明者は、 ROM基板の反射率を低下させ
ることに着目し、４００〜８００nmの分光光線透過率を
規定範囲内に調整せんとして鋭意検討を重ねた結果、本
発明を完成するに至った。
ることに着目し、４００〜８００nmの分光光線透過率を
規定範囲内に調整せんとして鋭意検討を重ねた結果、本
発明を完成するに至った。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、透明熱可塑性
樹脂に主として赤外線吸収染料と赤色染料を配合し、デ
ィスク基板に成形したときの７８０nmの波長及び４００
〜７００nmの範囲で使用するレーザー光に対応する波長
の光線透過率Ｔが下記式
樹脂に主として赤外線吸収染料と赤色染料を配合し、デ
ィスク基板に成形したときの７８０nmの波長及び４００
〜７００nmの範囲で使用するレーザー光に対応する波長
の光線透過率Ｔが下記式
【０００９】
【数３】
【００１０】［式中、Ｔ0 は該透明熱可塑性樹脂の光線
透過率、Ｒ1 は金属反射膜の反射率、Ｒ2 は記録膜構成
層の反射率である。］を満足する光学的記録材料及びこ
の材料よりなる光学的記録基板に係るものである。
透過率、Ｒ1 は金属反射膜の反射率、Ｒ2 は記録膜構成
層の反射率である。］を満足する光学的記録材料及びこ
の材料よりなる光学的記録基板に係るものである。
【００１１】本発明で使用する透明熱可塑性樹脂には透
明性のみならず低複屈折性、寸法安定性、耐熱性、転写
性等光ディスク基板に要求される性能を合わせ持つ必要
があり、具体的にはポリカーボネート樹脂、ポリアクリ
ル系樹脂、非晶性のポリオレフィン樹脂等があげられ
る。これらの樹脂は特にホモポリマーでなくてもよく、
必要に応じて共重合、混合等で改質したものであっても
よい。なかでもポリカーボネート樹脂はコンパクトティ
スクや情報記録媒体用基板として広く使用されており、
本発明においても最も有効に使用できる。
明性のみならず低複屈折性、寸法安定性、耐熱性、転写
性等光ディスク基板に要求される性能を合わせ持つ必要
があり、具体的にはポリカーボネート樹脂、ポリアクリ
ル系樹脂、非晶性のポリオレフィン樹脂等があげられ
る。これらの樹脂は特にホモポリマーでなくてもよく、
必要に応じて共重合、混合等で改質したものであっても
よい。なかでもポリカーボネート樹脂はコンパクトティ
スクや情報記録媒体用基板として広く使用されており、
本発明においても最も有効に使用できる。
【００１２】本発明で使用する赤外線吸収染料は、透明
熱可塑性樹脂の成形温度に耐え且つ７４０〜８２０nm範
囲に主吸収の波長をもつものであり、特に７６０〜７９
０nm範囲に主吸収の波長をもつ近赤外線吸収染料が好ま
しい。かかる近赤外線吸収染料の例としては住友化学
（株）製のOptogen NIR ８３０やNIR ８４０ S、日本化
学（株）製のKayasorb IR-７５０等があげられる。これ
らの近赤外線吸収染料は単独で使用しても又は二種以上
併用してもよい。赤外線吸収染料と共に使用する赤色染
料は透明熱可塑性樹脂の成形温度に耐え得るものであれ
ばよく、特に標準色である必要はない。
熱可塑性樹脂の成形温度に耐え且つ７４０〜８２０nm範
囲に主吸収の波長をもつものであり、特に７６０〜７９
０nm範囲に主吸収の波長をもつ近赤外線吸収染料が好ま
しい。かかる近赤外線吸収染料の例としては住友化学
（株）製のOptogen NIR ８３０やNIR ８４０ S、日本化
学（株）製のKayasorb IR-７５０等があげられる。これ
らの近赤外線吸収染料は単独で使用しても又は二種以上
併用してもよい。赤外線吸収染料と共に使用する赤色染
料は透明熱可塑性樹脂の成形温度に耐え得るものであれ
ばよく、特に標準色である必要はない。
【００１３】赤外線吸収染料と赤色染料の使用割合及び
使用量は夫々の染料の色調等によって異なるので一概に
特定することはできないが、ディスク基板に成形したと
きの７８０nmの光線透過率が本発明の指定式内になるよ
うに赤外線吸収染料の量を合せ、４００〜７００nmの範
囲の光線透過率が同様に本発明の指定式内になるように
赤色染料を追加すればよい。この際、必要に応じて青色
系染料や黄色系染料等を併用してもよく、また透明熱可
塑性樹脂に、予めカーボンブラックを添加して全体の光
線透過率を下げておき、これに本発明の指定式内になる
ように赤外線吸収染料、赤色染料、必要に応じて青色系
染料等を添加して調整してもよい。
使用量は夫々の染料の色調等によって異なるので一概に
特定することはできないが、ディスク基板に成形したと
きの７８０nmの光線透過率が本発明の指定式内になるよ
うに赤外線吸収染料の量を合せ、４００〜７００nmの範
囲の光線透過率が同様に本発明の指定式内になるように
赤色染料を追加すればよい。この際、必要に応じて青色
系染料や黄色系染料等を併用してもよく、また透明熱可
塑性樹脂に、予めカーボンブラックを添加して全体の光
線透過率を下げておき、これに本発明の指定式内になる
ように赤外線吸収染料、赤色染料、必要に応じて青色系
染料等を添加して調整してもよい。
【００１４】本発明は ROM基板の信号反射率を REW基板
の信号反射率と同一水準に下げる点に特徴があり、この
ためには使用するレーザー光に対応する波長の光線透過
率Ｔが下記式
の信号反射率と同一水準に下げる点に特徴があり、この
ためには使用するレーザー光に対応する波長の光線透過
率Ｔが下記式
【００１５】
【数４】
【００１６】を満足させる必要がある。式中、Ｔ0 は透
明熱可塑性樹脂の光線透過率で、通常使用される透明熱
可塑性樹脂のＴ0 は約９０％であり、Ｒ1 は金属反射膜
の反射率で、通常使用されているAl、Au等の膜のＲ1 は
約９０％であり、Ｒ2 は記録膜構成層の反射率で、Tb.F
e.Co系MOディスクのＲ2 は３６％程度であるから光線透
過率Ｔは５７％が中心であり、５１〜６３％の範囲が適
当である。この範囲外では本発明の目的を達成し得なく
なる。
明熱可塑性樹脂の光線透過率で、通常使用される透明熱
可塑性樹脂のＴ0 は約９０％であり、Ｒ1 は金属反射膜
の反射率で、通常使用されているAl、Au等の膜のＲ1 は
約９０％であり、Ｒ2 は記録膜構成層の反射率で、Tb.F
e.Co系MOディスクのＲ2 は３６％程度であるから光線透
過率Ｔは５７％が中心であり、５１〜６３％の範囲が適
当である。この範囲外では本発明の目的を達成し得なく
なる。
【００１７】本発明の光学的記録材料を製造するには、
任意の方法が採用される。通常、粉粒状又はペレット状
の透明熱可塑性樹脂に、所定量の各染料を添加し、必要
に応じて分散剤や展着剤等を添加し、充分に混合したも
のを押出機により染色ペレットにする。この際、高濃度
の染料を配合してマスターペレットとなし、しかる後染
色していないペレットと混合してもよい。また、透明熱
可塑性樹脂ペレットに溶剤を使用して直接染料を展着さ
せた後乾燥するソルベントカラー法によることもでき
る。更に本発明の光学的記録基板を製造するには、上記
の染色ペレット、又は高濃度に染料を配合したマスター
ペレットと染色していないペレットとの混合物を常法に
より成形すればよい。また、粉粒状又はペレット状の透
明熱可塑性樹脂に所定量の各染料を添加し、必要に応じ
て分散剤や展着剤等を添加し、充分に混合したものを直
接基板の成形に供してもよい。
任意の方法が採用される。通常、粉粒状又はペレット状
の透明熱可塑性樹脂に、所定量の各染料を添加し、必要
に応じて分散剤や展着剤等を添加し、充分に混合したも
のを押出機により染色ペレットにする。この際、高濃度
の染料を配合してマスターペレットとなし、しかる後染
色していないペレットと混合してもよい。また、透明熱
可塑性樹脂ペレットに溶剤を使用して直接染料を展着さ
せた後乾燥するソルベントカラー法によることもでき
る。更に本発明の光学的記録基板を製造するには、上記
の染色ペレット、又は高濃度に染料を配合したマスター
ペレットと染色していないペレットとの混合物を常法に
より成形すればよい。また、粉粒状又はペレット状の透
明熱可塑性樹脂に所定量の各染料を添加し、必要に応じ
て分散剤や展着剤等を添加し、充分に混合したものを直
接基板の成形に供してもよい。
【００１８】本発明の光学的記録材料には光学ディスク
基板に要求される他の添加剤、例えば熱安定剤や離型剤
を配合してもよく、こうすることはディスクの成形性や
長期信頼性に好結果を与える。
基板に要求される他の添加剤、例えば熱安定剤や離型剤
を配合してもよく、こうすることはディスクの成形性や
長期信頼性に好結果を与える。
【００１９】
【実施例】以下に実施例をあげて本発明を更に説明す
る。なお、分光透過率は厚さ１．２mmのディスク板を用
い（株）日立製作所製分光光度計 U−３４００（積分球
付）により測定した。
る。なお、分光透過率は厚さ１．２mmのディスク板を用
い（株）日立製作所製分光光度計 U−３４００（積分球
付）により測定した。
【００２０】
【実施例１及び実施例２】ビスフェノールＡを用いて通
常のホスゲン法によって得られた粘度平均分子量１５０
００のポリカーボネート粉粒体１００重量部に表１記載
の染料を表記載の量（重量部）添加混合した後押出機に
より２７０℃でペレット化した。得られたペレットを１
２０℃で７時間乾燥した後３オンスの射出成形機により
成形温度３３０℃、金型温度８５℃で厚さ１．２mmのデ
ィスク板を成形した。夫々の光線透過率の測定結果を図
１及び図２に示した。
常のホスゲン法によって得られた粘度平均分子量１５０
００のポリカーボネート粉粒体１００重量部に表１記載
の染料を表記載の量（重量部）添加混合した後押出機に
より２７０℃でペレット化した。得られたペレットを１
２０℃で７時間乾燥した後３オンスの射出成形機により
成形温度３３０℃、金型温度８５℃で厚さ１．２mmのデ
ィスク板を成形した。夫々の光線透過率の測定結果を図
１及び図２に示した。
【００２１】
【実施例３】ポリメチルメタクリル樹脂ペレット［三菱
レイヨン（株）製：アクリペット］１００重量部に表１
記載の染料を表記載の量（重量部）添加混合した後押出
機により２１０℃でペレット化した。得られたペレット
を８０℃で４時間乾燥した後３オンスの射出成形機によ
り成形温度２３０℃、金型温度６０℃で厚さ１．２mmの
ディスク板を成形し、その光線透過率の測定結果を図３
に示した。
レイヨン（株）製：アクリペット］１００重量部に表１
記載の染料を表記載の量（重量部）添加混合した後押出
機により２１０℃でペレット化した。得られたペレット
を８０℃で４時間乾燥した後３オンスの射出成形機によ
り成形温度２３０℃、金型温度６０℃で厚さ１．２mmの
ディスク板を成形し、その光線透過率の測定結果を図３
に示した。
【００２２】
【表１】
【００２３】
【発明の効果】本発明によれば、従来考え及ばなかった
透明熱可塑性樹脂光線透過率を下げることにより REW基
板と同一水準のレーザー光線反射率を有する ROM基板を
提供することを初めて可能にしたものであり、 REW基板
と ROM基板を同一の再生装置で再生する機構を大幅に簡
素化することを可能にしたものである。更に将来高密度
記録のためにレーザー光線が短波長化されようとしてい
るが、どのように短波長化が進行しても問題なく対応で
きるものであり、光ディスクの発展に大きく寄与できる
ものである。
透明熱可塑性樹脂光線透過率を下げることにより REW基
板と同一水準のレーザー光線反射率を有する ROM基板を
提供することを初めて可能にしたものであり、 REW基板
と ROM基板を同一の再生装置で再生する機構を大幅に簡
素化することを可能にしたものである。更に将来高密度
記録のためにレーザー光線が短波長化されようとしてい
るが、どのように短波長化が進行しても問題なく対応で
きるものであり、光ディスクの発展に大きく寄与できる
ものである。
【図１】実施例１で得た光学的記録材料の光線透過率を
示すチャート
示すチャート
【図２】実施例２で得た光学的記録材料の光線透過率を
示すチャート
示すチャート
【図３】実施例３で得た光学的記録材料の光線透過率を
示すチャート
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フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−33742（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−102505（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−41640（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−167239（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 7/24 526 G11B 7/24 531 C08K 5/00 C08L 101/16
Claims (2)
- 【請求項１】 透明熱可塑性樹脂に主として赤外線吸収
染料と赤色染料を配合し、ディスク基板に成形したとき
の７８０nmの波長及び４００〜７００nmの範囲で使用す
るレーザー光に対応する波長の光線透過率Ｔが下記式 【数１】 ［式中、Ｔ0 は該透明熱可塑性樹脂の光線透過率、Ｒ1
は金属反射膜の反射率、Ｒ2 は記録膜構成層の反射率で
ある。］を満足する光学的記録材料。 - 【請求項２】 透明熱可塑性樹脂よりなり、これに主と
して赤外線吸収染料と赤色染料を配合して７８０nmの波
長及び４００〜７００nmの範囲で使用するレーザー光に
対応する波長の光線透過率Ｔが下記式 【数２】 ［式中、Ｔ0 は該透明熱可塑性樹脂の光線透過率、Ｒ1
は金属反射膜の反射率、Ｒ2 は記録膜構成層の反射率で
ある。］を満足する光学的記録基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4210222A JP3020745B2 (ja) | 1992-08-06 | 1992-08-06 | 光学的記録材料及び光学的記録基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4210222A JP3020745B2 (ja) | 1992-08-06 | 1992-08-06 | 光学的記録材料及び光学的記録基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0660422A JPH0660422A (ja) | 1994-03-04 |
| JP3020745B2 true JP3020745B2 (ja) | 2000-03-15 |
Family
ID=16585813
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4210222A Expired - Lifetime JP3020745B2 (ja) | 1992-08-06 | 1992-08-06 | 光学的記録材料及び光学的記録基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3020745B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19744162A1 (de) * | 1997-10-07 | 1999-04-08 | Bayer Ag | Optisches Speichermedium |
| JP4571285B2 (ja) * | 2000-04-28 | 2010-10-27 | 帝人化成株式会社 | 光学成形品用着色剤マスターバッチおよび光記録媒体基板 |
| US6686041B2 (en) * | 2000-04-28 | 2004-02-03 | Teijin Chemicals Ltd | Coloring master pellet for optical molded article and colored optical disk substrate |
| JP4571334B2 (ja) * | 2000-04-28 | 2010-10-27 | 帝人化成株式会社 | 光学成形品用着色マスターペレットおよび光ディスク基板 |
| JP4571335B2 (ja) * | 2000-04-28 | 2010-10-27 | 帝人化成株式会社 | 光学成形品用着色マスターペレットおよび光ディスク基板 |
| JP2002322290A (ja) * | 2001-04-26 | 2002-11-08 | Teijin Chem Ltd | 光学成形品用着色マスターペレットおよび着色された光ディスク基板 |
| US6475589B1 (en) * | 2001-12-17 | 2002-11-05 | General Electric Company | Colored optical discs and methods for making the same |
-
1992
- 1992-08-06 JP JP4210222A patent/JP3020745B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0660422A (ja) | 1994-03-04 |
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