JP3017147B2 - 光学活性スルホキシド誘導体 - Google Patents

光学活性スルホキシド誘導体

Info

Publication number
JP3017147B2
JP3017147B2 JP30511097A JP30511097A JP3017147B2 JP 3017147 B2 JP3017147 B2 JP 3017147B2 JP 30511097 A JP30511097 A JP 30511097A JP 30511097 A JP30511097 A JP 30511097A JP 3017147 B2 JP3017147 B2 JP 3017147B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
single bond
place
app
diclph
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP30511097A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH10182649A (ja
Inventor
剛秀 西
公樹 石橋
武 山口
一洋 伊藤
勝義 中島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sankyo Co Ltd
Original Assignee
Sankyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sankyo Co Ltd filed Critical Sankyo Co Ltd
Priority to JP30511097A priority Critical patent/JP3017147B2/ja
Publication of JPH10182649A publication Critical patent/JPH10182649A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3017147B2 publication Critical patent/JP3017147B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、優れた、サブスタ
ンスP及びニューロキニンA受容体に対する拮抗作用を
有する新規な光学活性スルホキシド誘導体に関する。
【0002】
【従来の技術】サブスタンスP及びニューロキニンAの
両方の受容体(NK1 受容体及びNK2 受容体)に拮抗
する低分子量の非ペプチド型の化合物の報告例は少な
く、以下の化合物が知られているが、更に拮抗作用の強
い化合物が望まれていた。
【0003】
【化3】
【0004】また、スピロ[ベンゾ[c]チオフェン−
1(3H),4’−ピペリジン]−2−オキシドの合成
は、従来、J. Org. Chem. 41巻, 2628頁 (1976年) やW
O95/28389号等において公知であるが、そのス
ルホキシド部分の不斉に基づく光学活性体の合成、光学
活性分割等については何ら報告はない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、タキキ
ニン拮抗作用(特に、サブスタンスP拮抗作用、ニュー
ロキニンA及びB受容体に対する拮抗作用)を有する誘
導体の合成とその薬理活性について、永年に亘り鋭意研
究を行なった結果、新規なスピロ[ベンゾ[c]チオフ
ェン−1(3H),4’−ピペリジン]−2−オキシド
のS光学活性体が、R体に比べ、タキキニン受容体に対
して、格別の拮抗作用を有し、更に本発明の化合物は、
上記の公知化合物と比較して、より良好な経口吸収性を
有し、NK1 受容体及びNK2 両受容体に対する拮抗活
性がより優れていることを見出し、本発明を完成した。
【0006】又、本発明の他の目的は、上記化合物を有
効成分とする、タキキニン介在性疾患の予防剤又は治療
剤を提供すること、及びタキキニン介在性疾患の予防剤
又は治療剤を製造するために上記化合物を使用すること
にあり、このような予防剤又は治療剤としては、例え
ば、NK1 受容体及び/又はNK2 受容体阻害剤であ
り、このような疾患としては、例えば、不安、うつ、精
神症及び分裂症を含む中枢神経系の疾患;AIDSにお
ける痴呆、アルツハイマー型の老年性痴呆、アルツハイ
マー病、ダウン症候群、脱髄性疾患、筋萎縮性側索硬化
症、神経障害、抹消神経障害、及び神経痛を含む神経変
性性疾患;慢性閉塞性肺疾患、気管支炎、肺炎、気管支
収縮、喘息、咳を含む呼吸器疾患;炎症性大腸疾患(I
BD)、乾癬、結合組織炎、骨関節炎、変性性関節炎、
及び関節リウマチを含む炎症性疾患;湿疹;及び鼻炎を
含むアレルギー疾患;蔓植物に対する過敏性疾患を含む
過敏性疾患;結膜炎、春季結膜炎、春季カタル、種々の
炎症性眼疾患に伴う血液−眼房水関門の破壊、眼房内圧
上昇、縮瞳を含む眼科疾患;接触性皮膚炎、アトピー性
皮膚炎、蕁麻疹、及びその他の湿疹様皮膚炎を含む皮膚
疾患;アルコール依存症を含む耽弱症;ストレスによる
体性疾患;肩・手症候群を含む反射性交感神経ジストロ
フィー;気分変調;移植片の拒絶を含む望ましくない免
疫反応及び全身性紅斑性狼瘡を含む免疫増強、或は免疫
抑制に関連した疾患;内蔵を調節する神経の異常による
疾患、大腸炎、潰瘍性大腸炎、クローン病を含む消化器
疾患;X線照射及び化学療法剤、毒物、毒素、妊娠、前
庭障害、術後病、胃腸閉塞、胃腸運動低下、内蔵痛、偏
頭痛、頭蓋内圧増加、頭蓋内圧減少又は各種薬物投与に
伴う副作用により誘発される嘔吐を含む嘔吐;膀胱炎、
尿失禁を含む膀胱機能疾患;膠原病、強皮症、肝蛭感染
による好酸球増多症;狭心症、偏頭痛、及びレイノー病
を含む血管拡張、或は収縮による血流の異常による疾
患;偏頭痛、頭痛、歯痛を含む痛み侵害受容の疼痛を挙
げることができる。
【0007】更に、本発明は、タキキニン拮抗作用(特
に、サブスタンスP拮抗作用、ニューロキニンA及びB
受容体に対する拮抗作用)を有する誘導体の合成におい
て有用な中間体を提供する。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の新規な光学活性
スルホキシド誘導体は、(1) 下記一般式(I):
【0009】
【化4】
【0010】{式中、R1 及びR2 は、同一又は異なっ
て、アリール基、ヘテロアリール基、置換基群(a)よ
り選択される基で1乃至3個置換されたアリール基、又
は、置換基群(a)より選択される基で1乃至3個置換
されたヘテロアリール基を示し、R3 は低級アルキル基
を示し、Aは、メチレン基、カルボニル基又はスルホニ
ル基を示し、Bは、単結合、炭素数1乃至4個のアルキ
レン基又は炭素数2乃至4個のアルケニレン基を示し、
Dは、酸素原子又は硫黄原子を示し、Eは、ハロゲン原
子で置換されていてもよい炭素数1乃至6個のアルキレ
ン基、又は炭素数3乃至6個のシクロアルカン環を含む
炭素数3乃至8個のアルキレン基を示し、Gは、炭素数
1乃至4個のアルキレン基又は炭素数2乃至4個のアル
ケニレン基を示し、Jは、炭素数1乃至6個のアルキレ
ン基を示し、環Arは、アリール環、ヘテロアリール
環、置換基群(a)より選択される基で1乃至4個置換
されたアリール環又は置換基群(a)より選択される基
で1乃至3個置換されたヘテロアリール環を示し、式S
* →Oは、酸素原子がS配位で硫黄原子に結合している
スルホキシド基を示す。}で表わされ、好適な化合物と
しては、(2) R1 が、アリール基、ヘテロアリール
基又は下記置換基群(a)より選択される基で1乃至3
個置換されたアリール基である化合物、(3) R1
が、アリール基、又は下記置換基群(a1 )より選択さ
れる基で1乃至3個置換されたアリール基である化合
物、(4) R2 が、アリール基又は置換基群(a)よ
り選択される基で1乃至3個置換されたアリール基であ
る化合物、(5) R2 が、アリール基、又は1乃至3
個のハロゲン原子で置換されたアリール基である化合
物、(6) Aが、カルボニル基である化合物、(7)
Bが、単結合である化合物、(8) Dが、酸素原子
である化合物、(9) Eが、炭素数1乃至4個のアル
キレン基、又は炭素数3乃至6個のシクロアルカン環を
含む炭素数3乃至8個のアルキレン基である化合物、
(10) Eが、メチレン基、エチレン基、ジメチルメ
チレン基、1,1−ジメチルエチレン基、2,2−ジメ
チルエチレン基、シクロプロパン−1,1−ジイル基、
シクロブタン−1,1−ジイル基、シクロペンタン−
1,1−ジイル基、シクロヘキサン−1,1−ジイル
基、シクロプロパン−1,1−ジイルメチル基、シクロ
ブタン−1,1−ジイルメチル基、シクロペンタン−
1,1−ジイルメチル基又はシクロヘキサン−1,1−
ジイルメチル基である化合物、(11) Gが、炭素数
1乃至4個のアルキレン基である化合物、(12) G
が、炭素数2又は3個のアルキレン基である化合物、
(13) Jが、炭素数1乃至4個のアルキレン基であ
る化合物、(14) Jが、メチレン基又はエチレン基
である化合物、(15) 環Arが、アリール環、ヘテ
ロアリール環又は置換基群(a)より選択される基で1
乃至3個置換されたアリール環である化合物、(16)
環Arが、アリール環、又は置換基群(a)より選択
される基で1乃至3個置換されたアリール環である化合
物、その薬理上許容される塩、そのエステル又はその他
の誘導体である。
【0011】[置換基群(a)]ハロゲン原子、水酸
基、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基、カルボキシ基、低級脂肪族アシル基、低級
脂肪族アシルアミノ基、アミノ基、及び、シアノ基 [置換基群(a1 )]低級アルキル基、ハロゲノ低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基。
【0012】最も好適な化合物は、下記の化合物であ
る。 ・1−{2−[(5R)−(3,4−ジクロロフェニ
ル)−3−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)オ
キサゾリジン−5−イル]エチル}スピロ[ベンゾ
[c]チオフェン−1(3H),4’−ピペリジン]−
(2S)−オキシド ・1−{2−[(5R)−(4−クロロフェニル)−3
−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)オキサゾリ
ジン−5−イル]エチル}スピロ[ベンゾ[c]チオフ
ェン−1(3H),4’−ピペリジン]−(2S)−オ
キシド ・1−{2−[(5R)−(4−フルオロフェニル)−
3−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)オキサゾ
リジン−5−イル]エチル}スピロ[ベンゾ[c]チオ
フェン−1(3H),4’−ピペリジン]−(2S)−
オキシド ・1−{2−[(2R)−(3,4−ジクロロフェニ
ル)−4−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)モ
ルホリン−2−イル]エチル}スピロ[ベンゾ[c]チ
オフェン−1(3H),4’−ピペリジン]−(2S)
−オキシド ・1−{2−[(2R)−(4−クロロフェニル)−4
−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)モルホリン
−2−イル]エチル}スピロ[ベンゾ[c]チオフェン
−1(3H),4’−ピペリジン]−(2S)−オキシ
ド ・1−{2−[(2R)−(4−フルオロフェニル)−
4−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)モルホリ
ン−2−イル]エチル}スピロ[ベンゾ[c]チオフェ
ン−1(3H),4’−ピペリジン]−(2S)−オキ
シド ・1−{2−[(2R)−(3,4−ジクロロフェニ
ル)−4−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)ヘ
キサヒドロ−1,4−オキサゼピン−2−イル]エチ
ル}スピロ[ベンゾ[c]チオフェン−1(3H),
4’−ピペリジン]−(2S)−オキシド ・1−{2−[(2R)−(4−クロロフェニル)−4
−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)ヘキサヒド
ロ−1,4−オキサゼピン−2−イル]エチル}スピロ
[ベンゾ[c]チオフェン−1(3H),4’−ピペリ
ジン]−(2S)−オキシド ・1−{2−[(2R)−(4−フルオロフェニル)−
4−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)ヘキサヒ
ドロ−1,4−オキサゼピン−2−イル]エチル}スピ
ロ[ベンゾ[c]チオフェン−1(3H),4’−ピペ
リジン]−(2S)−オキシド ・1−{2−[(2R)−(3,4−ジクロロフェニ
ル)−4−(3−イソプロピルオキシフェニル)アセチ
ル]モルホリン−2−イル]エチル}スピロ[ベンゾ
[c]チオフェン−1(3H),4’−ピペリジン]−
(2S)−オキシド ・1−{2−[(2R)−(4−クロロフェニル)−4
−(3−イソプロピルオキシフェニル)アセチル]モル
ホリン−2−イル]エチル}スピロ[ベンゾ[c]チオ
フェン−1(3H),4’−ピペリジン]−(2S)−
オキシド ・1−{2−[(2R)−(4−フルオロフェニル)−
4−(3−イソプロピルオキシフェニル)アセチル]モ
ルホリン−2−イル]エチル}スピロ[ベンゾ[c]チ
オフェン−1(3H),4’−ピペリジン]−(2S)
−オキシド ・1−{2−[(2R)−(3,4−ジクロロフェニ
ル)−5,5−ジメチル−4−(3,4,5−トリメト
キシベンゾイル)モルホリン−2−イル]エチル}スピ
ロ[ベンゾ[c]チオフェン−1(3H),4’−ピペ
リジン]−(2S)−オキシド。
【0013】本発明の新規なタキキニン介在性疾患の予
防剤又は治療剤は、上記より選択される化合物、その薬
理上許容される塩、エステル又はその他の誘導体を有効
成分として含有し、本発明の新規なNK1 受容体及び/
又はNK2 受容体の阻害剤は、上記より選択される化合
物、その薬理上許容される塩、エステル又はその他の誘
導体を有効成分として含有し、本発明の新規な喘息及び
/又は気管支炎の予防剤又は治療剤は、上記より選択さ
れる化合物、その薬理上許容される塩、エステル又はそ
の他の誘導体を有効成分として含有し、本発明の新規な
鼻炎の予防剤又は治療剤は治療剤は、上記より選択され
る化合物、その薬理上許容される塩、エステル又はその
他の誘導体を有効成分として含有し、本発明の新規なア
レルギーの予防剤又は治療剤は治療剤は、上記より選択
される化合物、その薬理上許容される塩、エステル又は
その他の誘導体を有効成分として含有し、更に、本発明
の新規な尿失禁の予防剤又は治療剤は治療剤は、上記よ
り選択される化合物、その薬理上許容される塩、エステ
ル又はその他の誘導体を有効成分として含有する。
【0014】一方、本発明の、タキキニン介在性疾患の
予防剤又は治療剤を製造するための使用は、上記より選
択される化合物、その薬理上許容される塩、そのエステ
ル又はその他の誘導体を使用し、本発明の、NK1 受容
体及び/又はNK2 受容体阻害剤を製造するための使用
は、上記より選択される化合物、その薬理上許容される
塩、そのエステル又はその他の誘導体を使用し、本発明
の、喘息及び/又は気管支炎の予防剤又は治療剤を製造
するための使用は、上記より選択される化合物、その薬
理上許容される塩、そのエステル又はその他の誘導体を
使用し、本発明の、鼻炎の予防剤又は治療剤を製造する
ために、上記より選択される化合物、その薬理上許容さ
れる塩、そのエステル又はその他の誘導体を使用し、本
発明の、アレルギーの予防剤又は治療剤を製造するため
に、上記より選択される化合物、その薬理上許容される
塩、そのエステル又はその他の誘導体を使用し、本発明
の、尿失禁の予防剤又は治療剤を製造するために、上記
より選択される化合物、その薬理上許容される塩、その
エステル又はその他の誘導体を使用する。
【0015】本発明の、タキキニン拮抗作用(特に、サ
ブスタンスP拮抗作用、ニューロキニンA及びB受容体
に対する拮抗作用)を有する誘導体の合成において有用
な中間体は、下記一般式(XXXIV):
【0016】
【化5】
【0017】{式中、R12は水素原子又はアミノ基の保
護基を示し、Jは、炭素数1乃至6個のアルキレン基を
示し、環Arは、アリール環、ヘテロアリール環、置換
基群(a)より選択される基で1乃至4個置換されたア
リール環又は置換基群(a)より選択される基で1乃至
3個置換されたヘテロアリール環を示し、式S* →O
は、酸素原子がS配位で硫黄原子に結合しているスルホ
キシド基を示す。}で表わされ、好適な化合物として
は、(1) Jが、炭素数1乃至4個のアルキレン基で
ある化合物、(2) Jが、メチレン基又はエチレン基
である化合物、(3) 環Arが、アリール環、ヘテロ
アリール環又は置換基群(a)より選択される基で1乃
至3個置換されたアリール環である化合物、(4) 環
Arが、アリール環、又は置換基群(a)より選択され
る基で1乃至3個置換されたアリール環である化合物、
その塩、そのエステル又はその他の誘導体。
【0018】る化合物、その塩、そのエステル又はその
他の誘導体である。
【0019】[置換基群(a)]ハロゲン原子、水酸
基、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基、カルボキシ基、低級脂肪族アシル基、低級
脂肪族アシルアミノ基、アミノ基、及び、シアノ基上記
一般式(I)において、R1 及びR2 の定義における
「アリール基」、並びに、R1 及びR2 の定義における
「置換基群(a)より選択される基で1乃至3個置換さ
れたアリール基」の「アリール基」とは、例えば、フェ
ニル、インデニル、ナフチル、フェナンスレニル、アン
トラセニルのような炭素数6乃至14個の芳香族炭化水
素基を挙げることができ、好適にはフェニル基である。
尚、上記「アリール基」は、炭素数3乃至10個のシク
ロアルキル基と縮環していてもよく、例えば、2−イン
ダニルのような基を挙げることができる。
【0020】R1 及びR2 の定義における「ヘテロアリ
ール基」並びにR1 及びR2 の定義における「置換基群
(a)より選択される基で1乃至3個置換されたヘテロ
アリール基」の「ヘテロアリール基」とは、硫黄原子、
酸素原子又は/及び窒素原子を1乃至3個含む5乃至7
員芳香族複素環基を示し、例えば、フリル、チエニル、
ピロリル、アゼピニル、ピラゾリル、イミダゾリル、オ
キサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾ
リル、1,2,3−オキサジアゾリル、トリアゾリル、
テトラゾリル、チアジアゾリル、ピラニル、 ピリジル、
ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニルのような基を
挙げることができ、好適には、窒素原子を少なくとも1
個含み、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい5乃
至7員芳香族複素環基を示し、例えば、ピロリル、アゼ
ピニル、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサゾリル、イ
ソキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、1,2,
3−オキサジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、
チアジアゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニ
ル、ピラジニルのような基を挙げることができ、更に好
適には、ピリジル、イミダゾリル、オキサゾリル、ピラ
ジニル及びチアゾリルである。尚、上記「ヘテロアリー
ル基」は、他の環式基と縮環していてもよく、例えば、
インドリル、ベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンゾオ
キサゾリル、ベンゾイミダゾリル、イソキノリル、キノ
リル、キノキサリルのような基を挙げることができる。
【0021】B及びGの定義における「炭素数1乃至4
個のアルキレン基」とは、例えば、メチレン、メチルメ
チレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラ
メチレン、ジメチルメチレン、1,1−ジメチルエチレ
ン、1−メチルトリメチレン、2−メチルトリメチレ
ン、3−メチルトリメチレンのような炭素数1乃至4個
の直鎖又は分枝鎖アルキレン基を挙げることができる。
Bについて、好適には、炭素数1乃至3個の直鎖又は分
枝鎖アルキレン基である。Gについて、好適には、炭素
数1乃至3個の直鎖又は分枝鎖アルキレン基であり、更
に好適には、炭素数2乃至3個の直鎖又は分枝鎖アルキ
レン基であり、最も好適には、エチレンである。B及び
Gの定義における「炭素数2乃至4個のアルケニレン
基」とは、エテニレン、2−プロペニレン、1−メチル
−2−プロペニレン、2−メチル−2−プロペニレン、
2−エチル−2−プロペニレン、2−ブテニレンのよう
な炭素数2乃至4個の直鎖又は分枝鎖アルケニレン基を
挙げることができ、好適には、エテニレン、2−プロペ
ニレン又は3−ブテニレンであり、更に好適には、エテ
ニレン又は2−プロペニレンである。
【0022】Jの定義における「炭素数1乃至6個のア
ルキレン基」及びEの定義における「ハロゲン原子で置
換されていてもよい炭素数1乃至6個のアルキレン基」
における「炭素数1乃至6個のアルキレン基」とは、炭
素数1乃至6個の直鎖又は分枝鎖アルキレン基であり、
例えば、前記「炭素数1乃至4個のアルキレン基」並び
にペンタメチレン、ヘキサメチレン、1,1−ジメチル
トリメチレン、2,2−ジメチルトリメチレン、1,1
−ジメチルテトラメチレン及び2,2−ジメチルテトラ
メチレンのような基を挙げることができる。Eについ
て、好適には、炭素数1乃至4個のアルキレン基であ
り、更に好適には、メチレン、エチレン、トリメチレ
ン、ジメチルメチレン又は1,1−ジメチルエチレンで
あり、最も好適にはメチレン又はエチレンである。Jに
ついて、好適には、炭素数1乃至4個のアルキレン基で
あり、更に好適には、メチレン、エチレン、ジメチルメ
チレン又は1,1−ジメチルエチレンであり、更に好適
にはメチレン又はエチレンであり、最も好適には、メチ
レンである。
【0023】Eの定義における「炭素数3乃至6個のシ
クロアルカン環を含む炭素数3乃至8個のアルキレン
基」とは、炭素数3乃至6個のシクロアルカン−1,1
−ジイル基、又は炭素数3乃至6個のシクロアルカン−
1,1−ジイル基の片方若しくは両方の結合手にメチレ
ン基が結合している基を示し、例えばシクロプロパン−
1,1−ジイル、シクロブタン−1,1−ジイル、シク
ロペンタン−1,1−ジイル、シクロヘキサン−1,1
−ジイル、シクロプロパン−1,1−ジイルメチル、シ
クロブタン−1,1−ジイルメチル、シクロペンタン−
1,1−ジイルメチル、シクロヘキサン−1,1−ジイ
ルメチルのような基を挙げることができる。好適には、
シクロプロパン−1,1−ジイル、シクロブタン−1,
1−ジイル、シクロプロパン−1,1−ジイルメチル又
はシクロブタン−1,1−ジイルメチルである。
【0024】環Arの定義における「アリール環」並び
に「置換基群(a)より選択される基で1乃至4個置換
されたアリール環」の「アリール環」とは、例えば、ベ
ンゼン環、インデン環、ナフタレン環、フェナンスレン
環、アントラセニル環のような炭素数6乃至14個の芳
香族炭化水素基を挙げることができ、好適にはベンゼン
環である。
【0025】環Arの定義における「ヘテロアリール
環」並びに「置換基群(a)より選択される基で1乃至
3個置換されたヘテロアリール環」の「ヘテロアリール
環」とは、例えば、硫黄原子、酸素原子又は/及び窒素
原子を1乃至3個含む5乃至7員芳香族複素環を示し、
例えば、フラン環、チオフェン環、ピロール環、アゼピ
ン環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール
環、イソキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール
環、1,2,3−オキサジアゾール環、トリアゾール
環、テトラゾール環、チアジアゾール環、ピラン環、 ピ
リジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環の
ような環を挙げることができ、好適には、窒素原子を少
なくとも1個含み、酸素原子又は硫黄原子を含んでいて
もよい5乃至7員芳香族複素環基を示し、例えば、ピロ
ール環、アゼピン環、ピラゾール環、イミダゾール環、
オキサゾール環、イソキサゾール環、チアゾール環、イ
ソチアゾール環、1,2,3−オキサジアゾール環、ト
リアゾール環、テトラゾール環、チアジアゾール環、ピ
リジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環の
ような基を挙げることができ、更に好適には、ピリジン
環、イミダゾール環、オキサゾール環、ピラジン環及び
チアゾール環である。
【0026】R3 、[置換基群(a)]及び[置換基群
(a1 )]の定義における「低級アルキル基」とは、例
えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、
n−ブチル、イソブチル、s−ブチル、tert−ブチル、
n−ペンチル、イソペンチル、2−メチルブチル、ネオ
ペンチル、1−エチルプロピル、n−ヘキシル、イソヘ
キシル、4−メチルペンチル、3−メチルペンチル、2
−メチルペンチル、1−メチルペンチル、3,3−ジメ
チルブチル、2,2−ジメチルブチル、1,1−ジメチ
ルブチル、1,2−ジメチルブチル、1,3−ジメチル
ブチル、2,3−ジメチルブチル、2−エチルブチルの
ような炭素数1乃至6個の直鎖又は分枝鎖アルキル基を
示し、好適には、炭素数1乃至4個の直鎖又は分枝鎖ア
ルキル基であり、更に好適には、メチル又はエチルであ
る。
【0027】[置換基群(a)]及び[置換基群(a
1 )]の定義における「低級アルコキシ基」とは、前記
「低級アルキル基」が酸素原子に結合した基をいい、例
えば、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロ
ポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、s−ブトキシ、
tert−ブトキシ、n−ペントキシ、イソペントキシ、2
−メチルブトキシ、ネオペントキシ、n−ヘキシルオキ
シ、4−メチルペントキシ、3−メチルペントキシ、2
−メチルペントキシ、3,3−ジメチルブトキシ、2,
2−ジメチルブトキシ、1,1−ジメチルブトキシ、
1,2−ジメチルブトキシ、1,3−ジメチルブトキ
シ、2,3−ジメチルブトキシのような炭素数1乃至6
個の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基を示し、好適には、炭
素数1乃至4個の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基である。
[置換基群(a)]及び[置換基群(a1 )]の定義に
おける「低級アルコキシ基」として、更に好適には、メ
トキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシで
あり、最も好適には、メトキシ又はイソプロポキシであ
る。
【0028】[置換基群(a)]の定義における「ハロ
ゲン原子」及びEの定義における「ハロゲン原子で置換
されていてもよい炭素数1乃至6個のアルキレン基」に
おける「ハロゲン原子」とは、弗素原子、塩素原子、臭
素原子又は沃素原子であり、好適には、弗素原子及び塩
素原子である。
【0029】[置換基群(a)]及び[置換基群(a
1 )]の定義における「ハロゲノ低級アルキル基」と
は、前記「ハロゲン原子」が「低級アルキル基」に結合
した基をいい、例えば、トリフルオロメチル、トリクロ
ロメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、ジブロ
モメチル、フルオロメチル、2,2,2−トリクロロエ
チル、2,2,2−トリフルオロエチル、2−ブロモエ
チル、2−クロロエチル、2−フルオロエチル、2,2
−ジブロモエチルのような基を挙げることができ、好適
には、トリフルオロメチル、2−ブロモエチル、2−ク
ロロエチル及び2−フルオロエチルである。
【0030】[置換基群(a)]の定義における「低級
脂肪族アシル基」並びに「低級脂肪族アシルアミノ基」
の「低級脂肪族アシル基」とは、炭素数1乃至6個の脂
肪族アシル基をいい、例えば、ホルミル、アセチル、プ
ロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、
ピバロイル、バレリル及びイソバレリルを挙げることが
でき、好適には、アセチル及びプロピオニルである。
【0031】R1 の定義における「置換基群(a)より
選択される基で1乃至3個置換されたアリール基」と
は、好適には、置換基群(a1 )より選択される基で1
乃至3個置換されたアリール基であり、更に好適には、
置換基群(a1 )より選択される基で1乃至3個置換さ
れたフェニル基であり、最も好適には「低級アルコキシ
基」で1乃至3個置換されたフェニル基である。
【0032】R2 の定義における「置換基群(a)より
選択される基で1乃至3個置換されたアリール基」につ
いて、好適には、「ハロゲン原子」で1乃至3個置換さ
れたアリール基であり、更に好適には、「ハロゲン原
子」で1乃至3個置換されたフェニル基である。
【0033】R12の定義における「アミノ基の保護基」
とは、加水素分解、加水分解、電気分解、光分解のよう
な化学的方法により開裂し得る「反応における保護基」
を示す。斯かる「反応における保護基」としては、例え
ば、前記「低級脂肪族アシル基」;ベンゾイル、α−ナ
フトイル、β−ナフトイルのようなアリ−ルカルボニル
基、2−ブロモベンゾイル、4−クロロベンゾイルのよ
うなハロゲン化アリ−ルカルボニル基、2,4,6−ト
リメチルベンゾイル、4−トルオイルのような低級アル
キル化アリ−ルカルボニル基、4−アニソイルのような
低級アルコキシ化アリ−ルカルボニル基、4−ニトロベ
ンゾイル、2−ニトロベンゾイルのようなニトロ化アリ
−ルカルボニル基、2−(メトキシカルボニル)ベンゾ
イルのような低級アルコキシカルボニル化アリ−ルカル
ボニル基、4−フェニルベンゾイルのようなアリ−ル化
アリ−ルカルボニル基等の「芳香族アシル基」;メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、n−プロポキシカ
ルボニル、イソプロポキシカルボニル、n−ブトキシカ
ルボニル、イソブトキシカルボニル、s−ブトキシカル
ボニル、tert−ブトキシカルボニル、n−ペントキシカ
ルボニル、イソペントキシカルボニル、2−メチルブト
キシカルボニル、ネオペントキシカルボニル、n−ヘキ
シルオキシカルボニル、4−メチルペントキシカルボニ
ル、3−メチルペントキシカルボニル、2−メチルペン
トキシカルボニル、3,3−ジメチルブトキシカルボニ
ル、2,2−ジメチルブトキシカルボニル、1,1−ジ
メチルブトキシカルボニル、1,2−ジメチルブトキシ
カルボニル、1,3−ジメチルブトキシカルボニル、
2,3−ジメチルブトキシカルボニルのような「低級ア
ルコキシカルボニル基」;ビニルオキシカルボニル、ア
リルオキシカルボニルのような「アルケニルオキシカル
ボニル基」;ベンジルオキシカルボニル、4−メトキシ
ベンジルオキシカルボニル、3,4−ジメトキシベンジ
ルオキシカルボニル、2−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル、4−ニトロベンジルオキシカルボニルのような、
1乃至2個の低級アルコキシ又はニトロ基でアリ−ル環
が置換されていてもよい「アラルキルオキシカルボニル
基」;又は、トリメチルシリル、トリエチルシリル、イ
ソプロピルジメチルシリル、t-ブチルジメチルシリル、
メチルジイソプロピルシリル、メチルジ-t−ブチルシリ
ル、トリイソプロピルシリルのようなトリ低級アルキル
シリル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブチル
シリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェニルジイ
ソプロピルシリルのような1乃至2個の低級アルキル基
がアリ−ル基で置換されたトリ低級アルキルシリル基等
の「シリル基」を挙げることができる。好適には、低級
アルコキシカルボニル基であり、更に好適には、tert-
ブトキシカルボニルである。
【0034】「その薬理上許容される塩」とは、本発明
の化合物(I)が塩基性の基及び/又は酸性の基を有す
る場合、塩にすることができるので、その塩を示す。塩
基性の基に基づく塩としては、好適には、弗化水素酸
塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩のようなハロ
ゲン化水素酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、燐酸塩
等の無機酸塩;メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタ
ンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩のような低級アル
カンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエ
ンスルホン酸塩のようなアリ−ルスルホン酸塩、酢酸、
りんご酸、フマ−ル酸塩、コハク酸塩、クエン酸塩、酒
石酸塩、蓚酸塩、マレイン酸塩等の有機酸塩;及び、グ
リシン塩、リジン塩、アルギニン塩、オルニチン塩、グ
ルタミン酸塩、アスパラギン酸塩のようなアミノ酸塩を
挙げることができる。一方、酸性の基に基づく塩として
は、好適には、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩
のようなアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム
塩のようなアルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、鉄塩
等の金属塩;アンモニウム塩のような無機塩、t−オク
チルアミン塩、ジベンジルアミン塩、モルホリン塩、グ
ルコサミン塩、フェニルグリシンアルキルエステル塩、
エチレンジアミン塩、N−メチルグルカミン塩、グアニ
ジン塩、ジエチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシ
クロヘキシルアミン塩、N,N’−ジベンジルエチレン
ジアミン塩、クロロプロカイン塩、プロカイン塩、ジエ
タノールアミン塩、N−ベンジルフェネチルアミン塩、
ピペラジン塩、テトラメチルアンモニウム塩、トリス
(ヒドロキシメチル)アミノメタン塩のような有機塩等
のアミン塩;及び、グリシン塩、リジン塩、アルギニン
塩、オルニチン塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩
のようなアミノ酸塩を挙げることができる。
【0035】又、本発明の化合物(I)は、分子内のピ
ペリジノ基の窒素原子をR3 基で修飾することにより、
4級アミンにすることができるので、このようなカチオ
ンを有する化合物と、アニオン(アニオンとなるもので
あれば特に限定はないが、例えば、塩素イオン、沃素イ
オンのようなハロゲンイオンを挙げることができる。)
との塩も本発明に包含される。
【0036】更に、本発明の化合物(I)は、大気中に
放置しておくことにより、水分を吸収し、吸着水が付い
たり、水和物となる場合があり、そのような塩も本発明
に包含される。
【0037】「そのエステル」とは、本発明の化合物
(I)は、エステルにすることができるので、そのエス
テルをいい、そのようなエステルとしては、「水酸基の
エステル」及び「カルボキシ基のエステル」を挙げるこ
とができ、各々のエステル残基が「一般的保護基」又は
「生体内で加水分解のような生物学的方法により開裂し
得る保護基」であるエステルをいう。
【0038】「一般的保護基」とは、加水素分解、加水
分解、電気分解、光分解のような化学的方法により開裂
し得る保護基をいう。
【0039】「水酸基のエステル」に斯かる「一般的保
護基」としては、好適には、前記「低級脂肪族アシル
基」;前記「芳香族アシル基」;テトラヒドロピラン−
2−イル、3−ブロモテトラヒドロピラン−2−イル、
4−メトキシテトラヒドロピラン−4−イル、テトラヒ
ドロチオピラン−2−イル、4−メトキシテトラヒドロ
チオピラン−4−イルのような「テトラヒドロピラニル
又はテトラヒドロチオピラニル基」;テトラヒドロフラ
ン−2−イル、テトラヒドロチオフラン−2−イルのよ
うな「テトラヒドロフラニル又はテトラヒドロチオフラ
ニル基」;前記「シリル基」;メトキシメチル、1,1
−ジメチル−1−メトキシメチル、エトキシメチル、プ
ロポキシメチル、イソプロポキシメチル、ブトキシメチ
ル、tert−ブトキシメチルのような低級アルコキシメチ
ル基、2−メトキシエトキシメチルのような低級アルコ
キシ化低級アルコキシメチル基、2,2,2−トリクロ
ロエトキシメチル、ビス(2−クロロエトキシ)メチル
のようなハロゲノ低級アルコキシメチル等の「アルコキ
シメチル基」;1−エトキシエチル、1−(イソプロポ
キシ)エチルのような低級アルコキシ化エチル基、2,
2,2−トリクロロエチルのようなハロゲン化エチル基
等の「置換エチル基」;ベンジル、α−ナフチルメチ
ル、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェ
ニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、9−アン
スリルメチルのような1乃至3個のアリ−ル基で置換さ
れた低級アルキル基、4−メチルベンジル、2,4,6
−トリメチルベンジル、3,4,5−トリメチルベンジ
ル、4−メトキシベンジル、4−メトキシフェニルジフ
ェニルメチル、2−ニトロベンジル、4−ニトロベンジ
ル、4−クロロベンジル、4−ブロモベンジル、4−シ
アノベンジルのような低級アルキル、低級アルコキシ、
ニトロ、ハロゲン、シアノ基でアリ−ル環が置換された
1乃至3個のアリ−ル基で置換された低級アルキル基等
の「アラルキル基」;前記「低級アルコキシカルボニル
基」;前記「アルケニルオキシカルボニル基」;前記
「アラルキルオキシカルボニル基」を挙げることができ
る。
【0040】「カルボキシ基のエステル」に斯かる「一
般的保護基」としては、好適には、前記「低級アルキル
基」;エテニル、1−プロペニル、2−プロペニル、1
−メチル−2−プロペニル、1−メチル−1−プロペニ
ル、2−メチル−1−プロペニル、2−メチル−2−プ
ロペニル、2−エチル−2−プロペニル、1−ブテニ
ル、2−ブテニル、1−メチル−2−ブテニル、1−メ
チル−1−ブテニル、3−メチル−2−ブテニル、1−
エチル−2−ブテニル、3−ブテニル、1−メチル−3
−ブテニル、2−メチル−3−ブテニル、1−エチル−
3−ブテニル、1−ペンテニル、2−ペンテニル、1−
メチル−2−ペンテニル、2−メチル−2−ペンテニ
ル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ペンテニル、2
−メチル−3−ペンテニル、4−ペンテニル、1−メチ
ル−4−ペンテニル、2−メチル−4−ペンテニル1−
ヘキセニル、2−ヘキセニル、3−ヘキセニル、4−ヘ
キセニル、5−ヘキセニルのような低級アルケニル基;
エチニル、2−プロピニル、1−メチル−2−プロピニ
ル、2−メチル−2−プロペニル、2−エチル−2−プ
ロペニル、2−ブチニル、1−メチル−2−ブチニル、
2−メチル−2−ブチニル、1−エチル−2−ブチニ
ル、3−ブチニル、1−メチル−3−ブチニル、2−メ
チル−3−ブチニル1−エチル−3−ブチニル、2−ペ
ンチニル、1−メチル−2−ペンチニル、2−メチル−
2−ペンチニル、3−ペンチニル、1−メチル−3−ペ
ンチニル、2−メチル−3−ペンチニル、4−ペンチニ
ル、1−メチル−4−ペンチニル、2−メチル−4−ペ
ンチニル、2−ヘキシニル、3−ヘキシニル、4−ヘキ
シニル、5−ヘキシニルのような低級アルキニル基;前
記「ハロゲノ低級アルキル」;2−ヒドロキシエチル、
2,3−ジヒドロキシプロピル、3−ヒドロキシプロピ
ル、3,4−ジヒドロキシブチル、4−ヒドロキシブチ
ルのようなヒドロキシ「低級アルキル基」;アセチルメ
チルのような「低級脂肪族アシル」−「低級アルキル
基」;前記「アラルキル基」;前記「シリル基」を挙げ
ることができる。
【0041】「生体内で加水分解のような生物学的方法
により開裂し得る保護基」とは、人体内で加水分解等の
生物学的方法により開裂し、フリーの酸又はその塩を生
成する保護基をいい、そのような誘導体か否かは、ラッ
トやマウスのような実験動物に静脈注射により投与し、
その後の動物の体液を調べ、元となる化合物又はその薬
理学的に許容される塩を検出できることにより決定で
き、「水酸基のエステル」に斯かる「生体内で加水分解
のような生物学的方法により開裂し得る保護基」として
は、好適には、ホルミルオキシメチル、アセトキシメチ
ル、ジメチルアミノアセトキシメチル、プロピオニルオ
キシメチル、ブチリルオキシメチル、ピバロイルオキシ
メチル、バレリルオキシメチル、イソバレリルオキシメ
チル、ヘキサノイルオキシメチル、1−ホルミルオキシ
エチル、1−アセトキシエチル、1−プロピオニルオキ
シエチル、1−ブチリルオキシエチル、1−ピバロイル
オキシエチル、1−バレリルオキシエチル、1−イソバ
レリルオキシエチル、1−ヘキサノイルオキシエチル、
1−ホルミルオキシプロピル、1−アセトキシプロピ
ル、1−プロピオニルオキシプロピル、1−ブチリルオ
キシプロピル、1−ピバロイルオキシプロピル、1−バ
レリルオキシプロピル、1−イソバレリルオキシプロピ
ル、1−ヘキサノイルオキシプロピル、1−アセトキシ
ブチル、1−プロピオニルオキシブチル、1−ブチリル
オキシブチル、1−ピバロイルオキシブチル、1−アセ
トキシペンチル、1−プロピオニルオキシペンチル、1
−ブチリルオキシペンチル、1−ピバロイルオキシペン
チル、1−ピバロイルオキシヘキシルのような1−
(「低級脂肪族アシル」オキシ)「低級アルキル基」、
シクロペンチルカルボニルオキシメチル、シクロヘキシ
ルカルボニルオキシメチル、1−シクロペンチルカルボ
ニルオキシエチル、1−シクロヘキシルカルボニルオキ
シエチル、1−シクロペンチルカルボニルオキシプロピ
ル、1−シクロヘキシルカルボニルオキシプロピル、1
−シクロペンチルカルボニルオキシブチル、1−シクロ
ヘキシルカルボニルオキシブチルのような1−(「シク
ロアルキル」カルボニルオキシ)「低級アルキル基」、
ベンゾイルオキシメチルのような1−(「芳香族アシ
ル」オキシ)「低級アルキル基」等の1−(アシルオキ
シ)「低級アルキル基」;メトキシカルボニルオキシメ
チル、エトキシカルボニルオキシメチル、プロポキシカ
ルボニルオキシメチル、イソプロポキシカルボニルオキ
シメチル、ブトキシカルボニルオキシメチル、イソブト
キシカルボニルオキシメチル、ペンチルオキシカルボニ
ルオキシメチル、ヘキシルオキシカルボニルオキシメチ
ル、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシメチル、シ
クロヘキシルオキシカルボニルオキシ(シクロヘキシ
ル)メチル、1−(メトキシカルボニルオキシ)エチ
ル、1−(エトキシカルボニルオキシ)エチル、1−
(プロポキシカルボニルオキシ)エチル、1−(イソプ
ロポキシカルボニルオキシ)エチル、1−(ブトキシカ
ルボニルオキシ)エチル、1−(イソブトキシカルボニ
ルオキシ)エチル、1−(tert−ブトキシカルボニルオ
キシ)エチル、1−(ペンチルオキシカルボニルオキ
シ)エチル、1−(ヘキシルオキシカルボニルオキシ)
エチル、1−(シクロペンチルオキシカルボニルオキ
シ)エチル、1−(シクロペンチルオキシカルボニルオ
キシ)プロピル、1−(シクロヘキシルオキシカルボニ
ルオキシ)プロピル、1−(シクロペンチルオキシカル
ボニルオキシ)ブチル、1−(シクロヘキシルオキシカ
ルボニルオキシ)ブチル、1−(シクロヘキシルオキシ
カルボニルオキシ)エチル、1−(エトキシカルボニル
オキシ)プロピル、2−(メトキシカルボニルオキシ)
エチル、2−(エトキシカルボニルオキシ)エチル、2
−(プロポキシカルボニルオキシ)エチル、2−(イソ
プロポキシカルボニルオキシ)エチル、2−(ブトキシ
カルボニルオキシ)エチル、2−(イソブトキシカルボ
ニルオキシ)エチル、2−(ペンチルオキシカルボニル
オキシ)エチル、2−(ヘキシルオキシカルボニルオキ
シ)エチル、1−(メトキシカルボニルオキシ)プロピ
ル、1−(エトキシカルボニルオキシ)プロピル、1−
(プロポキシカルボニルオキシ)プロピル、1−(イソ
プロポキシカルボニルオキシ)プロピル、1−(ブトキ
シカルボニルオキシ)プロピル、1−(イソブトキシカ
ルボニルオキシ)プロピル、1−(ペンチルオキシカル
ボニルオキシ)プロピル、1−(ヘキシルオキシカルボ
ニルオキシ)プロピル、1−(メトキシカルボニルオキ
シ)ブチル、1−(エトキシカルボニルオキシ)ブチ
ル、1−(プロポキシカルボニルオキシ)ブチル、1−
(イソプロポキシカルボニルオキシ)ブチル、1−(ブ
トキシカルボニルオキシ)ブチル、1−(イソブトキシ
カルボニルオキシ)ブチル、1−(メトキシカルボニル
オキシ)ペンチル、1−(エトキシカルボニルオキシ)
ペンチル、1−(メトキシカルボニルオキシ)ヘキシ
ル、1−(エトキシカルボニルオキシ)ヘキシルのよう
な(低級アルコキシカルボニルオキシ)アルキル基;
(5−フェニル−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−
4−イル)メチル、〔5−(4−メチルフェニル)−2
−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イル〕メチル、
〔5−(4−メトキシフェニル)−2−オキソ−1,3
−ジオキソレン−4−イル〕メチル、〔5−(4−フル
オロフェニル)−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−
4−イル〕メチル、〔5−(4−クロロフェニル)−2
−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イル〕メチル、
(2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イル)メチ
ル、(5−メチル−2−オキソ−1,3−ジオキソレン
−4−イル)メチル、(5−エチル−2−オキソ−1,
3−ジオキソレン−4−イル)メチル、(5−プロピル
−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イル)メチ
ル、(5−イソプロピル−2−オキソ−1,3−ジオキ
ソレン−4−イル)メチル、(5−ブチル−2−オキソ
−1,3−ジオキソレン−4−イル)メチルのようなオ
キソジオキソレニルメチル基;等の「カルボニルオキシ
アルキル基」:フタリジル、ジメチルフタリジル、ジメ
トキシフタリジルのような「フタリジル基」:前記「低
級脂肪族アシル基」:前記「芳香族アシル基」:「コハ
ク酸のハーフエステル塩残基」:「燐酸エステル塩残
基」:「アミノ酸等のエステル形成残基」:カルバモイ
ル基:1乃至2個の低級アルキル基で置換されたカルバ
モイル基:及び、ピバロイルオキシメチルオキシカルボ
ニルのような「1−(アシルオキシ)アルキルオキシカ
ルボニル基」を挙げることができ、好適には、「カルボ
ニルオキシアルキル基」である。
【0042】一方、「カルボキシ基のエステル」に斯か
る「生体内で加水分解のような生物学的方法により開裂
し得る保護基」としては、好適には、メトキシエチル、
1−エトキシエチル、1−メチル−1−メトキシエチ
ル、1−(イソプロポキシ)エチル、2−メトキシエチ
ル、2−エトキシエチル、1,1−ジメチル−1−メト
キシエチル、エトキシメチル、n−プロポキシメチル、
イソプロポキシメチル、n−ブトキシメチル、tert−ブ
トキシメチルのような低級アルコキシ低級アルキル基、
2−メトキシエトキシメチルのような低級アルコキシ化
低級アルコキシ低級アルキル基、フェノキシメチルのよ
うな「アリール」オキシ「低級アルキル基」、2,2,
2−トリクロロエトキシメチル、ビス(2−クロロエト
キシ)メチルのようなハロゲン化低級アルコキシ低級ア
ルキル基等の「アルコキシ低級アルキル基」;メトキシ
カルボニルメチルのような「「低級アルコキシ」カルボ
ニル「低級アルキル基」」;シアノメチル、2−シアノ
エチルのような「シアノ「低級アルキル基」;メチルチ
オメチル、エチルチオメチルのような「「低級アルキ
ル」チオメチル基」;フェニルチオメチル、ナフチルチ
オメチルのような「「アリール」チオメチル基」;2−
メタンスルホニルエチル、2−トリフルオロメタンスル
ホニルエチルのような「ハロゲンで置換されていてもよ
い「低級アルキル」スルホニル「低級アルキル基」」;
2−ベンゼンスルホニルエチル、2−トルエンスルホニ
ルエチルのような「「アリール」スルホニル「低級アル
キル基」」;前記「1−(アシルオキシ)「低級アルキ
ル基」」;前記「フタリジル基」;前記「アリール
基」;前記「低級アルキル基」;カルボキシメチルのよ
うな「カルボキシアルキル基」;及びフェニルアラニン
のような「アミノ酸のアミド形成残基」を挙げることが
できる。
【0043】「その他の誘導体」とは、本発明の化合物
(I)がアミノ基及び/又はカルボキシ基を有する場
合、上記「薬理上許容される塩」及び上記「そのエステ
ル」以外の誘導体にすることができるので、その誘導体
を示す。そのような誘導体としては、例えばアミド誘導
体を挙げることができる。
【0044】「その塩」とは、本発明の化合物(XXX
IV)がアミノ基及び/又はカルボキシ基を有する場
合、塩にすることができるので、その塩を示す。そのよ
うな塩としては、好適には、前記「その薬理上許容され
る塩」と同様の塩を挙げることができる。
【0045】本発明の化合物(I)は、分子内に不斉炭
素を有し、各々が R配位、S配位である立体異性体が
存在するが、その各々、或いはそれらの任意の割合の混
合物のいずれも本発明に包含される。
【0046】
【発明の実施の形態】本発明の光学活性スルホキシド誘
導体は、以下に記載する方法によって製造することがで
きる。
【0047】[A法]
【0048】
【化6】
【0049】上記式中、R1 、R2 、A、B、D、E、
G、J、環Ar及び式S* →Oは、前記と同意義を示
す。
【0050】Y、及びY’は、通常、求核残基として脱
離する基であれば特に限定はないが、好適には、塩素、
臭素、沃素のようなハロゲン原子;トリクロロメチルオ
キシのようなトリハロゲノメチルオキシ基;メタンスル
ホニルオキシ、エタンスルホニルオキシのような低級ア
ルカンスルホニルオキシ基;トリフルオロメタンスルホ
ニルオキシ、ペンタフルオロエタンスルホニルオキシの
ようなハロゲノ低級アルカンスルホニルオキシ基;ベン
ゼンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキ
シ、p−ニトロベンゼンスルホニルオキシのようなアリ
−ルスルホニルオキシ基を挙げることができ、更に好適
には、ハロゲン原子及び低級アルカンスルホニルオキシ
基である。
【0051】R4 は、水素原子又は水酸基の保護基を示
す。水酸基の保護基とは、加水素分解、加水分解、電気
分解、光分解のような化学的方法により開裂し得る「反
応における保護基」を示し、前記「水酸基のエステルに
斯かる一般的保護基と同様の基を挙げることができる。
【0052】Step A1は、化合物(II)と、化
合物(III)とを、溶媒中、塩基の存在下に、反応さ
せ、化合物(II)のイミノ基が、式−A−B−R1
有する基(式中、A、B及びR1 は前記と同意義を示
す。)で修飾された化合物(IV)を製造する工程であ
る。
【0053】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類;ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類;ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合
物類;アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類;を挙げることができ、更に好適には、ハロゲ
ン化炭化水素類及びエ−テル類であり、最も好適には、
メチレンクロリド及びテトラヒドロフランである。使用
される塩基としては、通常の反応において塩基として使
用されるものであれば、特に限定はないが、好適には、
N−メチルモルホリン、トリエチルアミン、トリプロピ
ルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルア
ミン、ジシクロヘキシルアミン、N−メチルピペリジ
ン、ピリジン、4−ピロリジノピリジン、ピコリン、4
−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジン、2,6−ジ
(t−ブチル)−4−メチルピリジン、キノリン、N,
N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、
1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン
(DBN)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オ
クタン(DABCO)、1,8−ジアザビシクロ[5.
4.0]ウンデカ−7−エン(DBU)のような有機塩
基類を挙げることができ、更に好適には、トリエチルア
ミン及びジイソプロピルエチルアミンである。反応温度
は、−20℃乃至100℃で行なわれるが、好適には、
0℃乃至20℃である。反応時間は、主に反応温度、原
料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の種類によって
異なるが、通常、5分間乃至24時間であり、好適に
は、10分間乃至12時間である。
【0054】尚、Aがカルボニル基を示す化合物(II
I)と反応させる場合には、一般式R1 −B−A−OH
を有する化合物(式中、A、B及びR1 は前記と同意義
を示す。)を使用して、溶媒中、塩基の存在又は非存在
下に、「縮合剤」で反応させることによっても達成され
る。使用される「縮合剤」としては、 (1)ジエチルホスホリルシアニド、ジフェニルホスホ
リルアジドのような燐酸エステル類と下記塩基の組合
せ; (2)1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド、1,
3−ジイソプロピルカルボジイミド、1−エチル−3−
(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド等のカ
ルボジイミド類;前記カルボジイミド類と下記塩基の組
合せ;前記カルボジイミド類とN−ヒドロキシスクシン
イミド、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール、N−ヒド
ロキシ−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボキシイミ
ドのようなN−ヒドロキシ類の組合せ; (3)2,2’−ジピリジル ジサルファイド、2,
2’−ジベンゾチアゾリルジサルファイドのようなジサ
ルファイド類とトリフェニルホスフィン、トリブチルホ
スフィンのようなホスフィン類の組合せ; (4)N,N’−ジスクシンイミジルカ−ボネート、ジ
−2−ピリジル カーボネート、S、S’−ビス(1−
フェニル−1H−テトラゾール−5−イル)ジチオカー
ボネートのようなカーボネート類; (5)N,N’−ビス(2−オキソ−3−オキサゾリジ
ニル)ホスフィニッククロライドのようなホスフィニッ
ククロライド類; (6)N,N’−ジスクシンイミジルオキザレート、
N,N’−ジフタルイミドオキザレート、N,N’−ビ
ス(5−ノルボルネン−2,3−ジカルボキシイミジ
ル)オキザレート、1,1’−ビス(ベンゾトリアゾリ
ル)オキザレート、1,1’−ビス(6−クロロベンゾ
トリアゾリル)オキザレート、1,1’−ビス(6−ト
リフルオロメチルベンゾトリアゾリル)オキザレートの
ようなオキザレート類; (7)前記ホスフィン類とアゾジカルボン酸ジエチル、
1,1’−(アゾジカルボニル)ジピペリジンのような
アゾジカルボン酸エステル又はアゾジカルボキシアミド
類の組合せ;前記ホスフィン類と下記塩基の組合せ; (8)N−エチル−5−フェニルイソオキサゾリウム−
3’−スルホナートのようなN−低級アルキル−5−ア
リールイソオキサゾリウム−3’−スルホナート類; (9)ジ−2−ピリジルジセレニドのようなジヘテロア
リールジセレニド類; (10)p−ニトロベンゼンスルホニルトリアゾリドの
ようなアリールスルホニルトリアゾリド類; (11)2−クロル−1−メチルピリジニウム ヨーダ
イドのような2−ハロ−1−低級アルキルピリジニウム
ハライド類; (12)1,1’−オキザリルジイミダゾ−ル、N,
N’−カルボニルジイミダゾ−ルのようなイミダゾール
類; (13)3−エチル−2−クロロ−ベンゾチアゾリウム
フルオロボレートのような3−低級アルキル−2−ハ
ロゲン−ベンゾチアゾリウム フルオロボレート類; (14)3−メチル−ベンゾチアゾール−2−セロンの
ような3−低級アルキル−ベンゾチアゾール−2−セロ
ン類; (15)フェニルジクロロホスフェート、ポリホスフェ
ートエステルのようなホスフェート類; (16)クロロスルホニルイソシアネートのようなハロ
ゲノスルホニルイソシアネート類; (17)トリメチルシリルクロリド、トリエチルシリル
クロリドのようなハロゲノシラン類; (18)メタンスルホニルクロリドのような低級アルカ
ンスルホニルハライドと下記塩基の組合せ; (19)N,N,N’,N’−テトラメチルクロロホル
マミジウムクロリドのようなN,N,N’,N’−テト
ラ低級アルキルハロゲノホルマミジウムクロリド類;を
挙げることができるが、好適には、上記(1)である。
【0055】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪
族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;蟻酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエ
チルのようなエステル類;ジエチルエ−テル、ジイソプ
ロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ルのようなエ−テル類;アセトニトリル、イソブチロニ
トリルのようなニトリル類;ホルムアミド、N,N−ジ
メチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、
N−メチル−2−ピロリドン、N−メチルピロリジノ
ン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類
を挙げることができる。使用される塩基としては、通常
の反応において塩基として使用されるものであれば、特
に限定はないが、好適には、N−メチルモルホリン、ト
リエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエ
チルアミン、ジシクロヘキシルアミン、N−メチルピペ
リジン、ピリジン、4−ピロリジノピリジン、ピコリ
ン、4−(N,N−ジメチルアミノ) ピリジン、2,6
−ジ(tert−ブチル)−4−メチルピリジン、キノリ
ン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニ
リンのような有機塩基類を挙げることができる。尚、4
−(N,N−ジメチルアミノ) ピリジン、4−ピロリジ
ノピリジンは、他の塩基と組み合わせて、触媒量を用い
ることもでき、又、反応を効果的に行わせるために、モ
レキュラー・シーブのような脱水剤、ベンジルトリエチ
ルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムク
ロリドのような第4級アンモニウム塩類、ジベンゾ−1
8−クラウン−6のようなクラウンエーテル類、3,4
−ジヒドロ−2H−ピリド[1,2−a]ピリミジン−
2−オンのような酸補足剤等を添加することもできる。
反応温度は、−20℃乃至80℃で行なわれるが、好適
には、0℃乃至室温である。反応時間は、主に反応温
度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の種類に
よって異なるが、通常、10分間乃至3日間で、好適に
は、30分間乃至1日間である。
【0056】Step A2は、化合物(IV)のR4
基を除去した後、生成した水酸基を、塩基の存在下又は
非存在下で脱離基Y’に変換し、化合物(V)を製造す
る工程である。
【0057】R4 基の除去はその種類によって異なる
が、一般にこの分野の技術において周知の方法によって
以下の様に実施される。
【0058】R4 基として、シリル基を使用した場合に
は、通常、弗化テトラブチルアンモニウム、弗化水素
酸、弗化水素酸−ピリジン、弗化カリウムのような弗素
アニオンを生成する化合物で処理するか、又は、酢酸、
メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフル
オロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、B−ブロモ
カテコールボランのような有機酸又は塩酸のような無機
酸で処理することにより除去できる。尚、弗素アニオン
により除去する場合に、蟻酸、酢酸、プロピオン酸のよ
うな有機酸を加えることによって、反応が促進すること
がある。使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出
発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はない
が、好適には、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エ−テル類;アセトニトリル、イソブチロニトリルのよ
うなニトリル類;水;酢酸のような有機酸及びこれらの
混合溶媒を挙げることができる。反応温度及び反応時間
は、特に限定はないが、通常、0℃乃至150℃(好適
には、10℃乃至100℃)で、1時間乃至48時間
(好適には、2時間乃至12時間)実施される。
【0059】R4 基が、アラルキル基又はアラルキルオ
キシカルボニル基である場合には、通常、溶媒中、還元
剤と接触させることにより(好適には、触媒下に常温に
て接触還元)除去する方法又は酸化剤を用いて除去する
方法が好適である。接触還元による除去において使用さ
れる溶媒としては、本反応に関与しないものであれば特
に限定はないが、メタノ−ル、エタノ−ル、イソプロパ
ノ−ルのようなアルコ−ル類、ジエチルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類、トル
エン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類、
ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類、
酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類、ホルム
アミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、N−メチル−2−ピロリドン、ヘキサメチルホスホ
ロトリアミドのようなアミド類、蟻酸、酢酸のような脂
肪酸類、水、又はこれらの混合溶媒が好適であり、更に
好適には、アルコ−ル類、脂肪酸類、アルコ−ル類とエ
ーテル類との混合溶媒、アルコ−ル類と水との混合溶
媒、又は、脂肪酸類と水との混合溶媒である。使用され
る触媒としては、通常、接触還元反応に使用されるもの
であれば、特に限定はないが、好適には、パラジウム炭
素、パラジウム黒、ラネ−ニッケル、酸化白金、白金
黒、ロジウム−酸化アルミニウム、トリフェニルホスフ
ィン−塩化ロジウム、パラジウム−硫酸バリウムが用い
られる。圧力は、特に限定はないが、通常1乃至10気
圧で行なわれる。反応温度及び反応時間は、出発物質、
溶媒及び触媒の種類等により異なるが、通常、0℃乃至
100℃(好適には、20℃乃至70℃)、5分乃至4
8時間(好適には、1時間乃至24時間)である。
【0060】酸化による除去において使用される溶媒と
しては、本反応に関与しないものであれば特に限定はな
いが、好適には、含水有機溶媒である。このような有機
溶媒として好適には、アセトンのようなケトン類、メチ
レンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロ
ゲン化炭化水素類、アセトニトリルのようなニトリル
類、ジエチルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエ−テル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのよ
うなアミド類及びジメチルスルホキシドのようなスルホ
キシド類を挙げることができる。使用される酸化剤とし
ては、酸化に使用される化合物であれば特に限定はない
が、好適には、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、ア
ンモニウムセリウムナイトレイト(CAN)、2,3−
ジクロロ−5,6−ジシアノ−p−ベンゾキノン(DD
Q)が用いられる。反応温度及び反応時間は、出発物
質、溶媒及び触媒の種類等により異なるが、通常、0乃
至150℃で、10分乃至24時間実施される。
【0061】又、液体アンモニア中若しくはメタノ−
ル、エタノ−ルのようなアルコ−ル中において、−78
乃至−20℃で、金属リチウム、金属ナトリウムのよう
なアルカリ金属類を作用させることによっても除去でき
る。
【0062】更に、溶媒中、塩化アルミニウム−沃化ナ
トリウム、又はトリメチルシリルイオダイドのようなア
ルキルシリルハライド類を用いても除去することができ
る。使用される溶媒としては、本反応に関与しないもの
であれば特に限定はないが、好適には、アセトニトリル
のようなニトリル類、メチレンクロリド、クロロホルム
のようなハロゲン化炭化水素類又はこれらの混合溶媒が
使用される。反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒
等により異なるが、通常は0乃至50℃で、5分乃至3
日間実施される。
【0063】尚、反応基質が硫黄原子を有する場合は、
好適には、塩化アルミニウム−沃化ナトリウムが用いら
れる。
【0064】R4 基が、脂肪族アシル基、芳香族アシル
基又は低級アルコキシカルボニル基である場合には、溶
媒中、塩基で処理することにより除去される。
【0065】使用される塩基としては、化合物の他の部
分に影響を与えないものであれば特に限定はないが、好
適にはナトリウムメトキシドのような金属アルコキシド
類;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩;水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化リチウム、水酸化バリウムのようなアル
カリ金属水酸化物又はアンモニア水、濃アンモニア−メ
タノ−ルのようなアンモニア類が用いられる。使用され
る溶媒としては、通常の加水分解反応に使用されるもの
であれば特に限定はなく、水;メタノ−ル、エタノ−
ル、n-プロパノ−ルのようなアルコ−ル類、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類等の有機溶媒
又は水と上記有機溶媒との混合溶媒が好適である。反応
温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び使用される塩
基等により異なり特に限定はないが、副反応を抑制する
ために、通常は0乃至150℃で、1 乃至10時間実施
される。
【0066】R4 基が、低級アルコキシメチル基、テト
ラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオピラニル基、テ
トラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオフラニル基又
は置換されたエチル基である場合には、通常、溶媒中、
酸で処理することにより除去される。使用される酸とし
ては、通常、ブレンステッド酸又はルイス酸として使用
されるものであれば特に限定はなく、好適には、塩化水
素;塩酸、硫酸、硝酸のような無機酸;又は酢酸、トリ
フルオロ酢酸、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホ
ン酸のような有機酸等のブレンステッド酸:三弗化ホウ
素のようなルイス酸であるが、ダウエックス50Wのよ
うな強酸性の陽イオン交換樹脂も使用することができ
る。使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物
質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、
好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エー
テルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエ
−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエ−テル類;メタノ−
ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ−
ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、tert−ブタノ−
ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グ
リセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチル
セロソルブ、のようなアルコ−ル類;アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、
シクロヘキサノンのようなケトン類;水、又は、これら
の混合溶媒が好適であり、更に好適には、ハロゲン化炭
化水素類、エステル類又はエ−テル類である。反応温度
及び反応時間は、出発物質、溶媒及び使用される酸の種
類・濃度等により異なるが、通常は−10乃至100℃
(好適には、−5乃至50℃)で、5分乃至48時間
(好適には、30分乃至10時間)である。
【0067】R4 基が、アルケニルオキシカルボニル基
である場合には、通常、R4 基が前記の脂肪族アシル
基、芳香族アシル基又は低級アルコキシカルボニル基で
ある場合の除去反応の条件と同様にして、塩基と処理す
ることにより達成される。
【0068】尚、アリルオキシカルボニルの場合は、特
にパラジウム、及びトリフェニルホスフィン、又はビス
(メチルジフェニルホスフィン)(1,5−シクロオク
タジエン)イリジウム(I)・ヘキサフルオロホスフェ
−トを使用して除去する方法が簡便で、副反応が少なく
実施することができる。
【0069】後段の反応において使用される溶媒として
は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するもの
であれば特に限定はないが、好適には、ベンゼン、トル
エン、キシレンのような芳香族炭化水素類;メチレンク
ロリド、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;
エ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキ
シエタンのようなエ−テル類又はアセトニトリルのよう
なニトリル類;ホルムアミド、N,N−ジメチルホルム
アミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−
2−ピロリドン、N−メチルピロリジノン、ヘキサメチ
ルホスホロトリアミドのようなアミド類を挙げることが
でき、更に好適には、アミド類である。使用される塩基
としては、通常の反応において塩基として使用されるも
のであれば、特に限定はないが、好適には、N−メチル
モルホリン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、
トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジシ
クロヘキシルアミン、N−メチルピペリジン、ピリジ
ン、4−ピロリジノピリジン、ピコリン、4−(N,N
−ジメチルアミノ)ピリジン、2,6−ジ(t−ブチ
ル)−4−メチルピリジン、キノリン、N,N−ジメチ
ルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、1,5−ジア
ザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン(DBN)、
1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DA
BCO)、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウン
デカ−7−エン(DBU)のような有機塩基類を挙げる
ことができ、更に好適には、トリエチルアミン、ピリジ
ン及び4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジンであ
り、最も好適には、ピリジンを溶媒として使用し、4−
(N,N−ジメチルアミノ)ピリジンを触媒量加えるこ
とにより達成される。反応温度は−20℃乃至50℃で
あり、好適には、−10℃乃至20℃である。反応時間
は、主に反応温度、原料化合物、試薬又は使用される溶
媒の種類によって異なるが、通常、15分間乃至24時
間であり、好適には、30分間乃至6時間である。
【0070】脱離基Y’を形成する試薬としては対応す
るハロゲン化物を使用し、かかる試薬としては、例え
ば、メタンスルホニルクロリド、P−トルエンスルホニ
ルクロリドのようなスルホニルハライドを挙げることが
できる。
【0071】Step A3は、化合物(V)と化合物
(VI)とを、溶媒中、塩基の存在下に、反応させ、本
願発明化合物(I)を製造する工程である。
【0072】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類;ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類;ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合
物類;アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類;ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−
ピロリドン、N−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホ
スホロトリアミドのようなアミド類;ジメチルスルホキ
シド、スルホランのようなスルホキシド類を挙げること
ができ、更に好適には、アミド類、エ−テル類及びニト
リル類であり、最も好適には、アミド類である。使用さ
れる塩基としては、通常の反応において塩基として使用
されるものであれば、特に限定はないが、好適には、沃
化カリウムのような金属沃化物と、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩
類;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素
リチウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩類;水素化リ
チウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなア
ルカリ金属水素化物類;水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化バリウム、水酸化リチウムのようなアルカ
リ金属水酸化物類又は弗化ナトリウム、弗化カリウムの
ようなアルカリ金属弗化物類等の無機塩基類との組合わ
せ、或は、N−メチルモルホリン、トリエチルアミン、
トリプロピルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピ
ルエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、N−メチル
ピペリジン、ピリジン、4−ピロリジノピリジン、ピコ
リン、4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジン、2,
6−ジ(t−ブチル)−4−メチルピリジン、キノリ
ン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニ
リン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5
−エン(DBN)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.
2]オクタン(DABCO)、1,8−ジアザビシクロ
[5.4.0]ウンデカ−7−エン(DBU)のような
有機塩基類を挙げることができ、更に好適には、金属沃
化物と無機塩基類との組合わせであり、最も好適には、
金属沃化物とアルカリ金属炭酸水素塩類との組合わせで
ある。反応温度は、0℃乃至150℃で行なわれるが、
好適には、20℃乃至120℃である。反応時間は、主
に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒
の種類によって異なるが、通常、30分間乃至48時間
であり、好適には、1時間乃至12時間である。
【0073】[B法]
【0074】
【化7】
【0075】上記式中、R1 、R2 、A、B、D、E、
G、J、環Ar及び式S* →Oは前記と同意義を示す。
G’はGの定義における「炭素数1乃至4個のアルキレ
ン基又は炭素数2乃至4個のアルケニレン基」より炭素
数が1つ少ない相当する基を示す。
【0076】[B法]は化合物(VII)から光学活性
スルホキシド誘導体(I)を合成する別途方法である。
【0077】Step B1はアルコール誘導体(VI
I)を酸化することにより、アルデヒド誘導体(VII
I)を製造する工程であり、通常、溶媒中、酸化剤の存
在下で行われる。
【0078】本工程の酸化反応としては、一級アルコー
ルからアルデヒドを生成する酸化反応であれば特に限定
はないが、例えば、塩化メチレン中、ピリジン及びクロ
ム酸を用いて行われるCollins 酸化;塩化メチレン中、
塩化クロム酸ピリジニウム(pyridinium chlorochromat
e, PCC) を用いて行われるPCC酸化;塩化メチレン
中、二クロム酸ピリジニウム(pyridinium dichromate,
PDC) を用いて行われるPDC酸化;塩化メチレン中、
親電子剤(例えば無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸、塩
化チオニル、塩化スルフリル、塩化オキサリル、ジシク
ロヘキシルカルボジイミド、ジフェニルケテン−p−ト
リルイミン、N,N−ジエチルアミノアセチレン、N,
N−ジメチルアミノフェニルアセチレン、三酸化硫黄・
ピリジン錯体など)及びジメチルスルホキシド(DMS
O)を用いて行われる、Swern 酸化のような、DMSO
酸化;及び塩化メチレン若しくはベンゼン中、二酸化マ
ンガンを用いて行われる二酸化マンガン酸化などを挙げ
ることができる。好適には、塩化メチレン中、塩化オキ
サリル及びDMSOを用いたSwern 酸化である。反応温
度は、通常、−100℃乃至室温で行われるが、好適に
は−78℃乃至−20℃である。反応時間は、通常、1
0分間乃至2日間行われるが、好適には10分間乃至6
時間である。
【0079】Step B2は、化合物(VIII)と
化合物(VI)とを還元的アミノ化により反応させ、光
学活性スルホキシド誘導体(I)を製造する工程であ
る。
【0080】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、メタノール、エタノール、プロパ
ノールのようなアルコール類、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類を挙げ
ることができる。更に好適には、アルコール類であり、
最も好適には、メタノール又はエタノールである。使用
される還元剤としては、通常、還元剤として使用される
ものであれば特に限定はないが、好適には、水素化シア
ノホウ素ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化
ホウ素リチウムのような水素化ホウ素アルカリ金属;水
素化アルミニウムリチウム、水素化リチウムトリエトキ
シドアルミニウムのような水素化アルミニウム化合物;
水素化テルルナトリウム;ジ(イソブチル)アルミニウ
ムヒドリド、ジ(メトキシエトキシ)アルミニウムナト
リウムジヒドリドのような水素化有機アルミニウム系還
元剤等のヒドリド試薬を挙げることができ、更に好適に
は、水素化ホウ素アルカリ金属であり、最も好適には、
水素化シアノホウ素ナトリウムである。
【0081】反応温度は−10℃乃至100℃で行なわ
れるが、好適には、室温乃至80℃である。反応時間
は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用され
る溶媒の種類によって異なるが、通常、10分間乃至2
日間であり、好適には、1時間乃至6時間である。
【0082】[C法]
【0083】
【化8】
【0084】上記式中、R2 、D及びGは前記と同意義
を示す。
【0085】R5 は、水酸基の保護基を示し、R4 の定
義における「水酸基の保護基」と同様の基を示す。[C
法]は前記化合物(II)において、環
【0086】
【化9】
【0087】が、5員環である化合物を製造する方法で
ある。
【0088】Step C1は、化合物(IX)のエキ
ソメチレン基を、溶媒中、酸化剤で、ジオール体に酸化
し、化合物(X)を製造する工程である。
【0089】使用される酸化剤としては、通常、酸化反
応に使用されるものであれば特に限定はないが、好適に
は、過マンガン酸カリウム、二酸化マンガンのような酸
化マンガン類;四酸化ルテニウムのような酸化ルテニウ
ム類;二酸化ゼレンのようなゼレン化合物;四酸化オス
ミウム、オスミン酸カリウム・二水和物(K2OsO4・2H2O)
のようなオスミウム化合物を挙げることができ、更に好
適には、触媒量の四酸化オスミウムとオスミウムを再酸
化するための酸化剤であり、このような酸化剤として
は、フェリシアン化カリウムのようなフェリシアン化金
属類;N−メチルモルホリン N−オキシドのようなア
ミンのN−オキシド類;過硫酸カリウム、過硫酸ナトリ
ウムのような過硫酸化合物等の無機酸化剤;t-ブチルヒ
ドロパーオキシドのようなパーオキシド類;次亜塩素酸
t-ブチルのような次亜塩素酸化合物;亜硝酸メチルのよ
うな亜硝酸エステル類を挙げることができ、更に好適に
は、フェリシアン化金属類及びアミンのN−オキシド類
である。
【0090】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホ
ルムのようなハロゲン化炭化水素類;エ−テル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタンのような
エ−テル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類;ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類;メ
タノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプロパノ
−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t−ブタノ−
ル、イソアミルアルコ−ルのようなアルコ−ル類;酢酸
エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのよ
うなエステル類;硫酸水のような希釈酸;水酸化ナトリ
ウム水のような希釈塩基;水;アセトン、メチルエチル
ケトンのようなケトン類;ピリジンのような有機塩基又
はアセトニトリルのようなニトリル類及び上記の混合溶
媒を挙げることができ、更に好適には、アセトン又はア
セトン−水の混合溶媒である。
【0091】反応温度は−20℃乃至80℃で行なわ
れ、好適には、−5℃乃至50℃である。反応時間は、
主に反応温度、原料化合物、試薬又は使用される溶媒の
種類によって異なるが、通常、1時間乃至24時間であ
り、好適には、2時間乃至12時間である。尚、所望に
より、不斉配位子を使用した不斉ジヒドロキシ化反応を
行うことにより、特定の絶対配置を有する光学活性なジ
オール誘導体を製造することができる。このような不斉
ジヒドロキシ化反応については、例えば、シャープレス
等の方法(ケミカル・レビュー、94巻、2483頁
(1994年))が公知であり、これに準じて、反応を
行うことにより達成できる。
【0092】例えば、このような反応の場合に使用され
る酸化剤としては、例えば、0.0001当量乃至0.
1当量(好適には、0.001当量乃至0.005当
量)の四酸化オスミウムと、不斉配位子として、ハイド
ロキニジン 1,4−フタラジンジイル ジエーテル
((DHQD)2 −PHAL)、ハイドロキニジン
2,5−ジフェニル−4,6−ピリミジンジイル ジエ
ーテル((DHQD)2 −PYR)のようなハイドロキ
ニジン類(好適には、(DHQD)2 −PHALであ
る。)、及びオスミウムを再酸化するための酸化剤とし
て、フェリシアン化カリウム及び炭酸カリウムを挙げる
ことができる。
【0093】使用される溶媒としては、水とメチレンク
ロリド、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;
エ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキ
シエタンのようなエ−テル類;ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミ
ドのようなアミド類;ジメチルスルホキシドのようなス
ルホキシド類;メタノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノ
−ル、イソプロパノ−ル、n−ブタノ−ル、t−ブタノ
−ル、イソブタノ−ル、イソアミルアルコ−ルのような
アルコ−ル類;アセトン、メチルエチルケトンのような
ケトン類;酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭
酸ジエチルのようなエステル類又はアセトニトリルのよ
うなニトリル類の混合溶媒を挙げることができ、好適に
は、水とアルコ−ル類の混合溶媒であり、更に好適に
は、水とt−ブタノ−ルの混合溶媒である。
【0094】又、化合物(IX)のエキソメチレン基
を、常法に従って、チイランに変換し、次いで、ヒドロ
キシイオンで開環することにより、Dが硫黄原子である
化合物(X)を製造することができる。
【0095】Step C2は、化合物(X)の一級水
酸基を、塩基の存在下、溶媒の存在又は非存在下に、脱
離基に変換した後、溶媒中、触媒の存在又は非存在下
に、アジ化試薬と反応させ、アジド基に変換し、化合物
(XI)を製造する工程である。
【0096】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホ
ルムのようなハロゲン化炭化水素類;エ−テル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタンのような
エ−テル類又はアセトニトリルのようなニトリル類;ホ
ルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−
ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、
N−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリア
ミドのようなアミド類を挙げることができ、更に好適に
は、前段の反応においては、ハロゲン化炭化水素類及び
エ−テル類であり、後段の反応においては、アミド類で
ある。
【0097】前段の反応は、前記Step A2の後段
の工程に準じて実施される。
【0098】後段の反応で使用される試薬としては、通
常、アジド化に使用されるものであれば特に限定はない
が、好適には、ジフェニル燐酸アジドのようなジアリー
ル燐酸アジド誘導体;トリメチルシリルアジド、トリエ
チルシリルアジドのようなトリアルキルシリルアジド類
又はアジ化ナトリウム、アジ化カリウム、アジ化リチウ
ムのようなアジ化アルカリ金属塩類を挙げることがで
き、更に好適には、アジ化アルカリ金属塩類である。
【0099】使用される触媒としては、トリメチルシリ
ルトリフレ−ト、トリエチルシリルトリフレ−トのよう
なトリアルキルシリルトリフレ−ト類、トリフルオロボ
ランエテレ−ト、塩化アルミニウム、塩化亜鉛のような
ルイス酸を挙げることができる。
【0100】反応温度は、20℃乃至180℃であり、
好適には、50℃乃至150℃である。反応時間は、主
に、反応温度、原料化合物、試薬又は使用される溶媒の
種類によって異なるが、通常、10分間乃至24時間で
あり、好適には、30分間乃至8時間である。
【0101】Step C3は、化合物(XI)のアジ
ド基を、溶媒中で、還元し、アミノ化合物(XII)を
製造する工程である。
【0102】還元方法としては、通常、アジド基をアミ
ノ基に還元できる試薬であれば特に限定はないが、好適
には、含水溶媒中(好適には、テトラヒドロフランのよ
うなエーテル類)、トリフェニルホスフィンを還元剤と
して使用し、20℃乃至150℃(好適には、50℃乃
至100℃である。)で、通常、15分間乃至1日間
(好適には、1時間乃至12時間である。)、反応を行
うか、パラジウム炭素、白金、ラネ−ニッケルのような
触媒を用い、メタノ−ル、エタノ−ルのようなアルコ−
ル類;酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジ
エチルのようなエステル類;テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエ−テル類;酢酸のような脂肪酸又はこ
れらの有機溶媒と水との混合溶媒(好適には、アルコ−
ル類である。)中、−10℃乃至100℃(好適には、
0℃乃至50℃である。)で、通常、1時間乃至4日間
(好適には、2時間乃至2日間である。)、接触還元を
行なうことにより達成される。
【0103】Step C4は、化合物(XII)のア
ミノ基とDH基を、溶媒の存在下又は非存在下、酸触媒
の存在又は非存在下に、アルデヒド類、ケトン類若しく
はアセタール類と反応させ、オキサゾリジン環又はチア
ゾリジン環を形成し、化合物(II)を製造する工程で
ある。
【0104】使用されるアルデヒド類としては、例えば
ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアル
デヒドなどを挙げることができ、ケトン類としては、例
えばアセトン、シクロプロパノンなどを挙げることがで
き、アセタール類としては、例えばアセトンジメチルア
セタールなどを挙げることができる。
【0105】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類;ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類;ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合
物類;アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類;ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−
ピロリドン、N−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホ
スホロトリアミドのようなアミド類;ジメチルスルホキ
シド、スルホランのようなスルホキシド類を挙げること
ができ、更に好適には、芳香族炭化水素類であり、最も
好適には、ベンゼン及びトルエンである。
【0106】使用される酸触媒としては、通常の反応に
おいて酸触媒として使用されるものであれば特に限定は
ないが、好適には塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、
燐酸のような無機酸又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスル
ホン酸、p−トルエンスルホン酸、カンファースルホン
酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸
のような有機酸等のブレンステッド酸を挙げることがで
き、更に好適には、有機酸であり、最も好適には、p−
トルエンスルホン酸である。
【0107】反応温度は50℃乃至200℃で行なわれ
るが、好適には、80℃乃至150℃である。反応時間
は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用され
る溶媒の種類によって異なるが、通常、30分間乃至4
8時間であり、好適には、1時間乃至12時間である。
【0108】[D法]
【0109】
【化10】
【0110】上記式中、R2 、R5 、D、E及びGは、
前記と同意義を示す。
【0111】R6 は、水酸基の保護基を示し、R4 の定
義における「反応における保護基」と同様の基を示す。
【0112】R7 は、イミノ基の保護基を示し、例え
ば、前記「低級脂肪族アシル基」;前記「芳香族アシル
基」;前記「低級アルコキシカルボニル基」;前記「ア
ルケニルオキシカルボニル基」;前記「アラルキルオキ
シカルボニル基」;又は、前記「シリル基」を挙げるこ
とができ、好適には、低級アルコキシカルボニル基であ
り、更に好適には、tert−ブトキシカルボニルである。
【0113】[D法]は前記化合物(II)において、
【0114】
【化11】
【0115】が6乃至8員環である化合物を製造する方
法である。
【0116】Step D1は、ジオール化合物(X)
の一級水酸基を脱離基に変換し、次いで、アミノアルコ
ール化合物(XIII)のアミノ基と置換させた後、生
成した二級アミノ基をR7 基で保護して、化合物(XI
V)を製造する工程である。
【0117】ジオール化合物(X)の一級水酸基を脱離
基に変換する反応は、前記StepA2の後段の反応に
準じて行われる。
【0118】ジオール化合物(X)の一級水酸基を脱離
基に変換した化合物をアミノアルコール化合物(XII
I)のアミノ基で置換させる反応は、通常、溶媒中、金
属塩を用いて行われる。使用される溶媒としては、反応
を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば
特に限定はないが、例えば、ベンゼン、トルエン、キシ
レンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、ク
ロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベン
ゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素
類;ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類:アセトニトリル、プロピオニトリル、イソブチロニ
トリルのようなニトリル類;ホルムアミド、N,N−ジ
メチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、
N−メチル−2−ピロリドン、N−メチルピロリジノ
ン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類
を挙げることができる。好適には、ニトリル類であり、
更に好適にはアセトニトリルである。使用される金属塩
としては、例えば、過塩素酸リチウム、過塩素酸マグネ
シウム、過塩素酸ナトリウムなどの金属過塩素酸塩;塩
化カルシウム、塩化亜鉛、塩化コバルトなどの金属塩化
物;テトラフルオロほう酸リチウム、テトラフルオロほ
う酸カリウムなどの金属テトラフルオロほう酸塩;トリ
フルオロメタンスルホン酸亜鉛などを挙げることができ
る。好適には金属過塩素酸塩であり、更に好適には過塩
素酸リチウムである。
【0119】反応温度は、−20℃乃至150℃で行な
われるが、好適には、室温乃至100℃である。反応時
間は、主に、反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用
される溶媒の種類によって異なるが、通常、30分間乃
至2日間であり、好適には、2時間乃至1日間である。
【0120】後段の二級アミノ基をR7 基で保護する工
程は、次のようにして実施される。 <方法1> 一般式 R7 −Xを有する化合物、又は、 一般式 R7 −O−R7 を有する化合物(R7 がアシル
基の場合) [上記式中、R7 は、前記と同意義を示し、Xは、脱離
基を示すが、斯かる脱離基とは、通常、求核残基として
脱離する基であれば特に限定はないが、好適には、塩
素、臭素、沃素のようなハロゲン原子;メトキシカルボ
ニルオキシ、エトキシカルボニルオキシのような低級ア
ルコキシカルボニルオキシ基;クロロアセチルオキシ、
ジクロロアセチルオキシ、トリクロロアセチルオキシ、
トリフルオロアセチルオキシのようなハロゲン化アルキ
ルカルボニルオキシ基;メタンスルホニルオキシ、エタ
ンスルホニルオキシのような低級アルカンスルホニルオ
キシ基;トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ペンタ
フルオロエタンスルホニルオキシのようなハロゲノ低級
アルカンスルホニルオキシ基;ベンゼンスルホニルオキ
シ、p−トルエンスルホニルオキシ、p−ニトロベンゼ
ンスルホニルオキシのようなアリ−ルスルホニルオキシ
基を挙げることができ、更に好適には、ハロゲン原子,
ハロゲノ低級アルカンスルホニルオキシ基、及び、アリ
−ルスルホニルオキシ基である。]の1乃至4当量(好
適には、2乃至3当量)と、生成した化合物とを、溶媒
中、塩基の存在又は非存在下に、反応させる方法、<方法2> 一般式 R7 −OH を有する化合物(R7 がアシル基
の場合) [上記式中、R7 は、前記と同意義を示す。]と、生成
した化合物とを、溶媒中、前記「縮合剤」及び触媒量の
塩基の存在又は非存在下に、反応させる方法。
【0121】<方法3>特に、R7 がtert- ブトキシカ
ルボニル基又はベンジルオキシカルボニル基である場合
は、tert- ブトキシカルボニル化剤若しくはベンジルオ
キシカルボニル化剤と、生成した化合物とを、溶媒中、
塩基の存在下で反応させることによって、二級アミノ基
をR7 基で保護することができる。
【0122】<方法1>において使用される溶媒として
は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するもの
であれば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプ
タンのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエーテル類;アセトニト
リル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;ホルム
アミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメ
チルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−
メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミド
のようなアミド類を挙げることができる。<方法1>
おいて使用される塩基としては、通常の反応において塩
基として使用されるものであれば、特に限定はないが、
好適には、N−メチルモルホリン、トリエチルアミン、
トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジシ
クロヘキシルアミン、N−メチルピペリジン、ピリジ
ン、4−ピロリジノピリジン、ピコリン、4−(N,N
−ジメチルアミノ)ピリジン、2,6−ジ(tert−ブチ
ル)−4−メチルピリジン、キノリン、N,N−ジメチ
ルアニリン、N,N−ジエチルアニリンのような有機塩
基類を挙げることができる。尚、4−(N,N−ジメチ
ルアミノ)ピリジン、4−ピロリジノピリジンは、他の
塩基と組み合わせて、触媒量を用いることもでき、又、
反応を効果的に行わせるために、ベンジルトリエチルア
ンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムクロリ
ドのような第4級アンモニウム塩類、ジベンゾ−18−
クラウン−6のようなクラウンエーテル類等を添加する
こともできる。反応温度は、通常、−20℃乃至使用す
る溶媒の還流温度で行なわれるが、好適には、0℃乃至
室温である。反応時間は、主に反応温度、原料化合物、
使用される塩基又は使用される溶媒の種類によって異な
るが、通常、10分間乃至3日間であり、好適には、1
時間乃至1日間である。
【0123】一般式R7 −Xを有する化合物の具体例と
しては、例えば、アセチルクロリド、プロピオニルクロ
リド、ブチリルブロミド、バレリルクロリド、ヘキサノ
イルクロリドのような脂肪族アシルハライド;メトキシ
カルボニルクロリド、メトキシカルボニルブロミド、エ
トキシカルボニルクロリド、プロポキシカルボニルクロ
リド、ブトキシカルボニルクロリド、ヘキシルオキシカ
ルボニルクロリドのような低級アルコキシカルボニルハ
ライド若しくはベンゾイルクロリド、ベンゾイルブロミ
ド、ナフトイルクロリドのようなアリールカルボニルハ
ライドのようなアシルハライド類、tert−ブチルジメチ
ルシリルクロリド、トリメチルシリルクロリド、トリエ
チルシリルクロリド、トリエチルシリルブロミド、トリ
イソプロピルシリルクロリド、ジメチルイソプロピルシ
リルクロリド、ジエチルイソプロピルシリルクロリド、
tert−ブチルジフェニルシリルクロリド、ジフェニルメ
チルシリルクロリド、トリフェニルシリルクロリドのよ
うなシリルハライド類又は対応するシリルトリフルオロ
メタンスルホネ−ト類、ベンジルクロリド、ベンジルブ
ロミドのようなアラルキルハライド類若しくはピバロイ
ルオキシメチルクロリド、エトキシカルボニルオキシメ
チルクロリドのようなカルボニルオキシ低級アルキルハ
ライド類を挙げることができる。
【0124】一般式 R7 −O−R7 を有する化合物の
具体例としては、例えば、無水酢酸、無水プロピオン
酸、無水バレリル酸、無水ヘキサン酸のような脂肪族カ
ルボン酸無水物を挙げることができ、更に、ギ酸と酢酸
のような混合酸無水物を使用することもできる。
【0125】<方法2>において使用される溶媒として
は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するもの
であれば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプ
タンのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエーテル類;アセトニト
リル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;ホルム
アミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメ
チルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−
メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミド
のようなアミド類を挙げることができる。<方法2>
おいて使用される塩基としては、上記<方法1>におい
て記載したのと同様の塩基を使用することができる。反
応温度は、−20℃乃至80℃で行なわれるが、好適に
は、0℃乃至室温である。反応時間は、主に反応温度、
原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の種類によっ
て異なるが、通常、10分間乃至3日間で、好適には、
30分間乃至1日間である。
【0126】<方法3>において使用される溶媒として
は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するもの
であれば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプ
タンのような脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類、メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類、ジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエーテル類、アセトニト
リル、イソブチロニトリルのようなニトリル類、ホルム
アミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメ
チルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−
メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミド
のようなアミド類等の有機溶媒;水;及び水と上記有機
溶媒の混合溶媒を挙げることができる。<方法3>にお
いて使用される塩基としては、上記<方法1>において
記載したのと同様の塩基を使用することができる。<方
法3>において使用されるtert- ブトキシカルボニル化
剤としては、好適には、ジ-tert-ブチルジカーボネー
ト、2−(tert- ブトキシカルボニルオキシイミノ)−
2−フェニルアセトニトリル、S−(4,6−ジメチル
ピリミジン−2−イル)チオールカルボン酸 tert- ブ
チルエステル、1,2,2,2−テトラクロロエチル
tert- ブチルカーボネートなどを挙げることができ、更
に好適には、ジ-tert-ブチルジカーボネートである。
方法3>において使用されるベンジルオキシカルボニル
化剤としては、好適には、ベンジルオキシカルボニルク
ロライド、ベンジルオキシカルボニルシアニド、ジベン
ジルジカーボネートなどを挙げることができる。反応温
度は、−20℃乃至80℃で行なわれるが、好適には、
0℃乃至室温である。反応時間は、主に反応温度、原料
化合物、反応試薬又は使用される溶媒の種類によって異
なるが、通常、10分間乃至3日間で、好適には、30
分間乃至1日間である。
【0127】Step D2は、光延反応により、化合
物(XIV)から脱水反応を行い、閉環し、化合物(X
V)を製造する工程である。
【0128】光延反応に使用される試薬としては、通
常、光延反応に使用できる試薬であれば、特に限定はな
いが、好適には、ジエチルアゾジカルボキシレート、ジ
イソプロピルアゾジカルボキシレートのようなジ低級ア
ルキルアゾジカルボキシレート類又は1,1’−(アゾ
ジカルボニル)ジピペリジンのようなアゾジカルボニル
類等のアゾ化合物とトリフェニルホスフィンのようなト
リアリールホスフィン類又はトリn−ブチルホスフィン
のようなトリ低級アルキルホスフィン類等のホスフィン
類の組合せであり、更に好適には、ジ低級アルキルアゾ
ジカルボキシレート類とトリアリールホスフィン類の組
合せであり、最も好適には、ジエチルアゾジカルボキシ
レートとトリフェニルホスフィンの組合せである。使用
される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質をある
程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適に
は、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化
水素類;メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ンのようなハロゲン化炭化水素類;蟻酸エチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのよう
なエステル類;ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エ−テル類;アセトニトリル、イソブチロニトリルのよ
うなニトリル類;ホルムアミド、N,N−ジメチルホル
ムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル
−2−ピロリドン、N−メチルピロリジノン、ヘキサメ
チルホスホロトリアミドのようなアミド類;ジメチルス
ルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類を挙げ
ることができ、好適には、芳香族炭化水素類及びエ−テ
ル類である。反応温度は、−20℃乃至100℃で行な
われるが、好適には、0℃乃至50℃である。反応時間
は、主に、反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用さ
れる溶媒の種類によって異なるが、通常、10分間乃至
3日間であり、好適には、30分間乃至12時間であ
る。
【0129】尚、本工程を実施する過程において、R5
基及びR7 基が除去されることがあり、その場合には、
所望により、Step D1の後段の工程に準じて、再
度、イミノ基をR7 基で保護することができ、以下いず
れかの方法に準じて、再度、水酸基をR5 基で保護する
ことができる。
【0130】<方法1> 一般式 R5 −Xを有する化合物、又は、 一般式 R5 −O−R5 を有する化合物(R5 がアシル
基の場合) [上記式中、R5 は、前記と同意義を示し、好適には、
「シリル基」であり、最も好適には、tert−ブチルジメ
チルシリル基である。Xは、脱離基を示すが、斯かる脱
離基とは、通常、求核残基として脱離する基であれば特
に限定はないが、好適には、塩素、臭素、沃素のような
ハロゲン原子;メトキシカルボニルオキシ、エトキシカ
ルボニルオキシのような低級アルコキシカルボニルオキ
シ基;クロロアセチルオキシ、ジクロロアセチルオキ
シ、トリクロロアセチルオキシ、トリフルオロアセチル
オキシのようなハロゲン化アルキルカルボニルオキシ
基;メタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ
のような低級アルカンスルホニルオキシ基;トリフルオ
ロメタンスルホニルオキシ、ペンタフルオロエタンスル
ホニルオキシのようなハロゲノ低級アルカンスルホニル
オキシ基;ベンゼンスルホニルオキシ、p−トルエンス
ルホニルオキシ、p−ニトロベンゼンスルホニルオキシ
のようなアリ−ルスルホニルオキシ基を挙げることがで
き、更に好適には、ハロゲン原子,ハロゲノ低級アルカ
ンスルホニルオキシ基、及び、アリ−ルスルホニルオキ
シ基である。]の1乃至4当量(好適には、2乃至3当
量)と、溶媒中、塩基の存在又は非存在下に、反応させ
る方法。
【0131】<方法2> 一般式 R5 −OH を有する化合物(R5 がアシル基
の場合) [上記式中、R5 は、前記と同意義を示す。]と、溶媒
中、前記「縮合剤」及び触媒量の塩基の存在又は非存在
下に、反応させる方法。
【0132】<方法3> 一般式 R5 −OH を有する化合物(R5 がアシル基
の場合) [上記式中、R5 は、前記と同意義を示す。]と、溶媒
中で、塩化燐酸ジエチルのようなハロゲン化燐酸ジアル
キルエステル類及び塩基の存在下に、反応させる方法。
【0133】のいずれかの方法に準じて実施される。
【0134】<方法1>において使用される溶媒として
は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するもの
であれば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプ
タンのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエーテル類;アセトニト
リル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;ホルム
アミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメ
チルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−
メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミド
のようなアミド類を挙げることができ、更に好適には、
アミド類である。<方法1>において使用される塩基と
しては、通常の反応において塩基として使用されるもの
であれば、特に限定はないが、好適には、N−メチルモ
ルホリン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイ
ソプロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、N
−メチルピペリジン、ピリジン、4−ピロリジノピリジ
ン、ピコリン、4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジ
ン、2,6−ジ(tert−ブチル)−4−メチルピリジ
ン、イミダゾール、キノリン、N,N−ジメチルアニリ
ン、N,N−ジエチルアニリンのような有機塩基類を挙
げることができ、更に好適には、トリエチルアミン及び
4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジンである。尚、
4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジン、4−ピロリ
ジノピリジンは、他の塩基と組み合わせて、触媒量を用
いることもでき、又、反応を効果的に行わせるために、
ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラブチ
ルアンモニウムクロリドのような第4級アンモニウム塩
類、ジベンゾ−18−クラウン−6のようなクラウンエ
ーテル類等を添加することもできる。反応温度は、通
常、−20℃乃至100℃で行なわれるが、好適には、
−10℃乃至50℃である。反応時間は、主に反応温
度、原料化合物、使用される塩基又は使用される溶媒の
種類によって異なるが、通常、10分間乃至1日間であ
り、好適には、30分間乃至10時間である。
【0135】一般式 R5 −Xを有する化合物の具体例
としては、例えば、アセチルクロリド、プロピオニルク
ロリド、ブチリルブロミド、バレリルクロリド、ヘキサ
ノイルクロリドのような脂肪族アシルハライド;メトキ
シカルボニルクロリド、メトキシカルボニルブロミド、
エトキシカルボニルクロリド、プロポキシカルボニルク
ロリド、ブトキシカルボニルクロリド、ヘキシルオキシ
カルボニルクロリドのような低級アルコキシカルボニル
ハライド若しくはベンゾイルクロリド、ベンゾイルブロ
ミド、ナフトイルクロリドのようなアリールカルボニル
ハライドのようなアシルハライド類、t−ブチルジメチ
ルシリルクロリド、トリメチルシリルクロリド、トリエ
チルシリルクロリド、トリエチルシリルブロミド、トリ
イソプロピルシリルクロリド、ジメチルイソプロピルシ
リルクロリド、ジエチルイソプロピルシリルクロリド、
t−ブチルジフェニルシリルクロリド、ジフェニルメチ
ルシリルクロリド、トリフェニルシリルクロリドのよう
なシリルハライド類又は対応するシリルトリフルオロメ
タンスルホネ−ト類、ベンジルクロリド、ベンジルブロ
ミドのようなアラルキルハライド類若しくはピバロイル
オキシメチルクロリド、エトキシカルボニルオキシメチ
ルクロリドのようなカルボニルオキシ低級アルキルハラ
イド類を挙げることができる。
【0136】一般式 R5 −O−R5 を有する化合物の
具体例としては、例えば、無水酢酸、無水プロピオン
酸、無水バレリル酸、無水ヘキサン酸のような脂肪族カ
ルボン酸無水物を挙げることができ、更に、ギ酸と酢酸
のような混合酸無水物を使用することもできる。
【0137】<方法2>において使用される溶媒として
は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するもの
であれば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプ
タンのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエーテル類;アセトニト
リル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;ホルム
アミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメ
チルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−
メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミド
のようなアミド類を挙げることができる。<方法2>
おいて使用される塩基としては、上記<方法1>におい
て記載したのと同様の塩基を使用することができる。反
応温度は、−20℃乃至80℃で行なわれるが、好適に
は、0℃乃至室温である。反応時間は、主に反応温度、
原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の種類によっ
て異なるが、通常、10分間乃至3日間で、好適には、
30分間乃至1日間である。
【0138】<方法3>において使用される溶媒として
は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するもの
であれば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプ
タンのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエーテル類;アセトニト
リル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;ホルム
アミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメ
チルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−
メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミド
のようなアミド類を挙げることができる。<方法3>
おいて使用される塩基としては、上記<方法1>におい
て記載したのと同様の塩基を使用することができる。反
応温度は、0℃乃至使用される溶媒の還流温度で行なわ
れるが、好適には、室温乃至50℃である。反応時間
は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用され
る溶媒の種類によって異なるが、通常、10分間乃至3
日間で、好適には、30分間乃至1日間である。
【0139】Step D3は、化合物(XV)のR7
基を除去することにより、化合物(II)を製造する工
程である。
【0140】R7 基の除去はその種類によって異なる
が、一般にこの分野の技術において周知の方法によって
以下の様に実施される。R7 が、シリル基である場合に
は、通常、弗化テトラブチルアンモニウムのような弗素
アニオンを生成する化合物で処理することにより除去さ
れる。反応溶媒は、反応を阻害しないものであれば特に
限定はないが、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエ−テル類が好適である。反応温度及び反応時間は、
特に限定はないが、通常、室温で10乃至18時間反応
させる。
【0141】R7 が、脂肪族アシル基、芳香族アシル
基、低級アルコキシカルボニル基又はシッフ塩基を形成
する置換されたメチレン基である場合には、溶媒の存在
下に、酸又は塩基で処理することにより除去することが
できる。使用される酸としては、通常酸として使用され
るもので、反応を阻害しないものであれば特に限定はな
いが、好適には、塩酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸のよ
うな無機酸又はB−ブロモカテコールボランのようなル
イス酸が用いられ、更に好適には、塩酸又はB−ブロモ
カテコールボランである。酸で処理する反応において使
用される溶媒としては、通常の加水分解反応に使用され
る溶媒であれば特に限定はなく、例えば、ベンゼン、ト
ルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;メチレン
クロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタ
ン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲ
ン化炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシ
エタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのよう
なエーテル類;ニトロエタン、ニトロベンゼンのような
ニトロ化炭化水素類を挙げることができる。好適には芳
香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類である。
【0142】使用される塩基としては、化合物の他の部
分に影響を与えないものであれば特に限定はないが、好
適には、ナトリウムメトキシドのような金属アルコキシ
ド類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムの
ようなアルカリ金属炭酸塩類、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸
化物類又はアンモニア水、濃アンモニア−メタノ−ルの
ようなアンモニア類が用いられる。尚、塩基による加水
分解では異性化が起こることがある。塩基で処理する反
応において使用される溶媒としては、通常の加水分解反
応に使用されるものであれば特に限定はなく、水;メタ
ノ−ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ルのようなアルコ
−ル類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−
テル類等の有機溶媒又は水と上記有機溶媒との混合溶媒
が好適である。反応温度及び反応時間は、出発物質、溶
媒及び使用される酸若しくは塩基等により異なり、特に
限定はないが、副反応を抑制するために、通常は0乃至
150℃で、1 乃至10時間実施される。
【0143】R7 が、アラルキル基又はアラルキルオキ
シカルボニル基である場合には、通常、溶媒中で、還元
剤と接触させることにより(好適には、触媒下に常温に
て接触還元)除去する方法又は酸化剤を用いて除去する
方法が好適である。接触還元による除去において使用さ
れる溶媒としては、本反応に関与しないものであれば特
に限定はないが、メタノ−ル、エタノ−ル、イソプロパ
ノ−ルのようなアルコ−ル類、ジエチルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類、トル
エン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類、
ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類、
酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類、酢酸の
ような脂肪酸類又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒
が好適である。使用される触媒としては、通常、接触還
元反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、
好適には、パラジウム炭素、ラネーニッケル、酸化白
金、白金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、トリフェニ
ルホスフィン−塩化ロジウム、パラジウム−硫酸バリウ
ムが用いられる。圧力は、特に限定はないが、通常1乃
至10気圧で行なわれる。反応温度及び反応時間は、出
発物質、溶媒及び触媒の種類等により異なるが、通常、
0乃至100℃で、5分間乃至24時間実施される。
【0144】酸化による除去において使用される溶媒と
しては、本反応に関与しないものであれば特に限定はな
いが、好適には、含水有機溶媒である。このような有機
溶媒として好適には、アセトンのようなケトン類、メチ
レンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロ
ゲン化炭化水素類、アセトニトリルのようなニトリル
類、ジエチルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエ−テル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのよ
うなアミド類及びジメチルスルホキシドのようなスルホ
キシド類を挙げることができる。使用される酸化剤とし
ては、酸化に使用される化合物であれば特に限定はない
が、好適には、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、ア
ンモニウムセリウムナイトレイト(CAN)、2,3−
ジクロロ−5,6−ジシアノ−p−ベンゾキノン(DD
Q)が用いられる。反応温度及び反応時間は、出発物
質、溶媒及び触媒の種類等により異なるが、通常、0乃
至150℃で、10分乃至24時間実施される。
【0145】R7 がアルケニルオキシカルボニル基であ
る場合は、通常、アミノ基の保護基が前記の脂肪族アシ
ル基、芳香族アシル基、低級アルコキシカルボニル基又
はシッフ塩基を形成する置換されたメチレン基である場
合の除去反応の条件と同様にして、塩基と処理すること
により達成される。
【0146】尚、アリルオキシカルボニルの場合は、特
に、パラジウム、及びトリフェニルホスフィン若しくは
ニッケルテトラカルボニルを使用して除去する方法が簡
便で、副反応が少なく実施することができる。
【0147】[E法]
【0148】
【化12】
【0149】上記式中、R2 、R5 、D及びGは、前記
と同意義を示す。
【0150】X’及びX''は、Yの定義における基と同
様の基を示す。
【0151】E’は、Eの定義における「ハロゲン原子
で置換されていてもよい炭素数1乃至4個のアルキレン
基」又は「炭素数3乃至6個のシクロアルカン環を含む
炭素数3乃至8個のアルキレン基」より炭素数が1つ少
ない相当する基を示す。
【0152】[E法]は、[D法]と同様、化合物(I
I)において、環
【0153】
【化13】
【0154】が6乃至8員環である化合物を製造する方
法である。
【0155】Step E1は、化合物(XII)のア
ミノ基と、化合物(XVI)とを、溶媒中、塩基の存在
下に反応させ、アシル化を行った後、次いで、DH基へ
のアルキル化を行い、環状アミドを形成し、化合物(X
VII)を製造する工程である。
【0156】前段のアシル化において、使用される溶媒
としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解す
るものであれば特に限定はないが、好適には、ヘキサ
ン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、ト
ルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;メチレン
クロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタ
ン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲ
ン化炭化水素類;蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピ
ル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類;ジ
エチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレン
グリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類;アセ
トニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;
ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N
−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリド
ン、N−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロト
リアミドのようなアミド類を挙げることができる。使用
される塩基としては、通常の反応において塩基として使
用されるものであれば、特に限定はないが、好適には、
N−メチルモルホリン、トリエチルアミン、トリブチル
アミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジシクロヘキシ
ルアミン、N−メチルピペリジン、ピリジン、4−ピロ
リジノピリジン、ピコリン、4−(N,N−ジメチルア
ミノ) ピリジン、2,6−ジ(tert−ブチル)−4−メ
チルピリジン、キノリン、N,N−ジメチルアニリン、
N,N−ジエチルアニリンのような有機塩基類を挙げる
ことができる。尚、4−(N,N−ジメチルアミノ) ピ
リジン、4−ピロリジノピリジンは、他の塩基と組み合
わせて、触媒量を用いることもでき、又、反応を効果的
に行わせるために、モレキュラー・シーブのような脱水
剤、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラ
ブチルアンモニウムクロリドのような第4級アンモニウ
ム塩類、ジベンゾ−18−クラウン−6のようなクラウ
ンエーテル類、3,4−ジヒドロ−2H−ピリド[1,
2−a]ピリミジン−2−オンのような酸補足剤等を添
加することもできる。反応温度は、−20℃乃至80℃
で行なわれるが、好適には、0℃乃至室温である。反応
時間は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用
される溶媒の種類によって異なるが、通常、10分間乃
至3日間で、好適には、30分間乃至1日間である。
【0157】尚、化合物(XVI)のX''基が水酸基を
示すカルボン酸誘導体の場合にも、上記溶媒中、上記塩
基の存在又は非存在下に、前記「縮合剤」で反応させる
ことによっても達成できる。
【0158】後段のアルキル化反応において、使用され
る溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度
溶解するものであれば特に限定はないが、好適には、ベ
ンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類;メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジ
クロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのよ
うなハロゲン化炭化水素類;ジエチルエ−テル、ジイソ
プロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエー
テルのようなエ−テル類;アセトニトリル、プロピオニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;ホル
ムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジ
メチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N
−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミ
ドのようなアミド類;ジメチルスルホキシド、スルホラ
ンのようなスルホキシド類を挙げることができ、更に好
適には、エ−テル類及びアミド類であり、最も好適に
は、テトラヒドロフラン及びN,N−ジメチルホルムア
ミドである。使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのような
アルカリ金属炭酸水素塩類;水素化リチウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化
物類;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリ
ウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物
類;弗化ナトリウム、弗化カリウムのようなアルカリ金
属弗化物類等の無機塩基類;ナトリウムメトキシド、ナ
トリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエ
トキシド、カリウムt−ブトキシド、リチウムメトキシ
ドのようなアルカリ金属アルコキシド類を挙げることが
でき、更に好適には、アルカリ金属水素化物類及びアル
カリ金属アルコキシド類である。反応温度は−20℃乃
至100℃で行なわれるが、好適には、0℃乃至50℃
である。反応時間は、主に反応温度、原料化合物、反応
試薬又は使用される溶媒の種類によって異なるが、通
常、10分間乃至24時間であり、好適には、30分間
乃至12時間である。
【0159】Step E2は、化合物(XVII)の
アミド基を、溶媒中、還元剤を使用して、イミノ基に還
元し、化合物(II)を製造する工程である。
【0160】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;ジエ
チルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレング
リコールジメチルエーテルのようなエ−テル類を挙げる
ことができ、更に好適には、エ−テル類であり、最も好
適には、ジエチルエ−テル及びテトラヒドロフランであ
る。使用される還元剤としては、通常、還元剤として使
用されるものであれば特に限定はないが、好適には、水
素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウムのような
水素化ホウ素アルカリ金属;水素化アルミニウムリチウ
ム、水素化リチウムトリ−tert−ブトキシドアルミ
ニウムのような水素化アルミニウム化合物;水素化テル
ルナトリウム;ジ(イソブチル)アルミニウムヒドリ
ド、ビス(メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム
ヒドリドのような水素化有機アルミニウム系還元剤等の
ヒドリド試薬:ボラン・ジメチルスルフィド錯体、ボラ
ン・テトラヒドロフラン錯体のようなホウ素系還元剤を
挙げることができ、更に好適には、水素化アルミニウム
化合物及びホウ素系還元剤であり、更により好適には、
ホウ素系還元剤であり、最も好適には、ボラン・ジメチ
ルスルフィド錯体である。反応温度は−78℃乃至15
0℃で行なわれるが、好適には、−20℃乃至100℃
である。反応時間は、主に反応温度、原料化合物、反応
試薬又は使用される溶媒の種類によって異なるが、通
常、5分間乃至24時間であり、好適には、10分間乃
至2時間である。
【0161】尚、本工程において、R5 基が除去される
ことがあり、その場合には、所望により、前記Step
D2の〈方法1〉乃至〈方法3〉と同様にして、再
度、水酸基をR5 基で保護することができる。
【0162】[F法]
【0163】
【化14】
【0164】上記式中、R2 、R5 及びGは、前記と同
意義を示す。
【0165】[F法]は、上記[C法]における原料化
合物である化合物(IX)を製造する方法である。
【0166】Step F1は化合物(XVIII)と
金属マグネシウムとを、常法に従って、反応させグリニ
ャール試薬を製造した後、パラジウム触媒又はニッケル
触媒を用いて該グリニャール試薬と化合物(XIX)と
のクロスカップリング反応を行い、化合物(IX)を製
造する工程である。
【0167】使用されるパラジウム触媒としては、パラ
ジウムを含有する触媒であれば特に限定はないが、好適
にはテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム
(0)、塩化ビス(トリフェニルホスフェン)パラジウ
ム(II)、ビス(アセトニトリル)パラジウム(I
I) クロリド、[1,1’−ビス(ジフェニルホスフ
ィノ)フェロセン]パラジウム(II) クロリド、ト
リス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)、
[1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン]ジク
ロロパラジウム(II)及び酢酸パラジウムを挙げるこ
とができる。使用されるニッケル触媒とは、ニッケルを
含有する触媒であれば特に限定はないが、好適には塩化
ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケル(II)、
[1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパンジク
ロロニッケル(II)及びニッケル(II)アセチルア
セトナートを挙げることができる。
【0168】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコール及びジメチルエーテ
ルのようなエーテル類を挙げることができ、更に好適に
はジエチルエーテル又はテトラヒドロフランである。
【0169】反応温度は0℃乃至120℃で行われる
が、好適には室温乃至80℃である。
【0170】反応時間は、主に反応温度、原料物質、反
応試薬及び使用される溶媒の種類によって異なるが、通
常10分間乃至24時間であり、好適には30分間乃至
5時間である。 [G法]
【0171】
【化15】
【0172】上記式中、R2 及びG’は、前記と同意義
を示す。
【0173】Wは、Yの定義における基と同様の基を示
す。
【0174】尚、Wは、R8 と一緒になって単結合を示
してもよく、この場合には、化合物(XXI)は、酸無
水物となる。
【0175】R8 は、カルボキシ基の保護基を示し、加
水素分解、加水分解、電気分解、光分解のような化学的
方法により開裂し得る「反応における保護基」を示す。
斯かる「反応における保護基」としては、好適には、前
記「低級アルキル基」;前記「低級アルケニル基」;前
記「低級アルキニル基」;前記「ハロゲノ低級アルキル
基」;前記ヒドロキシ「低級アルキル基」;アセチルメ
チルのような「脂肪族アシル」−「低級アルキル基」;
前記「そのエステル」の定義における「アラルキル
基」;前記「シリル基」を挙げることができる。[G
法]は上記化合物(IX)においてG基が炭素数3又は
4個を有する化合物を製造する方法である。
【0176】Step G1は、化合物(XX)と酸誘
導体(XXI)とを、溶媒の存在下又は非存在下、ルイ
ス酸の存在下に、フリーデル・クラフツ反応により反応
させた後、酸誘導体(XXI)が酸無水物の場合には、
所望により、生成したフリーのカルボン酸をR8 基でエ
ステル化した後、カルボニル基を、溶媒中、塩基の存在
下、ウィテッヒ反応によりエキソメチレン基に変換する
ことにより、化合物(XXII)を製造する工程であ
る。
【0177】前段のフリーデル・クラフツ反応において
使用されるルイス酸としては、通常、ルイス酸として使
用されるものであれば、特に限定はないが、好適には、
トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネートのよ
うなトリ低級アルキルシリルトリフルオロメタンスルホ
ネート類、塩化アルミニウム、臭化アルミニウムのよう
なアルミニウム類、四塩化錫のような錫類、臭化亜鉛の
ような亜鉛類、四塩化チタンのようなチタン類又は過塩
素酸トリメチルシリルエステル、過塩素酸トリフェニル
メチルエステルのような過塩素酸類であり、更に好適に
は、アルミニウム類及びチタン類であり、特に好適に
は、塩化アルミニウム及び臭化アルミニウムである。
【0178】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;ジエ
チルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレング
リコールジメチルエーテルのようなエ−テル類;ニトロ
エタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類を挙げ
ることができ、更に好適には、ハロゲン化炭化水素類で
ある。
【0179】反応温度は、−10℃乃至150℃で行な
われるが、好適には、0℃乃至100℃である。反応時
間は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用さ
れる溶媒の種類によって異なるが、通常、30分間乃至
24時間であり、好適には、1時間乃至12時間であ
る。
【0180】中段のエステル化において、斯かる反応が
アルキル化に属する場合には、カルボン酸を、下記のい
ずれかの方法で処理することによりエステル化すること
ができる。
【0181】<方法1> 一般式 R8 −W’を有する化合物(上記式中、R8
は、前記と同意義を示し、W’は、例えば、塩素、臭
素、沃素のようなハロゲン原子;メタンスルホニルオキ
シ、エタンスルホニルオキシのような低級アルカンスル
ホニルオキシ基;トリフルオロメタンスルホニルオキ
シ、ペンタフルオロエタンスルホニルオキシのようなハ
ロゲノ低級アルカンスルホニルオキシ基;ベンゼンスル
ホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキシ、p−ニ
トロベンゼンスルホニルオキシのようなアリ−ルスルホ
ニルオキシ基等の、求核残基として脱離する基を示
す。)と、溶媒中(使用される溶媒としては、反応を阻
害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に
限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタンのような
脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのよ
うな芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジ
クロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;ジエチ
ルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリ
コールジメチルエーテルのようなエ−テル類;アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イ
ソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン類;アセト
ニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;ホ
ルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−
ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、
N−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリア
ミドのようなアミド類を挙げることができる。)、塩基
の存在下(使用される塩基としては、通常の反応におい
て塩基として使用されるものであれば、特に限定はない
が、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リ
チウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなア
ルカリ金属炭酸水素塩類;水素化リチウム、水素化ナト
リウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物
類;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウ
ム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類;
弗化ナトリウム、弗化カリウムのようなアルカリ金属弗
化物類等の無機塩基類;ナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキ
シド、カリウム tert−ブトキシド、リチウムメトキシ
ドのようなアルカリ金属アルコキシド類;メチルメルカ
プタンナトリウム、エチルメルカプタンナトリウムのよ
うなメルカプタンアルカリ金属類;N−メチルモルホリ
ン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロ
ピルエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、N−メチ
ルピペリジン、ピリジン、4−ピロリジノピリジン、ピ
コリン、4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジン、
2,6−ジ(tert−ブチル)−4−メチルピリジン、キ
ノリン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチル
アニリン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ
−5−エン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オ
クタン(DABCO)、1,8−ジアザビシクロ[5.
4.0]ウンデカ−7−エン(DBU)のような有機塩
基類又はブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミ
ド、リチウム ビス(トリメチルシリル)アミドのよう
な有機金属塩基類を挙げることができる。)に、通常、
−20℃乃至120℃(好適には、0乃至80℃)で、
0.5乃至10時間反応させる方法。
【0182】<方法2> 一般式 R8 −OHを有する化合物[上記式中、R8
は、前記と同意義を示す。]と、溶媒中、塩基の存在又
は非存在下に、前記「縮合剤」で反応させる方法。
【0183】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪
族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;蟻酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエ
チルのようなエステル類;ジエチルエ−テル、ジイソプ
ロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ルのようなエ−テル類;アセトニトリル、イソブチロニ
トリルのようなニトリル類;ホルムアミド、N,N−ジ
メチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、
N−メチル−2−ピロリドン、N−メチルピロリジノ
ン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類
を挙げることができる。
【0184】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、N−メチルモルホリン、トリエチルア
ミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、ジシクロヘキシルアミン、N−メチルピペリジン、
ピリジン、4−ピロリジノピリジン、ピコリン、4−
(N,N−ジメチルアミノ) ピリジン、2,6−ジ(te
rt−ブチル)−4−メチルピリジン、キノリン、N,N
−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリンのよう
な有機塩基類を挙げることができる。
【0185】尚、4−(N,N−ジメチルアミノ) ピリ
ジン、4−ピロリジノピリジンは、他の塩基と組み合わ
せて、触媒量を用いることもでき、又、反応を効果的に
行わせるために、モレキュラー・シーブのような脱水
剤、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラ
ブチルアンモニウムクロリドのような第4級アンモニウ
ム塩類、ジベンゾ−18−クラウン−6のようなクラウ
ンエーテル類、3,4−ジヒドロ−2H−ピリド[1,
2−a]ピリミジン−2−オンのような酸補足剤等を添
加することもできる。
【0186】反応温度は、−20℃乃至80℃で行なわ
れるが、好適には、0℃乃至室温である。反応時間は、
主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶
媒の種類によって異なるが、通常、10分間乃至3日間
で、好適には、30分間乃至1日間である。
【0187】<方法3>保護基が、低級アルキル基の場
合に、溶媒中(反応を阻害せず、出発物質をある程度溶
解するものであれば特に限定はないが、好適には、試薬
と同一のアルコール;ヘキサン、ヘプタンのような脂肪
族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;ジエチルエ
−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエ−テル類;アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホ
ロン、シクロヘキサノンのようなケトン類;アセトニト
リル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;ホルム
アミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメ
チルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−
メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミド
のようなアミド類を挙げることができ、好適には、試薬
と同一のアルコールである。)、酸触媒の存在下(通常
の反応において酸触媒として使用されるものであれば特
に限定はないが、好適には、塩化水素、臭化水素酸、硫
酸、過塩素酸、燐酸のような無機酸又は酢酸、蟻酸、蓚
酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリ
フルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような
有機酸等のブレンステッド酸或いはボロントリクロリ
ド、ボロントリフルオリド、ボロントリブロミドのよう
なルイス酸又は、酸性イオン交換樹脂を挙げることがで
きる。)、メタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノールのような対応するアルコールと、0℃乃至15
0℃(好適には、50℃乃至100℃)で、10分間乃
至24時間(好適には、30分間乃至5時間)反応させ
る方法、のいずれかの方法により達成される。
【0188】後段のウィテッヒ反応において、使用され
る試薬としては、通常、ウィテッヒ反応に使用されるも
のであれば特に限定はないが、好適には、臭化メチルト
リフェニルホスホニウム、沃化メチルトリフェニルホス
ホニウムのようなメチルトリフェニルホスホニウム ハ
ライドである。使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;ジエ
チルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロ
フランのようなエ−テル類;アセトニトリル、イソブチ
ロニトリルのようなニトリル類;ホルムアミド、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチル
ホスホロトリアミドのようなアミド類;ジメチルスルホ
キシド、スルホランのようなスルホキシド類を挙げるこ
とができ、更に好適には、芳香族炭化水素類であり、最
も好適には、ベンゼンである。使用される塩基として
は、通常の反応において塩基として使用されるものであ
れば、特に限定はないが、好適には、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸
塩類;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水
素リチウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩類;水素化
リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのような
アルカリ金属水素化物類;水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化バリウム、水酸化リチウムのようなアル
カリ金属水酸化物類;弗化ナトリウム、弗化カリウムの
ようなアルカリ金属弗化物類等の無機塩基類;ナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキ
シド、カリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシド、
リチウムメトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド
類を挙げることができ、更に好適には、アルカリ金属水
素化物類及びアルカリ金属アルコキシド類であり、最も
好適には、アルカリ金属アルコキシド類である。反応温
度は−20℃乃至100℃で行なわれるが、好適には0
℃乃至50℃である。反応時間は、主に反応温度、原料
化合物、使用される溶媒又は使用される塩基の種類によ
って異なるが、通常、10分間乃至24時間であり、好
適には、30分間乃至12時間である。
【0189】Step G2は、エステル化合物(XX
II)のカルボキシル基を、溶媒中、還元剤を使用し
て、還元反応を行い、一級水酸基に変換した後、この水
酸基を、R5 基で保護して、化合物(IX)を製造する
工程である。
【0190】前段の還元反応において使用される還元剤
としては、通常、還元剤として使用されるものであれば
特に限定はないが、好適には、水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化ホウ素リチウムのような水素化ホウ素アルカ
リ金属;水素化アルミニウムリチウム、水素化リチウム
トリ−tert−ブトキシドアルミニウムのような水素
化アルミニウム化合物;水素化テルルナトリウム;ジ
(イソブチル)アルミニウムヒドリド、ビス(メトキシ
エトキシ)アルミニウムナトリウムヒドリドのような水
素化有機アルミニウム系還元剤等のヒドリド試薬を挙げ
ることができ、更に好適には、水素化アルミニウム化合
物及び水素化有機アルミニウム系還元剤であり、最も好
適には、水素化アルミニウム化合物である。
【0191】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;ジエ
チルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレング
リコールジメチルエーテルのようなエ−テル類を挙げる
ことができ、更に好適には、エ−テル類であり、最も好
適には、ジエチルエ−テル及びテトラヒドロフランであ
る。反応温度は−78℃乃至50℃で行なわれるが、好
適には、−20℃乃至20℃である。反応時間は、主に
反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される溶媒の
種類によって異なるが、通常、5分間乃至24時間であ
り、好適には、10分間乃至2時間である。
【0192】後段のR5 基での保護反応は、前記Ste
p D2の〈方法1〉乃至〈方法3〉に準じて実施され
る。
【0193】[H法]
【0194】
【化16】
【0195】上記式中、R2 は、前記と同意義を示す。
【0196】R9 は、カルボキシ基の保護基を示し、R
8 の定義における基と同様の基を示す。R10は、各々、
前記「低級アルキル基」を示し、斯かる基としては、好
適には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピルなど
を挙げることができる。又、2つのR10基は一緒になっ
て低級アルキレン基を示してもよく、斯かる基として
は、好適には、メチレン、エチレン、トリメチレンなど
を挙げることができる。R11は、水酸基の保護基を示
し、R5 の定義における基と同様の基を示す。W''は、
ハロゲン原子を示し、好適には、塩素原子である。
【0197】[H法]は、上記化合物(IX)におい
て、G基が炭素数2個を有する化合物(XXVII)を
製造する方法である。
【0198】Step H1は化合物(XXIII)か
らβ−ケトエステル誘導体(XXIV)を製造する工程
であり、例えばJ. Wemple らの方法(Synthesis, 290
(1993) )に準じて、常法によって行われる。
【0199】Step H2はβ−ケトエステル誘導体
(XXIV)と式R10−OH(式中、R10は前記と同意
義を示す。)を有するアルコール、式HO−R10' −O
H(式中、R10' は、2つのR10基が一緒になって形成
する低級アルキレン基を示す。)を有するアルカンジオ
ール、又は式(R10O)3 CH(式中、R10は前記と同
意義を示す。)を有するアルトギ酸エステルとを反応さ
せて、ケタール(XXV)を製造する工程であり、反応
は、例えば、アルコール若しくはアルカンジオール中、
酸触媒の存在下又は非存在下で、加熱することによりお
こなわれる。
【0200】式R10−OHを有するアルコールとして
は、例えばメタノール、エタノール、プロパノール及び
イソプロパノールなどを挙げることができる。好適には
エタノールである。式HO−R10' −OHを有するアル
カンジオールとしては、例えばエチレングリコール及び
プロピレングリコールなどを挙げることができる。式
(R10O)3 CHを有するオルトギ酸エステルとして
は、例えばトリメトキシメタン、トリエトキシメタンな
どを挙げることができる。
【0201】好適には、エタノール中、オルトギ酸エチ
ルの存在下、p−トルエンスルホン酸を触媒として用
い、加熱する方法である。
【0202】反応温度は、通常、40℃乃至150℃で
行われるが、好適には50℃乃至100℃である。
【0203】反応時間は、主に反応温度、原料物質及び
使用される溶媒によって異なるが、、通常30分間乃至
2日間であり、好適には2時間乃至12時間である。
【0204】Step H3は化合物(XXV)のエス
テルを還元した後、ケタール基を脱保護し、次いで一級
水酸基をR11基で保護して化合物(XXVI)を製造す
る工程である。
【0205】エステルを還元する反応は、Step G
の前段の工程に準じて実施される。
【0206】ケタール基の脱保護は、通常、溶媒中、酸
の存在下で行われ、好適には、クロロホルム中、トリフ
ルオロ酢酸を用いて行われる。
【0207】反応温度は、通常、−20℃乃至100℃
で行われるが、好適には−10℃乃至室温である。反応
時間は、主に反応温度、原料物質及び使用される溶媒に
よって異なるが、通常10分間乃至1日間であり、好適
には30分乃至2時間である。
【0208】一級水酸基を保護する反応は、Step
D2の〈方法1〉乃至〈方法3〉に準じて行われる。好
適には、〈方法1〉に準じて行われる。
【0209】Step H4は化合物(XXVI)のカ
ルボニル基を溶媒中、塩基の存在下、ウィテッヒ反応に
よりエキソメチレン基に変換して、化合物(XXVI
I)を製造する工程である。本工程の反応は、前記St
ep G1の後段の反応に準じて行われる。
【0210】[I法]
【0211】
【化17】
【0212】上記式中、R2 及びR9 は、前記と同意義
を示す。
【0213】[I法]は、化合物(XXVII)の別途
製法である。
【0214】Step I1は、伊藤等(Bull. Chem.
Soc. Jpn.,64巻、3746頁(1991年)に記載)
の方法に準じて、化合物(XVIII)を、金属マグネ
シウムと反応させ、常法に従ってグリニャール試薬を製
造した後、ルイス酸の存在又は非存在下に、触媒量(好
適には、0.1乃至0.5当量)のパラジウム触媒下、
溶媒中、ジケテンとカップリングさせ、次いで、生成し
たカルボン酸をStep G1の所望の工程に準じて反
応を行って、エステル化し、そのエステルを還元して生
成する一級水酸基を保護することにより、その化合物
(XXVII)を製造する方法である。
【0215】主工程において使用されるルイス酸として
は、通常、ルイス酸として使用されるものであれば、特
に限定はなく、ルイス酸の存在下に反応を実施したほう
が副生成物が少なく、収率よく達成されるが、ルイス酸
として好適には、トリメチルシリルトリフルオロメタン
スルホネートのようなトリ低級アルキルシリルトリフル
オロメタンスルホネート類、塩化アルミニウムのような
アルミニウム類、四塩化錫のような錫類、塩化亜鉛、臭
化亜鉛のような亜鉛類、四塩化チタンのようなチタン類
又は過塩素酸トリメチルシリルエステル、過塩素酸トリ
フェニルメチルエステルのような過塩素酸類を挙げるこ
とができ、更に好適には、亜鉛類であり、最も好適に
は、塩化亜鉛である。使用されるパラジウム触媒とは、
パラジウムを含有する触媒であれば特に限定はないが、
好適には、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム
クロリドのような有機燐パラジウムを挙げることができ
る。使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物
質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、
好適には、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ
−テル類を挙げることができ、更に好適には、ジエチル
エ−テルである。反応温度は−20℃乃至50℃で行な
われるが、好適には、0℃乃至20℃である。反応時間
は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用され
る溶媒の種類によって異なるが、通常、15分間乃至8
時間であり、好適には、30分間乃至2時間である。
【0216】後段の工程におけるエステルの還元は、前
Step G1の所望の工程に準じて実施され、一級
水酸基の保護は、前記Step D2の〈方法1〉乃至
〈方法3〉に準じて実施される。
【0217】[J法]
【0218】
【化18】
【0219】上記式中、R12、J、環Ar及び式S*
Oは前記と同意義を示す。Qは、水酸基あるいは、前記
ハロゲン原子を示す。
【0220】Q’は、ハロゲン原子を示し、好適には臭
素原子である。
【0221】[J法]は化合物(VI)の製法である。
【0222】Step J1は化合物(XXIX)から
化合物(XXX)を製造する工程である。
【0223】(1)Qが水酸基である場合、本工程は、
化合物(XXIX)の水酸基をアセチルチオ基に変換し
た後、塩基を用いて加水分解してアセチル基を除去する
ことにより達成される。
【0224】前段の反応は、(a)化合物(XXIX)
の水酸基を脱離基に変換し、次いで、チオ酢酸の塩を反
応させるか、あるいは(b)チオ酢酸を用いて光延反応
を行うことにより達成される。上記(a)における、水
酸基を脱離基に変換する反応は、Step A2の後段
の工程に準じておこなわれ、チオアセチル基で置換させ
る反応は、通常、溶媒中でチオ酢酸の塩と反応させるこ
とによって達成される。使用される溶媒としては、反応
を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば
特に限定はないが、例えば、ベンゼン、トルエン、キシ
レンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、ク
ロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベン
ゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素
類;ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類:アセトニトリル、プロピオニトリル、イソブチロニ
トリルのようなニトリル類;ホルムアミド、N,N−ジ
メチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、
N−メチル−2−ピロリドン、N−メチルピロリジノ
ン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類
を挙げることができる。好適には、アミド類であり、更
に好適にはN,N−ジメチルホルムアミドである。使用
されるチオ酢酸の塩としては、好適には、チオ酢酸リチ
ウム、チオ酢酸ナトリウム、チオ酢酸カリウムなどのチ
オ酢酸の金属塩を挙げることができる。反応温度は、−
20℃乃至150℃で行われるが、好適には、室温乃至
100℃である。反応時間は、主に、反応温度、原料化
合物、及び使用される溶媒の種類によって異なるが、通
常、30分間乃至2日間であり、好適には、2時間乃至
1日間である。
【0225】上記(b)における、チオ酢酸を用いた光
延反応は、化合物(XXIX)及びチオ酢酸を用いる以
外は、前記Step D2と同様に行われる。アセチル
チオ基のアセチル基を除去する反応は、溶媒中、塩基で
処理することにより達成される。
【0226】使用される塩基としては、化合物の他の部
分に影響を与えないものであれば特に限定はないが、好
適にはナトリウムメトキシドのようなアルカリ金属アル
コキシド類;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチ
ウムのようなアルカリ金属炭酸塩;水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化バリウムのよ
うなアルカリ金属水酸化物又はアンモニア水、濃アンモ
ニア−メタノ−ルのようなアンモニア類が用いられる。
使用される溶媒としては、通常の加水分解反応に使用さ
れるものであれば特に限定はなく、水;メタノ−ル、エ
タノ−ル、n-プロパノ−ルのようなアルコ−ル類、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類等の有
機溶媒又は水と上記有機溶媒との混合溶媒が好適であ
る。反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び使用
される塩基等により異なり特に限定はないが、副反応を
抑制するために、通常は0乃至150℃で、1 乃至10
時間実施される。
【0227】(2)Qがハロゲン原子である場合、化合
物(XXIX)とチオ尿素とを、溶媒中で加熱して反応
させ、次いで加水分解することにより、本工程は達成さ
れる。前段の反応において使用される溶媒としては、好
適には、メタノール、エタノール、イソプロパノールな
どのようなアルコール類をあげることができる。
【0228】反応温度は、通常、室温乃至150℃であ
り、好適には50℃乃至100℃である。反応時間は、
主に溶媒の種類及び出発物質により異なるが、通常、3
0分間乃至4日間であり、好適には12時間乃至24時
間である。
【0229】後段の加水分解は、通常、水と上記アルコ
ール類の混合溶媒中で行われる。反応温度は、通常、室
温乃至150℃であり、好適には50℃乃至100℃で
ある。反応時間は、主に溶媒の種類及び出発物質により
異なるが、通常、30分間乃至2時間であり、好適には
30分間乃至6時間である。
【0230】Step J2は化合物(XXX)と化合
物(XXXI)とを溶媒中、塩基の存在下で反応させる
ことにより、化合物(XXXII)を製造する工程であ
る。
【0231】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪
族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;ジエチルエ
−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエ−テル類;アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホ
ロン、シクロヘキサノンのようなケトン類;アセトニト
リル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;ホルム
アミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメ
チルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−
メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミド
のようなアミド類を挙げることができる。更に好適には
エーテル類であり、最も好適にはテトラヒドロフランで
ある。使用される塩基としては、通常の反応において塩
基として使用されるものであれば、特に限定はないが、
好適には、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化
カリウムのようなアルカリ金属水素化物類、及びn−ブ
チルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブ
チルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウ
ム ビス(トリメチルシリル)アミドのような有機金属
塩基類を挙げることができる。更に好適には有機金属塩
基類であり、最も好適にはブチルリチウムである。反応
温度は通常、−100℃乃至100℃で行われ、好適に
は、−78℃乃至0℃である。反応時間は、主に反応温
度、原料化合物、試薬、又は使用される溶媒の種類によ
って異なるが、通常、0.5時間乃至10時間であり、
好適には1時間乃至6時間である。
【0232】Step J3は、溶媒の存在下又は非存
在下、酸の存在下で、化合物(XXXII)から脱水反
応を行い、閉環し、化合物(XXIII)を製造する工
程である。
【0233】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、メタノール、エタノールのような
アルコール類;ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化
水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族
炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化
炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベン
ゼンのようなハロゲン化炭化水素類;ジエチルエ−テ
ル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテルのようなエ−テル類;アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、
シクロヘキサノンのようなケトン類;アセトニトリル、
イソブチロニトリルのようなニトリル類;ホルムアミ
ド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチル
アセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−メチ
ルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのよ
うなアミド類を挙げることができ、更に好適には、メタ
ノール又はエタノールである。使用される酸としては、
通常の反応において酸として使用されるものであれば特
に限定はないが、好適には、塩化水素、臭化水素酸、硫
酸、過塩素酸、燐酸のような無機酸又は酢酸、蟻酸、蓚
酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリ
フルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような
有機酸等のブレンステッド酸或いはボロントリクロリ
ド、ボロントリフルオリド、ボロントリブロミドのよう
なルイス酸又は、酸性イオン交換樹脂を挙げることがで
きる。更に好適には無機酸であり、最も好適には硫酸で
ある。反応温度は、通常、0℃乃至150℃であり、好
適には、50℃乃至120℃である。反応時間は、主に
反応温度、原料化合物、試薬、又は使用される溶媒の種
類によって異なるが、通常、10分間乃至24時間であ
り、好適には、5時間乃至24時間である。
【0234】Step J4は化合物(XXXIII)
から光学活性スルホキシド誘導体(XXXIV)を製造
する工程であり、(a)化合物(XXXIII)を直接
不斉酸化する方法、又は(b)化合物(XXXIII)
を酸化した後、ジアステレオマー法によって光学分割を
行うことにより達成される。
【0235】(a) スルフィドからスルホキシドを得
る不斉酸化については、光学活性な酸化剤や、光学活性
なリガンドと酸化剤との組み合わせによる化学的手法及
びパン酵母や微生物などを用いた生物的手法が知られて
いる。このような不斉酸化は、例えば、下記の文献に記
載されている。 1)G.Solladie, Synthesis 185 (1981): 2)K.K.Andersen, The Chemistry of Sulfones and Su
lfoxides: S.Patai, Z.Rappoport, C.J.M.Stirling., E
ds. Wiley & Sons, Ltd.; Chichester, England, 1988,
Chapter 3, pp55-94: G.H.Posner., ibid. Chapter 1
6, pp823-849: 3)H.B.Kagan et al., Synlett 643 (1990): 4)H.B.Kagan, "Asymmetric Oxidation of Sulfides"
in "Catalytic Asymmetric Synthesis" 1, Ojima Ed. V
CH, pp203-226 (1993): 5)F.A.Davis et al., J.Am.Chem.Soc., 114, 1428 (1
992)) 。
【0236】これらの中で、特に、F.A.Davis
らによって報告されている(3’S,2R)−(−)−
N−(フェニルスルホニル)(3,3−ジクロロカンフ
ォリル)オキサジリジン又は(+)−[(8,8−ジメ
トキシカンフォリル)スルホニル]オキサジリジンを用
いた不斉酸化が好適である。
【0237】F.A.Davisらの方法に準じて不斉
酸化を行う場合、使用される溶媒としては、反応を阻害
せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限
定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタンのような脂
肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのよう
な芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホル
ム、四塩化炭素、シクロロエタン、クロロベンゼン、ジ
クロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;蟻酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのよう
なエステル類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エーテル類;アセトニトリル、イソブチロニトリルのよ
うなニトリル類;ピリジンなどを挙げることができる。
反応温度は−50℃乃至50℃で行われるが、好適には
−20℃乃至室温である。反応時間は、主に反応温度、
原料化合物、反応試薬及び使用される溶媒の種類によっ
て異なるが、通常、10分間乃至3日間で、好適には2
時間乃至1日間である。
【0238】(b) ジアステレオマー法によって光学
分割を行う方法においては、始めに、常法にしたがって
化合物(XXXIII)を酸化し、スルホキシド誘導体
のラセミ体を合成する。次いで保護基を除去した後、適
当な光学活性なカルボン酸を光学分割剤として用い、塩
を形成させ、分別結晶化を行うことによって光学活性ス
ルホキシド誘導体(XXXIV)を得ることができる。
【0239】前段の酸化反応は、通常、溶媒の存在下又
は非存在下で酸化剤を用いて行われる。使用される酸化
剤としては、通常、スルフィドを酸化してスルホキシド
生成する反応に使用されるものであれば特に限定はない
が、好適には、m−クロロ過安息香酸、3,5−ジニト
ロ過安息香酸、o−カルボキシ過安息香酸、過酢酸、過
トリフルオロ酢酸、過フタル酸のような過酸類;及びN
−ブロモコハク酸イミドのようなコハク酸イミド類とア
ルカリの組合せを挙げることができ、更に好適には、過
酸類であり、最も好適には、m−クロロ過安息香酸であ
る。使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物
質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、
好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香
族炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのよう
なハロゲン化炭化水素類;エ−テル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタンのようなエ−テル
類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘ
キサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類;ジメ
チルスルホキシドのようなスルホキシド類;メタノ−
ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ル、イソプロパノ−
ル、n−ブタノ−ル、イソブタノ−ル、イソアミルアル
コ−ルのようなアルコ−ル類;硫酸水のような希釈酸;
水酸化ナトリウム水のような希釈塩基;水;アセトン、
メチルエチルケトンのようなケトン類;ピリジンのよう
な有機塩基;アセトニトリルのようなニトリル類又は上
記の混合溶媒を挙げることができ、更に好適には、ハロ
ゲン化炭化水素類であり、最も好適には、メチレンクロ
リドである。反応温度は、−20℃乃至80℃で行なわ
れ、好適には、−5℃乃至50℃である。反応時間は、
主に、反応温度、原料化合物、酸化剤又は使用される溶
媒の種類によって異なるが、通常、1時間乃至24時間
であり、好適には、2時間乃至12時間である。
【0240】光学分割を行うために使用される光学分割
剤としては、特に限定はないが、好適には、酒石酸、カ
ンファー−10−スルホン酸、マンデル酸を挙げること
ができ、特に好適にはマンデル酸である。使用される溶
媒としては、特に限定はないが、特に好適には、アセト
ニトリルである。
【0241】分割して得られた塩を、水酸化ナトリウム
水溶液などのアルカリ水溶液を用いて、フリー体とし
て、水に溶解しない溶媒(例えば、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロ
リド、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;エ
−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシ
エタンのようなエ−テル類;ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミド
のようなアミド類;ジメチルスルホキシドのようなスル
ホキシド類など)で抽出することにより光学活性スルホ
キシド誘導体(XXIX)を単離することができる。
【0242】Step J5は化合物(XXXIV)の
12基がアミノ基の保護基である場合に、斯かる保護基
を除去して、化合物(VI)を製造する工程である。反
応は前記Step D3の前段の工程に準じて行われ
る。
【0243】上記各反応終了後、目的化合物は常法に従
って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物
を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過によ
り除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機
溶媒を加え、水等で洗浄後、目的化合物を含む有機層を
分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去
することによって得られる。得られた目的化合物は必要
ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、通常、有
機化合物の分離精製に慣用されている方法、例えば、シ
リカゲル、アルミナ、マグネシウムーシリカゲル系のフ
ロリジルのような担体を用いた吸着カラムクロマトグラ
フィー法;セファデックスLH−20(ファルマシア社
製)、アンバーライトXAD−11(ローム・アンド・
ハース社製)、ダイヤイオンHP−20(三菱化成社
製)ような担体を用いた分配カラムクロマトグラフィー
等の合成吸着剤を使用する方法、イオン交換クロマトを
使用する方法、又は、シリカゲル若しくはアルキル化シ
リカゲルによる順相・逆相カラムクロマトグラフィー法
(好適には、高速液体クロマトグラフィーである。)を
適宜組合せ、適切な溶離剤で溶出することによって分
離、精製することができる。
【0244】尚、原料化合物(例えば化合物(XXI
X)など)については、市販品を購入するか又は公知の
製造方法に準じて容易に合成することができる。
【0245】本発明の新規な光学活性スルホキシド誘導
体は、優れたサブスタンスP及びニューロキニンA受容
体に対する拮抗作用を有し、良好な経口吸収性を示し、
且つ、毒性も少ないので、タキキニン介在性疾患の予防
剤又は治療剤、例えば、不安、うつ、精神症及び分裂症
を含む中枢神経系の疾患;睡眠時無呼吸症;AIDSに
おける痴呆、アルツハイマー型の老年性痴呆、アルツハ
イマー病、ダウン症候群、脱髄性疾患、筋萎縮性側索硬
化症、神経障害、抹消神経障害、及び神経痛を含む神経
変性性疾患;慢性閉塞性肺疾患、気管支炎、肺炎、気管
支収縮、喘息、咳を含む呼吸器疾患;炎症性大腸疾患
(IBD)、乾癬、結合組織炎、骨関節炎、変性性関節
炎、及び関節リウマチを含む炎症性疾患;湿疹;及び鼻
炎を含むアレルギー疾患;蔓植物に対する過敏性疾患を
含む過敏性疾患;結膜炎、春季結膜炎、春季カタル、種
々の炎症性眼疾患に伴う血液−眼房水関門の破壊、眼房
内圧上昇、縮瞳を含む眼科疾患;接触性皮膚炎、アトピ
ー性皮膚炎、蕁麻疹、及びその他の湿疹様皮膚炎を含む
皮膚疾患;アルコール依存症を含む耽弱症;ストレスに
よる体性疾患;肩・手症候群を含む反射性交感神経ジス
トロフィー;気分変調;移植片の拒絶を含む望ましくな
い免疫反応及び全身性紅斑性狼瘡を含む免疫増強、或は
免疫抑制に関連した疾患;内臓を調節する神経の異常に
よる疾患、大腸炎、潰瘍性大腸炎、クローン病を含む消
化器疾患;X線照射及び化学療法剤、毒物、毒素、妊
娠、前庭障害、術後病、胃腸閉塞、胃腸運動低下、内蔵
痛、偏頭痛、頭蓋内圧増加、頭蓋内圧減少又は各種薬物
投与に伴う副作用により誘発される嘔吐を含む嘔吐;膀
胱炎、尿失禁を含む膀胱機能疾患;膠原病、強皮症、肝
蛭感染による好酸球増多症;狭心症、偏頭痛、及びレイ
ノー病を含む血管拡張、或は収縮による血流の異常によ
る疾患;偏頭痛、頭痛、歯痛を含む痛み侵害受容の疼痛
の予防剤及び治療剤として有用である。
【0246】本発明の化合物(I)の投与形態として
は、例えば、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくは
シロップ剤等による経口投与又は注射剤若しくは坐剤等
による非経口投与を挙げることができ、これらの製剤
は、賦形剤(例えば、乳糖、白糖、葡萄糖、マンニッ
ト、ソルビットのような糖誘導体;トウモロコシデンプ
ン、バレイショデンプン、α澱粉、デキストリン、カル
ボキシメチルデンプンのような澱粉誘導体;結晶セルロ
ース、低置換度ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロ
キシプロピルメチルセルロース、カルボキシメチルセル
ロース、カルボキシメチルセルロースカルシウム、内部
架橋カルボキシメチルセルロースナトリウムのようなセ
ルロース誘導体;アラビアゴム;デキストラン;プルラ
ンのような有機系賦形剤:及び、軽質無水珪酸、合成珪
酸アルミニウム、メタ珪酸アルミン酸マグネシウムのよ
うな珪酸塩誘導体;燐酸カルシウムのような燐酸塩;炭
酸カルシウムのような炭酸塩;硫酸カルシウムのような
硫酸塩等の無機系賦形剤を挙げることができる。)、滑
沢剤(例えば、ステアリン酸、ステアリン酸カルシウ
ム、ステアリン酸マグネシウムのようなステアリン酸金
属塩;タルク;コロイドシリカ;ビーガム、ゲイ蝋のよ
うなワックス類;硼酸;アジピン酸;硫酸ナトリウムの
ような硫酸塩;グリコール;フマル酸;安息香酸ナトリ
ウム;DLロイシン;脂肪酸ナトリウム塩;ラウリル硫
酸ナトリウム、ラウリル硫酸マグネシウムのようなラウ
リル硫酸塩;無水珪酸、珪酸水和物のような珪酸類;及
び、上記澱粉誘導体を挙げることができる。)、結合剤
(例えば、ポリビニルピロリドン、マクロゴール、及
び、前記賦形剤と同様の化合物を挙げることができ
る。)、崩壊剤(例えば、前記賦形剤と同様の化合物、
及び、クロスカルメロースナトリウム、カルボキシメチ
ルスターチナトリウム、架橋ポリビニルピロリドンのよ
うな化学修飾されたデンプン・セルロース類を挙げるこ
とができる。)、安定剤(メチルパラベン、プロピルパ
ラベンのようなパラオキシ安息香酸エステル類;クロロ
ブタノール、ベンジルアルコール、フェニルエチルアル
コールのようなアルコール類;塩化ベンザルコニウム;
フェノール、クレゾールのようなフェノール類;チメロ
サール;デヒドロ酢酸;及び、ソルビン酸を挙げること
ができる。)、矯味矯臭剤(例えば、通常使用される、
甘味料、酸味料、香料等を挙げることができる。)、希
釈剤等の添加剤を用いて周知の方法で製造される。
【0247】その使用量は症状、年齢、投与方法等によ
り異なるが、例えば、経口投与の場合には、1回当り、
下限として、0.01mg/kg 体重(好ましくは、0.1
mg/kg 体重)、上限として、100mg/kg 体重(好まし
くは、50mg/kg 体重)を、静脈内投与の場合には、1
回当り、下限として、0.01mg/kg 体重(好ましく
は、0.05mg/kg 体重)、上限として、100mg/kg
体重(好ましくは、50mg/kg 体重)を1日当り1乃至
数回症状に応じて投与することが望ましい。
【0248】以下に、実施例を挙げて、本発明を更に具
体的に説明する。
【0249】
【実施例1】(後記例示化合物10)1−{2−[(5R)−(3,4−ジクロロフェニル)
−3−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)オキサ
ゾリジン−5−イル]エチル}スピロ[ベンゾ[c]チ
オフェン−1(3H),4’−ピペリジン]−(2S)
−オキシド
【0250】
【実施例1(a)】3−(3,4−ジクロロフェニル)−3−ブテン酸 メ
チルエステル 金属マグネシウム片11.31g(0.47モル)を、
エーテル300mlに加え、少量のヨウ素を加え、1時
間放置した後、1−ブロモ−3,4−ジクロロベンゼン
102.87g(0.46モル)のエーテル(150m
l)溶液をゆっくりと滴下した。エーテル150mlを
加えた後、無水塩化亜鉛60.33g(44.3ミリモ
ル)をゆっくりと加え、1時間撹拌した。更に、ビス
(トリフェニルホスフィン)パラジウム クロリド3.
10g(4.42ミリモル)を加えた後、ジケテン3
4.15ml(42.8ミリモル)のエーテル(600
ml)溶液を滴下し、反応混合物を室温にて30分撹拌
した。
【0251】反応混合物を氷冷した1規定塩酸1リット
ル中に注ぎ、エーテル(500ml×3回)で抽出し、
集めた有機層を1規定水酸化ナトリウム水溶液(700
ml×3回)で抽出した。水層を氷冷下、濃塩酸にて酸
性とした後、エーテル抽出(500ml×3回)を行
い、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
減圧留去し、残渣をメタノール(350ml)中に溶解
し、濃硫酸(10ml)を加えた後、30分間加熱還流
した。放冷後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し
た後、メタノールを減圧留去し、残渣を塩化メチレン
(200ml×3回)にて抽出した。有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧濃縮した。残渣を減
圧蒸留を行い、目的化合物を淡黄色油状物として、6
9.13g(62%)得た。
【0252】沸点:144〜146℃ (5mmHg) 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl3 )δ
ppm:7.51 (1H, d, J=2.2Hz), 7.40 (1H, d, J=8.2H
z),7.25 (1H, dd, J=8.2, 2.2Hz), 5.55 (1H, s), 5.30
(1H, s),3.67 (3H, s), 3.49 (2H, s)。
【0253】
【実施例1(b)】3−(3,4−ジクロロフェニル)−3−ブテン−1−
オール tert−ブチルジメチルシリルエーテル 水素化アルミニウムリチウム11.76g(0.28モ
ル)を無水テトラヒドロフラン500mlに懸濁させ、
次いで、実施例1(a)で合成した3−(3,4−ジク
ロロフェニル)−3−ブテン酸 メチルエステル69.
06g(0.28モル)の無水テトラヒドロフラン(5
00ml)溶液を、窒素雰囲気下、0℃にて、15分間
かけてゆっくりと滴下した。反応混合物を、同温にて、
30分間撹拌した後、水(500ml)及び10%水酸
化ナトリウム水溶液(500ml)をゆっくりと加え、
更に、室温にて、1時間撹拌した。
【0254】反応混合物をセライト濾過した後、濾液を
酢酸エチル(500ml×3回)で抽出を行い、有機層
を無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、溶媒を減圧濃縮
し、残渣を減圧乾燥した。これを無水ジメチルホルムア
ミド250ml中に溶解した後、氷冷下トリエチルアミ
ン47.12ml(0.34モル)、4−ジメチルアミ
ノピリジン6.88g(0.06モル)及びtert−
ブチルジメチルシリルクロリド50.96g(0.34
モル)を順次加え、更に、氷冷下、2時間撹拌した。
【0255】反応混合物に、酢酸エチル1リットルを加
え、次いで、氷冷した10%塩酸、飽和食塩水で順次洗
浄した後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を
減圧留去し、残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマ
トグラフィー(溶出溶媒:n−ヘキサン:酢酸エチル=
50:1〜20:1)にて精製を行い、目的化合物を無
色油状物として、43.52g(47%)得た。
【0256】核磁気共鳴スペクトル(400MHz,C
DCl3 )δppm:7.50 (1H, d, J=2.1Hz), 7.38 (1
H, d, J=8.1Hz),7.24 (1H, dd, J=8.1, 2.1Hz), 5.35
(1H, s), 5.16 (1H, s),3.70 (2H, t, J=6.9Hz), 2.67
(2H, t, J=6.9Hz), 0.86 (9H, s),0.00 (6H, s)。
【0257】
【実施例1(c)】4−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−(2R)
−(3,4−ジクロロフェニル)ブタン−1,2−ジオ
ール (DHQD)2 −PHAL(ハイドロキニジン 1,4
−フタラジンジイルジエーテル)790mg(1.01
ミリモル)、K3 Fe(CN)6 (フェリシアン化カリ
ウム)100.19g(0.30モル)、炭酸カリウム
42.06g(0.30モル)及び四酸化オスミウム
(0.393Mトルエン溶液)0.516ml(0.2
0ミリモル)を、2−メチル−2−プロパノール500
ml及び水500ml中に溶解し、0℃に冷却下、実施
例1(b)で合成したオレフィン体33.61g(0.
10モル)を加え、更に、0℃にて、5時間撹拌した。
【0258】亜硫酸ナトリウム150gを加えて、室温
で、1時間撹拌した後、反応混合物を酢酸エチル(80
0ml×3回)で抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルフ
ラッシュカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:n−ヘ
キサン:酢酸エチル=5:1〜1:1)にて精製を行
い、目的化合物を無色油状物として、32.3g(87
%)得た。
【0259】光学純度:97%ee [α]D 24 +11.39(c=1.01、メタノール) 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm:7.57 (1H, d, J=2.1Hz), 7.43 (1H, d, J=8.1H
z),7.24 (1H, dd, J=8.1, 2.1Hz), 5.00 (1H, s),3.80
(1H, ddd, J=10.4, 3.8, 3.8Hz), 3.5-3.7 (3H, m),2.5
1 (1H, dd, J=8.0, 5.2Hz), 2.37 (1H, ddd, J=15.0, 1
1.1, 4.0Hz),1.86 (1H, ddd, J=15.0, 2.9, 2.9Hz), 0.
89 (9H, s),0.04 (3H, s), -0.01 (3H, s) 。
【0260】
【実施例1(d)】1−アジド−4−tert−ブチルジメチルシリルオキ
シ−(2R)−(3,4−ジクロロフェニル)−2−ブ
タノール 実施例1(c)で合成したジオール体32.07g(8
7.8ミリモル)及び4−ジメチルアミノピリジン1.
07g(8.76ミリモル)を、ピリジン320ml中
に溶解し、氷冷下、メタンスルホニルクロリド10.1
9ml(0.132モル)をゆっくりと滴下し、窒素雰
囲気下、同温にて、2時間撹拌した。
【0261】反応混合物を、氷冷した10%塩酸(15
00ml)中に注ぎ、次いで、酢酸エチル(200ml
×3回)で抽出を行い、有機層を飽和食塩水で洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧濃
縮し、残渣を減圧乾燥した。
【0262】これを、無水ジメチルホルムアミド300
ml中に溶解し、アジ化ナトリウム11.41g(0.
18モル)を加え、窒素雰囲気下、120℃にて、4時
間加熱した。反応混合液を室温とした後、飽和食塩水1
リットル中に注ぎ、酢酸エチル(500ml×3回)に
て抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥
後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルフラッシュカ
ラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:n−ヘキサン:酢
酸エチル=10:1〜5:1)にて精製を行い、目的化
合物を無色油状物として、29.3g(85%)得た。
【0263】[α]D 24 −48.56(c=1.04、
メタノール) 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm:7.59 (1H, d, J=2.2Hz), 7.44 (1H, d, J=8.3H
z),7.24 (1H, dd, J=8.3, 2.2Hz), 5.12 (1H, s),3.81
(1H, ddd, J=10.6, 4.1, 3.0Hz),3.51 (1H, ddd, J=10.
6, 10.6, 2.8Hz), 3.40 (1H, d, J=12.5Hz),3.31 (1H,
d, J=12.5Hz), 2.35 (1H, ddd, J=15.8, 10.6, 4.1Hz),
1.91 (1H, ddd, J=15.8, 3.0, 2.8Hz), 0.88 (9H, s),
0.02 (3H, s), -0.04 (3H, s) 。
【0264】
【実施例1(e)】1−アミノ−4−tert−ブチルジメチルシリルオキ
シ−(2R)−(3,4−ジクロロフェニル)−2−ブ
タノール 実施例1(d)で合成したアジド体10.00g(2
5.6ミリモル)を、テトラヒドロフラン100ml及
び水0.6mlに溶解し、トリフェニルフォスフィン
7.39g(28.2ミリモル)を加え、窒素雰囲気
下、80℃にて4時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、残
渣にn−ヘキサンを加え、析出する結晶を濾別した後、
濾液を減圧濃縮後、残渣をシリカゲルフラッシュカラム
クロマトグラフィー(溶出溶媒:塩化メチレン:メタノ
ール=30:1〜10:1)にて精製を行い、目的化合
物を無色油状物として、3.83g(41%)得た。
【0265】[α]D 24 +3.94(c=0.71、メ
タノール) 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm:7.56 (1H, d, J=2.2Hz), 7.42 (1H, d, J=8.6H
z),7.22 (1H, dd, J=8.6, 2.2Hz), 4.91 (1H, br. s),
3.73 (1H, ddd, J=10.3, 4.6, 3.7Hz),3.53 (1H, ddd,
J=10.3, 10.2, 3.7Hz), 2.91 (1H, d, J=13.1Hz),2.86
(1H, d, J=13.1Hz), 2.16(1H, ddd, J=14.6, 10.2, 4.6
Hz),1.88 (1H, ddd, J=14.6, 3.7, 3.7Hz), 1.44 (2H,
br. s),0.87 (9H, s), 0.01 (3H, s), -0.04 (3H, s)
【0266】
【実施例1(f)】2−[(5R)−(3,4−ジクロロフェニル)−3−
(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)オキサゾリジ
ン−5−イル]エタノール tert−ブチルジメチル
シリルエーテル 実施例1(e)で合成したアミノアルコール体1.35
g(3.71ミリモル)を、ベンゼン50ml中に溶解
し、パラホルムアルデヒド167mg(5.57ミリモ
ル)及びp−トルエンスルホニル クロリド13mgを
加え、ディーン・スタークの装置を用い、窒素雰囲気
下、100℃にて、3時間加熱還流した。溶媒を減圧留
去後、残渣に酢酸エチル100mlを加え、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。
【0267】溶媒を減圧留去後、得られた2−[(5
R)−(3,4−ジクロロフェニル)オキサゾリジン−
5−イル)エタノール tert−ブチルジメチルエー
テル残渣を塩化メチレン50ml中に溶解し、トリエチ
ルアミン0.62ml(4.45ミリモル)及び4−ジ
メチルアミノピリジン45mg(0.37ミリモル)を
加えた後、氷冷下、3,4,5−トリメトキシベンゾイ
ル クロリド1.03g(4.47ミリモル)を加え、
0℃にて、1時間撹拌した。
【0268】反応混合液に、塩化メチレン100mlを
加えた後、10%塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水にて順次洗浄後、無水硫酸マグネシウム
にて乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルフ
ラッシュカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:酢酸エ
チル:n−ヘキサン=1:5〜2:1)にて精製し、目
的化合物を白色アモルファスとして、1.27g(60
%)得た。
【0269】[α]D 24 +61.73(c=1.39、
メタノール)。
【0270】
【実施例1(g)】2−[(5R)−(3,4−ジクロロフェニル)−3−
(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)オキサゾリジ
ン−5−イル]エタノール メタンスルフォネート 実施例1(f)で合成したtert−ブチルジメチルシ
リルエーテル体3.95g(6.92ミリモル)を、酢
酸:テトラヒドロフラン:水=3:3:1の混合液70
ml中に溶解し、窒素雰囲気下、80℃にて、8時間加
熱した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和した後、
酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムに
て乾燥した。溶媒を減圧留去後、残渣をピリジン30m
l中に溶解し、4−ジメチルアミノピリジン70mg
(0.57ミリモル)及びメタンスルホニル クロリド
0.66ml(8.53ミリモル)を、氷冷下加え、窒
素雰囲気下、0℃にて2時間撹拌した。反応混合液を、
氷冷した10%塩酸200ml中に注ぎ、次いで、酢酸
エチル(100ml×3回)で抽出した。集めた有機層
を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルフラッシュカ
ラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:n−ヘキサン:酢
酸エチル=5:1〜1:1)にて精製を行い、目的化合
物を白色アモルファスとして、3.02g(82%)得
た。
【0271】[α]D 24 +53.1(c=1.0、メタ
ノール)。
【0272】
【実施例1(h)】1−{2−[(5R)−(3,4−ジクロロフェニル)
−3−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)オキサ
ゾリジン−5−イル]エチル}スピロ[ベンゾ[c]チ
オフェン−1(3H),4’−ピペリジン]−(2S)
−オキシド 実施例1(g)で得られたメシル体600mg(1.1
2ミリモル)、及び参考例1で得られたスピロ[ベンゾ
[c]チオフェン−1(3H),4’−ピペリジン]−
(2S)−オキシド 塩酸塩318mg(1.23ミリ
モル)、炭酸水素ナトリウム283mg(3.37ミリ
モル)、ヨウ化カリウム280mg(1.69ミリモ
ル)を無水ジメチルホルムアミド10ml中に懸濁さ
せ、窒素雰囲気下、80℃にて8時間加熱した。反応液
を飽和食塩水100ml中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減
圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(溶出溶媒:塩化メチレン:メタノール=40:1〜
20:1)により精製し、ジイソプロピルエーテルで結
晶化を行い、目的化合物を白色結晶として、496mg
得た。
【0273】[α]D 24 +41.0(c=1、メタノー
ル) 高速液体クロマトグラフィー(HPLC)分析: カラム;YMC−Pack ODS−A (250×
4.6mmφ) 溶出溶媒;CH3 CN:H2 O=40:60、0.1%
酢酸アンモニウム 流速:1.0ml/分 保持時間:28.6分 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm:7.1-7.6 (7H, m), 6.70 (2H, s), 4.9-5.3 (計
2H, br),4.32 (1H, d, J=16.7Hz), 4.00 (1H, d, J=16.
7Hz),3.7-4.2 (2H, m), 3.87 及び 3.89 ( 計9H, 各
s), 1.5−3.1 (12H, m) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr):2
940、1642、1584、1416、1237、1
128 マススペクトル (FAB)m/z:659((M+
H)+ ) 元素分析値(C333626 SCl2 ・0.5H2
として%) 計算値: C:59.28, H:5.58, N:4.19, S:4.79, Cl:10.60 実測値: C:59.36, H:5.58, N:4.12, S:4.73, Cl:10.6
0。
【0274】
【実施例2】(後記例示化合物42)1−{2−[(2R)−(3,4−ジクロロフェニル)
−4−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)モルホ
リン−2−イル]エチル}スピロ[ベンゾ[c]チオフ
ェン−1(3H),4’−ピペリジン]−(2S)−オ
キシド
【0275】
【実施例2(a)】4−(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)−(2
R)−(3,4−ジクロロフェニル)−1−[N−(t
ert−ブトキシカルボニル)−N−(2−ヒドロキシ
エチル)アミノ]−2−ブタノール 実施例1(c)で得られた4−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−(2R)−(3,4−ジクロロフェニ
ル)ブタン−1,2−ジオール39.9g(109ミリ
モル)をピリジン80ml中に溶解し、p−トルエンス
ルホニルクロリド31.3g(164ミリモル)を加
え、窒素雰囲気下、室温で2日間撹拌した。反応溶液を
水で希釈して、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水及
び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。溶媒を減圧留去し、残渣をアセトニトリル600m
lに溶解し、過塩素酸リチウム35.0g(329ミリ
モル)及び2−アミノエタノール33.4g(547ミ
リモル)を加え、16時間加熱還流した。反応溶液を室
温迄冷却し、酢酸エチルで希釈した後、飽和食塩水で洗
浄後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を
減圧留去後、残渣を塩化メチレン700ml中に溶解
し、トリエチルアミン22.8ml(164ミリモル)
及びジ−tert−ブチルジカーボネート26.3g
(120ミリモル)を加え、室温で12時間撹拌した。
反応溶液を水にあけ、塩化メチレンで抽出した。有機層
を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(溶出溶媒:n−ヘキサン:酢酸エチル
=4:1〜7:3)により精製して、目的化合物49.
9gを得た。
【0276】[α]D 24 +3.92 (c=0.72、メタノ
ール) 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm:7.30-7.75 (3H, m), 5.30 及び 5.57 ( 計1H,
各br, s),3.05-4.00 (9H, m), 2.00-2.40 (2H, m), 1.5
3 (9H, s),0.94 (9H, s), 0.09 (3H, s), 0.07 (3H, s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr):342
0、2957、2933、2885、2861、168
7 マススペクトル(FAB)m/z:508((M+H)
+ )。
【0277】
【実施例2(b)】2−[4−tert−ブトキシカルボニル−(2R)−
(3,4−ジクロロフェニル)モルホリン−2−イル]
エタノール tert−ブチルジメチルシリルエーテル 実施例2(a)で得られた4−(tert−ブチルジメ
チルシリルオキシ)−(2R)−(3,4−ジクロロフ
ェニル)−1−[N−(tert−ブトキシカルボニ
ル)−N−(2−ヒドロキシエチル)アミノ]−2−ブ
タノール49.9g(98.1ミリモル)及びトリフェ
ニルホスフィン30.9g(118ミリモル)を乾燥し
たトルエン600ml中に溶解し、窒素雰囲気下、室温
にてアゾジカルボン酸ジエチルの40%トルエン溶液5
1.3g(118ミリモル)を滴下し、2時間撹拌し
た。溶媒を減圧留去して、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトフラフィー(溶出溶媒:n−ヘキサン:酢酸エチル
=47:3〜23:2)により精製し、目的化合物4
3.2gを得た。
【0278】[α]D 24 +32.67(c=0.60、
メタノール) 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm:7.56 (1H, br. s), 7.43 (1H, d, J=9Hz), 7.2
8 (1H, dd, J=2,9Hz),3.00-4.55 (8H, m), 1.80-2.10
(2H, m), 1.35-1.60 (9H, br. s),0.85 (9H, s), -0.01
(6H, s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(CHCl3 ):2
957、2931、2859、1687 マススペクトル(FAB)m/z:490((M+H)
+ )。
【0279】
【実施例2(c)】(2R)−(3,4−ジクロロフェニル)−2−(2−
ヒドロキシエチル)モルホリン 塩酸塩 実施例2(b)で得られた2−[4−tert−ブトキ
シカルボニル−(2R)−(3,4−ジクロロフェニ
ル)モルホリン−2−イル]エタノール tert−ブ
チルジメチルシリルエーテル43.1g(87.9ミリ
モル)を4規定塩酸ジオキサン溶液(600ml)に溶
解して、60℃で4時間撹拌した。溶媒を減圧留去後、
ジエチルエーテルを加え、再び減圧留去した。残渣をエ
タノール/酢酸エチルより再結晶を行い、目的化合物2
4.1gを得た。
【0280】[α]D 24 +48.07(c=0.57、
メタノール) 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、DMSO−d
6 )δppm:8.60-9.80 (2H, br), 7.72 (1H, s), 7.
70 (1H, d, J=9Hz),7.44 (1H, dd, J=2,9Hz), 4.53 (1
H, br, s), 3.89 (1H, dt, J=4, 13Hz),3.75 (1H, d, J
=14Hz), 3.68 (1H, m), 3.30-3.45 (2H, m),2.93-3.13
(3H, m), 2.09 (1H, m), 1.90 (1H, m) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr):337
8、2966、2893、2812、2783、272
4、2656、2530、1598 マススペクトル(FAB)m/z:276((M+H)
+ (フリー体))。
【0281】
【実施例2(d)】2−[(2R)−(3,4−ジクロロフェニル)−4−
(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)モルホリン−
2−イル]エタノール 実施例2(c)で得られた(2R)−(3,4−ジクロ
ロフェニル)−2−(2−ヒドロキシエチル)モルホリ
ン 塩酸塩22.9g(82.9ミリモル)を塩化メチ
レン500ml中に懸濁させ、トリエチルアミン27.
6ml(199ミリモル)、3,4,5−トリメトキシ
ベンゾイルクロリド21.0g(91.0ミリモル)及
び4−ジメチルアミノピリジン100mgを加え、室温
で12時間撹拌した。反応液を水中に注ぎ、塩化メチレ
ンで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:塩化メチレ
ン:アセトン=4:1〜7:3)により精製して、目的
化合物30.0gを得た。
【0282】[α]D 24 +30.65(c=0.56、
メタノール) 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm:6.80-7.80 (3H, m), 6.47 (2H, s), 3.40-4.80
(8H, m),3.84 及び 3.86 (計9H, 各s), 1.75-2.25
(2H, m) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr):342
9、2940、2838、1630、1585 マススペクトル(EI)m/z:469(M+ )。
【0283】
【実施例2(e)】2−[(2R)−(3,4−ジクロロフェニル)−4−
(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)モルホリン−
2−イル]エタノール メタンスルフォネート 実施例2(d)で得られた2−[(2R)−(3,4−
ジクロロフェニル)−4−(3,4,5−トリメトキシ
ベンゾイル)モルホリン−2−イル]エタノール30.
0g(63.8ミリモル)を塩化メチレン(500m
l)中に溶解し、氷冷下、トリエチルアミン11.5m
l(83.0ミリモル)及びメタンスルホニルクロリド
5.93ml(76.6ミリモル)を順次加え、窒素雰
囲気下、室温で2時間撹拌した。反応液を塩化メチレン
で希釈し、1規定塩酸、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:n−ヘキ
サン:酢酸エチル=1:4〜1:9)により精製を行
い、目的化合物を34.8g得た。
【0284】[α]D 24 +26.36(c=0.66、
メタノール) 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm:6.90-7.80 (3H, m), 6.52 (2H, s), 3.40-4.35
(8H, m),3.86 及び 3.87 (計9H, 各s), 2.93 (3H,
s), 2.10-2.55 (2H, m) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr):299
9、2966、2939、2875、1634、158
5 マススペクトル(FAB)m/z:548((M+H)
+ )。
【0285】
【実施例2(f)】[(2R)−(3,4−ジクロロフェニル)−4−
(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)モルホリン−
2−イル]エタナール オキサリルクロリド0.88ml(10.1ミリモル)
を塩化メチレン10mlに溶解して、窒素雰囲気下、−
78℃でジメチルスルホキシド0.79ml(11.1
ミリモル)の塩化メチレン(5ml)溶液を滴下して、
30分間撹拌した。実施例2(d)で得られた2−
[(2R)−(3,4−ジクロロフェニル)−4−
(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)モルホリン−
2−イル]エタノール950mg(2.02ミリモル)
の塩化メチレン(10ml)溶液を滴下して4時間撹拌
した。さらにトリエチルアミン2.24ml(16.2
ミリモル)を加えて、室温で2時間撹拌した。反応液を
水中に注ぎ、塩化メチレンで抽出した。有機層を水及び
飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(溶出溶媒:塩化メチレン:アセトン=23:
2〜21:4)により精製して、目的化合物を878m
g得た。
【0286】[α]D 24 +36.15(c=0.65、
メタノール) 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm:9.56 (1H, s), 6.90-7.80 (3H, m), 6.50 (2H,
s), 3.40-4.60 (6H, m),3.85-3.87 (計9H, 各s), 2.7
0-3.05 (2H, m) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr):296
2、2930、2838、1723、1636、158
5 マススペクトル(FAB)m/z:468((M+H)
+ )。
【0287】
【実施例2(g)】1−{2−[(2R)−(3,4−ジクロロフェニル)
−4−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)モルホ
リン−2−イル]エチル}スピロ[ベンゾ[c]チオフ
ェン−1(3H),4’−ピペリジン]−(2S)−オ
キシド 実施例2(e)で得られたメシル体15.00g(2
7.4ミリモル)、及び参考例1で得られたスピロ[ベ
ンゾ[c]チオフェン−1(3H),4’−ピペリジ
ン]−(2S)−オキシド 塩酸塩7.76g(30.
1ミリモル)、炭酸水素ナトリウム6.89g(82.
0ミリモル)、ヨウ化カリウム6.81g(41.0ミ
リモル)を無水ジメチルホルムアミド150ml中に懸
濁させ、窒素雰囲気下、80℃にて8時間加熱した。反
応液を飽和食塩水400ml中に注ぎ、酢酸エチルで抽
出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒
を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(溶出溶媒:塩化メチレン:メタノール=40:
1〜20:1)により精製し、n−ヘキサンで結晶化を
行い、目的化合物を白色結晶として、15.5g得た。
【0288】[α]D 24 +14.0(c=1、メタノー
ル) HPLC分析: カラム;YMC−Pack ODS−A (250×
4.6mmφ) 溶出溶媒;CH3 CN:H2 O=40:60、0.1%
酢酸アンモニウム 流速:1.0ml/分 保持時間:23.7分 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm:7.1-7.8 (7H, m), 6.49 (2H, br, s), 4.31 (1
H, d, J=16.8Hz),3.99 (1H, d, J=16.8Hz), 3.86 及び
3.84 ( 計9H, 各s),3.3-4.0 (6H, m), 1.5-3.1 (12H,
m) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr):293
9、1636、1584、1464、1426、132
9、1237、1128 マススペクトル(FAB)m/z:673((M+H)
+ ) 元素分析値(C343826 SCl2 ・0.5H2
として%) 計算値: C:59.82, H:5.76, N:4.10, S:4.70, Cl:10.39 実測値: C:60.20, H:6.14, N:4.04, S:4.54, Cl:10.3
8。
【0289】
【実施例2(h)】1−{2−[(2R)−(3,4−ジクロロフェニル)
−4−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)モルホ
リン−2−イル]エチル}スピロ[ベンゾ[c]チオフ
ェン−1(3H),4’−ピペリジン]−(2S)−オ
キシド 実施例2(f)で得られた[(2R)−(3,4−ジク
ロロフェニル)−4−(3,4,5−トリメトキシベン
ゾイル)モルホリン−2−イル]エタナール150mg
(0.32ミリモル)、及び参考例1で得られたスピロ
[ベンゾ[c]チオフェン−1(3H),4’−ピペリ
ジン]−(2S)−オキシド 塩酸塩99mg(0.3
8ミリモル)をメタノール1ml中に溶解して、モレキ
ュラーシーブス3Å(粉末)100mg及びシアノ水素
化ホウ素ナトリウム209mg(3.33ミリモル)を
加え、窒素雰囲気下、8時間加熱還流させた。反応液を
セライト濾過した後、濾液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽
出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:塩化メチレン:
メタノール=97:3〜19:1)により精製して、目
的化合物184mgを得た。各種機器データは実施例2
(g)で合成したものと一致した。
【0290】
【実施例3】(後記例示化合物811)1−{2−[(2R)−(3,4−ジクロロフェニル)
−4−[(3−イソプロピルオキシフェニル)アセチ
ル]モルホリン−2−イル]エチル}スピロ[ベンゾ
[c]チオフェン−1(3H),4’−ピペリジン]−
(2S)−オキシド
【0291】
【実施例3(a)】2−{(2R)−(3,4−ジクロロフェニル)−4−
[(3−イソプロピルオキシフェニル)アセチル]モル
ホリン−2−イル}エタノール 3−イソプロピルオキシフェニル酢酸1.03g(5.
28ミリモル)を塩化メチレン(50ml)中に溶解
し、氷冷下、WSC・HCl(Water Solub
le Carbodiimide・HCl)1.10g
(5.76ミリモル)、1−ヒドロキシベンゾトリアゾ
ール・一水和物780mg(5.76ミリモル)、トリ
エチルアミン1.61ml(11.5ミリモル)及び実
施例2(c)で合成した(2R)−(3,4−ジクロロ
フェニル)−2−(2−ヒドロキシエチル)モルホリン
塩酸塩1.50g(4.80ミリモル)を順次加え、
さらに室温で15時間、窒素雰囲気下撹拌した。反応混
合物に飽和塩化アンモニウム水を加え、酢酸エチルで抽
出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩
水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。
溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(溶出溶媒:n−ヘキサン:酢酸エチル=3:
1〜2:1)により精製して、目的化合物1.81gを
得た。
【0292】[α]D 24 −8.2(c=0.60、メタ
ノール) 核磁気共鳴スペクトル(270MHz、CDCl3 )δ
ppm:6.45-7.57 (7H, m), 4.74 (1H, d, J=13.9Hz),
4.37-4.52 (1H, m),3.22-3.90 (9H, m), 2.10-2.21 (1
H, br, s), 1.87-2.09 (2H, m),1.30 (3H, s), 1.28 (3
H, s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr):369
3、3622、3589、2981、2934、164
5、1608、1583 マススペクトル(FAB)m/z:452((M+H)
+ )。
【0293】
【実施例3(b)】2−{(2R)−(3,4−ジクロロフェニル)−4−
[(3−イソプロピルオキシフェニル)アセチル]モル
ホリン−2−イル}エタノール メタンスルフォネート 実施例3(a)で合成したアルコール体1.81g
(4.00ミリモル)をピリジン5ml中に溶解し、4
−ジメチルアミノピリジン45mg(0.40ミリモ
ル)及びメタンスルホニルクロリド0.46ml(6.
00ミリモル)を氷冷下加え、窒素雰囲気下、0℃にて
2時間撹拌した。反応混合液を氷冷した10%塩酸中に
注ぎ、次いで酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(溶出溶媒:n−ヘキサン:酢酸エチル=1:1〜
1:2)にて精製を行い、目的化合物を無色油状物とし
て、2.00g得た。
【0294】[α]D 24 −6.3(c=0.70、メタ
ノール) 核磁気共鳴スペクトル(270MHz、CDCl3 )δ
ppm:6.51-7.59 (7H, m), 4.40-4.63 (2H, m), 3.17
-4.26 (9H, m), 2.93 (3H, s),2.08-2.32 (2H, m), 1.3
1 (3H, s), 1.29 (3H, s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr):298
1、2934、1645、1608、1583 マススペクトル(FAB)m/z:530((M+H)
+ )。
【0295】
【実施例3(c)】1−{2−[(2R)−(3,4−ジクロロフェニル)
−4−[(3−イソプロピルオキシフェニル)アセチ
ル]モルホリン−2−イル]エチル}スピロ[ベンゾ
[c]チオフェン−1(3H),4’−ピペリジン]−
(2S)−オキシド 実施例3(b)で合成したメシル体630mg(1.1
9ミリモル)、及び参考例1で得られたスピロ[ベンゾ
[c]チオフェン−1(3H),4’ピペリジン]−
(2S)−オキシド 塩酸塩367mg(1.43ミリ
モル)、炭酸水素ナトリウム299mg(3.56ミリ
モル)、ヨウ化カリウム296mg(1.78ミリモ
ル)を無水ジメチルホルムアミド6ml中に懸濁させ、
窒素雰囲気下、80℃にて6時間加熱した。反応液を飽
和食塩水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:塩
化メチレン:メタノール=25:1)により精製し、n
−ヘキサンで結晶化を行い、目的化合物を白色結晶とし
て、400mg得た。
【0296】融点 85〜88℃ [α]D 24 +2.5(c=0.51、メタノール) HPLC分析: カラム:YMC−Pack ODS−A (250×
4.6mmφ) 溶出溶媒:CH3 CN:H2 O=60:40、0.1%
酢酸アンモニウム 流速:1.0ml/分 保持時間:23.7分 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm:6.55-7.61 (11H, m), 4.71 (1H, d, J=13.8H
z), 4.40-4.51 (1H, m),4.31 (1H, d, J=16.8Hz), 3.99
(1H, d, J=16.8Hz),3.25-3.85 (8H, m), 2.56-2.97 (2
H, m), 2.01-2.45 (6H, m),1.88-2.45 (2H, m), 1.48-
1.59 (1H, m), 1.30 (3H, s), 1.29 (3H, s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr):297
5、2923、1645、1607、1582、104
7 マススペクトル(FAB)m/z:655((M+H)
+ ) 元素分析値(C354024 SCl2 ・0.5H2
として%) 計算値: C:63.25, H:6.22, N:4.21, S:4.82, Cl:10.67 実測値: C:62.96, H:6.38, N:4.08, S:4.71, Cl:10.4
1。
【0297】
【実施例4】(後記例示化合物74)1−{2−[(2R)−(3,4−ジクロロフェニル)
−4−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)ヘキサ
ヒドロ−1,4−オキサゼピン−2−イル]エチル}ス
ピロ[ベンゾ[c]チオフェン−1(3H),4’−ピ
ペリジン]−(2S)−オキシド
【0298】
【実施例4(a)】4−(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)−(2
R)−(3,4−ジクロロフェニル)−1−[N−(t
ert−ブトキシカルボニル)−N−(3−ヒドロキシ
プロピル)アミノ]−2−ブタノール 実施例1(c)で得られた4−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−(2R)−(3,4−ジクロロフェニ
ル)ブタン−1,2−ジオール5.00g(13.7ミ
リモル)を出発原料として用い、3−アミノ−1−プロ
パノール5.15g(68.6ミリモル)を用いて、実
施例2(a)と同様の方法により、目的化合物を6.0
0g得た。
【0299】[α]D 24 −1.31(c=1.22、メ
タノール) 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm:7.20-7.70 (3H, m), 5.04 及び 5.32 (計1H,
各s), 3.15-3.85 (9H, m),1.95-2.30 (2H, m), 1.65-1.
85 (2H, m), 1.45 (9H, s), 0.86 (9H, s),-0.08 及び
-0.01 (計6H, 各s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(CHCl3 ):3
432、2957、2885、2861、1675 マススペクトル(FAB)m/z:522((M+H)
+ )。
【0300】
【実施例4(b)】2−[4−tert−ブトキシカルボニル−(2R)−
(3,4−ジクロロフェニル)ヘキサヒドロ−1,4−
オキサゼピン−2−イル]エタノール tert−ブチ
ルジメチルシリルエーテル 実施例4(a)で得られた4−(tert−ブチルジメ
チルシリルオキシ)−(2R)−(3,4−ジクロロフ
ェニル)−1−[N−(tert−ブトキシカルボニ
ル)−N−(3−ヒドロキシプロピル)アミノ]−2−
ブタノール300mg(0.57ミリモル)をピリジン
(2ml)中に溶解し、次いでp−トルエンスルホニル
クロリド196mg(1.03ミリモル)を加え、窒素
雰囲気下、室温で16時間撹拌した。反応液を水に注
ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水
で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧
留去し、残渣を2−メチル−2−プロパノール(3m
l)に溶解して、tert−ブトキシカリウム67mg
(0.58ミリモル)を加え、窒素雰囲気下、80℃で
8時間加熱した。反応液を室温に戻した後、水に注ぎ、
酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出
溶媒:n−ヘキサン:酢酸エチル=47:3〜23:
2)により精製して目的化合物を56mg得た。
【0301】[α]D 24 +14.19(c=0.74、
メタノール) 核磁気共鳴スペクトル(270MHz、CDCl3 )δ
ppm:7.17-7.65 (3H, m), 3.10-4.10 (8H, m), 1.75
-2.30 (4H, m),1.37 及び 1.44 (計9H, 各s), 0.82
(9H, s),-0.07 及び -0.05(計6H, 各s) マススペクトル(FAB)m/z:504((M+H)
+ )。
【0302】
【実施例4(c)】2−[(2R)−(3,4−ジクロロフェニル)−4−
(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)ヘキサヒドロ
−1,4−オキサゼピン−2−イル]エタノールメタン
スルホネート 実施例4(b)で得られた2−[4−tert−ブトキ
シカルボニル−(2R)−(3,4−ジクロロフェニ
ル)ヘキサヒドロ−1,4−オキサゼピン−2−イル]
エタノール tert−ブチルジメチルシリルエーテル
を用いて、実施例2(c),2(d),2(e)の方法
に準じて、目的化合物を収率65%で得た。
【0303】[α]D 24 +19.41(c=0.45、
メタノール) 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl3 )δ
ppm:7.20-7.65 (3H, m), 6.62 (2H, s), 0.75-4.90
(12H, m),3.87 及び 3.89 (計9H, 各s), 2.86(3H,s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr):293
5、1637、1585 マススペクトル(FAB):562((M+H)+ )。
【0304】
【実施例4(d)】1−{2−[(2R)−3,4−ジクロロフェニル)−
4−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)ヘキサヒ
ドロ−1,4−オキサゼピン−2−イル]エチル}スピ
ロ[ベンゾ[c]チオフェン−1(3H),4’−ピペ
リジン]−(2S)−オキシド 実施例4(c)で得られた2−[(2R)−(3,4−
ジクロロフェニル)−4−(3,4,5−トリメトキシ
ベンゾイル)ヘキサヒドロ−1,4−オキサゼピン−2
−イル]エタノール メタンスルホネートを用いて、実
施例2(g)の方法に準じて、目的化合物を収率59%
で得た。
【0305】[α]D 24 +19.33(c=0.1、メ
タノール) HPLC分析: カラム;YMC−Pack ODS−A(250×4.
6mm φ) 溶出溶媒;CH3 CN:H2 O=40:60、0.1%
酢酸アンモニウム 流速:1.0ml/分 保持時間;17.7分 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl3 )δ
ppm:7.15-7.75 (7H, m), 6.62 (2H, br), 0.75-4.8
0 (29H, m),4.29 (1H, d, J=17Hz), 3.97 (1H, d, J=17
Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr):292
8、2855、2836、1637、1584。 マススペクトル(FAB)m/z:687((M+H)
+ )。
【0306】
【実施例5】(後記例示化合物42)1−{3−[(2R)−(3,4−ジクロロフェニル)
−4−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)モルホ
リン−2−イル)プロピル}スピロ[ベンソ[C]チオ
フェン−1(3H),4’−ピペリジン]−(2S)−
オキシド
【0307】
【実施例5(a)】4−(3,4−ジクロロフェニル)−4−オキソブタン
酸 メチルエステル ジクロロベンゼン150mlにコハク酸無水物8.50
g(84.9ミリモル)及び臭化アルミニウム24.8
g(93.0ミリモル)を順次加え、室温で5時間撹拌
した。反応液を氷水中に注ぎ、塩化メチレンで抽出し
た。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をメタノール10
0mlに溶解して、硫酸1.0mlを加え、4時間加熱
還流した。反応液を室温にして、水中に注ぎ、酢酸エチ
ルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水及び
飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(溶出溶媒:n−ヘキサン:ジエチルエーテル
=17:3〜7:3)にて精製して、目的化合物を淡橙
色結晶として、9.10g得た。
【0308】核磁気共鳴スペクトル(400MHz、C
DCl3 )δppm:8.07 (1H, d, J=2Hz), 7.81 (1H,
dd, J=2,8Hz), 7.56 (1H, d, J=8Hz),3.71 (3H,s), 3.
27 (2H, t, J=7Hz), 2.78 (2H, t, J=7Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr):309
3、3061、2954、1746、1678、158
3 マススペクトル(EI)m/z:260(M+ )。
【0309】
【実施例5(b)】4−(3,4−ジクロロフェニル)−4−ペンテン酸
メチルエステル メチルトリフェニルホスホニウム ブロミド1.75g
(49.0ミリモル)及びt−ブトキシカリウム5.5
0g(49.0ミリモル)を乾燥したベンゼン(200
ml)に懸濁させ、窒素雰囲気下、室温で6時間撹拌し
た。実施例5(a)で得られた4−(3,4−ジクロロ
フェニル)−4−オキソブタン酸 メチルエステル8.
50gをベンゼン40mlに溶解して滴下し、1時間撹
拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有
機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶
出溶媒:n−ヘキサン:ジエチルエーテル=19:1〜
23:2)にて精製して、目的化合物を淡黄色油状物と
して、4.20g得た。
【0310】核磁気共鳴スペクトル(400MHz、C
DCl3 )δppm:7.48 (1H, d, J=2Hz), 7.40 (1H,
d, J=8Hz), 7.23 (1H, dd, J=2,8Hz),5.32 (1H, s),
5.14 (1H, s), 3.67 (3H, s), 2.79 (2H, t, J=8Hz),2.
48 (2H, t, J=8Hz) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(film):29
52、1740、1630、1550 マススペクトル(EI)m/z:258(M+ )。
【0311】
【実施例5(c)】4−(3,4−ジクロロフェニル)−4−ペンテン−1
−オール tert−ブチルジメチルシリルエーテル 実施例5(b)で得られた4−(3,4−ジクロロフェ
ニル)−4−ペンテン酸 メチルエステルを用いて、実
施例1(b)と同様にして、目的化合物を収率93%で
得た。
【0312】核磁気共鳴スペクトル(400MHz、C
DCl3 )δppm:7.49 (1H, d, J=2Hz), 7.38 (1H,
d, J=9Hz), 7.24 (1H, dd, J=2,9Hz),5.30 (1H, s),
5.13 (1H, d, J=1Hz), 3.62 (2H, t, J=6Hz),2.52 (2H,
t, J=8Hz), 1.60-1.68 (2H, m), 0.90 (9H, s), 0.04
(6H, s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(film):29
54、2929、2887、2858、1627、15
50 マススペクトル(FAB)m/z:345((M+H)
+ )。
【0313】
【実施例5(d)】5−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−(2R)
−(3,4−ジクロロフェニル)ペンタン−1,2−ジ
オール 実施例5(c)で得られた4−(3,4−ジクロロフェ
ニル)−4−ペンテン−1−オール tert−ブチル
ジメチルシリルエーテルを用いて、実施例1(c)と同
様にして、目的化合物を収率94%で得た。
【0314】光学純度:98%ee [α]D 24 −2.08(c=0.48、メタノール) 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl3 )δ
ppm:7.56 (1H, d, J=2Hz), 7.41 (1H, d, J=8Hz),
7.23 (1H, dd, J=2,8Hz),4.96 (1H, s), 3.53-3.70 (4
H, m), 1.98-2.14 (3H, m),1.35-1.57 (2H, m), 0.91
(9H, s), 0.082 (3H, s), 0.078 (3H, s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(CHCl3 ):3
584、3311、2956、2932、2861 マススペクトル(FAB)m/z:379(M)+
【0315】
【実施例5(e)】5−(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)−(2
R)−(3,4−ジクロロフェニル)−1−[N−(t
ert−ブトキシカルボニル)−N−(2−ヒドロキシ
エチル)アミノ]−2−ペンタノール 実施例5(d)で得られた5−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−(2R)−(3,4−ジクロロフェニ
ル)ペンタン−1,2−ジオールを用いて、実施例2
(a)と同様にして、目的化合物を収率95%で得た。
【0316】[α]D 24 −14.75(c=0.61,
メタノール) 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl3 )δ
ppm:7.15-7.65 (3H, m), 5.30 及び 5.79 ( 計1H,
各s), 2.50-3.95 (9H, m),1.85-2.25 (2H, m), 1.30-1.
60 (2H, m), 1.43 (9H, s), 0.89 (9H, s),0.04 及び
0.05 ( 計6H, 各s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr):335
5、2955、2931、2894、2858、166
8 マススペクトル(FAB)m/z:522((M+H)
+ )。
【0317】
【実施例5(f)】3−[4−tert−ブトキシカルボニル−(2R)−
(3,4−ジクロロフェニル)モルホリン−2−イル]
−1−プロパノール tert−ブチルジメチルシリル
エーテル 実施例5(e)で得られた5−(tert−ブチルジメ
チルシリルオキシ)−(2R)−(3,4−ジクロロフ
ェニル)−1−[N−(tert−ブトキシカルボニ
ル)−N−(2−ヒドロキシエチル)アミノ]−2−ペ
ンタノールを用いて、実施例2(b)と同様にして、目
的化合物を収率92%で得た。
【0318】[α]D 24 +58.15(c=0.54、
メタノール) 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl3 )δ
ppm:7.40-7.65 (3H, m), 4.14 (1H, d, J=14Hz),
3.42-3.75 (5H, m),3.23 (2H, d, J=14Hz), 1.15-2.00
(4H, m),1.44 及び 1.52 ( 計9H, 各br.s), 0.85 (9H,
s),0.00 及び 0.01 ( 計6H, 各s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(CHCl3 ):2
957、2931、2860、1668 マススペクトル(FAB)m/z:504((M+H)
+ )。
【0319】
【実施例5(g)】3−[(2R)−(3,4−ジクロロフェニル)−4−
(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)モルホリン−
2−イル]−1−プロパノール 実施例5(f)で得られた3−[4−tert−ブトキ
シカルボニル−(2R)−(3,4−ジクロロフェニ
ル)モルホリン−2−イル]−1−プロパノールter
t−ブチルジメチルシリルエーテル3.43g(6.8
0ミリモル)を塩化メチレン(60ml)中に溶解し、
B−ブロモカテコールボラン2.98g(15.0ミリ
モル)を加え、窒素雰囲気下、室温で2時間撹拌した。
反応液に水60mlを加え、さらに2時間撹拌した。1
規定水酸化ナトリウム水溶液を加え、アルカリ性とした
後、塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し
た。残渣を塩化メチレン(40ml)に溶解し、トリエ
チルアミン1.23ml(8.87ミリモル)、3,
4,5−トリメトキシベンゾイルクロリド1.65g
(7.15ミリモル)及び4−ジメチルアミノピリジン
10mgを加え、室温で12時間撹拌した。反応液を水
に注ぎ、塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和食塩水
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留
去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(溶出溶媒:塩化メチレン:アセトン=7:3)により
精製して、目的化合物を2.13gを得た。
【0320】[α]D 24 +30.78(c=0.51、
メタノール) 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl3 )δ
ppm:6.80-7.80 (3H, m), 6.48 (2H, br, s), 3.30-
4.80 (8H, m),3.84 及び 3.86 ( 計9H, 各s), 1.10-2.
35 (4H, m) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr):342
6、2942、2872、1632、1584 マススペクトル(FAB)m/z:484((M+H)
+ )。
【0321】
【実施例5(h)】3−[(2R)−(3,4−ジクロロフェニル)−4−
(3,4,5−トリメトキシベンゾイルモルホリン−2
−イル]−1−プロパノール メタンスルホネート 実施例5(g)で得られた3−[(2R)−(3,4−
ジクロロフェニル)−4−(3,4,5−トリメトキシ
ベンゾイル)モルホリン−2−イル]−1−プロパノー
ルを用いて、実施例2(e)と同様にして、目的化合物
を収率84%で得た。
【0322】 [α]D 24 +27.87(c=0.54、メタノール) 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl3 )δ
ppm:6.80-7.80 (3H, m), 6.50 (2H, s), 3.20-4.50
(8H, m),3.85 及び 3.86 ( 計9H, 各s), 2.97 (3H,
s), 1.35-2.35 (4H, m) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr):300
1、2939、2875、2839、1634、158
5 マススペクトル(FAB)m/z:562((M+H)
+ )。
【0323】
【実施例5(i)】1−{3−[(2R)−(3,4−ジクロロフェニル)
−4−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)モルホ
リン−2−イル]プロピル}スピロ[ベンゾ[c]チオ
フェン−1(3H),4’−ピペリジン]−(2S)−
オキシド 実施例5(h)で得られた3−[(2R)−(3,4−
ジクロロフェニル)−4−(3,4,5−トリメトキシ
ベンゾイルモルホリン)−2−イル]−1−プロパノー
ル メタンスルホネートを用いて、実施例2(g)と同
様にして、目的化合物を収率68%で得た。
【0324】[α]D 24 +26.97(c=0.55、
メタノール) HPLC分析: カラム;YMC−Pack ODS−A(250×4.
6mm φ) 溶出溶媒;CH3 CN:H2 O=40:60、0.1%
酢酸アンモニウム 流速:1.0ml/分 保持時間;23.4分 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl3 )δ
ppm:6.80-7.80 (7H, m), 6.48 (2H, br), 0.80-4.7
0 (20H, m),4.32 (1H, d, J=17Hz), 4.00 (1H, d, J=17
Hz),3.84 及び 3.86 ( 計9H, 各s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr):294
0、2872、2834、2771、1636、158
4 マススペクトル(FAB)m/z:687((M+H)
+ )。
【0325】
【実施例6】(後記例示化合物2055)1−{2−[(5R)−(3,4−ジクロロフェニル)
−3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)オキ
サゾリジン−5−イル]エチル}スピロ[ベンゾ[c]
チオフェン−1(3H),4’−ピペリジン]−(2
S)−オキシド
【0326】
【実施例6(a)】2−[(5R)−(3,4−ジクロロフェニル)−3−
(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)オキサゾリ
ジン−5−イル]エタノール tert−ブチルジメチ
ルシリルエーテル 実施例1(f)で合成した2−[(5R)−(3,4−
ジクロロフェニル)オキサゾリジン−5−イル]エタノ
ール tert−ブチルジメチルシリルエーテル1.0
0g(2.72ミリモル)をピリジン(10ml)中に
溶解し、氷冷下、3,4−ジメトキシベンゼンスルホニ
ルクロリド773mg(3.27ミリモル)を加え、窒
素雰囲気下、2時間撹拌した。反応液を氷冷した10%
塩酸(100ml)中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。
有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(溶出溶媒;n−ヘキサン:酢酸エ
チル=10:1〜2:1)にて精製を行い、目的化合物
を白色結晶として、1.27g得た。
【0327】[α]D 24 −5.74(c=1.29、メ
タノール) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr):158
8、1510、1468、1264、1155、114
0。
【0328】
【実施例6(b)】2−[(5R)−(3,4−ジクロロフェニル)−3−
(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)オキサゾリ
ジン−5−イル]エタノール メタンスルホネート 実施例6(a)で合成したtert−ブチルジメチルシ
リルエーテル体1.19g(2.06ミリモル)を酢
酸:テトラヒドロフラン:水=3:3:1の混合液20
ml中に溶解し、窒素雰囲気下、80℃にて2時間加熱
した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和した後、酢
酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。溶媒を減圧留去後、残渣をピリジン10ml中
に溶解し、4−ジメチルアミノピリジン23mg(0.
19ミリモル)及びメタンスルホニルクロリド0.22
ml(2.84ミリモル)を氷冷下加え、窒素雰囲気
下、0℃にて2時間撹拌した。反応液を氷冷した10%
塩酸(200ml)中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。
有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(溶出溶媒:n−ヘキサン:酢酸エ
チル=2:1〜1:2)で精製し、目的化合物を白色結
晶として、992mg得た。
【0329】[α]D 24 −3.80(c=0.5、メタ
ノール) 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl3 )δ
ppm:7.33 (1H, d, J=8.6Hz), 7.30 (1H, dd, J=8.
6, 2.1Hz),7.14 (1H, d, J=2.2Hz), 7.11 (1H, d, J=2.
1Hz),6.92 (1H, dd, J=8.7, 2.2Hz), 6.80 (1H, d, J=
8.7Hz),5.08 (1H, d, J=5.7Hz), 4.98 (1H, d, J=5.7H
z),4.11 (1H, m), 3.94 (3H, s), 3.86 (3H, s), 3.82
(1H, m),3.70 (2H, ABq, J=11.3Hz, Δδ=0.08ppm),
2.88 (3H, s), 2.16 (2H, m) マススペクトル(FAB)m/z:540(M+H)
+ )。
【0330】
【実施例6(c)】1−{2−[(5R)−(3,4−ジクロロフェニル)
−3−(3,4−ジメトキシベンゼンスルホニル)オキ
サゾリジン−5−イル]エチル}スピロ[ベンゾ[c]
チオフェン−1(3H),4’−ピペリジン]−(2
S)−オキシド 実施例6(b)で得られたメシル体105mg(0.1
9ミリモル)、及び参考例1で得られたスピロ[ベンゾ
[c]チオフェン−1(3H),4’−ピペリジン]−
(2S)−オキシド 塩酸塩55mg(0.21ミリモ
ル)、炭酸水素ナトリウム49mg(0.58ミリモ
ル)、ヨウ化カリウム48mg(0.29ミリモル)を
無水ジメチルホルムアミド2ml中に懸濁させ、窒素雰
囲気下、80℃にて8時間加熱した。反応液を飽和食塩
水10ml中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶
媒;塩化メチレン:メタノール=40:1〜20:1)
により精製し、ジイソプロピルエーテルで結晶化を行
い、目的化合物を白色結晶として、82mg得た。
【0331】[α]D 24 +2.5(c=0.52、メタ
ノール) HPLC分析: カラム;YMC−Pack ODS−A(250×4.
6mm φ) 溶出溶媒;CH3 CN:H2 O=40:60、0.1%
酢酸アンモニウム 流速:1.0ml/分 保持時間;21.4分 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr):167
4、1587、1509、1469、1350、126
4、1155、1140、1039 マススペクトル(FAB)m/z:665((M+H)
+ )。
【0332】
【実施例7】(後記例示化合物42のヨウ化メチル塩)1−{2−[(2R)−(3,4−ジクロロフェニル)
−4−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)モルホ
リン−2−イル]エチル}−1−メチルスピロ[ベンゾ
[c]チオフェン−1(3H),4’−ピペリジニウ
ム]−(2S)−オキシド ヨウ化物塩
【0333】
【実施例7(a)】実施例2で得られた1−{2−
[(2R)−(3,4−ジクロロフェニル)−4−
(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)モルホリン−
2−イル]エチル}スピロ[ベンゾ[c]チオフェン1
(3H),4’−ピペリジン]−(2S)−オキシド3
00mg(0.45ミリモル)をアセトニトリル3ml
中に溶解し、ヨウ化メチル30μl(0.48ミリモ
ル)を加え、窒素雰囲気下、室温で一晩撹拌した。溶媒
を減圧留去し、残渣をジイソプロピルエーテルで結晶化
を行い、目的化合物を淡黄色結晶として、312mg得
た。
【0334】[α]D 24 +42.0(c=1、メタノー
ル) HPLC分析: カラム;YMC−Pack ODS−A(250×4.
6mm φ) 溶出溶媒;CH3 CN:H2 O=40:60、0.1%
酢酸アンモニウム 流速:1.0ml/分 保持時間;9.9分 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr):344
4、1632、1584、1464、1126 マススペクトル(FAB)m/z:687(フリー体M
+ ) 元素分析値(C354126 SCl2 I)として%) 計算値: C:51.54, H:5.07, N:3.44, S:3.93, Cl:8.69,
I:15.56 実測値: C:51.14, H:5.39, N:3.42, S:4.01, Cl:8.50,
I:15.96。
【0335】以下に示す化合物も、前記実施例と同様に
して合成される。
【0336】
【化19】
【0337】尚、以下の表中、置換基(表中「置」と表
示)は以下の基を示し、
【0338】
【化20】
【0339】
【化21】
【0340】Dは、酸素原子を示し、Gは、ジメチレン
基又はトリメチレン基を示す。
【0341】 ──────────────────────────────────── 化合物 番 号 R12 A B E Z ──────────────────────────────────── 1 置 1 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 2 置 2 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 3 置 3 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 4 置 4 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 5 置 5 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 6 置 6 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 7 置 7 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 8 置 8 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 9 置 9 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 10 置10 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 11 置11 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 12 置12 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 13 置13 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 14 置14 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 15 置15 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 16 置16 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 17 置17 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 18 置18 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 19 置19 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 20 置20 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 21 置21 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 22 置22 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 23 置23 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 24 置24 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 25 置25 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 26 置26 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 27 置27 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 28 置28 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 29 置29 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 30 置30 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 31 置31 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 32 置32 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 33 置 1 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 34 置 2 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 35 置 3 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 36 置 4 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 37 置 5 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 38 置 6 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 39 置 7 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 40 置 8 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 41 置 9 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 42 置10 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 43 置11 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 44 置12 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 45 置13 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 46 置14 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 47 置15 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 48 置16 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 49 置17 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 50 置18 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 51 置19 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 52 置20 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 53 置21 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 54 置22 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 55 置23 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 56 置24 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 57 置25 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 58 置26 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 59 置27 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 60 置28 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 61 置29 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 62 置30 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 63 置31 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 64 置32 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 65 置 1 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 66 置 2 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 67 置 3 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 68 置 4 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 69 置 5 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 70 置 6 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 71 置 7 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 72 置 8 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 73 置 9 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 74 置10 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 75 置11 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 76 置12 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 77 置13 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 78 置14 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 79 置15 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 80 置16 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 81 置17 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 82 置18 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 83 置19 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 84 置20 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 85 置21 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 86 置22 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 87 置23 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 88 置24 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 89 置25 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 90 置26 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 91 置27 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 92 置28 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 93 置29 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 94 置30 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 95 置31 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 96 置32 3,4-diClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 97 置 1 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 98 置 2 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 99 置 3 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 100 置 4 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 101 置 5 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 102 置 6 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 103 置 7 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 104 置 8 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 105 置 9 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 106 置10 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 107 置11 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 108 置12 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 109 置13 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 110 置14 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 111 置15 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 112 置16 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 113 置17 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 114 置18 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 115 置19 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 116 置20 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 117 置21 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 118 置22 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 119 置23 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 120 置24 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 121 置25 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 122 置26 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 123 置27 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 124 置28 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 125 置29 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 126 置30 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 127 置31 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 128 置32 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 129 置 1 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 130 置 2 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 131 置 3 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 132 置 4 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 133 置 5 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 134 置 6 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 135 置 7 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 136 置 8 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 137 置 9 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 138 置10 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 139 置11 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 140 置12 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 141 置13 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 142 置14 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 143 置15 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 144 置16 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 145 置17 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 146 置18 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 147 置19 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 148 置20 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 149 置21 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 150 置22 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 151 置23 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 152 置24 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 153 置25 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 154 置26 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 155 置27 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 156 置28 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 157 置29 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 158 置30 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 159 置31 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 160 置32 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 161 置 1 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 162 置 2 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 163 置 3 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 164 置 4 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 165 置 5 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 166 置 6 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 167 置 7 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 168 置 8 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 169 置 9 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 170 置10 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 171 置11 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 172 置12 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 173 置13 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 174 置14 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 175 置15 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 176 置16 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 177 置17 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 178 置18 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 179 置19 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 180 置20 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 181 置21 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 182 置22 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 183 置23 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 184 置24 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 185 置25 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 186 置26 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 187 置27 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 188 置28 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 189 置29 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 190 置30 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 191 置31 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 192 置32 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 193 置 1 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 194 置 2 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 195 置 3 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 196 置 4 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 197 置 5 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 198 置 6 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 199 置 7 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 200 置 8 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 201 置 9 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 202 置10 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 203 置11 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 204 置12 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 205 置13 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 206 置14 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 207 置15 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 208 置16 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 209 置17 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 210 置18 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 211 置19 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 212 置20 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 213 置21 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 214 置22 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 215 置23 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 216 置24 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 217 置25 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 218 置26 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 219 置27 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 220 置28 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 221 置29 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 222 置30 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 223 置31 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 224 置32 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 225 置 1 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 226 置 2 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 227 置 3 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 228 置 4 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 229 置 5 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 230 置 6 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 231 置 7 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 232 置 8 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 233 置 9 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 234 置10 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 235 置11 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 236 置12 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 237 置13 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 238 置14 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 239 置15 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 240 置16 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 241 置17 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 242 置18 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 243 置19 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 244 置20 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 245 置21 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 246 置22 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 247 置23 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 248 置24 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 249 置25 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 250 置26 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 251 置27 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 252 置28 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 253 置29 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 254 置30 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 255 置31 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 256 置32 3,4-diClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 257 置 1 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 258 置 2 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 259 置 3 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 260 置 4 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 261 置 5 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 262 置 6 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 263 置 7 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 264 置 8 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 265 置 9 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 266 置10 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 267 置11 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 268 置12 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 269 置13 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 270 置14 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 271 置15 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 272 置16 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 273 置17 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 274 置18 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 275 置19 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 276 置20 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 277 置21 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 278 置22 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 279 置23 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 280 置24 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 281 置25 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 282 置26 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 283 置27 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 284 置28 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 285 置29 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 286 置30 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 287 置31 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 288 置32 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 289 置 1 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 290 置 2 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 291 置 3 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 292 置 4 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 293 置 5 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 294 置 6 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 295 置 7 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 296 置 8 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 297 置 9 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 298 置10 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 299 置11 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 300 置12 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 301 置13 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 302 置14 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 303 置15 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 304 置16 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 305 置17 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 306 置18 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 307 置19 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 308 置20 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 309 置21 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 310 置22 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 311 置23 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 312 置24 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 313 置25 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 314 置26 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 315 置27 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 316 置28 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 317 置29 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 318 置30 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 319 置31 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 320 置32 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 321 置 1 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 322 置 2 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 323 置 3 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 324 置 4 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 325 置 5 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 326 置 6 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 327 置 7 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 328 置 8 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 329 置 9 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 330 置10 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 331 置11 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 332 置12 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 333 置13 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 334 置14 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 335 置15 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 336 置16 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 337 置17 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 338 置18 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 339 置19 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 340 置20 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 341 置21 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 342 置22 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 343 置23 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 344 置24 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 345 置25 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 346 置26 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 347 置27 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 348 置28 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 349 置29 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 350 置30 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 351 置31 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 352 置32 4-ClPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 353 置 1 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 354 置 2 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 355 置 3 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 356 置 4 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 357 置 5 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 358 置 6 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 359 置 7 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 360 置 8 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 361 置 9 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 362 置10 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 363 置11 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 364 置12 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 365 置13 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 366 置14 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 367 置15 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 368 置16 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 369 置17 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 370 置18 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 371 置19 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 372 置20 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 373 置21 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 374 置22 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 375 置23 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 376 置24 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 377 置25 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 378 置26 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 379 置27 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 380 置28 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 381 置29 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 382 置30 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 383 置31 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 384 置32 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 385 置 1 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 386 置 2 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 387 置 3 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 388 置 4 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 389 置 5 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 390 置 6 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 391 置 7 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 392 置 8 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 393 置 9 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 394 置10 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 395 置11 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 396 置12 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 397 置13 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 398 置14 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 399 置15 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 400 置16 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 401 置17 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 402 置18 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 403 置19 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 404 置20 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 405 置21 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 406 置22 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 407 置23 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 408 置24 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 409 置25 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 410 置26 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 411 置27 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 412 置28 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 413 置29 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 414 置30 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 415 置31 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 416 置32 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 417 置 1 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 418 置 2 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 419 置 3 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 420 置 4 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 421 置 5 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 422 置 6 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 423 置 7 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 424 置 8 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 425 置 9 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 426 置10 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 427 置11 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 428 置12 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 429 置13 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 430 置14 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 431 置15 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 432 置16 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 433 置17 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 434 置18 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 435 置19 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 436 置20 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 437 置21 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 438 置22 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 439 置23 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 440 置24 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 441 置25 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 442 置26 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 443 置27 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 444 置28 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 445 置29 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 446 置30 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 447 置31 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 448 置32 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 449 置 1 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 450 置 2 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 451 置 3 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 452 置 4 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 453 置 5 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 454 置 6 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 455 置 7 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 456 置 8 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 457 置 9 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 458 置10 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 459 置11 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 460 置12 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 461 置13 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 462 置14 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 463 置15 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 464 置16 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 465 置17 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 466 置18 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 467 置19 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 468 置20 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 469 置21 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 470 置22 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 471 置23 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 472 置24 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 473 置25 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 474 置26 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 475 置27 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 476 置28 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 477 置29 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 478 置30 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 479 置31 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 480 置32 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 481 置 1 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 482 置 2 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 483 置 3 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 484 置 4 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 485 置 5 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 486 置 6 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 487 置 7 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 488 置 8 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 489 置 9 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 490 置10 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 491 置11 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 492 置12 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 493 置13 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 494 置14 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 495 置15 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 496 置16 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 497 置17 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 498 置18 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 499 置19 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 500 置20 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 501 置21 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 502 置22 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 503 置23 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 504 置24 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 505 置25 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 506 置26 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 507 置27 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 508 置28 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 509 置29 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 510 置30 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 511 置31 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 512 置32 4-ClPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 ──────────────────────────────────── 化合物 番 号 R12 A B E Z ──────────────────────────────────── 513 置 1 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 514 置 2 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 515 置 3 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 516 置 4 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 517 置 5 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 518 置 6 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 519 置 7 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 520 置 8 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 521 置 9 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 522 置10 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 523 置11 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 524 置12 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 525 置13 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 526 置14 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 527 置15 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 528 置16 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 529 置17 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 530 置18 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 531 置19 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 532 置20 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 533 置21 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 534 置22 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 535 置23 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 536 置24 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 537 置25 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 538 置26 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 539 置27 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 540 置28 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 541 置29 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 542 置30 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 543 置31 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 544 置32 4-FPh -CO- 単結合 -CH2- 置33 545 置 1 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 546 置 2 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 547 置 3 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 548 置 4 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 549 置 5 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 550 置 6 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 551 置 7 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 552 置 8 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 553 置 9 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 554 置10 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 555 置11 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 556 置12 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 557 置13 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 558 置14 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 559 置15 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 560 置16 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 561 置17 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 562 置18 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 563 置19 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 564 置20 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 565 置21 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 566 置22 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 567 置23 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 568 置24 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 569 置25 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 570 置26 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 571 置27 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 572 置28 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 573 置29 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 574 置30 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 575 置31 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 576 置32 4-FPh -CO- 単結合 -CH2CH2- 置33 577 置 1 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 578 置 2 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 579 置 3 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 580 置 4 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 581 置 5 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 582 置 6 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 583 置 7 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 584 置 8 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 585 置 9 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 586 置10 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 587 置11 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 588 置12 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 589 置13 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 590 置14 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 591 置15 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 592 置16 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 593 置17 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 594 置18 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 595 置19 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 596 置20 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 597 置21 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 598 置22 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 599 置23 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 600 置24 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 601 置25 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 602 置26 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 603 置27 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 604 置28 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 605 置29 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 606 置30 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 607 置31 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 608 置32 4-FPh -CO- 単結合 -(CH2)3- 置33 609 置 1 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 610 置 2 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 611 置 3 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 612 置 4 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 613 置 5 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 614 置 6 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 615 置 7 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 616 置 8 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 617 置 9 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 618 置10 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 619 置11 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 620 置12 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 621 置13 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 622 置14 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 623 置15 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 624 置16 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 625 置17 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 626 置18 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 627 置19 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 628 置20 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 629 置21 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 630 置22 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 631 置23 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 632 置24 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 633 置25 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 634 置26 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 635 置27 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 636 置28 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 637 置29 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 638 置30 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 639 置31 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 640 置32 4-FPh -CO- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 641 置 1 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 642 置 2 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 643 置 3 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 644 置 4 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 645 置 5 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 646 置 6 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 647 置 7 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 648 置 8 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 649 置 9 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 650 置10 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 651 置11 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 652 置12 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 653 置13 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 654 置14 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 655 置15 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 656 置16 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 657 置17 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 658 置18 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 659 置19 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 660 置20 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 661 置21 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 662 置22 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 663 置23 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 664 置24 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 665 置25 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 666 置26 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 667 置27 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 668 置28 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 669 置29 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 670 置30 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 671 置31 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 672 置32 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPr- 置33 673 置 1 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 674 置 2 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 675 置 3 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 676 置 4 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 677 置 5 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 678 置 6 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 679 置 7 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 680 置 8 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 681 置 9 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 682 置10 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 683 置11 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 684 置12 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 685 置13 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 686 置14 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 687 置15 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 688 置16 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 689 置17 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 690 置18 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 691 置19 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 692 置20 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 693 置21 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 694 置22 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 695 置23 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 696 置24 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 697 置25 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 698 置26 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 699 置27 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 700 置28 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 701 置29 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 702 置30 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 703 置31 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 704 置32 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cBu- 置33 705 置 1 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 706 置 2 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 707 置 3 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 708 置 4 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 709 置 5 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 710 置 6 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 711 置 7 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 712 置 8 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 713 置 9 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 714 置10 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 715 置11 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 716 置12 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 717 置13 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 718 置14 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 719 置15 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 720 置16 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 721 置17 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 722 置18 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 723 置19 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 724 置20 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 725 置21 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 726 置22 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 727 置23 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 728 置24 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 729 置25 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 730 置26 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 731 置27 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 732 置28 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 733 置29 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 734 置30 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 735 置31 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 736 置32 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cPn- 置33 737 置 1 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 738 置 2 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 739 置 3 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 740 置 4 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 741 置 5 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 742 置 6 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 743 置 7 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 744 置 8 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 745 置 9 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 746 置10 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 747 置11 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 748 置12 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 749 置13 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 750 置14 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 751 置15 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 752 置16 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 753 置17 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 754 置18 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 755 置19 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 756 置20 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 757 置21 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 758 置22 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 759 置23 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 760 置24 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 761 置25 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 762 置26 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 763 置27 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 764 置28 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 765 置29 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 766 置30 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 767 置31 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 768 置32 4-FPh -CO- 単結合 -CH2-cHx- 置33 769 置 1 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 770 置 2 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 771 置 3 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 772 置 4 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 773 置 5 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 774 置 6 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 775 置 7 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 776 置 8 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 777 置 9 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 778 置10 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 779 置11 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 780 置12 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 781 置13 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 782 置14 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 783 置15 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 784 置16 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 785 置17 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 786 置18 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 787 置19 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 788 置20 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 789 置21 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 790 置22 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 791 置23 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 792 置24 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 793 置25 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 794 置26 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 795 置27 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 796 置28 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 797 置29 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 798 置30 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 799 置31 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 800 置32 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 801 置 1 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 802 置 2 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 803 置 3 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 804 置 4 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 805 置 5 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 806 置 6 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 807 置 7 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 808 置 8 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 809 置 9 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 810 置10 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 811 置11 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 812 置12 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 813 置13 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 814 置14 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 815 置15 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 816 置16 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 817 置17 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 818 置18 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 819 置19 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 820 置20 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 821 置21 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 822 置22 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 823 置23 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 824 置24 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 825 置25 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 826 置26 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 827 置27 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 828 置28 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 829 置29 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 830 置30 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 831 置31 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 832 置32 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 833 置 1 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 834 置 2 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 835 置 3 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 836 置 4 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 837 置 5 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 838 置 6 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 839 置 7 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 840 置 8 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 841 置 9 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 842 置10 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 843 置11 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 844 置12 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 845 置13 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 846 置14 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 847 置15 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 848 置16 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 849 置17 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 850 置18 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 851 置19 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 852 置20 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 853 置21 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 854 置22 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 855 置23 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 856 置24 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 857 置25 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 858 置26 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 859 置27 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 860 置28 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 861 置29 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 862 置30 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 863 置31 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 864 置32 3,4-diClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 865 置 1 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 866 置 2 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 867 置 3 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 868 置 4 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 869 置 5 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 870 置 6 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 871 置 7 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 872 置 8 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 873 置 9 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 874 置10 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 875 置11 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 876 置12 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 877 置13 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 878 置14 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 879 置15 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 880 置16 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 881 置17 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 882 置18 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 883 置19 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 884 置20 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 885 置21 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 886 置22 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 887 置23 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 888 置24 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 889 置25 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 890 置26 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 891 置27 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 892 置28 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 893 置29 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 894 置30 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 895 置31 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 896 置32 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 897 置 1 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 898 置 2 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 899 置 3 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 900 置 4 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 901 置 5 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 902 置 6 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 903 置 7 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 904 置 8 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 905 置 9 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 906 置10 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 907 置11 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 908 置12 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 909 置13 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 910 置14 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 911 置15 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 912 置16 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 913 置17 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 914 置18 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 915 置19 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 916 置20 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 917 置21 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 918 置22 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 919 置23 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 920 置24 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 921 置25 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 922 置26 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 923 置27 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 924 置28 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 925 置29 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 926 置30 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 927 置31 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 928 置32 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 929 置 1 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 930 置 2 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 931 置 3 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 932 置 4 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 933 置 5 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 934 置 6 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 935 置 7 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 936 置 8 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 937 置 9 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 938 置10 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 939 置11 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 940 置12 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 941 置13 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 942 置14 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 943 置15 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 944 置16 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 945 置17 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 946 置18 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 947 置19 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 948 置20 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 949 置21 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 950 置22 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 951 置23 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 952 置24 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 953 置25 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 954 置26 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 955 置27 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 956 置28 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 957 置29 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 958 置30 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 959 置31 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 960 置32 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 961 置 1 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 962 置 2 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 963 置 3 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 964 置 4 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 965 置 5 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 966 置 6 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 967 置 7 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 968 置 8 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 969 置 9 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 970 置10 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 971 置11 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 972 置12 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 973 置13 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 974 置14 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 975 置15 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 976 置16 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 977 置17 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 978 置18 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 979 置19 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 980 置20 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 981 置21 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 982 置22 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 983 置23 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 984 置24 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 985 置25 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 986 置26 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 987 置27 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 988 置28 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 989 置29 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 990 置30 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 991 置31 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 992 置32 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 993 置 1 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 994 置 2 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 995 置 3 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 996 置 4 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 997 置 5 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 998 置 6 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 999 置 7 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1000 置 8 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1001 置 9 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1002 置10 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1003 置11 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1004 置12 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1005 置13 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1006 置14 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1007 置15 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1008 置16 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1009 置17 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1010 置18 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1011 置19 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1012 置20 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1013 置21 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1014 置22 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1015 置23 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1016 置24 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1017 置25 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1018 置26 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1019 置27 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1020 置28 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1021 置29 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1022 置30 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1023 置31 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1024 置32 3,4-diClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 ──────────────────────────────────── 化合物 番 号 R12 A B E Z ──────────────────────────────────── 1025 置 1 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1026 置 2 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1027 置 3 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1028 置 4 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1029 置 5 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1030 置 6 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1031 置 7 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1032 置 8 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1033 置 9 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1034 置10 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1035 置11 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1036 置12 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1037 置13 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1038 置14 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1039 置15 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1040 置16 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1041 置17 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1042 置18 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1043 置19 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1044 置20 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1045 置21 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1046 置22 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1047 置23 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1048 置24 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1049 置25 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1050 置26 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1051 置27 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1052 置28 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1053 置29 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1054 置30 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1055 置31 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1056 置32 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1057 置 1 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1058 置 2 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1059 置 3 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1060 置 4 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1061 置 5 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1062 置 6 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1063 置 7 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1064 置 8 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1065 置 9 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1066 置10 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1067 置11 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1068 置12 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1069 置13 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1070 置14 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1071 置15 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1072 置16 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1073 置17 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1074 置18 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1075 置19 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1076 置20 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1077 置21 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1078 置22 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1079 置23 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1080 置24 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1081 置25 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1082 置26 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1083 置27 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1084 置28 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1085 置29 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1086 置30 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1087 置31 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1088 置32 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1089 置 1 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1090 置 2 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1091 置 3 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1092 置 4 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1093 置 5 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1094 置 6 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1095 置 7 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1096 置 8 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1097 置 9 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1098 置10 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1099 置11 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1100 置12 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1101 置13 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1102 置14 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1103 置15 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1104 置16 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1105 置17 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1106 置18 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1107 置19 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1108 置20 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1109 置21 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1110 置22 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1111 置23 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1112 置24 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1113 置25 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1114 置26 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1115 置27 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1116 置28 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1117 置29 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1118 置30 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1119 置31 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1120 置32 4-ClPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1121 置 1 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1122 置 2 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1123 置 3 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1124 置 4 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1125 置 5 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1126 置 6 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1127 置 7 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1128 置 8 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1129 置 9 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1130 置10 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1131 置11 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1132 置12 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1133 置13 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1134 置14 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1135 置15 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1136 置16 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1137 置17 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1138 置18 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1139 置19 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1140 置20 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1141 置21 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1142 置22 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1143 置23 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1144 置24 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1145 置25 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1146 置26 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1147 置27 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1148 置28 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1149 置29 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1150 置30 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1151 置31 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1152 置32 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1153 置 1 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1154 置 2 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1155 置 3 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1156 置 4 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1157 置 5 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1158 置 6 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1159 置 7 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1160 置 8 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1161 置 9 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1162 置10 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1163 置11 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1164 置12 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1165 置13 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1166 置14 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1167 置15 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1168 置16 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1169 置17 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1170 置18 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1171 置19 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1172 置20 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1173 置21 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1174 置22 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1175 置23 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1176 置24 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1177 置25 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1178 置26 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1179 置27 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1180 置28 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1181 置29 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1182 置30 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1183 置31 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1184 置32 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1185 置 1 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1186 置 2 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1187 置 3 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1188 置 4 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1189 置 5 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1190 置 6 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1191 置 7 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1192 置 8 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1193 置 9 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1194 置10 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1195 置11 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1196 置12 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1197 置13 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1198 置14 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1199 置15 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1200 置16 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1201 置17 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1202 置18 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1203 置19 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1204 置20 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1205 置21 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1206 置22 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1207 置23 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1208 置24 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1209 置25 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1210 置26 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1211 置27 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1212 置28 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1213 置29 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1214 置30 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1215 置31 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1216 置32 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1217 置 1 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1218 置 2 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1219 置 3 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1220 置 4 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1221 置 5 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1222 置 6 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1223 置 7 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1224 置 8 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1225 置 9 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1226 置10 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1227 置11 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1228 置12 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1229 置13 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1230 置14 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1231 置15 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1232 置16 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1233 置17 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1234 置18 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1235 置19 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1236 置20 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1237 置21 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1238 置22 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1239 置23 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1240 置24 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1241 置25 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1242 置26 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1243 置27 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1244 置28 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1245 置29 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1246 置30 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1247 置31 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1248 置32 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1249 置 1 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1250 置 2 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1251 置 3 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1252 置 4 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1253 置 5 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1254 置 6 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1255 置 7 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1256 置 8 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1257 置 9 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1258 置10 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1259 置11 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1260 置12 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1261 置13 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1262 置14 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1263 置15 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1264 置16 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1265 置17 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1266 置18 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1267 置19 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1268 置20 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1269 置21 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1270 置22 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1271 置23 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1272 置24 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1273 置25 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1274 置26 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1275 置27 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1276 置28 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1277 置29 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1278 置30 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1279 置31 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1280 置32 4-ClPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1281 置 1 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1282 置 2 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1283 置 3 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1284 置 4 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1285 置 5 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1286 置 6 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1287 置 7 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1288 置 8 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1289 置 9 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1290 置10 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1291 置11 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1292 置12 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1293 置13 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1294 置14 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1295 置15 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1296 置16 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1297 置17 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1298 置18 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1299 置19 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1300 置20 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1301 置21 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1302 置22 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1303 置23 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1304 置24 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1305 置25 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1306 置26 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1307 置27 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1308 置28 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1309 置29 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1310 置30 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1311 置31 4-FPh -CO- -CH2- -CH2- 置33 1313 置 1 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1314 置 2 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1315 置 3 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1316 置 4 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1317 置 5 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1318 置 6 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1319 置 7 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1320 置 8 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1321 置 9 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1322 置10 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1323 置11 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1324 置12 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1325 置13 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1326 置14 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1327 置15 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1328 置16 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1329 置17 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1330 置18 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1331 置19 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1332 置20 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1333 置21 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1334 置22 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1335 置23 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1336 置24 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1337 置25 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1338 置26 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1339 置27 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1340 置28 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1341 置29 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1342 置30 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1343 置31 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1344 置32 4-FPh -CO- -CH2- -CH2CH2- 置33 1345 置 1 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1346 置 2 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1347 置 3 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1348 置 4 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1349 置 5 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1350 置 6 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1351 置 7 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1352 置 8 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1353 置 9 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1354 置10 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1355 置11 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1356 置12 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1357 置13 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1358 置14 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1359 置15 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1360 置16 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1361 置17 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1362 置18 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1363 置19 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1364 置20 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1365 置21 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1366 置22 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1367 置23 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1368 置24 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1369 置25 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1370 置26 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1371 置27 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1372 置28 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1373 置29 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1374 置30 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1375 置31 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1376 置32 4-FPh -CO- -CH2- -(CH2)3- 置33 1377 置 1 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1378 置 2 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1379 置 3 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1380 置 4 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1381 置 5 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1382 置 6 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1383 置 7 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1384 置 8 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1385 置 9 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1386 置10 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1387 置11 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1388 置12 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1389 置13 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1390 置14 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1391 置15 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1392 置16 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1393 置17 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1394 置18 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1395 置19 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1396 置20 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1397 置21 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1398 置22 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1399 置23 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1400 置24 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1401 置25 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1402 置26 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1403 置27 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1404 置28 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1405 置29 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1406 置30 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1407 置31 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1408 置32 4-FPh -CO- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1409 置 1 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1410 置 2 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1411 置 3 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1412 置 4 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1413 置 5 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1414 置 6 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1415 置 7 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1416 置 8 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1417 置 9 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1418 置10 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1419 置11 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1420 置12 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1421 置13 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1422 置14 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1423 置15 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1424 置16 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1425 置17 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1426 置18 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1427 置19 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1428 置20 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1429 置21 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1430 置22 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1431 置23 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1432 置24 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1433 置25 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1434 置26 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1435 置27 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1436 置28 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1437 置29 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1438 置30 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1439 置31 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1440 置32 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPr- 置33 1441 置 1 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1442 置 2 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1443 置 3 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1444 置 4 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1445 置 5 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1446 置 6 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1447 置 7 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1448 置 8 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1449 置 9 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1450 置10 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1451 置11 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1452 置12 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1453 置13 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1454 置14 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1455 置15 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1456 置16 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1457 置17 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1458 置18 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1459 置19 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1460 置20 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1461 置21 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1462 置22 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1463 置23 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1464 置24 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1465 置25 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1466 置26 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1467 置27 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1468 置28 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1469 置29 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1470 置30 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1471 置31 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1472 置32 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cBu- 置33 1473 置 1 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1474 置 2 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1475 置 3 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1476 置 4 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1477 置 5 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1478 置 6 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1479 置 7 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1480 置 8 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1481 置 9 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1482 置10 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1483 置11 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1484 置12 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1485 置13 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1486 置14 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1487 置15 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1488 置16 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1489 置17 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1490 置18 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1491 置19 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1492 置20 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1493 置21 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1494 置22 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1495 置23 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1496 置24 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1497 置25 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1498 置26 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1499 置27 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1500 置28 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1501 置29 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1502 置30 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1503 置31 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1504 置32 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cPn- 置33 1505 置 1 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1506 置 2 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1507 置 3 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1508 置 4 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1509 置 5 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1510 置 6 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1511 置 7 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1512 置 8 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1513 置 9 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1514 置10 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1515 置11 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1516 置12 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1517 置13 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1518 置14 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1519 置15 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1520 置16 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1521 置17 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1522 置18 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1523 置19 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1524 置20 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1525 置21 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1526 置22 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1527 置23 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1528 置24 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1529 置25 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1530 置26 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1531 置27 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1532 置28 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1533 置29 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1534 置30 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1535 置31 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 1536 置32 4-FPh -CO- -CH2- -CH2-cHx- 置33 ──────────────────────────────────── 化合物 番 号 R12 A B E Z ──────────────────────────────────── 1537 置 1 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1538 置 2 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1539 置 3 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1540 置 4 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1541 置 5 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1542 置 6 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1543 置 7 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1544 置 8 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1545 置 9 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1546 置10 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1547 置11 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1548 置12 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1549 置13 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1550 置14 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1551 置15 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1552 置16 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1553 置17 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1554 置18 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1555 置19 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1556 置20 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1557 置21 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1558 置22 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1559 置23 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1560 置24 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1561 置25 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1562 置26 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1563 置27 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1564 置28 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1565 置29 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1566 置30 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1567 置31 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1568 置32 3,4-diClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1569 置 1 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1570 置 2 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1571 置 3 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1572 置 4 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1573 置 5 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1574 置 6 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1575 置 7 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1576 置 8 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1577 置 9 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1578 置10 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1579 置11 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1580 置12 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1581 置13 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1582 置14 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1583 置15 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1584 置16 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1585 置17 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1586 置18 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1587 置19 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1588 置20 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1589 置21 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1590 置22 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1591 置23 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1592 置24 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1593 置25 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1594 置26 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1595 置27 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1596 置28 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1597 置29 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1598 置30 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1599 置31 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1600 置32 3,4-diClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1601 置 1 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1602 置 2 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1603 置 3 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1604 置 4 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1605 置 5 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1606 置 6 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1607 置 7 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1608 置 8 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1609 置 9 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1610 置10 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1611 置11 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1612 置12 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1613 置13 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1614 置14 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1615 置15 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1616 置16 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1617 置17 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1618 置18 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1619 置19 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1620 置20 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1621 置21 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1622 置22 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1623 置23 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1624 置24 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1625 置25 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1626 置26 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1627 置27 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1628 置28 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1629 置29 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1630 置30 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1631 置31 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1632 置32 4-ClPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1633 置 1 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1634 置 2 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1635 置 3 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1636 置 4 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1637 置 5 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1638 置 6 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1639 置 7 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1640 置 8 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1641 置 9 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1642 置10 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1643 置11 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1644 置12 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1645 置13 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1646 置14 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1647 置15 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1648 置16 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1649 置17 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1650 置18 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1651 置19 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1652 置20 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1653 置21 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1654 置22 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1655 置23 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1657 置25 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1658 置26 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1659 置27 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1660 置28 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1661 置29 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1662 置30 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1663 置31 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1664 置32 4-ClPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1665 置 1 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1666 置 2 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1667 置 3 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1668 置 4 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1669 置 5 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1670 置 6 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1671 置 7 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1672 置 8 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1673 置 9 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1674 置10 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1675 置11 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1676 置12 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1677 置13 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1678 置14 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1679 置15 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1680 置16 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1681 置17 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1682 置18 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1683 置19 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1684 置20 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1686 置22 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1687 置23 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1688 置24 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1689 置25 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1690 置26 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1691 置27 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1692 置28 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1693 置29 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1694 置30 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1695 置31 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1696 置32 4-FPh -CO- 単結合 -C(Me)2- 置33 1697 置 1 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1698 置 2 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1699 置 3 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1700 置 4 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1701 置 5 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1702 置 6 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1703 置 7 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1704 置 8 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1705 置 9 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1706 置10 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1707 置11 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1708 置12 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1709 置13 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1710 置14 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1711 置15 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1712 置16 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1713 置17 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1714 置18 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1715 置19 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1716 置20 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1717 置21 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1718 置22 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1719 置23 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1720 置24 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1721 置25 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1722 置26 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1723 置27 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1724 置28 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1725 置29 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1726 置30 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1727 置31 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1728 置32 4-FPh -CO- -CH2- -C(Me)2- 置33 1729 置 5 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1730 置 6 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1731 置 7 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1732 置 8 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1733 置 9 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1734 置10 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1735 置11 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1736 置17 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1737 置18 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1738 置 5 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1739 置 6 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1740 置 7 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1741 置 8 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1742 置 9 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1744 置11 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1745 置17 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1746 置18 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1747 置 5 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1748 置 6 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1749 置 7 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1750 置 8 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1751 置 9 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1752 置10 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1753 置11 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1754 置17 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1755 置18 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2- 置33 1756 置 5 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1757 置 6 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1758 置 7 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1759 置 8 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1760 置 9 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1761 置10 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1762 置11 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1763 置17 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1764 置18 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1765 置 5 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1766 置 6 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1767 置 7 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1768 置 8 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1769 置 9 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1770 置10 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1771 置11 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1772 置17 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1773 置18 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1774 置 5 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1775 置 6 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1776 置 7 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1777 置 8 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1778 置 9 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1779 置10 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1780 置11 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1781 置17 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1782 置18 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2CH2- 置33 1783 置 5 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1784 置 6 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1785 置 7 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1786 置 8 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1787 置 9 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1788 置10 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1789 置11 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1790 置17 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1791 置18 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1792 置 5 4-ClPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1793 置 6 4-ClPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1794 置 7 4-ClPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1795 置 8 4-ClPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1796 置 9 4-ClPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1797 置10 4-ClPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1798 置11 4-ClPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1799 置17 4-ClPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1800 置18 4-ClPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1801 置 5 4-FPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1802 置 6 4-FPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1803 置 7 4-FPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1804 置 8 4-FPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1805 置 9 4-FPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1806 置10 4-FPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1807 置11 4-FPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1808 置17 4-FPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1809 置18 4-FPh -CH2- 単結合 -(CH2)3- 置33 1810 置 5 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1811 置 6 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1812 置 7 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1813 置 8 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1814 置 9 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1815 置10 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1816 置11 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1817 置17 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1818 置18 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1819 置 5 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1820 置 6 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1821 置 7 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1822 置 8 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1823 置 9 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1824 置10 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1825 置11 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1826 置17 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1827 置18 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1828 置 5 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1829 置 6 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1830 置 7 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1831 置 8 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1832 置 9 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1833 置10 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1834 置11 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1835 置17 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1836 置18 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 1837 置 5 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1838 置 6 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1839 置 7 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1840 置 8 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1841 置 9 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1842 置10 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1843 置11 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1844 置17 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1845 置18 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1846 置 5 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1847 置 6 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1848 置 7 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1849 置 8 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1850 置 9 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1851 置10 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1852 置11 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1853 置17 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1854 置18 4-ClPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1855 置 5 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1856 置 6 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1857 置 7 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1858 置 8 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1859 置 9 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1860 置10 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1861 置11 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1862 置17 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1863 置18 4-FPh -CH2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 1864 置 5 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1865 置 6 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1866 置 7 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1867 置 8 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1868 置 9 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1869 置10 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1870 置11 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1871 置17 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1872 置18 3,4-diClPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1873 置 5 4-ClPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1874 置 6 4-ClPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1875 置 7 4-ClPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1876 置 8 4-ClPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1877 置 9 4-ClPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1878 置10 4-ClPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1879 置11 4-ClPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1880 置17 4-ClPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1881 置18 4-ClPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1882 置 5 4-FPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1883 置 6 4-FPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1884 置 7 4-FPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1885 置 8 4-FPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1886 置 9 4-FPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1887 置10 4-FPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1888 置11 4-FPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1889 置17 4-FPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1890 置18 4-FPh -CH2- 単結合 -C(Me)2- 置33 1891 置 5 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1892 置 6 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1893 置 7 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1894 置 8 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1895 置 9 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1896 置10 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1897 置11 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1898 置17 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1899 置18 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1900 置 5 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1901 置 6 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1902 置 7 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1903 置 8 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1904 置 9 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1905 置10 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1906 置11 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1907 置17 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1908 置18 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1909 置 5 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1910 置 6 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1911 置 7 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1912 置 8 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1913 置 9 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1914 置10 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1915 置11 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1916 置17 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1917 置18 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2- 置33 1918 置 5 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1919 置 6 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1920 置 7 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1921 置 8 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1922 置 9 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1923 置10 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1924 置11 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1925 置17 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1926 置18 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1927 置 5 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1928 置 6 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1929 置 7 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1930 置 8 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1931 置 9 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1932 置10 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1933 置11 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1934 置17 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1935 置18 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1936 置 5 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1937 置 6 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1938 置 7 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1939 置 8 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1940 置 9 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1941 置10 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1942 置11 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1943 置17 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1944 置18 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2CH2- 置33 1945 置 5 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1946 置 6 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1947 置 7 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1948 置 8 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1949 置 9 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1950 置10 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1951 置11 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1952 置17 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1953 置18 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1954 置 5 4-ClPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1955 置 6 4-ClPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1956 置 7 4-ClPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1957 置 8 4-ClPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1958 置 9 4-ClPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1959 置10 4-ClPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1960 置11 4-ClPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1961 置17 4-ClPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1962 置18 4-ClPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1963 置 5 4-FPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1964 置 6 4-FPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1965 置 7 4-FPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1966 置 8 4-FPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1967 置 9 4-FPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1968 置10 4-FPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1969 置11 4-FPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1970 置17 4-FPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1971 置18 4-FPh -CH2- -CH2- -(CH2)3- 置33 1972 置 5 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1973 置 6 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1974 置 7 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1975 置 8 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1976 置 9 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1977 置10 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1978 置11 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1979 置17 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1980 置18 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1981 置 5 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1982 置 6 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1983 置 7 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1984 置 8 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1985 置 9 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1986 置10 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1987 置11 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1988 置17 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1989 置18 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1990 置 5 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1991 置 6 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1992 置 7 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1993 置 8 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1994 置 9 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1995 置10 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1996 置11 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1997 置17 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1998 置18 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 1999 置 5 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2000 置 6 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2001 置 7 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2002 置 8 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2003 置 9 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2004 置10 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2005 置11 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2006 置17 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2007 置18 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2008 置 5 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2009 置 6 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2010 置 7 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2011 置 8 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2012 置 9 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2013 置10 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2014 置11 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2015 置17 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2016 置18 4-ClPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2017 置 5 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2018 置 6 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2019 置 7 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2020 置 8 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2021 置 9 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2022 置10 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2023 置11 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2024 置17 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2025 置18 4-FPh -CH2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2026 置 5 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2027 置 6 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2028 置 7 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2029 置 8 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2030 置 9 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2031 置10 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2032 置11 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2033 置17 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2034 置18 3,4-diClPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2035 置 5 4-ClPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2036 置 6 4-ClPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2037 置 7 4-ClPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2038 置 8 4-ClPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2039 置 9 4-ClPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2040 置10 4-ClPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2041 置11 4-ClPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2042 置17 4-ClPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2043 置18 4-ClPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2044 置 5 4-FPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2045 置 6 4-FPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2046 置 7 4-FPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2047 置 8 4-FPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2048 置 9 4-FPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2049 置10 4-FPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2050 置11 4-FPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2051 置17 4-FPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2052 置18 4-FPh -CH2- -CH2- -C(Me)2- 置33 ──────────────────────────────────── 化合物 番 号 R12 A B E Z ──────────────────────────────────── 2053 置 5 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2054 置 6 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2055 置 7 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2056 置 8 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2057 置 9 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2058 置10 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2059 置11 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2060 置17 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2061 置18 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2062 置 5 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2063 置 6 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2064 置 7 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2065 置 8 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2066 置 9 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2067 置10 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2068 置11 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2069 置17 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2070 置18 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2071 置 5 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2072 置 6 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2073 置 7 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2074 置 8 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2075 置 9 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2076 置10 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2077 置11 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2078 置17 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2079 置18 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2- 置33 2080 置 5 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2081 置 6 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2082 置 7 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2083 置 8 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2084 置 9 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2085 置10 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2086 置11 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2087 置17 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2088 置18 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2089 置 5 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2090 置 6 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2091 置 7 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2092 置 8 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2093 置 9 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2094 置10 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2095 置11 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2096 置17 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2097 置18 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2098 置 5 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2099 置 6 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2100 置 7 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2101 置 8 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2102 置 9 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2103 置10 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2104 置11 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2105 置17 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2106 置18 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2CH2- 置33 2107 置 5 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2108 置 6 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2109 置 7 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2110 置 8 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2111 置 9 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2112 置10 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2113 置11 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2114 置17 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2115 置18 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2116 置 5 4-ClPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2117 置 6 4-ClPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2118 置 7 4-ClPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2119 置 8 4-ClPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2120 置 9 4-ClPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2121 置10 4-ClPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2122 置11 4-ClPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2123 置17 4-ClPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2124 置18 4-ClPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2125 置 5 4-FPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2126 置 6 4-FPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2127 置 7 4-FPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2128 置 8 4-FPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2129 置 9 4-FPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2130 置10 4-FPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2131 置11 4-FPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2132 置17 4-FPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2133 置18 4-FPh -SO2- 単結合 -(CH2)3- 置33 2134 置 5 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2135 置 6 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2136 置 7 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2137 置 8 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2138 置 9 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2139 置10 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2140 置11 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2141 置17 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2142 置18 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2143 置 5 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2144 置 6 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2145 置 7 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2146 置 8 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2147 置 9 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2148 置10 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2149 置11 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2150 置17 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2151 置18 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2152 置 5 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2153 置 6 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2154 置 7 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2155 置 8 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2156 置 9 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2157 置10 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2158 置11 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2159 置17 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2160 置18 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2C(Me)2- 置33 2161 置 5 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2162 置 6 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2163 置 7 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2164 置 8 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2165 置 9 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2166 置10 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2167 置11 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2168 置17 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2169 置18 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2170 置 5 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2171 置 6 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2172 置 7 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2173 置 8 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2174 置 9 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2175 置10 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2176 置11 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2177 置17 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2178 置18 4-ClPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2179 置 5 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2180 置 6 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2181 置 7 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2182 置 8 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2183 置 9 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2184 置10 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2185 置11 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2186 置17 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2187 置18 4-FPh -SO2- 単結合 -CH2-cPr- 置33 2188 置 5 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2189 置 6 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2190 置 7 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2191 置 8 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2192 置 9 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2193 置10 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2194 置11 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2195 置17 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2196 置18 3,4-diClPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2197 置 5 4-ClPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2198 置 6 4-ClPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2199 置 7 4-ClPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2200 置 8 4-ClPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2201 置 9 4-ClPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2202 置10 4-ClPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2203 置11 4-ClPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2204 置17 4-ClPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2205 置18 4-ClPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2206 置 5 4-FPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2207 置 6 4-FPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2208 置 7 4-FPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2209 置 8 4-FPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2210 置 9 4-FPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2211 置10 4-FPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2212 置11 4-FPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2213 置17 4-FPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2214 置18 4-FPh -SO2- 単結合 -C(Me)2- 置33 2215 置 5 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2216 置 6 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2217 置 7 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2218 置 8 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2219 置 9 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2220 置10 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2221 置11 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2222 置17 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2223 置18 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2224 置 5 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2225 置 6 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2226 置 7 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2227 置 8 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2228 置 9 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2229 置10 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2230 置11 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2231 置17 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2232 置18 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2233 置 5 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2234 置 6 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2235 置 7 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2236 置 8 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2237 置 9 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2238 置10 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2239 置11 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2240 置17 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2241 置18 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2- 置33 2242 置 5 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2243 置 6 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2244 置 7 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2245 置 8 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2246 置 9 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2247 置10 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2248 置11 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2249 置17 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2250 置18 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2251 置 5 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2252 置 6 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2253 置 7 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2254 置 8 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2255 置 9 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2256 置10 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2257 置11 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2258 置17 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2259 置18 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2260 置 5 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2261 置 6 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2262 置 7 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2263 置 8 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2264 置 9 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2265 置10 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2266 置11 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2267 置17 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2268 置18 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2CH2- 置33 2269 置 5 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2270 置 6 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2271 置 7 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2272 置 8 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2273 置 9 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2274 置10 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2275 置11 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2276 置17 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2277 置18 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2278 置 5 4-ClPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2279 置 6 4-ClPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2280 置 7 4-ClPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2281 置 8 4-ClPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2282 置 9 4-ClPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2283 置10 4-ClPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2284 置11 4-ClPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2285 置17 4-ClPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2286 置18 4-ClPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2287 置 5 4-FPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2288 置 6 4-FPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2289 置 7 4-FPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2290 置 8 4-FPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2291 置 9 4-FPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2292 置10 4-FPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2293 置11 4-FPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2294 置17 4-FPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2295 置18 4-FPh -SO2- -CH2- -(CH2)3- 置33 2296 置 5 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2297 置 6 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2298 置 7 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2299 置 8 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2300 置 9 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2301 置10 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2302 置11 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2303 置17 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2304 置18 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2305 置 5 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2306 置 6 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2307 置 7 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2308 置 8 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2309 置 9 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2310 置10 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2311 置11 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2312 置17 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2313 置18 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2314 置 5 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2315 置 6 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2316 置 7 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2317 置 8 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2318 置 9 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2319 置10 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2320 置11 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2321 置17 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2322 置18 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2C(Me)2- 置33 2323 置 5 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2324 置 6 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2325 置 7 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2326 置 8 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2327 置 9 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2328 置10 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2329 置11 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2330 置17 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2331 置18 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2332 置 5 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2333 置 6 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2334 置 7 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2335 置 8 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2336 置 9 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2337 置10 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2338 置11 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2339 置17 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2340 置18 4-ClPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2341 置 5 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2342 置 6 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2343 置 7 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2344 置 8 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2345 置 9 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2346 置10 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2347 置11 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2348 置17 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2349 置18 4-FPh -SO2- -CH2- -CH2-cPr- 置33 2350 置 5 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2351 置 6 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2352 置 7 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2353 置 8 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2354 置 9 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2355 置10 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2356 置11 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2357 置17 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2358 置18 3,4-diClPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2359 置 5 4-ClPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2360 置 6 4-ClPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2361 置 7 4-ClPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2362 置 8 4-ClPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2363 置 9 4-ClPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2364 置10 4-ClPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2365 置11 4-ClPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2366 置17 4-ClPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2367 置18 4-ClPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2368 置 5 4-FPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2369 置 6 4-FPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2370 置 7 4-FPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2371 置 8 4-FPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2372 置 9 4-FPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2373 置10 4-FPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2374 置11 4-FPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2375 置17 4-FPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 2376 置18 4-FPh -SO2- -CH2- -C(Me)2- 置33 ──────────────────────────────────── 表中、「Me」はメチル、「iPr 」はイソプロピル、「A
c」はアセチル、「Ph」はフェニル基、「cPr 」はシク
ロプロパン−1,1−ジイル、「cBu 」はシクロブタン
−1,1−ジイル、「cPn 」はシクロペンタン−1,1
−ジイル、「cHx 」はシクロヘキサン−1,1−ジイル
を示し、式S* →Oは前記と同意義を示す。
【0342】尚、上記化合物のうち、好適な化合物とし
ては、化合物番号1乃至64、及び97乃至160の化
合物を挙げることができる。
【0343】更に好適な化合物としては、化合物番号5
乃至11、17、18、37乃至43、49、50、1
01乃至107、113、114、133乃至139、
145、及び146の化合物を挙げることができる。
【0344】最も好適には、化合物番号7、8、10、
11、39、40、42、43、103、104、10
6、107、135、136、138及び139の化合
物を挙げることができる。
【0345】以下に、参考例を挙げて、具体的に説明す
る。
【0346】
【参考例1】 スピロ[ベンゾ[c]チオフェン−1
(3H),4′−ピペリジン]−(2S)−オキシド
塩酸塩
【0347】
【参考例1(a)】 1’−tert−ブトキシカルボ
ニル−スピロ[ベンゾ[c]チオフェン−1(3H),
4’−ピペリジン] 2−ブロモベンジルチオール81.0g(0.40モ
ル)をテトラヒドロフラン800ml中に溶解し、−7
8℃にてn−ブチルリチウム(1.6モル、ヘキサン溶
液)516ml(0.84モル)を6時間かけて滴下し
た。同温にて1.5時間撹拌した後、N−tert−ブ
トキシカルボニル−4−ピペリドン79.5g(0.4
0モル)のテトラヒドロフラン800ml溶液を3時間
かけて滴下した。さらに1時間撹拌した後、飽和塩化ア
ンモニウム水溶液を加え、次いで酢酸エチルで抽出し
た。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣に4規定硫酸2リ
ットルを加え、14時間加熱還流した。次いで氷冷下、
水酸化ナトリウム350g(8.75モル)でアルカリ
性とし、ジ−tert−ブチルジカーボネート102g
(0.47モル)を加え、1時間撹拌した。塩化メチレ
ンで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒;n−ヘキサ
ン:酢酸エチル=97:3)により精製し、目的化合物
を白色結晶として、56g得た。
【0348】融点 131.0〜132.5℃(n−ヘ
キサン−酢酸エチル) 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl3 )δ
ppm:7.28-7.24 (3H, m), 7.17-7.15 (1H, m), 4.23
(2H, br, s),4.19 (2H, s), 3.02 (2H, br, s), 2.07
(2H, dt, J=4.4, 13Hz),1.88 (2H, m), 1.49 (9H, s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr):297
0、1680、1428、1234、1163 マススペクトル(FAB)m/z:306((M+H)
+ )。
【0349】
【参考例1(b)】 1’−tert−ブトキシカルボ
ニル−スピロ[ベンゾ[c]チオフェン−1(3H),
4’−ピペリジン]−2−オキシド 参考例1(a)で得られた1’−tert−ブトキシカ
ルボニル−スピロ[ベンゾ[c]チオフェン−1(3
H),4’−ピペリジン]42.0g(0.14モル)
をクロロホルム 420ml中に溶解し、炭酸水素ナト
リウム12.7g(0.15モル)を加え、氷冷下、m
−クロロ過安息香酸28.0g(85%含有、0.14
モル)を少量ずつ加えた。さらに氷冷下、30分間撹拌
後、ヨウ化カリウム10gを加え、室温にて30分間撹
拌した。水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(溶出溶媒;n−ヘキサン:酢
酸エチル=1:1)により精製し、目的化合物を白色結
晶として、42g得た。
【0350】融点 103〜107℃(ジイソプロピル
エーテル) 核磁気共鳴スペクトル(400MHz、CDCl3 )δ
ppm:7.37-7.32 (3H, m), 7.25-7.23 (1H, m), 4.37
(1H, d, J=16.7Hz),4.13 (2H, br, s), 4.05 (2H, d,
J=16.7Hz), 3.21 (2H, br, s),2.43 (1H, m), 2.21 (1
H, m), 1.70 (1H, m), 1.61 (1H, m), 1.50 (9H, s) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr):298
5、1686、1429、1368、1286、116
7 マススペクトル(FAB)m/z:322((M+H)
+ )。
【0351】
【参考例1(c)】 スピロ[ベンゾ[c]チオフェン
−1(3H),4’−ピペリジン]−2−オキシド 参考例1(b)で得られた1’−tert−ブトキシカ
ルボニル−スピロ[ベンゾ[c]チオフェン−1(3
H),4’−ピペリジン]−2−オキシド42.0g
(0.13モル)を2−プロパノール(420ml)に
溶解し、氷冷下、4規定塩酸ジオキサン溶液(150m
l)を加え、4時間撹拌した。ジエチルエーテル(20
0ml)を加え、氷冷下1時間放置後、析出した結晶を
濾取し、得られた結晶を5%水酸化ナトリウム水(20
0ml)に溶解した。塩化メチレンで抽出し、有機層を
無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、目的
化合物を白色アモルファスとして、21.7g得た。
【0352】
【参考例1(d)】 スピロ[ベンゾ[c]チオフェン
−1(3H),4’−ピペリジン]−(2S)−オキシ
ド (S)−(+)−マンデル酸塩 参考例1(c)で得られたスピロ[ベンゾ[c]チオフ
ェン−1(3H),4’−ピペリジン]−2−オキシド
33.51g(0.15モル)をアセトニトリル335
0ml中に加熱溶解し、次いで(S)−(+)−マンデ
ル酸11.52g(75.7ミリモル)を溶解し、室温
で一晩放置した。析出した結晶を濾取し、目的化合物を
19.62g白色結晶として得た。母液を減圧濃縮し、
残渣を5%水酸化ナトリウム水に溶解し、塩化メチレン
で抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、溶媒を減圧留去し、残渣22.01g(99.5ミ
リモル)を得た。残渣をアセトニトリル2200ml中
に加熱溶解し、次いで(R)−(−)−マンデル酸7.
22g(47.5ミリモル)を溶解し、室温で一晩放置
した。析出した結晶を濾取し、スピロ[ベンゾ[c]チ
オフェン−1(3H),4’−ピペリジン]−(2R)
−オキシド (R)−(−)−マンデル酸塩を15.9
1g白色結晶として得た。さらに母液を減圧濃縮し、残
渣を5%水酸化ナトリウム水に溶解し、塩化メチレンで
抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、
溶媒を減圧留去し、残渣11.51g(52.0ミリモ
ル)を得た。残渣をアセトニトリル1100ml中に加
熱溶解し、次いで(S)−(+)−マンデル酸3.95
g(26.0ミリモル)を溶解し、室温で一晩放置し
た。析出した結晶を濾取し、目的化合物を4.73g白
色結晶として得た。得られた目的化合物を合わせたうち
24.00gを再度アセトニトリル9.6リットル中に
加熱溶解し、室温で一晩放置した。析出した結晶20.
13gを得た。この光学純度は1’−tert−ブトキ
シカルボニルスピロ[ベンゾ[c]チオフェン−1(3
H),4’−ピペリジン]−(2S)−オキシドに導
き、HPLC分析により99.8%eeであることを確
認した。
【0353】融点 197〜200℃ [α]D 24 +78.3(C=1、メタノール) 赤外吸収スペクトル νmax cm-1(KBr):338
8、3029、1629、1332、1017 マススペクトル(EI)m/z:221(フリー体M
+ )。
【0354】
【参考例1(e)】 1’−tert−ブトキシカルボ
ニル−スピロ[ベンゾ[c]チオフェン−1(3H),
4’−ピペリジン]−(2S)−オキシド 参考例1(d)で合成した(S)−(+)−マンデル酸
塩19.88g(53.2ミリモル)を5%水酸化ナト
リウム水(200ml)に溶解し、塩化メチレン(20
0ml×3回)で抽出した。有機層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣1
1.80gを塩化メチレン300ml中に溶解し、氷冷
下、トリエチルアミン11.2ml(79.8ミリモ
ル)、ジ−tert−ブチルジカーボネート17.4g
(79.8ミリモル)を順次加え、さらに室温で一晩撹
拌した。反応液を塩化メチレン200mlで希釈し、1
0%クエン酸水、飽和炭酸水素ナトリウム水で洗浄後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶
媒;n−ヘキサン:酢酸エチル=4:6〜3:7)によ
り精製し、ジイソプロピルエーテルより再結晶を行い、
目的化合物を白色結晶として、13.1g得た。
【0355】融点 129.0〜130.5℃(ジイソ
プロピルエーテル) [α]D 24 +57.1(C=1、メタノール) HPLC分析; カラム;Chiral Cel OD(250×4.6
mmφ) 溶出溶媒;n−ヘキサン:2−プロパノール=80:2
0 流速;0.8ml/分 保持時間;18.1分 核磁気共鳴スペクトル、赤外吸収スペクトル及びマスス
ペクトルは参考例1(b)で製造したラセミ体のそれと
一致した。
【0356】
【参考例1(f)】 スピロ[ベンゾ[c]チオフェン
−1(3H),4’−ピペリジン]−(2S)−オキシ
ド 塩酸塩 参考例1(e)で得られた1’−tert−ブトキシカ
ルボニル−スピロ[ベンゾ[c]チオフェン1(3
H),4’−ピペリジン]−(2S)−オキシド13.
0g(40.4ミリモル)を2−プロパノール(130
ml)に溶解し、氷冷下、4規定塩酸ジオキサン(50
ml)を加え、1時間撹拌後、さらに室温で6時間撹拌
した。減圧濃縮し、ジエチルエーテル(200ml)を
加え、再び減圧留去した(3回)。得られた残渣をメタ
ノール:ジエチルエーテル=1:2の混合溶液(300
ml)より再結晶を行い、目的化合物を白色結晶とし
て、9.10g得た。
【0357】融点 209.5〜210.5℃ [α]D 24 +63.8(C=1、メタノール)。
【0358】
【参考例2】 1’−tert−ブトキシカルボニルス
ピロ[ベンゾ[c]チオフェン−1(3H),4’−ピ
ペリジン]−2(S)−オキシド 1’−tert−ブトキシカルボニルスピロ[ベンゾ
[c]チオフェン−1(3H),4’−ピペリジン]
250mg(0.82mmol)を塩化メチレン5ml
中に溶解し、F.A.Davisらの方法(J.Am.Chem.
Soc., 114, 1428(1992))に従って合成した、(3’S,
2R)−(−)−N−(フェニルスルホニル)(3,3
−ジクロロカンフォリル)オキサジリジン 308mg
(0.82mmol)を加え、室温で一晩攪拌した。更
に、ヨウ化カリウム 500mgを加え、室温で30分
間攪拌した後、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸
ナトリウム上で乾燥した。溶媒を減圧下で留去し、残渣
をシリカカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサ
ン:酢酸エチル=1:2)にて精製し、目的化合物24
5mgを得た。
【0359】光学純度 94%ee。
【0360】
【参考例3】 3−(3,4−ジクロロフェニル)−3
−ブテン−1−オールtert−ブチルジメチルシリル
エーテル
【0361】
【参考例3(a)】 3−(3,4−ジクロロフェニ
ル)−3−オキソ−1−プロパノール エチル 3−(3,4−ジクロロフェニル)−3−オキ
ソプロピオネート119g(0.46モル)をエタノー
ル2.4リットル中に溶解し、オルトギ酸エチル115
ml(0.68モル)及びp−トルエンスルホン酸4.
4g(22.8ミリモル)を加え、8時間加熱還流し
た。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水1リットル中に
注ぎ、酢酸エチルで抽出した(700ml×3回)。有
機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。溶媒を減圧留去後、残渣をテトラヒドロフラン8
00mlに溶解し、水素化リチウムアルミニウム25.
9g(0.68モル)のテトラヒドロフラン4リットル
の懸濁液に、氷冷下、1時間かけて滴下した。0℃にて
2時間撹拌後、水(250ml)、10%水酸化ナトリ
ウム水(125ml)を加え、さらに室温で1時間撹拌
した。セライト濾過し、濾液を飽和食塩水1リットル中
に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、減圧濃縮し、残渣をクロロホルム50
0ml中に溶解した。氷冷下、50%トリフルオロ酢酸
500mlを30分間かけて滴下し、さらに30分間撹
拌した。塩化メチレン300mlで反応液を希釈し、有
機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水で洗浄後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒;n−ヘ
キサン:酢酸エチル=9:1)により精製し、目的化合
物を白色結晶として、46g得た。
【0362】核磁気共鳴スペクトル(270MHz、C
DCl3 )δppm:8.05 (1H, d, J=2.0Hz), 7.79 (1
H, dd, J=2.0, 8.1Hz),7.57 (1H, d, J=8.1Hz), 4.04
(2H, m), 3.19 (2H, t, J=5.3Hz),2.44 (1H, t, J=6.6H
z, D2O 消失)。
【0363】
【参考例3(b)】 3−(3,4−ジクロロフェニ
ル)−3−オキソ−1−プロパノール tert−ブチ
ルジメチルシリルエーテル 参考例3(a)で得られた3−(3,4−ジクロロフェ
ニル)−3−オキソ−1−プロパノール46.0g
(0.21モル)をジメチルホルムアミド460ml中
に溶解し、氷冷下、トリエチルアミン35ml(0.2
5モル)及びtert−ブチルジメチルクロロシラン3
8.0g(0.25モル)を加え、0℃にて2時間撹拌
した。反応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出を行い、
有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶出溶媒;n−ヘキサン:酢酸エチ
ル=96:4)により精製し、目的化合物を白色結晶と
して、66.1g得た。
【0364】核磁気共鳴スペクトル(270MHz、C
DCl3 )δppm:8.06 (1H, d, J=2.0Hz), 7.80 (1
H, dd, J=2.0, 8.3Hz),7.55 (1H, d, J=8.3Hz), 4.04
(2H, t, J=6.3Hz),3.13 (2H, t, J=6.3Hz), 0.85 (9H,
s), 0.04 (6H, s)。
【0365】
【参考例3(c)】 3−(3,4−ジクロロフェニ
ル)−3−ブテン−1−オール tert−ブチルジメ
チルシリルエーテル メチルトリフェニルホスホニウム ブロミド215g
(0.60モル)及びt−ブトキシカリウム54g
(0.48モル)を乾燥したベンゼン2リットルに加
え、室温で9時間撹拌した。参考例3(b)で得られた
3−(3,4−ジクロロフェニル)−3−オキソ−1−
プロパノール tert−ブチルジメチルシリルエーテ
ル40g(0.12モル)をベンゼン800mlに溶解
して、2時間半かけてゆっくり滴下した。水1リットル
を反応液に加え、氷冷下、30分間撹拌した。有機層を
分液後、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルクロ
マトグラフィー(溶出溶媒:n−ヘキサン)にて精製
し、目的化合物を23.5g得た。各種機器データは実
施例1(b)で得られたものと一致した。
【0366】
【参考例4】 3−(3,4−ジクロロフェニル)−3
−ブテン−1−オールtert−ブチルジメチルシリル
エーテル 金属マグネシウム片129mg(5.31ミリモル)を
ジエチルエーテル2mlに加え、少量のヨウ素を加え
た。3,4−ジクロロブロモベンゼン1.01g(4.
47ミリモル)のジエチルエーテル(1ml)溶液を滴
下して、窒素雰囲気下、室温で1時間撹拌した。3−ヨ
ード−3−ブテン−1−オール tert−ブチルジメ
チルシリルエーテル500mg(1.60ミリモル)及
びビストリフェニルホスフィンパラジウム(II)クロ
リド34mg(0.048ミリモル)を乾燥したテトラ
ヒドロフラン5mlに溶解して、窒素雰囲気下、室温に
て、先に調製したグリニヤール試薬を滴下した。反応液
を昇温しながらジエチルエーテルを留去した後、60℃
で1時間攪拌した。反応液を塩化アンモニウム水溶液に
注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗
浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出
溶媒:n−ヘキサン)で精製を行い、目的化合物を42
2mg得た。各種機器データは実施例1(b)で得られ
たものと一致した。
【0367】
【発明の効果】
[NK1 受容体結合試験](a)粗肺膜標本の作製 Hartley 系雄性モルモットの肺より粗膜標本を作製し
た。即ち、クロロホルム麻酔下に、腹部大静脈より放血
殺し、速やかに肺気道組織を摘出した。摘出肺は緩衝液
(50mMトリス−塩酸、pH7.4)で潅流した
後、細切し、更に、緩衝液(120mM塩化ナトリウ
ム及び5mM塩化カリウム含有緩衝液)中で、ポリト
ロンを用いてホモゲナイズした。ホモジネートより、ナ
イロンメッシュ(50μm)濾過にて、組織塊を除去
し、遠心分離した(30,000xg、30分、4
℃)。ペレットを、氷冷緩衝液(10mM EDTA
及び300mM塩化カリウム含有緩衝液)に再浮遊
し、4℃で、60分静置した後、2回遠心洗浄した(3
0,000xg、15分、4℃)。粗膜標本は、使用す
るまで、−80℃で保存した。(b)受容体結合試験 被検薬物と、〔3 H〕−サブスタンスP(最終濃度1n
M)の混合液250μl(50mMトリス−塩酸、pH
7.4、6mM塩化マンガン、800μg/ml BS
A、8μg/mlキモスタチン、8μg/mlロイペプ
チン、80μg/mlバシトラシン、20μg/mlホ
スホラミドン)に、粗肺膜標本液250μlを加え、室
温で、30分インキュベートした。反応後、自動濾過装
置(Brandel 社)を用いて、GF/Bグラス繊維フィル
ター(Whatman 社)上に膜成分を回収した。尚、グラス
フィルターは、非特異結合を低く抑えるため、0.1%
ポリエチレンイミン液で、約4時間前処理して用いた。
膜成分回収フィルターを、ピコフロー4mlを含むミニ
プラスチックバイアルに移し、液体シンチレーション・
カウンター(ベックマン社、LSC3500)にて放射
活性を測定した。NK1 受容体結合作用は、50%結合
薬用量(IC50)で示した。
【0368】
【表1】表1 ─────────────────────── 被検薬物 IC50(ng/ml) ─────────────────────── 実施例1 5.9 ─────────────────────── 化合物A 38 化合物B (1000以上) 化合物C 6.5 ─────────────────────── 本発明の化合物は、in vitroのNK1 受容体結合試験に
おいて、先行技術の化合物のなかで最も強い活性を示し
た化合物Cと同等の活性を示した。
【0369】[NK2 受容体結合試験](a)粗回腸膜標本の作製 Hartley 系雄性モルモットの回腸より粗膜標本を作製し
た。即ち、クロロホルム麻酔下に、腹部大静脈より放血
殺し、速やかに回腸を摘出した。摘出回腸は、スライド
ガラスを用いて、内腔の内容物、分泌物、上皮を擦過、
剥離し、緩衝液(50mMトリス−塩酸、pH7.
4)中で細切後、更に、緩衝液(120mM塩化ナト
リウム及び5mM塩化カリウム含有緩衝液)中で、ポ
リトロンを用いてホモゲナイズした。ホモジネートよ
り、ナイロンメッシュ(50μm)濾過にて、組織塊を
除去し、遠心分離した(30,000xg、30分、4
℃)。ペレットを、氷冷緩衝液(10mM EDTA
及び300mM塩化カリウム含有緩衝液)に再浮遊
し、4℃で、60分静置した後、2回遠心洗浄した(3
0,000xg、15分、4℃)。粗膜標本は、使用す
るまで、−80℃で保存した。(b)受容体結合試験 被検薬物と、〔3 H〕−SR−48968(アマシャム
社、最終濃度1nM)の混合液250μl(50mMト
リス−塩酸、pH7.4、6mM塩化マンガン、800
μg/ml BSA、8μg/mlキモスタチン、8μ
g/mlロイペプチン、80μg/mlバシトラシン、
20μg/mlホスホラミドン)に、粗回腸膜標本液2
50μlを加え、室温で、30分インキュベートした。
反応後、自動濾過装置(Brandel 社)を用いて、GF/
Bグラス繊維フィルター(Whatman 社)上に膜成分を回
収した。尚、グラスフィルターは、非特異結合を低く抑
えるため、0.1%ポリエチレンイミン液で、約4時間
前処理して用いた。膜成分回収フィルターを、ピコフロ
ー4mlを含むミニプラスチックバイアルに移し、液体
シンチレーション・カウンター(ベックマン社、LSC
3500)にて放射活性を測定した。NK2 受容体結合
作用は、50%結合薬用量(IC50)で示した。
【0370】
【表2】表2 ─────────────────────── 被検薬物 IC50(ng/ml) ─────────────────────── 実施例1 0.85 ─────────────────────── 化合物A 18 化合物B 2.2 化合物C 31 ─────────────────────── 本発明の化合物は、in vitroのNK2 受容体結合試験に
おいて、先行技術の化合物よりも優れた活性を示した。
【0371】
【血管透過性亢進の抑制作用】健常モルモット(体重4
00g前後、ハートレー系雄性モルモット)を用い、N
1 受容体作動薬であるsubstance P (SP)による血
管透過性亢進を抑制する作用を漏出色素量を指標にして
調べた。ペントバルビタール(25mg/kg、i.
p.)で麻酔したモルモットの大腿静脈内に色素(Evan
s blue:20mg/kg、i.v.)、被検薬物の順に
投与して直ちにSP(1μg/kg)を静脈注射するこ
とにより、血管透過性の亢進を惹起した。15分後、モ
ルモットをクロロホルム麻酔下に致死させ、主気管部位
に漏出した色素量をHarada法(J. Pharm. Pharma
col. 23, 218(1971))に従って測定した。抑制作用は、
被検薬物投与モルモットの漏出色素量より求め、50%
抑制薬用量(ID50)で示した。
【0372】
【表3】表3 ─────────────────────── 被検薬物 ID50(mg/kg、i.v.) ─────────────────────── 実施例1 0.025 実施例3 0.047 ─────────────────────── 化合物A 5.8 化合物B (10以上) 化合物C 0.019 ─────────────────────── 本発明の化合物は、in vivo のNK1 受容体拮抗試験に
おいて、先行技術の化合物のなかで最も強い活性を示し
た化合物Cと同等の活性を示した。
【0373】
【気道収縮の抑制作用】健常モルモット(体重500g
前後、ハートレー系雄性モルモット)を用い、neurokin
in A(NKA)よりNK2 受容体に対する特異性の高い
NK2 受容体作動薬である[Nle10]−NKA[4−
10]による気道収縮に対する被検薬物の抑制効果をK
onzett−Roessler(Naunyn-Schmiedeber
gs Arch.Exp. Pathol. pharmakol. 195, 71(1940))の
変法に準じて、気道内圧を指標として調べた。即ち、ペ
ントバルビタール(30mg/kg、i.p.)で麻酔
したモルモットに気道カニューレを装着して、ガラミン
(gallamine 20mg/kg、i.v.)で
処置した後、速やかに8ml/kg、60回/分の陽圧
呼吸(Ugo−Basile、7025)を施した。人
工呼吸の気道内圧は、気管カニューレの側枝に装着した
圧力トランデューサー(日本電工、TP−200T)を
介して増幅、受感(日本電工、AP−601G)して、
レコーダー(日本電工、WT−685G)に記録した。
アトロピン(1mg/kg、i,v,)及びプロプラノ
ロール(1mg/kg、i.v.)で前処理した後、被
検薬物を静脈内投与し、5分後、4μg/kgの[Nl
10]−NKA[4−10]を投与して気道収縮を惹起
し、10分間気道内圧を測定した。抑制作用は被検薬物
非投与モルモットの気道収縮強度より求め、抑制%及び
50%抑制薬用量(ID50)で示した。
【0374】
【表4】表4 ─────────────────────── 被検薬物 ID50(mg/kg、i.v.) ─────────────────────── 実施例1 0.074 実施例2 0.047 ─────────────────────── 化合物A (10以上) 化合物B 0.37 化合物C 1.7 ─────────────────────── 本発明の化合物は、in vivo のNK2 受容体拮抗試験に
おいて、先行技術の化合物よりも顕著に優れた活性を示
した。
【0375】上記表1乃至4から明らかなように、本発
明の化合物は、NK1 受容体及びNK2 受容体の両方に
対して優れた拮抗作用を示した。より具体的には、本発
明の化合物は、先行技術と同程度の強さのNK1 受容体
に対する拮抗作用を示し、更に、先行技術よりも優れた
NK2 受容体に対する拮抗作用を示した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI A61P 13/02 A61P 13/02 25/28 25/28 27/16 27/16 29/00 29/00 37/08 37/08 43/00 111 43/00 111 C07M 7:00 (72)発明者 伊藤 一洋 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共 株式会社内 (72)発明者 中島 勝義 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共 株式会社内 (56)参考文献 国際公開95/28389(WO,A1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 495/10 A61K 31/438 A61K 31/5377 A61K 31/55 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (16)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(I): 【化1】 {式中、 R1 及びR2 は、同一又は異なって、アリール基、ヘテ
    ロアリール基、置換基群(a)より選択される基で1乃
    至3個置換されたアリール基、又は、置換基群(a)よ
    り選択される基で1乃至3個置換されたヘテロアリール
    基を示し、 R3 は低級アルキル基を示し、 Aは、メチレン基、カルボニル基又はスルホニル基を示
    し、 Bは、単結合、炭素数1乃至4個のアルキレン基又は炭
    素数2乃至4個のアルケニレン基を示し、 Dは、酸素原子又は硫黄原子を示し、 Eは、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1乃
    至6個のアルキレン基、又は炭素数3乃至6個のシクロ
    アルカン環を含む炭素数3乃至8個のアルキレン基を示
    し、 Gは、炭素数1乃至4個のアルキレン基又は炭素数2乃
    至4個のアルケニレン基を示し、 Jは、炭素数1乃至6個のアルキレン基を示し、 環Arは、アリール環、又は置換基群(a)より選択さ
    れる基で1乃至4個置換されたアリール環を示し、 式S* →Oは、酸素原子がS配位で硫黄原子に結合して
    いるスルホキシド基を示す。}で表わされる化合物、そ
    の薬理上許容される塩、そのエステル又はその他の誘導
    体。 [置換基群(a)] ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、ハロゲノ低級
    アルキル基、低級アルコキシ基、カルボキシ基、低級脂
    肪族アシル基、低級脂肪族アシルアミノ基、アミノ基、
    及び、シアノ基
  2. 【請求項2】請求項1において、 R1 が、アリール基、ヘテロアリール基又は下記置換基
    群(a)より選択される基で1乃至3個置換されたアリ
    ール基である化合物、その薬理上許容される塩、そのエ
    ステル又はその他の誘導体。
  3. 【請求項3】請求項1において、 R1 が、アリール基、又は下記置換基群(a1 )より選
    択される基で1乃至3個置換されたアリール基である化
    合物、その薬理上許容される塩、そのエステル又はその
    他の誘導体。 [置換基群(a1 )] 低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコ
    キシ基
  4. 【請求項4】請求項1乃至請求項3より選択されるいず
    れか1項において、 R2 が、アリール基又は置換基群(a)より選択される
    基で1乃至3個置換されたアリール基である化合物、そ
    の薬理上許容される塩、そのエステル又はその他の誘導
    体。
  5. 【請求項5】請求項1乃至請求項3より選択されるいず
    れか1項において、 R2 が、アリール基、又は1乃至3個のハロゲン原子で
    置換されたアリール基である化合物、その薬理上許容さ
    れる塩、そのエステル又はその他の誘導体。
  6. 【請求項6】請求項1乃至請求項5より選択されるいず
    れか1項において、 Aが、カルボニル基である化合物、その薬理上許容され
    る塩、そのエステル又はその他の誘導体。
  7. 【請求項7】請求項1乃至請求項6より選択されるいず
    れか1項において、 Bが、単結合である化合物、その薬理上許容される塩、
    そのエステル又はその他の誘導体。
  8. 【請求項8】請求項1乃至請求項7より選択されるいず
    れか1項において、 Dが、酸素原子である化合物、その薬理上許容される
    塩、そのエステル又はその他の誘導体。
  9. 【請求項9】請求項1乃至請求項8より選択されるいず
    れか1項において、 Eが、炭素数1乃至4個のアルキレン基、又は炭素数3
    乃至6個のシクロアルカン環を含む炭素数3乃至8個の
    アルキレン基である化合物、その薬理上許容される塩、
    そのエステル又はその他の誘導体。
  10. 【請求項10】請求項1乃至請求項8より選択されるい
    ずれか1項において、 Eが、メチレン基、エチレン基、ジメチルメチレン基、
    1,1−ジメチルエチレン基、2,2−ジメチルエチレ
    ン基、シクロプロパン−1,1−ジイル基、シクロブタ
    ン−1,1−ジイル基、シクロペンタン−1,1−ジイ
    ル基、シクロヘキサン−1,1−ジイル基、シクロプロ
    パン−1,1−ジイルメチル基、シクロブタン−1,1
    −ジイルメチル基、シクロペンタン−1,1−ジイルメ
    チル基又はシクロヘキサン−1,1−ジイルメチル基で
    ある化合物、その薬理上許容される塩、そのエステル又
    はその他の誘導体。
  11. 【請求項11】請求項1乃至請求項10より選択される
    いずれか1項において、 Gが、炭素数1乃至4個のアルキレン基である化合物、
    その薬理上許容される塩、そのエステル又はその他の誘
    導体。
  12. 【請求項12】請求項1乃至請求項10より選択される
    いずれか1項において、 Gが、炭素数2又は3個のアルキレン基である化合物、
    その薬理上許容される塩、そのエステル又はその他の誘
    導体。
  13. 【請求項13】請求項1乃至請求項12より選択される
    いずれか1項において、 Jが、炭素数1乃至4個のアルキレン基である化合物、
    その薬理上許容される塩、そのエステル又はその他の誘
    導体。
  14. 【請求項14】請求項1乃至請求項12より選択される
    いずれか1項において、 Jが、メチレン基又はエチレン基である化合物、その薬
    理上許容される塩、そのエステル又はその他の誘導体。
  15. 【請求項15】請求項1乃至請求項14より選択される
    いずれか1項において、 環Arが、アリール環、又は置換基群(a)より選択さ
    れる基で1乃至3個置換されたアリール環である化合
    物、その薬理上許容される塩、そのエステル又はその他
    の誘導体。
  16. 【請求項16】 請求項1において、 下記より選択されるいずれか1つの化合物、その薬理上
    許容される塩、そのエステル又はその他の誘導体。 (1)1−{2−[(5R)−(3,4−ジクロロフェ
    ニル)−3−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)
    オキサゾリジン−5−イル]エチル}スピロ[ベンゾ
    [c]チオフェン−1(3H),4’−ピペリジン]−
    (2S)−オキシド (2)1−{2−[(5R)−(4−クロロフェニル)
    −3−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)オキサ
    ゾリジン−5−イル]エチル}スピロ[ベンゾ[c]チ
    オフェン−1(3H),4’−ピペリジン]−(2S)
    −オキシド (3)1−{2−[(5R)−(4−フルオロフェニ
    ル)−3−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)オ
    キサゾリジン−5−イル]エチル}スピロ[ベンゾ
    [c]チオフェン−1(3H),4’−ピペリジン]−
    (2S)−オキシド (4)1−{2−[(2R)−(3,4−ジクロロフェ
    ニル)−4−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)
    モルホリン−2−イル]エチル}スピロ[ベンゾ[c]
    チオフェン−1(3H),4’−ピペリジン]−(2
    S)−オキシド (5)1−{2−[(2R)−(4−クロロフェニル)
    −4−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)モルホ
    リン−2−イル]エチル}スピロ[ベンゾ[c]チオフ
    ェン−1(3H),4’−ピペリジン]−(2S)−オ
    キシド (6)1−{2−[(2R)−(4−フルオロフェニ
    ル)−4−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)モ
    ルホリン−2−イル]エチル}スピロ[ベンゾ[c]チ
    オフェン−1(3H),4’−ピペリジン]−(2S)
    −オキシド (7)1−{2−[(2R)−(3,4−ジクロロフェ
    ニル)−4−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)
    ヘキサヒドロ−1,4−オキサゼピン−2−イル]エチ
    ル}スピロ[ベンゾ[c]チオフェン−1(3H),
    4’−ピペリジン]−(2S)−オキシド (8)1−{2−[(2R)−(4−クロロフェニル)
    −4−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)ヘキサ
    ヒドロ−1,4−オキサゼピン−2−イル]エチル}ス
    ピロ[ベンゾ[c]チオフェン−1(3H),4’−ピ
    ペリジン]−(2S)−オキシド (9)1−{2−[(2R)−(4−フルオロフェニ
    ル)−4−(3,4,5−トリメトキシベンゾイル)ヘ
    キサヒドロ−1,4−オキサゼピン−2−イル]エチ
    ル}スピロ[ベンゾ[c]チオフェン−1(3H),
    4’−ピペリジン]−(2S)−オキシド (10)1−{2−[(2R)−(3,4−ジクロロフ
    ェニル)−4−(3−イソプロピルオキシフェニル)ア
    セチル]モルホリン−2−イル]エチル}スピロ[ベン
    ゾ[c]チオフェン−1(3H),4’−ピペリジン]
    −(2S)−オキシド (11)1−{2−[(2R)−(4−クロロフェニ
    ル)−4−(3−イソプロピルオキシフェニル)アセチ
    ル]モルホリン−2−イル]エチル}スピロ[ベンゾ
    [c]チオフェン−1(3H),4’−ピペリジン]−
    (2S)−オキシド (12)1−{2−[(2R)−(4−フルオロフェニ
    ル)−4−(3−イソプロピルオキシフェニル)アセチ
    ル]モルホリン−2−イル]エチル}スピロ[ベンゾ
    [c]チオフェン−1(3H),4’−ピペリジン]−
    (2S)−オキシド (13)1−{2−[(2R)−(3,4−ジクロロフ
    ェニル)−5,5−ジメチル−4−(3,4,5−トリ
    メトキシベンゾイル)モルホリン−2−イル]エチル}
    スピロ[ベンゾ[c]チオフェン−1(3H),4’−
    ピペリジン]−(2S)−オキシド
JP30511097A 1996-11-08 1997-11-07 光学活性スルホキシド誘導体 Expired - Fee Related JP3017147B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30511097A JP3017147B2 (ja) 1996-11-08 1997-11-07 光学活性スルホキシド誘導体

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29686996 1996-11-08
JP8-296869 1996-11-08
JP30511097A JP3017147B2 (ja) 1996-11-08 1997-11-07 光学活性スルホキシド誘導体

Related Child Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP35065897A Division JPH10182650A (ja) 1996-11-08 1997-12-19 光学活性スルホキシド誘導体
JP11318854A Division JP2000103791A (ja) 1996-11-08 1999-11-09 医薬合成のための光学活性スルホキシド誘導体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10182649A JPH10182649A (ja) 1998-07-07
JP3017147B2 true JP3017147B2 (ja) 2000-03-06

Family

ID=26560878

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP30511097A Expired - Fee Related JP3017147B2 (ja) 1996-11-08 1997-11-07 光学活性スルホキシド誘導体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3017147B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1091454C (zh) * 1996-06-11 2002-09-25 电气化学工业株式会社 热塑性树脂模塑产品及其制备方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7396930B2 (en) 2002-06-11 2008-07-08 Sankyo Company, Limited Process for producing cyclic thioether and synthetic intermediate thereof

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1091454C (zh) * 1996-06-11 2002-09-25 电气化学工业株式会社 热塑性树脂模塑产品及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH10182649A (ja) 1998-07-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0776893B1 (en) Azaheterocyclic compounds having tachykinin receptor antagonist activity; Nk1 and NK2
US7544708B2 (en) Azabicyclo derivatives as muscarinic receptor antagonists
CN102573471A (zh) 新的吡咯烷衍生的β3肾上腺素受体激动剂
AU2003298889A1 (en) Spirocyclic ureas, compositions containing such compounds and methods of use
JP2012509352A (ja) Bace1のキナゾリン阻害剤および使用方法
EP1057827B1 (en) Spiropiperidine derivatives
JP2002316987A (ja) 2−アルコキシベンゼン誘導体を含有する医薬
JP3017147B2 (ja) 光学活性スルホキシド誘導体
JP2000034288A (ja) スピロピペリジン誘導体
AU734908B2 (en) Acylated hetero-alicyclic derivatives
JP2000103791A (ja) 医薬合成のための光学活性スルホキシド誘導体
JPH10182650A (ja) 光学活性スルホキシド誘導体
RU2184735C2 (ru) Производные спиропиперидина, лекарственное средство, способ профилактики или лечения
JP2001031570A (ja) スピロピペリジン誘導体を含有する医薬
KR100484358B1 (ko) 타키키닌 수용체 길항 작용을 갖는 헤테로시클릭 화합물, 그 의 제법 및 그의 용도
JPH11240880A (ja) 脂環式アシル化複素環誘導体
RU2174122C1 (ru) Ацилированные гетероалициклические производные, лекарственное средство, обладающее селективной антагонистической активностью против nk2-рецепторов, способ профилактики или лечения заболевания
JP2000344670A (ja) 脂環式アシル化複素環誘導体を含有する医薬
JP2001187790A (ja) 2−アルコキシベンゼン誘導体
JP2011116716A (ja) アミン化合物
MXPA00005587A (en) Alicyclic acylated heterocyclic derivatives
JP2001163802A (ja) 4−ベンゾイルアミノフェニルアラニン誘導体
CZ20002503A3 (cs) Spiropiperidinové deriváty
JP2000229968A (ja) シクロヘキシルピペリジン誘導体
JPH0867675A (ja) ビニルチアゾール誘導体

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 9

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081224

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 9

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081224

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091224

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 10

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091224

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101224

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101224

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 11

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101224

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111224

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111224

Year of fee payment: 12

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees