JP3008583B2 - 原子間力顕微鏡およびその制御方法 - Google Patents
原子間力顕微鏡およびその制御方法Info
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- JP3008583B2 JP3008583B2 JP3200606A JP20060691A JP3008583B2 JP 3008583 B2 JP3008583 B2 JP 3008583B2 JP 3200606 A JP3200606 A JP 3200606A JP 20060691 A JP20060691 A JP 20060691A JP 3008583 B2 JP3008583 B2 JP 3008583B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ノイズレベルが低く
０．１nm以下の極めて小さな凹凸や深い溝形状等を安定
に精度良く測定するための原子間力顕微鏡およびその制
御方法に関するものである。
０．１nm以下の極めて小さな凹凸や深い溝形状等を安定
に精度良く測定するための原子間力顕微鏡およびその制
御方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、固体表面を原子オーダで観察でき
る装置として原子間力顕微鏡（以後ＡＦＭと呼ぶ）が開
発されている。ＡＦＭおよびその制御方法を図４により
説明する。ＡＦＭでは微小な力を検出するために、探針
を有する長さ１００μｍ程度のカンチレバーが用いられ
る。試料５を探針１２に近づけると、探針と試料との間
に働く原子間力によりカンチレバー６にたわみが生じ
る。このたわみ量を一定に保つように制御信号発生回路
１０を通して、圧電体駆動装置１１によりＺ方向圧電体
３を制御しながら試料表面を走査する。走査は圧電体駆
動装置１１とＸ，Ｙ方向の圧電体１、２により行われ
る。前記フィードバックにおける制御量が試料表面の凹
凸に相当し、したがって、この制御量をコンピュータ１
３等により画像化することでＡＦＭ像が得られる。この
カンチレバーのたわみ量は変位測定部１９により測定さ
れる。変位測定部１９には、光てこ、レーザー干渉、ト
ンネル電流などの方式が用いられている。ＡＦＭの分解
能は探針の先端曲率半径に依存し、曲率半径が小さいほ
ど分解能は上がる。現在のところ２００から３００Åの
曲率の探針が作製され、このカンチレバーを用いてＭＩ
ＣＡ等の原子像が観察されている。一方、ＡＦＭを用い
てグレーティング等の深い溝形状を有する試料の測定も
行われている。このような測定には、探針の先端曲率が
小さいのと同時に、溝部の底まで届くような、細長い形
状の探針を用いる必要がある。
る装置として原子間力顕微鏡（以後ＡＦＭと呼ぶ）が開
発されている。ＡＦＭおよびその制御方法を図４により
説明する。ＡＦＭでは微小な力を検出するために、探針
を有する長さ１００μｍ程度のカンチレバーが用いられ
る。試料５を探針１２に近づけると、探針と試料との間
に働く原子間力によりカンチレバー６にたわみが生じ
る。このたわみ量を一定に保つように制御信号発生回路
１０を通して、圧電体駆動装置１１によりＺ方向圧電体
３を制御しながら試料表面を走査する。走査は圧電体駆
動装置１１とＸ，Ｙ方向の圧電体１、２により行われ
る。前記フィードバックにおける制御量が試料表面の凹
凸に相当し、したがって、この制御量をコンピュータ１
３等により画像化することでＡＦＭ像が得られる。この
カンチレバーのたわみ量は変位測定部１９により測定さ
れる。変位測定部１９には、光てこ、レーザー干渉、ト
ンネル電流などの方式が用いられている。ＡＦＭの分解
能は探針の先端曲率半径に依存し、曲率半径が小さいほ
ど分解能は上がる。現在のところ２００から３００Åの
曲率の探針が作製され、このカンチレバーを用いてＭＩ
ＣＡ等の原子像が観察されている。一方、ＡＦＭを用い
てグレーティング等の深い溝形状を有する試料の測定も
行われている。このような測定には、探針の先端曲率が
小さいのと同時に、溝部の底まで届くような、細長い形
状の探針を用いる必要がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】試料表面を探針で走査
した場合、試料表面の凹凸によるカンチレバーの変位以
外に、試料表面の摩擦係数の違いなどによるカンチレバ
ーの変位やカンチレバーのねじれによる変位などが発生
し、これらがノイズとなり極微細な表面形状が測定でき
ないことがある。また、溝部の壁面が垂直に近いような
形状の試料では、探針の側面が走査中に溝部の壁面に衝
突する。この状態ではカンチレバーのたわみはほとんど
生じることがなく、試料と探針間の距離はそのままの状
態で走査が続けられる。その結果、正確なＡＦＭ像が得
られないばかりでなく、探針やカンチレバーが破壊され
ることもある。
した場合、試料表面の凹凸によるカンチレバーの変位以
外に、試料表面の摩擦係数の違いなどによるカンチレバ
ーの変位やカンチレバーのねじれによる変位などが発生
し、これらがノイズとなり極微細な表面形状が測定でき
ないことがある。また、溝部の壁面が垂直に近いような
形状の試料では、探針の側面が走査中に溝部の壁面に衝
突する。この状態ではカンチレバーのたわみはほとんど
生じることがなく、試料と探針間の距離はそのままの状
態で走査が続けられる。その結果、正確なＡＦＭ像が得
られないばかりでなく、探針やカンチレバーが破壊され
ることもある。
【０００４】本発明は、このような従来の原子間力顕微
鏡の制御方法の課題を考慮し、極めて小さな凹凸や垂直
に近い側面形状を有するような試料でも、精度良く観察
することが可能な原子間力顕微鏡およびその制御方法を
提供することを目的とする。
鏡の制御方法の課題を考慮し、極めて小さな凹凸や垂直
に近い側面形状を有するような試料でも、精度良く観察
することが可能な原子間力顕微鏡およびその制御方法を
提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】カンチレバー、カンチレ
バーの変位検出装置、試料あるいはカンチレバーの３次
元微動装置、および画像化装置を有する原子間力顕微鏡
において、試料表面の１点でカンチレバーと試料とを接
近させ、カンチレバーの変位が決められた値になった
時、カンチレバーと試料とを引き離し、その後試料表面
の別の点で同じ操作を繰り返すことを特徴とする原子間
力顕微鏡の制御方法、または柱状あるいは針状の突起物
が形成されたカンチレバー、カンチレバーの変位検出装
置、試料あるいはカンチレバーの３次元微動装置、およ
び画像化装置を有し、試料表面の１点でカンチレバーと
試料とを接近させ、カンチレバーの変位が決められた値
になった時、カンチレバーと試料とを引き離し、その後
試料表面の別の点で同じ操作を繰り返すことにより、試
料表面各点における凹凸状態を測定し、試料表面の形状
を画像化することを特徴とする原子間力顕微鏡。
バーの変位検出装置、試料あるいはカンチレバーの３次
元微動装置、および画像化装置を有する原子間力顕微鏡
において、試料表面の１点でカンチレバーと試料とを接
近させ、カンチレバーの変位が決められた値になった
時、カンチレバーと試料とを引き離し、その後試料表面
の別の点で同じ操作を繰り返すことを特徴とする原子間
力顕微鏡の制御方法、または柱状あるいは針状の突起物
が形成されたカンチレバー、カンチレバーの変位検出装
置、試料あるいはカンチレバーの３次元微動装置、およ
び画像化装置を有し、試料表面の１点でカンチレバーと
試料とを接近させ、カンチレバーの変位が決められた値
になった時、カンチレバーと試料とを引き離し、その後
試料表面の別の点で同じ操作を繰り返すことにより、試
料表面各点における凹凸状態を測定し、試料表面の形状
を画像化することを特徴とする原子間力顕微鏡。
【０００６】
【作用】カンチレバーが試料表面から一定の力を受けた
状態で、試料表面を探針で走査するのではなく、あたか
も、杖を用いて道路の表面形状を調べるように、試料表
面の各点における試料（あるいは探針）の移動距離と、
試料と探針間に働く力との関係を測定し、表面形状を画
像化することにより、試料表面の摩擦係数の違いなどに
よるカンチレバーの変位やカンチレバーのねじれによる
変位などのノイズ成分を除去することができる。また細
長い形状の探針を用いて、溝部等の壁面が垂直に近いよ
うな形状の試料を観察する際も、探針の側面が走査中に
壁面に衝突し、探針やカンチレバーが破壊されることな
く表面形状を観察することが可能となる。
状態で、試料表面を探針で走査するのではなく、あたか
も、杖を用いて道路の表面形状を調べるように、試料表
面の各点における試料（あるいは探針）の移動距離と、
試料と探針間に働く力との関係を測定し、表面形状を画
像化することにより、試料表面の摩擦係数の違いなどに
よるカンチレバーの変位やカンチレバーのねじれによる
変位などのノイズ成分を除去することができる。また細
長い形状の探針を用いて、溝部等の壁面が垂直に近いよ
うな形状の試料を観察する際も、探針の側面が走査中に
壁面に衝突し、探針やカンチレバーが破壊されることな
く表面形状を観察することが可能となる。
【０００７】
（実施例１）以下、具体例について詳細に述べる。図１
は、本発明の原子間力顕微鏡およびその制御方法の第１
実施例を示す概略図である。試料は、Ｘ，Ｙ，Ｚの３方
向の圧電体１、２、３で形成されたトライポッド型の微
動機構上に設置される。試料５の水平面内の走査は、圧
電体駆動装置１１により発生した電圧をＸ、およびＹ方
向の圧電体に印加することにより行った。試料と探針間
に働く力、すなわちカンチレバー６の変位は出力５ｍＷ
の半導体レーザー７から出射されたレーザー光をレンズ
８によりカンチレバー上に集光し、その反射光を２分割
フォトダイオード９により検出する光てこにより検出し
た。試料とカンチレバーとの距離の制御は制御信号発生
回路１０と圧電体駆動装置１１により、制御電圧をＺ方
向の圧電体３に印加することにより行った。以下にAuの
スパッタ膜を観察したときの具体的な制御方法について
説明する。
は、本発明の原子間力顕微鏡およびその制御方法の第１
実施例を示す概略図である。試料は、Ｘ，Ｙ，Ｚの３方
向の圧電体１、２、３で形成されたトライポッド型の微
動機構上に設置される。試料５の水平面内の走査は、圧
電体駆動装置１１により発生した電圧をＸ、およびＹ方
向の圧電体に印加することにより行った。試料と探針間
に働く力、すなわちカンチレバー６の変位は出力５ｍＷ
の半導体レーザー７から出射されたレーザー光をレンズ
８によりカンチレバー上に集光し、その反射光を２分割
フォトダイオード９により検出する光てこにより検出し
た。試料とカンチレバーとの距離の制御は制御信号発生
回路１０と圧電体駆動装置１１により、制御電圧をＺ方
向の圧電体３に印加することにより行った。以下にAuの
スパッタ膜を観察したときの具体的な制御方法について
説明する。
【０００８】試料台４の上に、Si基板上にAu薄膜が形成
された試料５を試料の中央部分が探針１２の下に位置す
るように設置した。圧電体駆動装置１１によりＺ方向の
圧電体３に徐々に電圧を印可し、試料５を探針１２に近
ずけながら、同時に２分割フォトダイオード９によりカ
ンチレバー６が試料５から受ける力を測定した。カンチ
レバー６が決められた大きさの斥力を受けたとき試料の
探針への接近を停止し、その時のＺ方向の圧電体３に印
加されている電圧をコンピュータ１３に記憶させた。こ
の電圧値が基板表面の各点における凹凸情報となる。こ
の試料の測定の際は、斥力の大きさを１×１０ー8Ｎとし
た。つぎにカンチレバー６が試料５から力を受けなくな
る距離まで試料５を探針１２から離した。次に圧電体駆
動装置１１をもちいて、Ｘ方向の圧電体１により試料５
を２nm左に移動させた。その後、Ｚ方向の圧電体３に徐
々に電圧を印可し、カンチレバー６が１×１０ー8Ｎの斥
力を受けるまで、試料５を探針１２に近ずけ、その時の
Ｚ方向の圧電体３に印加されている電圧をコンピュータ
１３に記憶させた。次にＸ方向の圧電体１により試料５
をさらに左へ２nm移動させた。この様な測定を２５６回
Ｘ方向へ繰り返し１ライン分の走査を終了した。次にＹ
方向の圧電体２により試料５を２nm下に移動させ、同様
の操作によりさらに１ラインの走査を行った。２５６回
の走査の後、２５６×２５６個の試料表面の凹凸情報が
得られた。
された試料５を試料の中央部分が探針１２の下に位置す
るように設置した。圧電体駆動装置１１によりＺ方向の
圧電体３に徐々に電圧を印可し、試料５を探針１２に近
ずけながら、同時に２分割フォトダイオード９によりカ
ンチレバー６が試料５から受ける力を測定した。カンチ
レバー６が決められた大きさの斥力を受けたとき試料の
探針への接近を停止し、その時のＺ方向の圧電体３に印
加されている電圧をコンピュータ１３に記憶させた。こ
の電圧値が基板表面の各点における凹凸情報となる。こ
の試料の測定の際は、斥力の大きさを１×１０ー8Ｎとし
た。つぎにカンチレバー６が試料５から力を受けなくな
る距離まで試料５を探針１２から離した。次に圧電体駆
動装置１１をもちいて、Ｘ方向の圧電体１により試料５
を２nm左に移動させた。その後、Ｚ方向の圧電体３に徐
々に電圧を印可し、カンチレバー６が１×１０ー8Ｎの斥
力を受けるまで、試料５を探針１２に近ずけ、その時の
Ｚ方向の圧電体３に印加されている電圧をコンピュータ
１３に記憶させた。次にＸ方向の圧電体１により試料５
をさらに左へ２nm移動させた。この様な測定を２５６回
Ｘ方向へ繰り返し１ライン分の走査を終了した。次にＹ
方向の圧電体２により試料５を２nm下に移動させ、同様
の操作によりさらに１ラインの走査を行った。２５６回
の走査の後、２５６×２５６個の試料表面の凹凸情報が
得られた。
【０００９】ＡＦＭを本発明のように制御することによ
り、従来のようにカンチレバーが一定の斥力を受けたま
ま試料表面を連続的に走査した場合に比べてノイズレベ
ルが低く、高分解能な画像が得られた。この原因の１つ
として試料表面をＸ方向に走査したときに生ずる、カン
チレバーのねじれ成分によるノイズが皆無になったこと
が考えられる。
り、従来のようにカンチレバーが一定の斥力を受けたま
ま試料表面を連続的に走査した場合に比べてノイズレベ
ルが低く、高分解能な画像が得られた。この原因の１つ
として試料表面をＸ方向に走査したときに生ずる、カン
チレバーのねじれ成分によるノイズが皆無になったこと
が考えられる。
【００１０】前記実施例では凹凸情報の測定を各点につ
き１回行ったが、各点における測定を複数回繰り返し、
その平均値を用いて画像化することにより、よりノイズ
レベルの低い画像が得られた。またカンチレバーの変位
測定手段として前記実施例では光てこ法を用いたが、レ
ーザー干渉法やトンネル電流法を用いても同様の結果が
得られた。
き１回行ったが、各点における測定を複数回繰り返し、
その平均値を用いて画像化することにより、よりノイズ
レベルの低い画像が得られた。またカンチレバーの変位
測定手段として前記実施例では光てこ法を用いたが、レ
ーザー干渉法やトンネル電流法を用いても同様の結果が
得られた。
【００１１】（実施例２）次に本発明の第２実施例にお
ける原子間力顕微鏡のカンチレバー部分の概略図を図２
に示す。フォトリソグラフィにより作成した長さ１００
μm、厚さ１．５μmのＶ型のSiO2薄膜カンチレバー１４
の先端部分に、１つの針状部分の長さが２〜５μmの酸
化亜鉛ウィスカ１５を取り付けた。このウィスカはＣＶ
Ｄ法により作成したものであり、正四面体の体心から４
頂点に向かって延びたテトラポッド型の３次元構造の結
晶であるため、図２に示すように接着剤を用いて極めて
容易にカンチレバーに取り付けることができた。このカ
ンチレバーを用いて、試料表面をカンチレバーが一定の
斥力を受けたまま連続的に走査する従来の制御方法で、
深さ１μm、幅１μmの溝形状１８を測定したところ安定
に測定ができず、時としてウィスカが破損することがあ
った。またSiのエッチピットを鋳型としてSi 3N4薄膜で
作成したカンチレバーを用いて、従来の制御方法で測定
した画像と本発明のウィスカを具備したカンチレバーを
用いて、本発明の制御方法により測定した画像とを比較
したところ、本発明の装置の方が溝形状を正確に観察で
きることが判明した。この原因は図３に示すように、従
来の探針は頂角が７０度のピラミッド形状となるため、
探針１６が溝の底まで届かず実際の試料形状とは異なる
破線で示したような像が得られた（図３（ａ））のに対
し、ウィスカの探針１７は溝の底まで到達し、破線で示
したような表面形状に忠実な像が得られた（図３
（ｂ））ものと考えられる。
ける原子間力顕微鏡のカンチレバー部分の概略図を図２
に示す。フォトリソグラフィにより作成した長さ１００
μm、厚さ１．５μmのＶ型のSiO2薄膜カンチレバー１４
の先端部分に、１つの針状部分の長さが２〜５μmの酸
化亜鉛ウィスカ１５を取り付けた。このウィスカはＣＶ
Ｄ法により作成したものであり、正四面体の体心から４
頂点に向かって延びたテトラポッド型の３次元構造の結
晶であるため、図２に示すように接着剤を用いて極めて
容易にカンチレバーに取り付けることができた。このカ
ンチレバーを用いて、試料表面をカンチレバーが一定の
斥力を受けたまま連続的に走査する従来の制御方法で、
深さ１μm、幅１μmの溝形状１８を測定したところ安定
に測定ができず、時としてウィスカが破損することがあ
った。またSiのエッチピットを鋳型としてSi 3N4薄膜で
作成したカンチレバーを用いて、従来の制御方法で測定
した画像と本発明のウィスカを具備したカンチレバーを
用いて、本発明の制御方法により測定した画像とを比較
したところ、本発明の装置の方が溝形状を正確に観察で
きることが判明した。この原因は図３に示すように、従
来の探針は頂角が７０度のピラミッド形状となるため、
探針１６が溝の底まで届かず実際の試料形状とは異なる
破線で示したような像が得られた（図３（ａ））のに対
し、ウィスカの探針１７は溝の底まで到達し、破線で示
したような表面形状に忠実な像が得られた（図３
（ｂ））ものと考えられる。
【００１２】本実施例では酸化亜鉛ウィスカを用いた場
合について説明したが、酸化錫、炭化珪素、アルミナ、
金属あるいは有機物の針状結晶を用いても、本発明の制
御方法を用いることにより、垂直な壁面を有する溝部に
おいても、表面形状に忠実なＡ像が安定に得られた。
合について説明したが、酸化錫、炭化珪素、アルミナ、
金属あるいは有機物の針状結晶を用いても、本発明の制
御方法を用いることにより、垂直な壁面を有する溝部に
おいても、表面形状に忠実なＡ像が安定に得られた。
【００１３】
【発明の効果】以上述べたところから明らかなように、
本発明によれば、ノイズレベルが低く０．１nm以下の極
めて小さな凹凸等を安定に高精度に測定でき、さらにグ
レーティング等の深い溝形状や、垂直に近い壁面を有す
る試料を測定する際、カンチレバーや探針を破壊するこ
となく、精度よく測定できる。
本発明によれば、ノイズレベルが低く０．１nm以下の極
めて小さな凹凸等を安定に高精度に測定でき、さらにグ
レーティング等の深い溝形状や、垂直に近い壁面を有す
る試料を測定する際、カンチレバーや探針を破壊するこ
となく、精度よく測定できる。
【図１】本発明にかかる第１実施例の原子間力顕微鏡お
よびその制御方法を説明するための概略図を示す。
よびその制御方法を説明するための概略図を示す。
【図２】本発明にかかる第２実施例における原子間力顕
微鏡のカンチレバー部分の概略図を示す。
微鏡のカンチレバー部分の概略図を示す。
【図３】従来のカンチレバー、および本発明のカンチレ
バーにより得られた溝状形状のＡＦＭ像の説明図を示
す。
バーにより得られた溝状形状のＡＦＭ像の説明図を示
す。
【図４】従来の原子間力顕微鏡およびその制御方法を説
明するための概略図を示す。
明するための概略図を示す。
１ Ｘ方向圧電体 ２ Ｙ方向圧電体 ３ Ｚ方向圧電体 ４ 試料台 ５ 試料 ６ カンチレバー ７ 半導体レーザー ８ 集光レンズ ９ ２分割フォトダイオード １０ 制御信号発生回路 １１ 圧電体駆動装置 １２ 探針 １３ 制御コンピュータ １４ カンチレバー １５ 酸化亜鉛ウィスカ １６、１７ 探針 １８ 変位測定部
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01B 21/00 - 21/32 G01B 7/34 H01J 37/28
Claims (5)
- 【請求項１】 カンチレバー、カンチレバーの変位検出
装置、試料あるいはカンチレバーの３次元微動装置、お
よび画像化装置を有する原子間力顕微鏡において、試料
表面の１点でカンチレバーと試料とを接近させ、探針を
試料表面に接触させたときの斥力によるカンチレバーの
変位が決められた値になった時、カンチレバーと試料と
を引き離し、その後試料表面の別の点で同じ操作を繰り
返すことを特徴とする原子間力顕微鏡の制御方法。 - 【請求項２】 試料表面の１点でカンチレバーと試料と
を接近させ、探針を試料表面に接触させたときの斥力に
よるカンチレバーの変位が決められた値になった時、カ
ンチレバーと試料とを引き離すという操作を複数回繰り
返した後、試料表面の別の点で同じ操作を繰り返すこと
を特徴とする請求項１に記載の原子間力顕微鏡の制御方
法。 - 【請求項３】 柱状あるいは針状の突起物が形成された
カンチレバー、カンチレバーの変位検出装置、試料ある
いはカンチレバーの３次元微動装置、および画像化装置
を有し、試料表面の１点でカンチレバーと試料とを接近
させ、探針を試料表面に接触させたときの斥力によるカ
ンチレバーの変位が決められた値になった時、カンチレ
バーと試料とを引き離し、その後試料表面の別の点で同
じ操作を繰り返すことにより、試料表面各点におけるを
凹凸状態を測定し、試料表面の形状を画像化することを
特徴とする原子間力顕微鏡。 - 【請求項４】 試料表面の１点でカンチレバーと試料と
を接近させ、探針を試料表面に接触させたときの斥力に
よるカンチレバーの変位が決められた値になった時、カ
ンチレバーと試料とを引き離すという操作を複数回繰り
返した後、試料表面の別の点で同じ操作を繰り返すこと
により、試料表面各点における平均的な凹凸状態を測定
することを特徴とする請求項３に記載の原子間力顕微
鏡。 - 【請求項５】 柱状あるいは針状の突起物が、金属、酸
化亜鉛、酸化錫、アルミナ、炭化珪素、あるいはフタロ
シアニンなどの有機物の針状結晶であることを特徴とす
る請求項３または請求項４に記載の原子間力顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3200606A JP3008583B2 (ja) | 1991-08-09 | 1991-08-09 | 原子間力顕微鏡およびその制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3200606A JP3008583B2 (ja) | 1991-08-09 | 1991-08-09 | 原子間力顕微鏡およびその制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0545157A JPH0545157A (ja) | 1993-02-23 |
| JP3008583B2 true JP3008583B2 (ja) | 2000-02-14 |
Family
ID=16427168
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3200606A Expired - Fee Related JP3008583B2 (ja) | 1991-08-09 | 1991-08-09 | 原子間力顕微鏡およびその制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3008583B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105423962A (zh) * | 2015-11-05 | 2016-03-23 | 黑龙江大学 | 表面形貌测量教学仪及采用该教学仪测量表面形貌的方法 |
| CN109238181B (zh) * | 2018-09-29 | 2023-09-26 | 昆明理工大学 | 一种基于多级光杠杆的电梯轨道平整度检测系统及方法 |
-
1991
- 1991-08-09 JP JP3200606A patent/JP3008583B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0545157A (ja) | 1993-02-23 |
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