JP3007557B2 - 高耐食性永久磁石およびその製造方法 - Google Patents
高耐食性永久磁石およびその製造方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高耐食性を有する
希土類永久磁石およびその製造方法に関し、特に焼結磁
石表面に超微粒子シリカを分散させたアルカリけい酸塩
水溶液によるガラス状保護層を均一に被覆したＲ−Ｆe
−Ｂ系高耐食性永久磁石およびその製造方法に関する。
希土類永久磁石およびその製造方法に関し、特に焼結磁
石表面に超微粒子シリカを分散させたアルカリけい酸塩
水溶液によるガラス状保護層を均一に被覆したＲ−Ｆe
−Ｂ系高耐食性永久磁石およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】希土類永久磁石は優れた磁気特性と経済
性のため電気・電子機器の分野で多用されており、近年
益々その高性能化が要求されている。これらの内Ｒ−Ｆ
e −Ｂ系永久磁石は、希土類コバルト磁石に比べて主要
元素であるＮd がＳm より豊富に存在すること、Ｃo を
多量に使用しないことから原材料費が安価であり、磁気
特性も希土類コバルト磁石を遥かに凌ぐ極めて優れた永
久磁石材料であるため、これまで希土類コバルト磁石が
使用されてきた小型磁気回路がこれによって代替される
だけでなく、ハードフェライトあるいは電磁石が使われ
ていた分野にも広く応用されようとしている。しかし、
Ｒ−Ｆe −Ｂ系永久磁石は主成分として希土類元素およ
び鉄を含有するため、湿気を帯びた空気中で短時間の内
に容易に酸化するという欠点を有しており、磁気回路に
組み込んだ場合にこれらの酸化により磁気回路の出力を
低下したり、機器周辺への汚染の問題があった。
性のため電気・電子機器の分野で多用されており、近年
益々その高性能化が要求されている。これらの内Ｒ−Ｆ
e −Ｂ系永久磁石は、希土類コバルト磁石に比べて主要
元素であるＮd がＳm より豊富に存在すること、Ｃo を
多量に使用しないことから原材料費が安価であり、磁気
特性も希土類コバルト磁石を遥かに凌ぐ極めて優れた永
久磁石材料であるため、これまで希土類コバルト磁石が
使用されてきた小型磁気回路がこれによって代替される
だけでなく、ハードフェライトあるいは電磁石が使われ
ていた分野にも広く応用されようとしている。しかし、
Ｒ−Ｆe −Ｂ系永久磁石は主成分として希土類元素およ
び鉄を含有するため、湿気を帯びた空気中で短時間の内
に容易に酸化するという欠点を有しており、磁気回路に
組み込んだ場合にこれらの酸化により磁気回路の出力を
低下したり、機器周辺への汚染の問題があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このような、Ｒ−Ｆe
−Ｂ系永久磁石の耐食性改善のために、樹脂塗装、イオ
ンプレーティング等の気相めっき、Ｎi めっき等の湿式
めっき等の各種表面処理法が提案されている。しかし、
これらの表面処理法は複雑な工程を必要とするため、Ｒ
−Ｆe −Ｂ系永久磁石に対する表面処理コストが高価で
あるという問題があった。また、より簡便な表面処理法
としてＲ−Ｆe −Ｂ系永久磁石にクロム酸処理のみを施
す技術（特開平6-302420号公報参照）が提案されている
が、クロム酸処理前に硝酸等による酸洗処理が必要であ
り、また、クロム酸処理液は廃液処理が容易でないた
め、必ずしも表面処理コストが安価であるとは言えな
い。本発明は、かかる課題を解決するために為されたも
ので、従来の表面処理法より安価にかつ簡便な方法で高
耐食性を有するＲ−Ｆe −Ｂ系永久磁石を提供すること
を目的としている。
−Ｂ系永久磁石の耐食性改善のために、樹脂塗装、イオ
ンプレーティング等の気相めっき、Ｎi めっき等の湿式
めっき等の各種表面処理法が提案されている。しかし、
これらの表面処理法は複雑な工程を必要とするため、Ｒ
−Ｆe −Ｂ系永久磁石に対する表面処理コストが高価で
あるという問題があった。また、より簡便な表面処理法
としてＲ−Ｆe −Ｂ系永久磁石にクロム酸処理のみを施
す技術（特開平6-302420号公報参照）が提案されている
が、クロム酸処理前に硝酸等による酸洗処理が必要であ
り、また、クロム酸処理液は廃液処理が容易でないた
め、必ずしも表面処理コストが安価であるとは言えな
い。本発明は、かかる課題を解決するために為されたも
ので、従来の表面処理法より安価にかつ簡便な方法で高
耐食性を有するＲ−Ｆe −Ｂ系永久磁石を提供すること
を目的としている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者はＲ−Ｆe −Ｂ
系永久磁石に対する耐食性被膜およびその形成法につい
て鋭意検討した結果、超微粒子シリカを分散させたアル
カリけい酸塩水溶液からなる処理液にＲ−Ｆe −Ｂ系永
久磁石を浸漬するか、あるいは該処理液を磁石表面に塗
布した後、加熱処理を行ない該永久磁石表面にガラス状
保護層を形成することにより、長時間にわたって外観の
美観性が保持され、従来の表面処理法より安価に処理可
能であり、かつ廃液処理が容易であることを知見し、諸
条件を確立して本発明を完成したもので、その要旨は、
表面にシラノール基（≡Ｓi-ＯＨ）を有する平均粒径５
〜50nmの超微粒子シリカを分散させたアルカリけい酸塩
水溶液からなる処理液に、Ｒ−Ｆe −Ｂ系永久磁石（こ
こにＲはＹを含む希土類元素の少なくとも１種）を浸
漬、あるいは該処理液を塗布した後、加熱処理を行いシ
ラノール基の脱水縮合を起こさせることにより、該磁石
表面にガラス状保護層を被覆することを特徴とする高耐
食性永久磁石の製造方法、および上記製造方法により製
造されたガラス状保護層を有することを特徴とする高耐
食性永久磁石にある。
系永久磁石に対する耐食性被膜およびその形成法につい
て鋭意検討した結果、超微粒子シリカを分散させたアル
カリけい酸塩水溶液からなる処理液にＲ−Ｆe −Ｂ系永
久磁石を浸漬するか、あるいは該処理液を磁石表面に塗
布した後、加熱処理を行ない該永久磁石表面にガラス状
保護層を形成することにより、長時間にわたって外観の
美観性が保持され、従来の表面処理法より安価に処理可
能であり、かつ廃液処理が容易であることを知見し、諸
条件を確立して本発明を完成したもので、その要旨は、
表面にシラノール基（≡Ｓi-ＯＨ）を有する平均粒径５
〜50nmの超微粒子シリカを分散させたアルカリけい酸塩
水溶液からなる処理液に、Ｒ−Ｆe −Ｂ系永久磁石（こ
こにＲはＹを含む希土類元素の少なくとも１種）を浸
漬、あるいは該処理液を塗布した後、加熱処理を行いシ
ラノール基の脱水縮合を起こさせることにより、該磁石
表面にガラス状保護層を被覆することを特徴とする高耐
食性永久磁石の製造方法、および上記製造方法により製
造されたガラス状保護層を有することを特徴とする高耐
食性永久磁石にある。
【０００５】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
最大の特徴であるガラス状保護層の形成方法における処
理液の調整方法は、先ずアルカリけい酸塩水溶液にイオ
ン交換水を加えて濃度を調整し、さらに所定の量の超微
粒子シリカを添加する。該超微粒子シリカが粉末の場合
には超音波を用いて分散させる。アルカリけい酸塩濃度
は下記ガラス状保護層の膜厚（５nm〜10μm ）を得るた
めに、Ｓi Ｏ2 として３〜 200g/L となるように調整す
る。３g/L 未満では十分な耐食性が得られず、 200g/L
を越えるとアルカリけい酸塩水溶液の粘度が高くなり、
加熱処理後に膜厚にムラが出来てしまい外観上好ましく
ない。アルカリけい酸塩としては具体的には水ガラス
（Ｓi Ｏ2 とＮa2Ｏが主成分）、けい酸カリウム、けい
酸リチウムなどが挙げられるが、水ガラスの場合、Ｓi
Ｏ2 とＮa2Ｏのモル比（Ｓi Ｏ2 ／Ｎa2Ｏ）は 1.5〜2
0.0が好ましい。 1.5未満ではガラス状保護層中のアル
カリイオン濃度が高くなり、耐水性の低いガラス状保護
層となり十分な耐食性が得られない。また、20.0を越え
るとアルカリイオン濃度が低いために、加熱処理時にシ
ラノール基の脱水縮合によるガラス状保護層の収縮が過
度に起こり、ガラス状保護層にクラックが生じ十分な耐
食性が得られない。
最大の特徴であるガラス状保護層の形成方法における処
理液の調整方法は、先ずアルカリけい酸塩水溶液にイオ
ン交換水を加えて濃度を調整し、さらに所定の量の超微
粒子シリカを添加する。該超微粒子シリカが粉末の場合
には超音波を用いて分散させる。アルカリけい酸塩濃度
は下記ガラス状保護層の膜厚（５nm〜10μm ）を得るた
めに、Ｓi Ｏ2 として３〜 200g/L となるように調整す
る。３g/L 未満では十分な耐食性が得られず、 200g/L
を越えるとアルカリけい酸塩水溶液の粘度が高くなり、
加熱処理後に膜厚にムラが出来てしまい外観上好ましく
ない。アルカリけい酸塩としては具体的には水ガラス
（Ｓi Ｏ2 とＮa2Ｏが主成分）、けい酸カリウム、けい
酸リチウムなどが挙げられるが、水ガラスの場合、Ｓi
Ｏ2 とＮa2Ｏのモル比（Ｓi Ｏ2 ／Ｎa2Ｏ）は 1.5〜2
0.0が好ましい。 1.5未満ではガラス状保護層中のアル
カリイオン濃度が高くなり、耐水性の低いガラス状保護
層となり十分な耐食性が得られない。また、20.0を越え
るとアルカリイオン濃度が低いために、加熱処理時にシ
ラノール基の脱水縮合によるガラス状保護層の収縮が過
度に起こり、ガラス状保護層にクラックが生じ十分な耐
食性が得られない。
【０００６】上記アルカリけい酸塩水溶液に添加する超
微粒子シリカは表面にシラノール基（≡Ｓi-ＯＨ）を有
し、平均粒径５〜50nmのものを用いる。市販品では、ア
エロジル（日本アエロジル（株）製商品名）、スノーテ
ックス（日産化学（株）製商品名）等が挙げられ、いず
れもシラノール基を１〜15モル％含有し、平均粒径は５
〜50nmである。特にアエロジル（前出）は、高温火炎加
水分解法で製造されているため、Ｎa 等のアルカリ成分
を殆ど含んでいない。そのため、処理液中のアルカリイ
オン濃度を増加させることなく、超微粒子シリカを添加
することが可能であるため、耐食性の良いガラス状保護
層を得ることができる。別に水ガラス、あるいはテトラ
エトキシシラン等の金属アルコキシドから作ってもよ
い。水ガラスの場合は、陽イオン交換樹脂、または半透
膜を通して強制的にＮa2Ｏを除去し、次いで重合させる
方法や、酸で中和して副生塩を除去して製造する方法等
がある。金属アルコキシドの場合は、アルコールで希釈
し、水分を加え、さらに酸またはアルカリの存在下で加
水分解することにより製造することができる。
微粒子シリカは表面にシラノール基（≡Ｓi-ＯＨ）を有
し、平均粒径５〜50nmのものを用いる。市販品では、ア
エロジル（日本アエロジル（株）製商品名）、スノーテ
ックス（日産化学（株）製商品名）等が挙げられ、いず
れもシラノール基を１〜15モル％含有し、平均粒径は５
〜50nmである。特にアエロジル（前出）は、高温火炎加
水分解法で製造されているため、Ｎa 等のアルカリ成分
を殆ど含んでいない。そのため、処理液中のアルカリイ
オン濃度を増加させることなく、超微粒子シリカを添加
することが可能であるため、耐食性の良いガラス状保護
層を得ることができる。別に水ガラス、あるいはテトラ
エトキシシラン等の金属アルコキシドから作ってもよ
い。水ガラスの場合は、陽イオン交換樹脂、または半透
膜を通して強制的にＮa2Ｏを除去し、次いで重合させる
方法や、酸で中和して副生塩を除去して製造する方法等
がある。金属アルコキシドの場合は、アルコールで希釈
し、水分を加え、さらに酸またはアルカリの存在下で加
水分解することにより製造することができる。
【０００７】この超微粒子シリカの添加量は処理液中の
アルカリけい酸塩のＳi Ｏ2 濃度の１／50〜１／２とな
るように加えれば良い。該超微粒子シリカが粉末の場合
には、添加後超音波を用いて処理液中に分散させる。処
理液中に分散した超微粒子シリカは、加熱処理時に、超
微粒子シリカ表面のシラノール基とアルカリけい酸塩の
シラノール基が脱水縮合を起こしシロキサン結合（≡Ｓ
i-Ｏ- Ｓi ≡）をつくり凝集してガラス状保護層を形成
する。その結果、超微粒子シリカはガラス状保護層内に
取り込まれるが、この状態は超微粒子シリカ粒子がガラ
ス状保護層中に単独で分散している状態ではなく、アル
カリけい酸塩と結合して超微粒子シリカ粒子もガラス状
保護層の一部となった状態である。従って、本発明によ
り得られるガラス状保護層中の超微粒子シリカであった
部分にはアルカリイオンが存在しない。大気中の水分は
ガラス状保護層のアルカリイオンと反応して水酸化物を
つくりガラス状保護層を侵食するので、本発明により得
られたガラス状保護層はアルカリイオンが存在しない部
分を有することにより、アルカリけい酸塩水溶液より得
られるガラス状保護層に比べて耐水性の良いガラス状保
護層となる。
アルカリけい酸塩のＳi Ｏ2 濃度の１／50〜１／２とな
るように加えれば良い。該超微粒子シリカが粉末の場合
には、添加後超音波を用いて処理液中に分散させる。処
理液中に分散した超微粒子シリカは、加熱処理時に、超
微粒子シリカ表面のシラノール基とアルカリけい酸塩の
シラノール基が脱水縮合を起こしシロキサン結合（≡Ｓ
i-Ｏ- Ｓi ≡）をつくり凝集してガラス状保護層を形成
する。その結果、超微粒子シリカはガラス状保護層内に
取り込まれるが、この状態は超微粒子シリカ粒子がガラ
ス状保護層中に単独で分散している状態ではなく、アル
カリけい酸塩と結合して超微粒子シリカ粒子もガラス状
保護層の一部となった状態である。従って、本発明によ
り得られるガラス状保護層中の超微粒子シリカであった
部分にはアルカリイオンが存在しない。大気中の水分は
ガラス状保護層のアルカリイオンと反応して水酸化物を
つくりガラス状保護層を侵食するので、本発明により得
られたガラス状保護層はアルカリイオンが存在しない部
分を有することにより、アルカリけい酸塩水溶液より得
られるガラス状保護層に比べて耐水性の良いガラス状保
護層となる。
【０００８】超微粒子シリカの添加量がアルカリけい酸
塩中Ｓi Ｏ2 濃度の１／50未満では、ガラス状保護層に
取り込まれる超微粒子シリカの量が僅かであるため、耐
水性の低いガラス状保護層となり、そのため十分な耐食
性を有するガラス状保護層を得ることが出来ない。ま
た、水分と反応したアルカリイオンがさらに大気中の二
酸化炭素と反応してガラス状保護層表面に炭酸塩が析出
するため、機器周辺への汚染の問題が起こり好ましくな
い。さらに一般にＲ−Ｆe −Ｂ系磁石を使用する場合、
エポキシ樹脂系接着剤、アクリル系接着剤等の各種接着
剤を用いて接着により磁気回路内に組み込まれるが、添
加量が２％（＝１／50）未満の処理液により被覆された
ガラス状保護層を有する磁石を接着した場合、経時変化
による接着力の劣化が大きくなり使用に耐えない事態を
生ずる。
塩中Ｓi Ｏ2 濃度の１／50未満では、ガラス状保護層に
取り込まれる超微粒子シリカの量が僅かであるため、耐
水性の低いガラス状保護層となり、そのため十分な耐食
性を有するガラス状保護層を得ることが出来ない。ま
た、水分と反応したアルカリイオンがさらに大気中の二
酸化炭素と反応してガラス状保護層表面に炭酸塩が析出
するため、機器周辺への汚染の問題が起こり好ましくな
い。さらに一般にＲ−Ｆe −Ｂ系磁石を使用する場合、
エポキシ樹脂系接着剤、アクリル系接着剤等の各種接着
剤を用いて接着により磁気回路内に組み込まれるが、添
加量が２％（＝１／50）未満の処理液により被覆された
ガラス状保護層を有する磁石を接着した場合、経時変化
による接着力の劣化が大きくなり使用に耐えない事態を
生ずる。
【０００９】また、超微粒子シリカの添加量がアルカリ
けい酸塩中Ｓi Ｏ2 濃度の１／２を越えると、超微粒子
シリカの含有量が多くなり、加熱処理時にシラノール基
の脱水縮合によるガラス状保護層の収縮が過度に起こ
り、ガラス状保護層にクラックが生じる。そのため、十
分な耐食性を有するガラス状保護層を得ることが出来な
い。また、処理液の粘度が高くなり加熱処理後に膜厚に
ムラが出来てしまい外観上好ましくない。さらに、添加
量が多くなると超微粒子シリカの分散性が悪くなり、超
微粒子シリカが凝集して沈殿を起こすため処理液の安定
性も良くない。上記の理由により、超微粒子シリカの添
加量は加えられたアルカリけい酸塩のＳi Ｏ2 濃度の１
／50〜１／２となるように加えるのがよく、１／20〜１
／３の範囲にすれば本発明の効果がより顕著に現われて
好ましい。
けい酸塩中Ｓi Ｏ2 濃度の１／２を越えると、超微粒子
シリカの含有量が多くなり、加熱処理時にシラノール基
の脱水縮合によるガラス状保護層の収縮が過度に起こ
り、ガラス状保護層にクラックが生じる。そのため、十
分な耐食性を有するガラス状保護層を得ることが出来な
い。また、処理液の粘度が高くなり加熱処理後に膜厚に
ムラが出来てしまい外観上好ましくない。さらに、添加
量が多くなると超微粒子シリカの分散性が悪くなり、超
微粒子シリカが凝集して沈殿を起こすため処理液の安定
性も良くない。上記の理由により、超微粒子シリカの添
加量は加えられたアルカリけい酸塩のＳi Ｏ2 濃度の１
／50〜１／２となるように加えるのがよく、１／20〜１
／３の範囲にすれば本発明の効果がより顕著に現われて
好ましい。
【００１０】この発明の表面処理法において、処理液に
浸漬あるいは塗布後の加熱処理は、水分の蒸発、シラノ
ール基の脱水縮合を十分に行なわさせるために、温度50
〜450 ℃、より好ましくは 120〜450 ℃であることが望
ましい。処理時間としては１〜120 分の条件が好まし
い。50℃未満では水分の蒸発およびシラノール基の脱水
縮合が十分ではなく、また、処理時間が長時間になるた
めコスト的にも好ましくない。なお、 120℃以上では水
分の蒸発およびシラノール基の脱水縮合がより十分にな
る。また、 450℃を越えるとＲ−Ｆe −Ｂ系磁石組織に
影響が生じて磁気特性が劣化し好ましくない。さらに処
理時間が１分未満では水分の蒸発およびシラノール基の
脱水縮合が十分に進行せず、 120分を越えると実用上問
題はないが生産性が低下しコスト的に好ましくない。ま
た、上記の浸漬または塗布および加熱処理の工程を２回
以上繰り返すことも可能である。
浸漬あるいは塗布後の加熱処理は、水分の蒸発、シラノ
ール基の脱水縮合を十分に行なわさせるために、温度50
〜450 ℃、より好ましくは 120〜450 ℃であることが望
ましい。処理時間としては１〜120 分の条件が好まし
い。50℃未満では水分の蒸発およびシラノール基の脱水
縮合が十分ではなく、また、処理時間が長時間になるた
めコスト的にも好ましくない。なお、 120℃以上では水
分の蒸発およびシラノール基の脱水縮合がより十分にな
る。また、 450℃を越えるとＲ−Ｆe −Ｂ系磁石組織に
影響が生じて磁気特性が劣化し好ましくない。さらに処
理時間が１分未満では水分の蒸発およびシラノール基の
脱水縮合が十分に進行せず、 120分を越えると実用上問
題はないが生産性が低下しコスト的に好ましくない。ま
た、上記の浸漬または塗布および加熱処理の工程を２回
以上繰り返すことも可能である。
【００１１】本発明において、超微粒子シリカを分散さ
せたアルカリけい酸水溶液より形成されるガラス状保護
層の膜厚は５nm〜10μm が適当である。５nm未満では磁
石表面の凹凸に対して十分な被覆が出来ずに十分な耐食
性は得られない。また、10μm を越えると耐食性につい
ては実用上問題はないが、均一な膜厚を得ることが難し
くなり外観上も好ましくない。さらに、ガラス状保護層
を厚くすると外観形状が同一であっても使用できるＲ−
Ｆe −Ｂ系永久磁石の体積が小さくなるため、磁石使用
上も好ましくない。
せたアルカリけい酸水溶液より形成されるガラス状保護
層の膜厚は５nm〜10μm が適当である。５nm未満では磁
石表面の凹凸に対して十分な被覆が出来ずに十分な耐食
性は得られない。また、10μm を越えると耐食性につい
ては実用上問題はないが、均一な膜厚を得ることが難し
くなり外観上も好ましくない。さらに、ガラス状保護層
を厚くすると外観形状が同一であっても使用できるＲ−
Ｆe −Ｂ系永久磁石の体積が小さくなるため、磁石使用
上も好ましくない。
【００１２】本発明の表面処理法において、前処理とし
てはＲ−Ｆe −Ｂ系永久磁石の処理液への浸漬の直前、
あるいは磁石表面への処理液の塗布の直前に超音波洗浄
を行うことが望ましい。ガラス状保護層の密着力および
耐食性を低下させる原因である物理的に吸着あるいは磁
気的に吸引されて磁石表面に残存する微小な加工屑や磁
粉を超音波洗浄により磁石表面から脱離させることで、
ガラス状保護層の密着力および耐食性を向上させること
ができる。通常、Ｎi めっき等の湿式めっき法、リン酸
亜鉛処理等の化成処理法においては前処理として、油分
の除去を行なう脱脂工程、保護層を被覆しにくい希土類
元素酸化物等の層を除去するための酸洗工程、保護層形
成を確実に行なうための活性化工程等の複雑な前処理を
行なうことにより、密着力および耐食性の高い保護層を
磁石表面に被覆している。しかし、本発明により得られ
るガラス状保護層は湿式めっき、化成処理等により得ら
れる保護層とは異なり、希土類元素酸化物等の上にも容
易に保護層を形成することが可能であり、また、磁石表
面と処理液が反応して保護層を形成する方式ではないの
で、上記のような酸洗工程、活性化工程等の前処理は必
ずしも必要でなく、磁石表面の微細な磁粉や加工屑を除
去するだけの前処理でも十分な密着力および耐食性を有
するガラス状保護層を形成することができる。従って、
本発明の前処理としては脱脂工程、酸洗工程、活性化工
程等を行った後超音波洗浄を行ってもよいが、超音波洗
浄のみの前処理が工程の簡素化およびコストの点からよ
り好ましいと言える。
てはＲ−Ｆe −Ｂ系永久磁石の処理液への浸漬の直前、
あるいは磁石表面への処理液の塗布の直前に超音波洗浄
を行うことが望ましい。ガラス状保護層の密着力および
耐食性を低下させる原因である物理的に吸着あるいは磁
気的に吸引されて磁石表面に残存する微小な加工屑や磁
粉を超音波洗浄により磁石表面から脱離させることで、
ガラス状保護層の密着力および耐食性を向上させること
ができる。通常、Ｎi めっき等の湿式めっき法、リン酸
亜鉛処理等の化成処理法においては前処理として、油分
の除去を行なう脱脂工程、保護層を被覆しにくい希土類
元素酸化物等の層を除去するための酸洗工程、保護層形
成を確実に行なうための活性化工程等の複雑な前処理を
行なうことにより、密着力および耐食性の高い保護層を
磁石表面に被覆している。しかし、本発明により得られ
るガラス状保護層は湿式めっき、化成処理等により得ら
れる保護層とは異なり、希土類元素酸化物等の上にも容
易に保護層を形成することが可能であり、また、磁石表
面と処理液が反応して保護層を形成する方式ではないの
で、上記のような酸洗工程、活性化工程等の前処理は必
ずしも必要でなく、磁石表面の微細な磁粉や加工屑を除
去するだけの前処理でも十分な密着力および耐食性を有
するガラス状保護層を形成することができる。従って、
本発明の前処理としては脱脂工程、酸洗工程、活性化工
程等を行った後超音波洗浄を行ってもよいが、超音波洗
浄のみの前処理が工程の簡素化およびコストの点からよ
り好ましいと言える。
【００１３】この発明において、Ｒ−Ｆe −Ｂ系永久磁
石に用いるＲは、組成の５〜40重量％を占めるが、Ｒと
してはＹまたはＬa 、Ｃe 、Ｐr 、Ｎd 、Ｐm 、Ｓm 、
Ｇd、Ｔb 、Ｄy 、Ｈo 、Ｅr 、Ｌu 、Ｙb の内から選
択される１種もしくは２種以上が使用される。その中で
もＣe 、Ｌa 、Ｎd 、Ｐr 、Ｄy 、Ｔb の内少なくとも
１種を含むのが好ましい。Ｂは 0.2〜８重量％の範囲と
する。Ｆe は50〜90重量％の範囲である。ただし、Ｆe
の一部をＣo で置換することにより温度特性を改善する
ことができる。ただし、Ｃo の添加量が 0.1重量％以下
では十分な効果が得られず、一方、15重量％を越える
と、保磁力が低下するのでその量は 0.1〜15重量％が好
ましい。また、磁気特性の改善、あるいは、コスト低減
のためにＮi 、Ｎb 、Ａl 、Ｔi 、Ｚr 、Ｃr 、Ｖ、Ｍ
n 、Ｍo 、Ｓi 、Ｓn 、Ｃu 、Ｃa、Ｍg 、Ｐb 、Ｓb
、Ｇa およびＺn から選ばれる少なくとも１種を添加
することが出来る。
石に用いるＲは、組成の５〜40重量％を占めるが、Ｒと
してはＹまたはＬa 、Ｃe 、Ｐr 、Ｎd 、Ｐm 、Ｓm 、
Ｇd、Ｔb 、Ｄy 、Ｈo 、Ｅr 、Ｌu 、Ｙb の内から選
択される１種もしくは２種以上が使用される。その中で
もＣe 、Ｌa 、Ｎd 、Ｐr 、Ｄy 、Ｔb の内少なくとも
１種を含むのが好ましい。Ｂは 0.2〜８重量％の範囲と
する。Ｆe は50〜90重量％の範囲である。ただし、Ｆe
の一部をＣo で置換することにより温度特性を改善する
ことができる。ただし、Ｃo の添加量が 0.1重量％以下
では十分な効果が得られず、一方、15重量％を越える
と、保磁力が低下するのでその量は 0.1〜15重量％が好
ましい。また、磁気特性の改善、あるいは、コスト低減
のためにＮi 、Ｎb 、Ａl 、Ｔi 、Ｚr 、Ｃr 、Ｖ、Ｍ
n 、Ｍo 、Ｓi 、Ｓn 、Ｃu 、Ｃa、Ｍg 、Ｐb 、Ｓb
、Ｇa およびＺn から選ばれる少なくとも１種を添加
することが出来る。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明の作用は、アルカリけい酸
塩水溶液にに添加した超微粒子シリカが加熱処理時に、
超微粒子シリカ表面のシラノール基とアルカリけい酸塩
のシラノール基が脱水縮合を起こしてシロキサン結合
（≡Ｓi-Ｏ- Ｓi ≡）をつくり凝集してガラス状保護層
を形成する。このガラス状保護層中の超微粒子シリカで
あった部分にはアルカリイオンが存在しない。大気中の
水分はガラス状保護層のアルカリイオンと反応して水酸
化物をつくりガラス状保護層を侵食するので、本発明に
より得られたガラス状保護層はアルカリイオンが存在し
ない部分を有することにより、アルカリけい酸塩水溶液
より得られるガラス状保護層に比べて耐水性の良いガラ
ス状保護層となる。
塩水溶液にに添加した超微粒子シリカが加熱処理時に、
超微粒子シリカ表面のシラノール基とアルカリけい酸塩
のシラノール基が脱水縮合を起こしてシロキサン結合
（≡Ｓi-Ｏ- Ｓi ≡）をつくり凝集してガラス状保護層
を形成する。このガラス状保護層中の超微粒子シリカで
あった部分にはアルカリイオンが存在しない。大気中の
水分はガラス状保護層のアルカリイオンと反応して水酸
化物をつくりガラス状保護層を侵食するので、本発明に
より得られたガラス状保護層はアルカリイオンが存在し
ない部分を有することにより、アルカリけい酸塩水溶液
より得られるガラス状保護層に比べて耐水性の良いガラ
ス状保護層となる。
【００１５】
【実施例】以下、本発明の実施態様を実施例および比較
例を挙げて具体的に説明するが、本発明はこれらに限定
されるものではない。 （実施例１〜６、比較例１〜３）Ａr 雰囲気の高周波溶
解により重量比で、32Ｎd − 1.2Ｂ−59.8Ｆe −７Ｃo
なる組成の鋳塊を作製した。このインゴットをジョウク
ラッシャーで粗粉砕し、さらに窒素ガスによるジェット
ミルで微粉砕を行なって、平均粒径が 3.5μm の微粉末
を得た。次にこの微粉末を 10kOe磁界が印加された金型
内に充填し、1.0t/cm2の圧力で成形した。ついで真空中
1100℃で２時間焼結し、さらに 550℃で１時間時効処理
を施して永久磁石とした。得られた永久磁石から径21mm
×厚み５mm寸法の磁石体試験片を切り出し、さらにバレ
ル研磨処理を行なった。得られた試験片を前処理として
超音波洗浄を行った後、Ｓi Ｏ2 として30g/L 濃度の水
ガラスに平均粒径12nmの超微粒子シリカを表１に示した
量を添加し、超音波で分散させた処理液に浸漬後、熱風
型オーブン中にて 150℃、20分の加熱処理を行なった。
耐食性の評価は、80℃、90％RH、 100時間後の外観観察
によって行った。また、試験片をエポキシ樹脂系接着剤
を用いて鉄片に接着した後、80℃、90％RH、 100時間前
後の剪断力の測定を行い接着力劣化率を求めた。比較例
１、２として適応範囲外の添加量を加えた処理液に浸漬
したもの、および比較例３として未処理の試験片につい
ての耐食性評価および接着力評価の結果を示す。表１か
ら解かるように、超微粒子シリカの添加量が水ガラス中
のＳi Ｏ2 濃度の１／50〜１／２の範囲内にあれば耐食
性が向上していることがわかる。また、接着力に関して
も添加量が１／50〜１／２の範囲にあれば接着力の劣化
が小さくなることがわかる。さらに、添加量が１／20〜
１／３の範囲にあれば本発明の効果がより顕著であると
言える。
例を挙げて具体的に説明するが、本発明はこれらに限定
されるものではない。 （実施例１〜６、比較例１〜３）Ａr 雰囲気の高周波溶
解により重量比で、32Ｎd − 1.2Ｂ−59.8Ｆe −７Ｃo
なる組成の鋳塊を作製した。このインゴットをジョウク
ラッシャーで粗粉砕し、さらに窒素ガスによるジェット
ミルで微粉砕を行なって、平均粒径が 3.5μm の微粉末
を得た。次にこの微粉末を 10kOe磁界が印加された金型
内に充填し、1.0t/cm2の圧力で成形した。ついで真空中
1100℃で２時間焼結し、さらに 550℃で１時間時効処理
を施して永久磁石とした。得られた永久磁石から径21mm
×厚み５mm寸法の磁石体試験片を切り出し、さらにバレ
ル研磨処理を行なった。得られた試験片を前処理として
超音波洗浄を行った後、Ｓi Ｏ2 として30g/L 濃度の水
ガラスに平均粒径12nmの超微粒子シリカを表１に示した
量を添加し、超音波で分散させた処理液に浸漬後、熱風
型オーブン中にて 150℃、20分の加熱処理を行なった。
耐食性の評価は、80℃、90％RH、 100時間後の外観観察
によって行った。また、試験片をエポキシ樹脂系接着剤
を用いて鉄片に接着した後、80℃、90％RH、 100時間前
後の剪断力の測定を行い接着力劣化率を求めた。比較例
１、２として適応範囲外の添加量を加えた処理液に浸漬
したもの、および比較例３として未処理の試験片につい
ての耐食性評価および接着力評価の結果を示す。表１か
ら解かるように、超微粒子シリカの添加量が水ガラス中
のＳi Ｏ2 濃度の１／50〜１／２の範囲内にあれば耐食
性が向上していることがわかる。また、接着力に関して
も添加量が１／50〜１／２の範囲にあれば接着力の劣化
が小さくなることがわかる。さらに、添加量が１／20〜
１／３の範囲にあれば本発明の効果がより顕著であると
言える。
【００１６】
【表１】
【００１７】（実施例７〜11、比較例４〜５）実施例１
と同様に作製した試験片を前処理として超音波洗浄を行
った後、表２に示す濃度に調整した水ガラスに超微粒子
シリカを５g/L 添加し超音波を用いて分散させた処理液
に浸漬後、熱風型オーブン中にて 150℃、20分の加熱処
理を行なった。試験片に形成されたガラス状保護層の膜
厚は、ＸＰＳ( Ｘ線光電子分光法）を用いて測定を行な
った。耐食性の評価は、80℃、90％RH、 100時間後の外
観観察によって行った。表２に処理条件と耐食性評価の
結果を示した。表２から解かるように、ガラス状保護層
の膜厚が５nm以上あれば耐食性が向上していることが解
かる。
と同様に作製した試験片を前処理として超音波洗浄を行
った後、表２に示す濃度に調整した水ガラスに超微粒子
シリカを５g/L 添加し超音波を用いて分散させた処理液
に浸漬後、熱風型オーブン中にて 150℃、20分の加熱処
理を行なった。試験片に形成されたガラス状保護層の膜
厚は、ＸＰＳ( Ｘ線光電子分光法）を用いて測定を行な
った。耐食性の評価は、80℃、90％RH、 100時間後の外
観観察によって行った。表２に処理条件と耐食性評価の
結果を示した。表２から解かるように、ガラス状保護層
の膜厚が５nm以上あれば耐食性が向上していることが解
かる。
【００１８】
【表２】
【００１９】（実施例12〜15、比較例６〜７）実施例１
と同様に作製した試験片を前処理として超音波洗浄を行
った後、試験片をＳi Ｏ2 として 30g/L含む水ガラスに
平均粒径12nmの超微粒子シリカを５g/L 添加し超音波で
分散させた処理液に浸漬後、熱風型オーブン中にて表３
に示す温度にて20分の加熱処理を行なった。ただし、処
理温度30℃の場合は40分の加熱処理を行った。耐食性の
評価は、80℃、90％RH、 100時間後の外観観察によって
行った。磁気特性劣化率は、フラックスメーターを用い
てコイル引き抜き法によりガラス状保護層被覆前後の磁
気特性を測定して求めた。表３に処理条件と耐食性評価
および磁気特性劣化率を示した。表３からわかるよう
に、加熱処理温度が 120℃以下でも耐食性はかなり向上
しているが、 120℃以上ではより耐食性の良いガラス状
保護層が形成されていることが解かる。また、 450℃よ
り高温では、磁気特性の劣化が大きく使用に耐えないこ
とが解かる。
と同様に作製した試験片を前処理として超音波洗浄を行
った後、試験片をＳi Ｏ2 として 30g/L含む水ガラスに
平均粒径12nmの超微粒子シリカを５g/L 添加し超音波で
分散させた処理液に浸漬後、熱風型オーブン中にて表３
に示す温度にて20分の加熱処理を行なった。ただし、処
理温度30℃の場合は40分の加熱処理を行った。耐食性の
評価は、80℃、90％RH、 100時間後の外観観察によって
行った。磁気特性劣化率は、フラックスメーターを用い
てコイル引き抜き法によりガラス状保護層被覆前後の磁
気特性を測定して求めた。表３に処理条件と耐食性評価
および磁気特性劣化率を示した。表３からわかるよう
に、加熱処理温度が 120℃以下でも耐食性はかなり向上
しているが、 120℃以上ではより耐食性の良いガラス状
保護層が形成されていることが解かる。また、 450℃よ
り高温では、磁気特性の劣化が大きく使用に耐えないこ
とが解かる。
【００２０】
【表３】
【００２１】
【発明の効果】本発明によれば、Ｒ−Ｆe −Ｂ系永久磁
石表面にガラス状保護層を被覆することにより、単純な
工程でかつ低コストで磁気特性の劣化のない高耐食性焼
結永久磁石を提供することができ、産業上その利用価値
は極めて高い。
石表面にガラス状保護層を被覆することにより、単純な
工程でかつ低コストで磁気特性の劣化のない高耐食性焼
結永久磁石を提供することができ、産業上その利用価値
は極めて高い。
Claims (2)
- 【請求項１】表面にシラノール基（≡Ｓi-ＯＨ）を有す
る平均粒径５〜50nmの超微粒子シリカを分散させたアル
カリけい酸塩水溶液からなる処理液に、Ｒ−Ｆe −Ｂ系
永久磁石（ここにＲはＹを含む希土類元素の少なくとも
１種）を浸漬、あるいは該処理液を塗布した後、加熱処
理を行いシラノール基の脱水縮合を起こさせることによ
り、該磁石表面にガラス状保護層を被覆することを特徴
とする高耐食性永久磁石の製造方法。 - 【請求項２】請求項１に記載の製造方法により製造され
たガラス状保護層を有することを特徴とする高耐食性永
久磁石。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7220123A JP3007557B2 (ja) | 1995-08-29 | 1995-08-29 | 高耐食性永久磁石およびその製造方法 |
| US08/661,877 US5840375A (en) | 1995-06-22 | 1996-06-12 | Method for the preparation of a highly corrosion resistant rare earth based permanent magnet |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7220123A JP3007557B2 (ja) | 1995-08-29 | 1995-08-29 | 高耐食性永久磁石およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0963833A JPH0963833A (ja) | 1997-03-07 |
| JP3007557B2 true JP3007557B2 (ja) | 2000-02-07 |
Family
ID=16746280
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7220123A Expired - Lifetime JP3007557B2 (ja) | 1995-06-22 | 1995-08-29 | 高耐食性永久磁石およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3007557B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6174609B1 (en) * | 1997-12-19 | 2001-01-16 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Rare earth-based permanent magnet of high corrosion resistance |
| WO2002071424A1 (fr) * | 2001-03-07 | 2002-09-12 | Shunichi Haruyama | Procede de production d'aimant annulaire, materiau pour cet aimant annulaire et resine de coupe |
| JP4840606B2 (ja) * | 2006-11-17 | 2011-12-21 | 信越化学工業株式会社 | 希土類永久磁石の製造方法 |
| JP6203531B2 (ja) * | 2013-04-26 | 2017-09-27 | 株式会社五合 | 希土類磁石及びその製造方法 |
| CN109003801B (zh) * | 2018-08-01 | 2020-11-10 | 江苏师范大学 | 一种高矫顽力钕铁硼烧结永磁体的制备方法 |
-
1995
- 1995-08-29 JP JP7220123A patent/JP3007557B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0963833A (ja) | 1997-03-07 |
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