JP3003620B2 - ベアチップマウンタおよびそのマウント方法 - Google Patents

ベアチップマウンタおよびそのマウント方法

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JP3003620B2 JP9093644A JP9364497A JP3003620B2 JP 3003620 B2 JP3003620 B2 JP 3003620B2 JP 9093644 A JP9093644 A JP 9093644A JP 9364497 A JP9364497 A JP 9364497A JP 3003620 B2 JP3003620 B2 JP 3003620B2
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector

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  • Wire Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、LSI等のベアチ
ップをプリント基板上に実装する場合に使用して好適な
ベアチップマウンタおよびそのマウント方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、表面実装技術の発達に伴い、回路
基板の製造工程ではベアチップマウンタを用いるベアチ
ップ実装法が広く利用されてきている。従来、この種の
ベアチップマウンタは、例えば図3に示すようなものが
採用されている。このベアチップマウンタにつき、同図
を用いて説明すると、同図において、符号1で示すベア
チップマウンタは、吸着機構(図示せず)に接続する吸
着孔2aを有しプリント基板3を吸着可能な加熱用のス
テージ2と、このステージ2の上方に昇降自在に配設さ
れバンプ電極4a付きのベアチップ4を吸着可能なマウ
ントツール5とを備えている。なお、このマウントツー
ル5は、加熱機構(図示せず)を有している。
【0003】このように構成されたベアチップマウンタ
を用いるベアチップマウントは、ステージ2上にプリン
ト基板3を吸着固定し、次に予めマウントツール5によ
って保持されたベアチップ4のバンプ電極4aとステー
ジ2上におけるプリント基板3上のベアチップ実装パッ
ド(図示せず)とを位置合わせした後、マウントツール
5によってプリント基板3上における所定の部位にベア
チップ4を搭載して接続することにより行なわれる。
【0004】ここで、プリント基板3に対するベアチッ
プ4の実装に接続材料として例えば半田を用いる場合、
半田プリコート等の前処理工程による加熱履歴やベアチ
ップ実装に先立つ他の部品実装工程での加熱履歴等によ
って通常反りやねじれが発生する。このため、ステージ
2の吸着機構(図示せず)によってプリント基板3を吸
着固定するとともに、プリント基板3をステージ2にな
らわせることにより、プリント基板3の反りやねじれが
矯正される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、従来のベア
チップマウンタにおいては、ステージ2の吸着機構(図
示せず)によってプリント基板3の反りやねじれを矯正
した上で、ベアチップ4のプリント基板3への搭載,接
続が行なわれており、このためプリント基板3に貫通ス
ルーホール等が存在すると、ステージ2上でプリント基
板3を吸着しきれず、すなわちプリント基板3をステー
ジ2にならすことによる反りやねじれの矯正を十分に行
なうことができない場合がある。
【0006】この結果、フェースダウン方式によってプ
リント基板3にベアチップ4を実装すると、ベアチップ
4とプリント基板3との平行度が得られないことから、
ベアチップ4のバンプ電極4aとプリント基板3のベア
チップ実装パッド(図示せず)との間のクリアランスを
均一に保つことができず、未接続やルーズコンタク等の
接続不良が発生して品質上の信頼性が低下するという問
題があった。
【0007】そこで、このような問題を解決するための
手段として、プリント基板の貫通スルーホール等の吸着
阻害要因を回避してステージ2に吸着箇所(吸着孔)を
形成することが考えられるが、この場合プリント基板3
の品種個別での対応となり、品種切り替え時の段取り変
更を複雑にするという問題があった。
【0008】また、プリント基板2の設計時に前述した
吸着阻害要因を回避してステージ2の吸着箇所を形成す
ることは、プリント基板3の設計自由度が低下するとい
う不都合があった。
【0009】さらに、プリント基板3の製造工程におい
ては、例えば孔埋め処理等を施すことにより、吸着阻害
要因を排除することもあるが、この場合工程数が嵩み、
コスト高になるという不都合もあった。
【0010】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、品質上の信頼性およびプリント基板の設計自由
度を高めることができるとともに、コストの低廉化およ
び品種切り替え時における段取り変更の簡素化を図るこ
とができるベアチップマウンタおよびそのマウント方法
の提供を目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明の請求項1記載のベアチップマウンタは、フ
ェースダウン方式によって加熱・吸着用のステージ上の
回路基板にベアチップを実装するベアチップマウンタに
おいて、前記ステージの上方に昇降自在に配設されたチ
ップ実装用のツールと、このツールの周囲に配設され、
かつ、不活性雰囲気を形成するための内部空間を有する
箱体からなり、前記ステージ上の回路基板を押圧して反
りを矯正する基板反り矯正用のツールとを有する構成と
してある。
【0012】請求項2記載の発明は、請求項1記載のベ
アチップマウンタにおいて、基板反り矯正用のツール
が、チップ実装用のツールの昇降動作と独立して昇降可
能なツールからなる構成としてある。
【0013】請求項3記載のベアチップマウント方法
は、フェースダウン方式によってステージ上の回路基板
にベアチップを実装するベアチップマウント方法であっ
て、前記回路基板に前記ベアチップを実装するに際し、
初めに基板反り矯正用のツールを下降させて前記回路基
板のチップ実装面近傍部を前記ステージ上に押し付けて
前記基板の反りを矯正する第1の工程と、前記第1の工
程の後、前記基板反り矯正用ツールの内部を不活性雰囲
気とする第2の工程と、前記第2の工程の後、チップ実
装用のツールを下降させて反りの矯正された前記基板上
にベアチップを実装する第3の工程とを有する
【0014】
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態につき、
図面を参照して説明する。図1(a)〜(e)は本発明
の第一実施形態に係るベアチップマウンタおよびそのマ
ウント方法について説明するために示す断面図である。
先ず、ベアチップのマウント方法を実施するためのベア
チップマウンタについて説明する。同図において、符号
11で示すベアチップマウンタは、加熱用のステージ1
2と第一ツール13と第二ツール14とを備えている。
【0016】ステージ12は、吸着機構(図示せず)に
接続する多数の吸着孔12aを有している。これによ
り、チップ実装時に各吸着孔12aの開口部を閉塞する
ようにしてプリント基板15が吸着される。
【0017】第一ツール13は、バンプ電極16a付き
のベアチップ16を吸着可能なベアチップ実装用のツー
ルからなり、ステージ12の上方に昇降自在に配設され
ている。この第一ツール13は、加熱機構および加圧機
構(共に図示せず)を有している。
【0018】第二ツール14は、ステージ12上のプリ
ント基板15を押圧して反りを矯正する基板反り矯正用
のツールからなり、第一ツール13の周囲に昇降自在に
配設されている。この第二ツール14は、基板押圧状態
においてプリント基板15のチップ実装面近傍部を当接
する開口端面14aを有する筒体によって形成されてい
る。
【0019】このように構成されたベアチップマウンタ
においては、半田プリコート等の前処理工程やベアチッ
プ実装工程に先立つ他部品実装工程での加熱履歴によっ
て発生したプリント基板15の反り,ねじれおよびベア
チップ実装工程でプリント基板15をステージ12上で
加熱することにより発生するプリント基板15の反りや
ねじれを矯正しながら、ベアチップ16のプリント基板
15への搭載,接続が行なわれる。
【0020】次に、本実施形態におけるベアチップマウ
ント方法につき、図1(a)〜(e)を用いて説明す
る。先ず、同図(a)に示すように、予め第一ツール1
3によって吸着保持されたベアチップ16およびバンプ
電極16aと、同じく予めステージ12上に吸着固定さ
れたプリント基板15のベアチップ実装パッド(図示せ
ず)とを位置合わせする。
【0021】次に、同図(b)に示すように、第二ツー
ル14を下降させて所定の圧力でプリント基板15のチ
ップ実装面近傍部をステージ12上に押し付ける。この
とき、プリント基板15がステージ12になじみ、プリ
ント基板15の反りやねじれが矯正される。
【0022】しかる後、同図(c)に示すように、第一
ツール13を下降させて所定の圧力と温度でベアチップ
16のバンプ電極16aをプリント基板15上のベアチ
ップ実装パッド(図示せず)あるいはベアチップ実装パ
ッド(図示せず)上に予め供給された接続材料に接触さ
せ、プリント基板15上にベアチップ16を搭載,接続
する。
【0023】そして、同図(d)に示すように、ベアチ
ップ16の吸着保持を解除して第一ツール13を上昇さ
せ、さらに同図(e)に示すように、第二ツール14を
上昇させる。このようにして、プリント基板に対しベア
チップを実装することができる。
【0024】この後、ベアチップ16が実装されたプリ
ント基板15に対するステージ12による吸着固定を解
除し、このプリント基板15を次工程に搬送する。
【0025】次に、本発明実施形態に係るベアチップ
マウンタにつき、図2を用いて説明する。図2は本発明
実施形態に係るベアチップマウンタを示す斜視図で、
同図において図1(a)〜(e)と同一の部材について
は同一の符号を付し、詳細な説明は省略するある。同図
において、符号21で示すベアチップマウンタは、加熱
・吸着用のステージ(図示せず)と第一ツール13と第
二ツール22とを備えている。
【0026】第二ツール22は、図1における第二ツー
ル14と同様にステージ(図示せず)上のプリント基板
15を押圧して反りを矯正する基板反り矯正用のツール
からなり、第一ツール13の周囲に昇降自在に配設され
ている。この第二ツール14は、ツール内外に開口する
不活性ガス供給口(図示せず)および窒素ガス23等に
よる不活性雰囲気を形成するための内部空間22aを有
し、基板押圧状態においてプリント基板15のチップ実
装面近傍部を当接する開口端面22bを有する角箱によ
って形成されている。
【0027】このように構成されたベアチップマウンタ
においては、ベアチップ実装時にプリント基板15の反
り,ねじれを矯正しながら、ベアチップ16のプリント
基板15への搭載,接続が不活性雰囲気で行なわれる。
【0028】次に、第二実施形態におけるベアチップマ
ウント方法について説明する。本実施形態におけるベア
チップマウント方法は、第二ツール22を下降させてス
テージ12上にプリント基板15の押し付ける工程(図
1(b))と、第一ツール13を下降させてプリント基
板15上にベアチップ16を搭載,接続する工程(図1
(c))との間に、第二ツール22内に窒素ガス23を
充満させ、第二ツール22内を低酸素濃度の不活性雰囲
気とする工程を含ませる。
【0029】なお、各実施形態における第二ツールの形
状は、前述した実施形態に特に限定されるものでないこ
とは勿論である。
【0030】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ス
テージの上方にチップ実装用のツールを昇降自在に配設
し、このツールの周囲にステージ上の回路基板を押圧し
て反りを矯正する基板反り矯正用のツールを配設したの
で、半田プリコート等の前処理工程やベアチップ実装工
程に先立つ他部品実装工程での加熱履歴によって発生し
た回路基板の反りやねじれおよびベアチップ実装工程で
回路基板を加熱ステージ上で加熱することにより発生す
る回路基板の反りやねじれを矯正しながら、ベアチップ
の回路基板への搭載,接続が行なわれる。
【0031】したがって、回路基板の反りやねじれに起
因するベアチップ接続部における未接続やルーズコンタ
クトといった接続不良の発生を低減することができるか
ら、品質上の信頼性を高めることができる。
【0032】また、回路基板の反りやねじれをステージ
による吸着固定と反り矯正用のツールによる押圧によっ
て矯正したことは、回路基板に貫通スルーホール等の吸
着阻害要因が存在しても、回路基板の反りやねじれの矯
正が安定して行なえるから、品種毎に吸着阻害要因を避
けた部位に吸着孔を有するステージを用意することを必
要とせず、品種切り替え時における段取り替えの簡素化
を図ることができる。
【0033】さらに、回路基板側でも、設計時に貫通ス
ルーホール等の配置の制約を緩和することができるか
ら、回路基板の設計自由度を高めることができる。
【0034】この他、回路基板の製造工程において、孔
埋め等の吸着阻害要因の排除のための処理を施すことが
不要となるから、製造工程数を削減することができ、回
路基板の製造におけるコストの低廉化を図ることもでき
る。
【0035】請求項3において、基板反り矯正用のツー
ルが、不活性雰囲気を形成するための内部空間を有する
箱体からなることは、ベアチップ接続時の接続材料ある
いはベアチップ実装パッドの表面酸化を抑制することが
でき、接続材料あるいはベアチップ実装パッドの酸化に
起因する接続不良の低減に寄与して品質上の信頼性を一
層高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)〜(e)は本発明の第一実施形態に係る
ベアチップマウンタおよびそのマウント方法について説
明するために示す断面図である。
【図2】本発明の第二実施形態に係るベアチップマウン
タを示す斜視図である。
【図3】従来のベアチップマウンタを示す断面図であ
る。
【符号の説明】
11 ベアチップマウンタ 12 ステージ 13 第一ツール 14 第二ツール 15 プリント基板 16 ベアチップ 16a バンプ電極

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フェースダウン方式によって加熱・吸着
    用のステージ上の回路基板にベアチップを実装するベア
    チップマウンタにおいて、 前記ステージの上方に昇降自在に配設されたチップ実装
    用のツールと、 このツールの周囲に配設され、かつ、不活性雰囲気を形
    成するための内部空間を有する箱体からなり、前記ステ
    ージ上の回路基板を押圧して反りを矯正する基板反り矯
    正用のツールとを有することを特徴としたベアチップマ
    ウンタ。
  2. 【請求項2】 前記基板反り矯正用のツールが、前記チ
    ップ実装用のツールの昇降動作と独立して昇降可能なツ
    ールからなることを特徴とする請求項1記載のベアチッ
    プマウンタ。
  3. 【請求項3】 フェースダウン方式によってステージ上
    の回路基板にベアチップを実装するベアチップマウント
    方法であって、 前記回路基板に前記ベアチップを実装するに際し、初め
    に基板反り矯正用のツールを下降させて前記回路基板の
    チップ実装面近傍部を前記ステージ上に押し付けて前記
    基板の反りを矯正する第1の工程と、 前記第1の工程の後、前記基板反り矯正用ツールの内部
    を不活性雰囲気とする第2の工程と、 前記第2の工程の後、 チップ実装用のツールを下降させ
    て反りの矯正された前記基板上にベアチップを実装する
    第3の工程とを有することを特徴としたベアチップマウ
    ント方法。
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