JP3001333B2 - インラインスパッタ装置 - Google Patents

インラインスパッタ装置

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JP3001333B2
JP3001333B2 JP4150171A JP15017192A JP3001333B2 JP 3001333 B2 JP3001333 B2 JP 3001333B2 JP 4150171 A JP4150171 A JP 4150171A JP 15017192 A JP15017192 A JP 15017192A JP 3001333 B2 JP3001333 B2 JP 3001333B2
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JP
Japan
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carrier
pallet
rotations
sputtering apparatus
line sputtering
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JP4150171A
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敬▲丈▼ 村上
雅樹 伊藤
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NEC Corp
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NEC Corp
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、被成膜基板にスパッタ
で成膜するインラインスパッタ装置に関し、特に被成膜
基板を回転させながら成膜するインラインスパッタ装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のインラインスパッタ装置について
図面を参照して説明する。
【0003】図2は従来例のインラインスパッタ装置の
構成図である。
【0004】図2において、従来例のインラインスパッ
タ装置は、プラットホーム13と、ロードチャンバー1
4と、パレット回転駆動装置16とキャリヤーb27と
を有するスパッタチャンバーb25と、アンロードチャ
ンバー18と、プラットホーム19と、制御盤20とで
構成されている。
【0005】次に、従来例のインラインスパッタ装置の
動作について図面を参照して説明する。
【0006】図2に示すように、キャリヤー27をプラ
ットホーム13よりロードチャンバー14に搬送し、こ
こで真空粗引きを行う。ここで、キャリヤー27は、回
転可能なパレット部と回転しない基本部とからなり、パ
レット部には被成膜基板が搭載される。
【0007】その後、キャリヤー27をスパッタチャン
バーb25に搬送し、キャリヤー27の一部であるパレ
ットをパレット回転駆動装置16によって回転させなが
ら成膜を行う。成膜終了後は、アンロードチャンバー1
8に搬送し、大気圧に戻した後、プラットホーム19に
搬送し、成膜済基板を取り出すという作業を行う。
【0008】これらの操作は、制御盤20で行われる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のインラ
インスパッタ装置では、パレットの回転回数を計測する
手段を備えておらず、また、その計測値をキャリヤー毎
に累積する手段を有していない。
【0010】そのため、キャリヤーの一部であるパレッ
トの累積回転回数を計測できず、その結果として、パレ
ットの回転部位にあるベアリングの回転回数の使用限界
迄の残存値が分からなくなり、適切なベアリング交換が
できないという欠点がある。
【0011】また、ベアリングが回転回数使用限界に達
した場合には、ベアリングが回転不良となり、その該当
するキャリヤーに搭載されているロットの成膜がロット
アウトとなり、生産性の低下をもたらすという欠点があ
る。
【0012】本発明の目的は、被成膜基板を搭載したパ
レットの回転回数を計測する手段と、その計測値をキャ
リヤー毎に累積する手段とを有することにより、上記の
欠点を解消し、各キャリヤー毎の累積回転回数を把握
し、キャリヤーに用いられているベアリングの寿命であ
る回転回数使用限界を把握し、キャリヤーベアリングの
交換時期の最適化を図り、また、キャリヤーのベアリン
グの寿命による成膜ロットアウトを効果的に削減して生
産性の向上を図るインラインスパッタ装置を提供するこ
とにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】本第一の発明のインライ
ンスパッタ装置は、ロードチャンバーとスパッタチャン
バーとアンロードチャンバーとを少なくとも備え、それ
ぞれのチャンバーの間をキャリヤーが移動し、スパッタ
チャンバーでキャリヤーの一部をなす被成膜基板を搭載
しているパレットを駆動装置によって回転させながら成
膜するインラインスパッタ装置において、スパッタチャ
ンバー内のキャリアを個々に識別する識別機構と、スパ
ッタチャンバー内のキャリアのパレットの回転回数を計
測する計測手段と、識別機構で識別したキャリアごとに
計測手段で計測したパレットの回転回数を累積する累積
手段とを備えている。
【0014】本第二の発明のインラインスパッタ装置
は、上記第一の発明のインラインスパッタ装置の計測手
段が、光源を発する光を回転するパレットの一部がきる
ことにより回転回数を計測している。
【0015】本第三の発明のインラインスパッタ装置
は、上記第二の発明のインラインスパッタ装置の光源を
取外し可能な透明板でカバーしている。
【0016】本第四の発明のインラインスパッタ装置
は、上記第一の発明のインラインスパッタ装置の計測手
段が、パレットに取り付けた永久磁石の発する磁界を磁
気抵抗素子を用いて測定することにより回転回数を計測
している。
【0017】
【0018】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
【0019】図1は本発明の一実施例のインラインスパ
ッタ装置の概略構成図である。
【0020】図1において、本実施例のインラインスパ
ッタ装置は、プラットホーム13と、ロードチャンバー
14と、パレット回転回数計測機構11とキャリヤー識
別機構12とパレット回転駆動装置16とキャリヤーa
17とを有するスパッタチャンバーa15と、アンロー
ドチャンバー18と、プラットホーム19と、制御盤2
0とで構成されている。
【0021】次に、インラインスパッタ装置の動作につ
いて図面を参照して説明する。
【0022】図1に示すように、本実施例のインライン
スパッタ装置では、スパッタチャンバーa15におい
て、キャリヤーa17をキャリヤー識別機構12によっ
て識別し、それと同時にパレット回転駆動装置16によ
って回転しているキャリヤーa17の一部であるパレッ
トの回転回数をパレット回転回数計測機構11によって
計測する。
【0023】そして、キャリヤーの識別した結果とパレ
ット回転回数の計測結果をあわせて、制御盤20でキャ
リヤー毎に累積し、表示する。
【0024】これにより、各キャリヤー毎の累積回転回
数を把握し、この結果により、キャリヤーa17に用い
られているベアリングの寿命である回転回数使用限界迄
の残存回転回数を把握する。
【0025】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のインライ
ンスパッタ装置は、スパッタチャンバーにおいて、キャ
リヤーをキャリヤー識別機構によって識別し、それと同
時にキャリヤーの一部であるパレットの回転回数をパレ
ット回転回数計測機構によって計測し、キャリヤーの識
別した結果とパレット回転回数の計測結果をあわせて、
制御盤でキャリヤー毎に累積し、表示することにより、
各キャリヤー毎の累積回転回数を容易に把握でき、その
結果として、キャリヤーに用いられているベアリングの
寿命である回転回数使用限界迄、どの位の回転回数が残
されているかが正確に把握でき、キャリヤーベアリング
の交換時期の最適化ができるという効果がある。
【0026】また、キャリヤーのベアリングの寿命によ
る成膜ロットアウトも効果的に削減できるため、生産性
を向上することができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例のインラインスパッタ装置の
概略構成図である。
【図2】従来例のインラインスパッタ装置の概略構成図
である。
【符号の説明】
11 パレット回転回数計測機構 12 キャリヤー識別機構 13,19 プラットホーム 14 ロードチャンバー 15 スパッタチャンバーa 16 パレット回転駆動装置 17 キャリヤーa 18 アンロードチャンバー 20 制御盤 25 スパッタチャバーb 27 キャリヤーb
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平1−298160(JP,A) 特開 平4−53062(JP,A) 特開 平3−75786(JP,A) 特開 平3−164336(JP,A) 実開 昭60−162964(JP,U)

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ロードチャンバーとスパッタチャンバー
    とアンロードチャンバーとを少なくとも備え、それぞれ
    のチャンバーの間をキャリヤーが移動し、前記スパッタ
    チャンバーで前記キャリヤーの一部をなす被成膜基板を
    搭載しているパレットを駆動装置によって回転させなが
    ら成膜するインラインスパッタ装置において、前記スパ
    ッタチャンバー内の前記キャリアを個々に識別する識別
    機構と、前記スパッタチャンバー内の前記キャリアの前
    記パレットの回転回数を計測する計測手段と、前記識別
    機構で識別した前記キャリアごとに前記計測手段で計測
    した前記パレットの回転回数を累積する累積手段とを備
    えることを特徴とするインラインスパッタ装置。
  2. 【請求項2】 前記計測手段が、光源を発する光を回転
    するパレットの一部がきることにより前記回転回数を計
    測することを特徴とする請求項1に記載のインラインス
    パッタ装置。
  3. 【請求項3】 前記光源を取外し可能な透明板でカバー
    することを特徴とする請求項2に記載のインラインスパ
    ッタ装置。
  4. 【請求項4】 前記計測手段が、前記パレットに取り付
    けた永久磁石の発する磁界を磁気抵抗素子を用いて測定
    することにより前記回転回数を計測することを特徴とす
    る請求項1に記載のインラインスパッタ装置。
JP4150171A 1992-06-10 1992-06-10 インラインスパッタ装置 Expired - Lifetime JP3001333B2 (ja)

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JPH05339723A JPH05339723A (ja) 1993-12-21
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100765997B1 (ko) * 2001-08-21 2007-10-11 삼성코닝 주식회사 인라인 스퍼터링 시스템

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US6217272B1 (en) * 1998-10-01 2001-04-17 Applied Science And Technology, Inc. In-line sputter deposition system
JP4531197B2 (ja) * 2000-05-08 2010-08-25 株式会社森精機製作所 自動工具交換装置

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