JP2985307B2 - 画像投射装置 - Google Patents
画像投射装置Info
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- JP2985307B2 JP2985307B2 JP3012733A JP1273391A JP2985307B2 JP 2985307 B2 JP2985307 B2 JP 2985307B2 JP 3012733 A JP3012733 A JP 3012733A JP 1273391 A JP1273391 A JP 1273391A JP 2985307 B2 JP2985307 B2 JP 2985307B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、書込み側からの光の入
射に基いて、読出し面に弾性変形による凹凸を形成し、
シュリーレン光学系などの読出し光学系側の光源からの
光を回折、散乱させて、光強度変調を行うライトバルブ
を用いた画像投射装置に関する。
射に基いて、読出し面に弾性変形による凹凸を形成し、
シュリーレン光学系などの読出し光学系側の光源からの
光を回折、散乱させて、光強度変調を行うライトバルブ
を用いた画像投射装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の画像投射装置、即ちプロジェクタ
としてエラストマ、光導電膜などを内蔵したライトバル
ブを用いたものが知られている。これには二つのタイプ
が提案されている。
としてエラストマ、光導電膜などを内蔵したライトバル
ブを用いたものが知られている。これには二つのタイプ
が提案されている。
【０００３】一つは、ライトバルブにＤＣ電圧を印加し
て、反射電極膜の表面、即ち読出し面を平坦にしてお
き、その後、光導電膜、即ち書込み面に書込み光（例え
ばレーザ光）を入射させる。このとき、書込み面の光導
電膜に書込み光が当たった箇所だけが、ライトバルブに
かかる電界が強くなり、内蔵されているエラストマを介
して読出し面に凹凸（変形）が形成される。そして、こ
の読出し面にシュリーレン光学系側の光源から光を照射
して該光を回折、散乱させて光強度変調させ、この光変
調された光を、例えばスクリーン等に照射して画像を得
るというものである。
て、反射電極膜の表面、即ち読出し面を平坦にしてお
き、その後、光導電膜、即ち書込み面に書込み光（例え
ばレーザ光）を入射させる。このとき、書込み面の光導
電膜に書込み光が当たった箇所だけが、ライトバルブに
かかる電界が強くなり、内蔵されているエラストマを介
して読出し面に凹凸（変形）が形成される。そして、こ
の読出し面にシュリーレン光学系側の光源から光を照射
して該光を回折、散乱させて光強度変調させ、この光変
調された光を、例えばスクリーン等に照射して画像を得
るというものである。
【０００４】一つは、光導電膜側、即ち書込み側の透明
電極をくし歯状に加工しておき、この電極と読出し側の
透明電極間に交流電圧を加え、予め読出し面を変形させ
ておく。この状態で、書込み面に書込み光を当てると、
光の当たった部分において、電界の分布がなくなり、そ
の部分の読出し面が平坦になる。そして、上記と同様
に、読出し面にシュリーレン光学系側の光源から光を照
射して該光を回折、散乱させて光強度変調させ、この光
変調された光を例えばスクリーン等に照射して画像を得
るというものである。
電極をくし歯状に加工しておき、この電極と読出し側の
透明電極間に交流電圧を加え、予め読出し面を変形させ
ておく。この状態で、書込み面に書込み光を当てると、
光の当たった部分において、電界の分布がなくなり、そ
の部分の読出し面が平坦になる。そして、上記と同様
に、読出し面にシュリーレン光学系側の光源から光を照
射して該光を回折、散乱させて光強度変調させ、この光
変調された光を例えばスクリーン等に照射して画像を得
るというものである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の画像投射装置のうち、前者のタイプにおいては、Ｄ
Ｃ電源を印加するため、時間の経過に伴って、光導電膜
に電荷がたまり、最終的にその電荷が光導電膜中に拡散
して、読出し面における光変調を阻害し、書込み光に基
づく画像が得られないという不都合がある。この不都合
を回避するためには、光導電膜にたまる電荷の消去を定
期的（例えば、１フレームごと）に行わなければならず
非常に煩わしい。
来の画像投射装置のうち、前者のタイプにおいては、Ｄ
Ｃ電源を印加するため、時間の経過に伴って、光導電膜
に電荷がたまり、最終的にその電荷が光導電膜中に拡散
して、読出し面における光変調を阻害し、書込み光に基
づく画像が得られないという不都合がある。この不都合
を回避するためには、光導電膜にたまる電荷の消去を定
期的（例えば、１フレームごと）に行わなければならず
非常に煩わしい。
【０００６】また、後者のタイプにおいては、交流電圧
を印加するため、上記不都合は回避されるが、透明電極
をくし歯状に加工するうえで、高度な微細加工技術が要
求され、それに伴い、多大な製作費用がかかるという不
都合がある。
を印加するため、上記不都合は回避されるが、透明電極
をくし歯状に加工するうえで、高度な微細加工技術が要
求され、それに伴い、多大な製作費用がかかるという不
都合がある。
【０００７】本発明は、このような点に鑑みて成された
もので、その目的とするところは、交流電圧を印加する
タイプの利点（即ち、電荷の消去プロセスが不要）を生
かすと共に、高度な微細加工技術を用いずとも安価な光
学系を組むことで高解像度のある画像を得ることができ
る画像投射装置を提供することにある。
もので、その目的とするところは、交流電圧を印加する
タイプの利点（即ち、電荷の消去プロセスが不要）を生
かすと共に、高度な微細加工技術を用いずとも安価な光
学系を組むことで高解像度のある画像を得ることができ
る画像投射装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、書込み面１ａ
への書込み光Ｗの入射により、読出し面１ｂに書込み光
Ｗに準じた光回折パターンが形成されるライトバルブ１
を有し、読出し光学系側３の光源１４からの光ａを回
折、散乱させて光変調を行い、この光変調に基いて、上
記読出し光学系３によりスクリーン１３等に画像を投射
させる画像投射装置Ａにおいて、上記ライトバルブ１の
書込み側にパターン形成光学系１０を配置し、該パター
ン形成光学系１０からのパターン光ＳＰの投射によっ
て、上記ライトバルブ１の読出し面１ｂに上記パターン
光ＳＰに準じた凹凸が予め形成されるように構成する。
への書込み光Ｗの入射により、読出し面１ｂに書込み光
Ｗに準じた光回折パターンが形成されるライトバルブ１
を有し、読出し光学系側３の光源１４からの光ａを回
折、散乱させて光変調を行い、この光変調に基いて、上
記読出し光学系３によりスクリーン１３等に画像を投射
させる画像投射装置Ａにおいて、上記ライトバルブ１の
書込み側にパターン形成光学系１０を配置し、該パター
ン形成光学系１０からのパターン光ＳＰの投射によっ
て、上記ライトバルブ１の読出し面１ｂに上記パターン
光ＳＰに準じた凹凸が予め形成されるように構成する。
【０００９】
【作用】上述の本発明の構成によれば、パターン形成光
学系１０を、書込み側に配置して、該パターン形成光学
系１０によりライトバルブ１の書込み面１ａに例えばス
ペックルパターンＳＰを発生させ、このスペックルパタ
ーンＳＰにより、予め読出し面１ｂに、該スペックルパ
ターンＳＰに準じた凹凸を形成するようにしたので、こ
の状態で書込み光Ｗをライトバルブ１の書込み面１ａに
照射すると、光Ｗの当たった箇所において、その電界強
度分布がなくなり、それにより、ライトバルブ１の読出
し面１ｂ中、上記光Ｗの当たった箇所が平坦化し、読出
し側に配置したシュリーレン光学系などの読出し光学系
３からの光ａが上記平坦面において回折されなくなる。
このような光変調によって、読出し光学系３の後方に配
置したスクリーン１３上に画像を得ることができる。こ
の場合、ライトバルブ１に交流電圧を印加するため、読
出し面１ｂ側の光導電膜６に電荷がたまるということが
なく、電荷の消去プロセスが不要となる。また、パター
ン形成光学系１０により、読出し面１ｂに微細なスペッ
クルパターンＳＰを形成するため、読出し面１ｂ側の透
明電極５を高度な微細加工技術でくし歯状に加工する必
要がなく、高解像度を有する画像を安価に得ることがで
きる。
学系１０を、書込み側に配置して、該パターン形成光学
系１０によりライトバルブ１の書込み面１ａに例えばス
ペックルパターンＳＰを発生させ、このスペックルパタ
ーンＳＰにより、予め読出し面１ｂに、該スペックルパ
ターンＳＰに準じた凹凸を形成するようにしたので、こ
の状態で書込み光Ｗをライトバルブ１の書込み面１ａに
照射すると、光Ｗの当たった箇所において、その電界強
度分布がなくなり、それにより、ライトバルブ１の読出
し面１ｂ中、上記光Ｗの当たった箇所が平坦化し、読出
し側に配置したシュリーレン光学系などの読出し光学系
３からの光ａが上記平坦面において回折されなくなる。
このような光変調によって、読出し光学系３の後方に配
置したスクリーン１３上に画像を得ることができる。こ
の場合、ライトバルブ１に交流電圧を印加するため、読
出し面１ｂ側の光導電膜６に電荷がたまるということが
なく、電荷の消去プロセスが不要となる。また、パター
ン形成光学系１０により、読出し面１ｂに微細なスペッ
クルパターンＳＰを形成するため、読出し面１ｂ側の透
明電極５を高度な微細加工技術でくし歯状に加工する必
要がなく、高解像度を有する画像を安価に得ることがで
きる。
【００１０】
【実施例】以下、図１を参照しながら本発明の実施例を
説明する。
説明する。
【００１１】図１は、本実施例に係る画像投射装置（ラ
イトバルブプロジェクタ）Ａを示す構成図である。
イトバルブプロジェクタ）Ａを示す構成図である。
【００１２】この装置Ａは、ライトバルブ１を中央にし
て、その左側、即ち書込み側に書込み光学系２が配置さ
れ、右側、即ち読出し側にシュリーレン光学系などの読
出し光学系３が配置されて構成されている。
て、その左側、即ち書込み側に書込み光学系２が配置さ
れ、右側、即ち読出し側にシュリーレン光学系などの読
出し光学系３が配置されて構成されている。
【００１３】ライトバルブ１は、書込み面１ａと読出し
面１ｂとを有し、書込み面１ａから読出し面１ｂに向か
って順に、ガラス基板４、透明電極５、光導電膜（アモ
ルファスシリコンなど）６、誘電体ミラー（ＳｉＯ
2 膜）と光吸収膜（ＴｉＯ2 膜）の集合体７、エラスト
マ８、表面反射電極膜（Ａｌ膜）９が積層されて構成さ
れている。そして、このライトバルブ１、特に、表面反
射電極膜９と透明電極５間には、交流電圧（数ＫＨｚ〜
数１０ＫＨｚ）が印加される。尚、集合体７は、読出し
光学系３における光源１４からの光ａの書込み側への透
過を防ぐと共に、書込み光Ｗの読出し側への透過を防ぐ
ために用いられる（クロストーク防止）。
面１ｂとを有し、書込み面１ａから読出し面１ｂに向か
って順に、ガラス基板４、透明電極５、光導電膜（アモ
ルファスシリコンなど）６、誘電体ミラー（ＳｉＯ
2 膜）と光吸収膜（ＴｉＯ2 膜）の集合体７、エラスト
マ８、表面反射電極膜（Ａｌ膜）９が積層されて構成さ
れている。そして、このライトバルブ１、特に、表面反
射電極膜９と透明電極５間には、交流電圧（数ＫＨｚ〜
数１０ＫＨｚ）が印加される。尚、集合体７は、読出し
光学系３における光源１４からの光ａの書込み側への透
過を防ぐと共に、書込み光Ｗの読出し側への透過を防ぐ
ために用いられる（クロストーク防止）。
【００１４】しかして、本例においては、書込み側にス
ペックルパターン形成光学系１０を配して構成される。
このスペックルパターン形成光学系１０は、板状のすり
ガラスやオパールガラスなどで形成された拡散板１１を
ライトバルブ１の書込み面１ａに対抗させて配置するこ
とにより構成される。そして、この拡散板１１にパター
ン形成用レーザ光１２を照射することにより、該レーザ
光１２が拡散板１１表面（ライトバルブ側）の凹凸で拡
散、回折され、ライトバルブ１の書込み面１ａに不規則
な粒状模様、即ちスペックルパターンＳＰが投射され
る。ライトバルブ１は読出し面１ｂに投射された上記ス
ペックルパターンＳＰに応じた電界強度分布が全面にか
かり、ライトバルブ１の読出し面１ｂにおいてその電界
強度分布に応じた凹凸、即ちスペックルパターンＳＰに
応じた凹凸が形成される。換言すれば、後述する書込み
光Ｗの書込み面１ａへの入射前に予めライトバルブ１の
読出し面１ｂにスペックルパターン形成光学系１０から
投射されるスペックルパターンＳＰに応じた凹凸を形成
する。
ペックルパターン形成光学系１０を配して構成される。
このスペックルパターン形成光学系１０は、板状のすり
ガラスやオパールガラスなどで形成された拡散板１１を
ライトバルブ１の書込み面１ａに対抗させて配置するこ
とにより構成される。そして、この拡散板１１にパター
ン形成用レーザ光１２を照射することにより、該レーザ
光１２が拡散板１１表面（ライトバルブ側）の凹凸で拡
散、回折され、ライトバルブ１の書込み面１ａに不規則
な粒状模様、即ちスペックルパターンＳＰが投射され
る。ライトバルブ１は読出し面１ｂに投射された上記ス
ペックルパターンＳＰに応じた電界強度分布が全面にか
かり、ライトバルブ１の読出し面１ｂにおいてその電界
強度分布に応じた凹凸、即ちスペックルパターンＳＰに
応じた凹凸が形成される。換言すれば、後述する書込み
光Ｗの書込み面１ａへの入射前に予めライトバルブ１の
読出し面１ｂにスペックルパターン形成光学系１０から
投射されるスペックルパターンＳＰに応じた凹凸を形成
する。
【００１５】この状態から、例えばスクリーン１３上に
画像を得る場合、例えば１水平走査期間に基づく映像信
号の例えばその輝度信号により変調され、かつポリゴン
ミラー、ガルバノミラー、音響光学偏向素子などの光偏
向手段によりラスタ走査されるレーザ光（以後、単に書
き込み光と記す）Ｗをライトバルブ１の書込み面１ａに
入射させる。
画像を得る場合、例えば１水平走査期間に基づく映像信
号の例えばその輝度信号により変調され、かつポリゴン
ミラー、ガルバノミラー、音響光学偏向素子などの光偏
向手段によりラスタ走査されるレーザ光（以後、単に書
き込み光と記す）Ｗをライトバルブ１の書込み面１ａに
入射させる。
【００１６】ライトバルブ１は、上記書込み光Ｗが照射
された箇所において電界強度分布がなくなり、それに伴
い、読出し面１ｂの上記箇所に対応する箇所が平坦化す
る。この状態において、読み出し光学系３の光源１４か
ら光ａを反射ミラー１５及びシュリーレンレンズ１６を
介してライトバルブ１の読出し面１ｂに照射する。この
光ａは、読出し面１ｂに形成されているスペックルパタ
ーンＳＰに準じた凹凸で散乱、回折され、この読出し面
１ｂからシュリーレンレンズ１６を隔てて配されたスリ
ット板又はピンホール板１７の遮蔽部分１７ａにおいて
遮光される。一方、書込み光Ｗによって平坦化された部
分に照射した光ａは、回折を受けずに読出し光Ｒとして
シュリーレンレンズ１６及びスリット板又はピンホール
板１７のスリット又はピンホール１７ｂ並びに投影用レ
ンズ１８を通してスクリーン１３に入射される。そし
て、書込み光Ｗが順次ラスタ走査されてライトバルブ１
の書込み面１ａに入射されることにより、ラスタ走査さ
れる書込み光Ｗに準じた読出し光Ｒが順次スクリーン１
３に入射して、該スクリーン１３上に画像が表示され
る。
された箇所において電界強度分布がなくなり、それに伴
い、読出し面１ｂの上記箇所に対応する箇所が平坦化す
る。この状態において、読み出し光学系３の光源１４か
ら光ａを反射ミラー１５及びシュリーレンレンズ１６を
介してライトバルブ１の読出し面１ｂに照射する。この
光ａは、読出し面１ｂに形成されているスペックルパタ
ーンＳＰに準じた凹凸で散乱、回折され、この読出し面
１ｂからシュリーレンレンズ１６を隔てて配されたスリ
ット板又はピンホール板１７の遮蔽部分１７ａにおいて
遮光される。一方、書込み光Ｗによって平坦化された部
分に照射した光ａは、回折を受けずに読出し光Ｒとして
シュリーレンレンズ１６及びスリット板又はピンホール
板１７のスリット又はピンホール１７ｂ並びに投影用レ
ンズ１８を通してスクリーン１３に入射される。そし
て、書込み光Ｗが順次ラスタ走査されてライトバルブ１
の書込み面１ａに入射されることにより、ラスタ走査さ
れる書込み光Ｗに準じた読出し光Ｒが順次スクリーン１
３に入射して、該スクリーン１３上に画像が表示され
る。
【００１７】ここで、ライトバルブ１の書込み面１ａに
形成されるスペックルパターンＳＰの一つの粒状投影像
の径とスペックルパターン形成光学系１０の配置との関
係をみると、一つの粒状投影像の平均径をδx、パター
ン形成用レーザ光１２のビーム径をａ、ライトバルブ１
と拡散板１１間の距離をｂ、パターン形成用レーザ光１
２の波長をλとしたとき、次の関数式が成立する。 δx ＝ｆ（λ・ｂ／ａ）
形成されるスペックルパターンＳＰの一つの粒状投影像
の径とスペックルパターン形成光学系１０の配置との関
係をみると、一つの粒状投影像の平均径をδx、パター
ン形成用レーザ光１２のビーム径をａ、ライトバルブ１
と拡散板１１間の距離をｂ、パターン形成用レーザ光１
２の波長をλとしたとき、次の関数式が成立する。 δx ＝ｆ（λ・ｂ／ａ）
【００１８】この関数式からわかるように、パターン形
成用レーザ光１２の波長λ、拡散板１１上でのビーム径
ａ、拡散板１１とライトバルブ１間の距離ｂを調節する
ことでスペックルパターンＳＰの微細化、即ち、１画素
中に十分な数の粒状投影像が存在するスペックルパター
ンＳＰを形成することが可能となり、スクリーン１３上
に投射される画像の高解像度化が実現できる。尚、本例
においては、粒状投影像の平均径δx を書込み光Ｗのビ
ーム径を考慮して１０〜２０μｍ程度とした。従って、
読出し面１ｂに形成される凹凸のピッチも１０〜２０μ
ｍ程度となる。また、拡散板１１を面方向に周期的に動
かす、あるいはレーザ光１２の照射位置を周期的に変化
させることにより、ライトバルブ１に投射されるスペッ
クルパターン形状が周期的に変化し、任意のスペックル
パターンＳＰを選択することができる。
成用レーザ光１２の波長λ、拡散板１１上でのビーム径
ａ、拡散板１１とライトバルブ１間の距離ｂを調節する
ことでスペックルパターンＳＰの微細化、即ち、１画素
中に十分な数の粒状投影像が存在するスペックルパター
ンＳＰを形成することが可能となり、スクリーン１３上
に投射される画像の高解像度化が実現できる。尚、本例
においては、粒状投影像の平均径δx を書込み光Ｗのビ
ーム径を考慮して１０〜２０μｍ程度とした。従って、
読出し面１ｂに形成される凹凸のピッチも１０〜２０μ
ｍ程度となる。また、拡散板１１を面方向に周期的に動
かす、あるいはレーザ光１２の照射位置を周期的に変化
させることにより、ライトバルブ１に投射されるスペッ
クルパターン形状が周期的に変化し、任意のスペックル
パターンＳＰを選択することができる。
【００１９】上述のように、本例によれば、パターン形
成光学系１０をライトバルブ１の書込み側に配置して、
該パターン形成光学系１０によりライトバルブ１の書込
み面１ａに例えばスペックルパターンＳＰを発生させ、
このスペックルパターンＳＰにより、予め読出し面１ｂ
に該スペックルパターンＳＰに準じた凹凸を形成するよ
うにしたので、この状態で書込み光（レーザ光）Ｗをラ
イトバルブ１の書込み面１ａに照射することにより、光
Ｗの当たった箇所において、その電界強度分布がなくな
り、それにより、ライトバルブ１の読出し面１ｂ中、上
記光Ｗの当たった箇所が平坦化し、読出し側に配置した
シュリーレン光学系などの読出し光学系３からの光ａが
上記平坦面において回折されなくなる。このような光変
調によって、読み出し光学系３の後方に配置したスクリ
ーン１３上に高解像度の画像を得ることができる。この
場合、ライトバルブ１に交流電圧を印加するため、読出
し面１ｂ側の光導電膜６に電荷がたまるということがな
く、電荷の消去プロセスが不要となる。また、パターン
形成光学系１０により、読出し面１ｂに微細なスペック
ルパターンＳＰを形成するため、読出し面１ｂ側の透明
電極５を高度な微細加工技術（フォトリソグラフィ技
術）でくし歯状に加工する必要がなく、高解像度を有す
る画像を安価に得ることができる。
成光学系１０をライトバルブ１の書込み側に配置して、
該パターン形成光学系１０によりライトバルブ１の書込
み面１ａに例えばスペックルパターンＳＰを発生させ、
このスペックルパターンＳＰにより、予め読出し面１ｂ
に該スペックルパターンＳＰに準じた凹凸を形成するよ
うにしたので、この状態で書込み光（レーザ光）Ｗをラ
イトバルブ１の書込み面１ａに照射することにより、光
Ｗの当たった箇所において、その電界強度分布がなくな
り、それにより、ライトバルブ１の読出し面１ｂ中、上
記光Ｗの当たった箇所が平坦化し、読出し側に配置した
シュリーレン光学系などの読出し光学系３からの光ａが
上記平坦面において回折されなくなる。このような光変
調によって、読み出し光学系３の後方に配置したスクリ
ーン１３上に高解像度の画像を得ることができる。この
場合、ライトバルブ１に交流電圧を印加するため、読出
し面１ｂ側の光導電膜６に電荷がたまるということがな
く、電荷の消去プロセスが不要となる。また、パターン
形成光学系１０により、読出し面１ｂに微細なスペック
ルパターンＳＰを形成するため、読出し面１ｂ側の透明
電極５を高度な微細加工技術（フォトリソグラフィ技
術）でくし歯状に加工する必要がなく、高解像度を有す
る画像を安価に得ることができる。
【００２０】上記実施例では、拡散板１１に一つのレー
ザ光１２を照射してライトバルブ１の書込み面１ａに微
細なスペックルパターンＳＰを形成するようにしたが、
その他、拡散板１１に二つのレーザ光を照射してライト
バルブ１の書込み面１ａに規則性のある干渉じまを形成
するようにしてもよい。
ザ光１２を照射してライトバルブ１の書込み面１ａに微
細なスペックルパターンＳＰを形成するようにしたが、
その他、拡散板１１に二つのレーザ光を照射してライト
バルブ１の書込み面１ａに規則性のある干渉じまを形成
するようにしてもよい。
【００２１】
【発明の効果】本発明に係る画像投射装置によれば、交
流電圧を印加するタイプの利点（電荷の消去プロセスが
不要）を生かすことができると共に、高度な微細加工技
術を用いずとも安価な光学系を組むことで高解像度のあ
る画像を得ることができる。
流電圧を印加するタイプの利点（電荷の消去プロセスが
不要）を生かすことができると共に、高度な微細加工技
術を用いずとも安価な光学系を組むことで高解像度のあ
る画像を得ることができる。
【図１】本実施例に係る画像投射装置（ライトバルブプ
ロジェクタ）を示す構成図。
ロジェクタ）を示す構成図。
Ａ 画像投射装置 １ ライトバルブ １ａ 書込み面 １ｂ 読出し面 ２ 書込み光学系 ３ 読出し光学系 １０ スペックルパターン形成光学系 １１ 拡散板 １２ パターン形成用レーザ光 １３ スクリーン １４ 光源 １６ シュリーレンレンズ １８ 投影用レンズ Ｗ 書込み光 Ｒ 読出し光 ＳＰ スペックルパターン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G02F 1/01 H04N 5/74
Claims (1)
- 【請求項１】 書込み面への書込み光の入射により、読
出し面に書込み光に準じた光回折パターンが形成される
ライトバルブを有し、読出し光学系側の光源からの光を
回折、散乱させて光変調を行い、この光変調に基いて、
上記読出し光学系によりスクリーン等に画像を投射させ
る画像投射装置において、上記ライトバルブの書込み側
にパターン形成光学系を配置し、該パターン形成光学系
からのパターン光投射によって、上記ライトバルブの読
出し面に上記パターン光に準じた凹凸が予め形成される
ことを特徴とする画像投射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3012733A JP2985307B2 (ja) | 1991-01-09 | 1991-01-09 | 画像投射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3012733A JP2985307B2 (ja) | 1991-01-09 | 1991-01-09 | 画像投射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04251215A JPH04251215A (ja) | 1992-09-07 |
| JP2985307B2 true JP2985307B2 (ja) | 1999-11-29 |
Family
ID=11813639
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3012733A Expired - Fee Related JP2985307B2 (ja) | 1991-01-09 | 1991-01-09 | 画像投射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2985307B2 (ja) |
-
1991
- 1991-01-09 JP JP3012733A patent/JP2985307B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04251215A (ja) | 1992-09-07 |
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