JP2972384B2 - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JP2972384B2 JP3134551A JP13455191A JP2972384B2 JP 2972384 B2 JP2972384 B2 JP 2972384B2 JP 3134551 A JP3134551 A JP 3134551A JP 13455191 A JP13455191 A JP 13455191A JP 2972384 B2 JP2972384 B2 JP 2972384B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体メモリ装置に関
し、特に、高速度のデータ出力用として用いられるMO
Sダイナミック・メモリセルを含む半導体メモリ装置に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to an MO used for high-speed data output.
The present invention relates to a semiconductor memory device including an S dynamic memory cell.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の、この種の半導体メモリ装置は、
微細加工技術の進歩とともに集積度の向上が図られてき
ている。特に、ダイナミックメモリ装置においては、メ
モリセルの構造が簡単であるために高集積化が可能であ
り、低価格という利点がある。更に、高集積化に伴な
い、データ出力の速度も改善されている。しかしなが
ら、メモリセルがダイナミック型であるために、スタン
バイ時においても、メモリセルをリフレッシュする必要
があり、外部コントロールが複雑になるという問題があ
る。この問題を解消するために、内部リフレッシュ回路
を内蔵して、スタンバアイ時に、自動的にリフレッシュ
を行う半導体メモリ装置が開発されており、更に、電池
駆動動作のために、電源電圧が低電圧においても動作可
能な半導体メモリ装置の開発も行われてきている。
2. Description of the Related Art A conventional semiconductor memory device of this type includes:
With the advance of microfabrication technology, the degree of integration has been improved. In particular, in a dynamic memory device, the structure of the memory cell is simple, so that high integration is possible and there is an advantage of low cost. In addition, the speed of data output has been improved with higher integration. However, since the memory cells are of a dynamic type, it is necessary to refresh the memory cells even during standby, and there is a problem that external control becomes complicated. In order to solve this problem, a semiconductor memory device that incorporates an internal refresh circuit and automatically refreshes at standby time has been developed. A semiconductor memory device that can operate also has been developed.

【0003】図5に示されるのは、従来の半導体メモリ
装置に含まれる代表的なメモリセル部を示す回路図であ
る。その構成としては、ダイナミック型セル11の一方
の電極に固定の電位レベルを与えるVcc/2発生回路1
2に対応して、このダイナミック型セル11と、ダイナ
ミック型セル11の他方の電極とビットライン2015
の間に接続され、ゲートにワード線202が接続されて
いるNMOSトランジスタ10とを備えて構成される。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a typical memory cell section included in a conventional semiconductor memory device. As the configuration, a V cc / 2 generating circuit 1 for applying a fixed potential level to one electrode of the dynamic type cell 11 is used.
2, the dynamic cell 11 and the other electrode of the dynamic cell 11 and the bit line 2015
And the NMOS transistor 10 whose gate is connected to the word line 202.

【0004】図5において、定常動作状態においては、
ダイナミック型セル11の電極間の破壊電圧レベルが低
くなっているため、これに対応して、Vcc/2の固定電
圧が当該ダイナミック型セル11に供給されている。こ
のために、定常動作状態においては、常時、一定の電流
が、Vcc/2発生回路12よりダイナミック型セル11
に流入している。
In FIG. 5, in a steady state operation state,
Since the breakdown voltage level between the electrodes of the dynamic cell 11 is low, a fixed voltage of V cc / 2 is supplied to the dynamic cell 11 correspondingly. For this reason, in the steady operation state, a constant current is always supplied from the Vcc / 2 generation circuit 12 to the dynamic cell 11.
Is flowing into

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
メモリ装置においては、定常動作時においては、データ
の取込みの如何に関係なく、Vcc/2発生回路12よ
り、常時、一定の電流がダイナミック型セル11に流入
しており、これにより、Vcc/2発生回路12の消費電
流が定常化されるという欠点がある。
In the above-mentioned conventional semiconductor memory device, a constant current is constantly supplied from the Vcc / 2 generation circuit 12 at all times during normal operation, regardless of whether data is fetched or not. There is a disadvantage that the current consumption of the V cc / 2 generation circuit 12 is stabilized due to the current flowing into the mold cell 11.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体メモリ装
置は、少なくとも、メモリセル部、リフレッシュ・タイ
マー、タイミング発生回路およびVCC/2発生回路(V
CCは電源電圧)を含んで形成され、データ保持モードと
して、低電位のデータ保持モードと通常のデータ保持モ
ードとを有するダイナミック型セルを含む半導体メモリ
装置において、一方の電極に、所定の節点N1 より固定
の電圧レベルが与えられるダイナミッグ型セルと、ドレ
インが前記ダイナミック型セルの他方の電極に接続さ
れ、ソースが所定のビットラインに接続されるととも
に、ゲートが所定のワード線に接続される第1のNMO
Sトランジスタと、それぞれドレインが前記節点N1
接続され、ソースに電源電圧VCCが供給されるととも
に、ゲートにそれぞれ前記低電位のデータ保持モード時
に、前記タイミング発生回路より活性化されて出力され
る第3および第4のクロックが入力される第1および第
2のPMOSトランジスタと、それぞれドレインが前記
節点N1 に接続され、ソースに前記VCC/2発生回路よ
り出力されるVCC/2が供給されるとともに、ゲートに
それぞれ前記通常のデータ保持モード時に、前記タイミ
ング発生回路より活性化されて出力される第1および第
2のクロックが入力される第2および第3のNMOSト
ランジスタと、を含む前記メモリセル部を備えて構成さ
れる。
According to the semiconductor memory device of the present invention, at least a memory cell section, a refresh timer, a timing generation circuit, and a Vcc / 2 generation circuit (V
CC is formed to include a power supply voltage), the data holding mode
The low-potential data holding mode and the normal data holding mode.
In the semiconductor memory device including a dynamic cell having a over de, one electrode, connected to the Dainamiggu type cell voltage level of the fixed than the predetermined node N 1 is given, a drain to the other electrode of said dynamic cell And a first NMO having a source connected to a predetermined bit line and a gate connected to a predetermined word line.
And S transistors are drain respectively connected to the node N 1, together with the power supply voltage V CC is supplied to the source, the data holding mode of the gates said low potential
In the first and second PMOS transistors and the third and fourth clock is input to the output is activated from the timing generation circuit and a drain connected to each of the nodes N 1, the source V V CC / 2 output from the CC / 2 generation circuit is supplied, and the first and second clocks activated and output from the timing generation circuit are output to the gates in the normal data holding mode. And a second and a third NMOS transistor to be inputted.

【0007】[0007]

【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
Next, the present invention will be described with reference to the drawings.

【0008】図1は本発明の第1の実施例に含まれるメ
モリセル部を示す回路図である。図1に示されるよう
に、本実施例のメモリセル部は、クロック102を出力
するリフレンシュ・タイマー1、クロック101、10
2および103を受けて、クロック104、105、1
06および107を活性化して出力するタイミング発生
回路2およびVcc/2を発生して出力するVcc/2発生
回路9に対応して、一方の電極に節点N1 より固定の電
圧レベルを与えられるダイナミック型セル8と、ドレイ
ンがダイナミック型セル7の他方の電極に接続され、ソ
ースがビットライン201に接続されるとともに、ゲー
トがワード線202に接続されるNMOSトランジスタ
7と、それぞれドレインが節点N1 に接続され、ソース
が節点N2 に接続されるとともに、ゲートにそれぞれク
ロック104および105が入力されるNMOSトラン
ジスタ3および4と、それぞれドレインが節点N1 に接
続され、ソースに電源電圧Vccが供給されるとともに、
ゲートにそれぞれクロック106および107が入力さ
れるPMOSトランジスタ5および6とを備えて構成さ
れる。なお、NMOSトランジスタ3、4およびPMO
Sトランジスタ5、6を含むトランジスタ・サイズは、
NMOSトランジスタについては、NMOSトランジス
タ4、NMOSトランジスタ3の順にサイズが大きく設
定され、また、PMOSトランジスタについては、PM
OSトランジスタ6、PMOSトランジスタ5の順にサ
イズが大きく設定されている。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a memory cell section included in the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the memory cell unit according to the present embodiment includes a refresh timer 1 for outputting a clock 102, clocks 101 and
2 and 103, the clocks 104, 105, 1
06 and 107 in response to V cc / 2 generating circuit 9 which generates and outputs timing generation circuit 2 and V cc / 2 and outputs the activating give a voltage level of the fixed from the node N 1 in one electrode And a NMOS transistor 7 having a drain connected to the other electrode of the dynamic cell 7, a source connected to the bit line 201, and a gate connected to the word line 202, and a drain connected to the node, respectively. is connected to N 1, its source is connected to the node N 2, and NMOS transistors 3 and 4, each clock 104 and 105 is input to the gate, drain respectively connected to the node N 1, the power supply voltage V to the source cc is supplied,
PMOS transistors 5 and 6 whose gates receive clocks 106 and 107, respectively, are provided. Note that the NMOS transistors 3 and 4 and the PMO
The transistor size including the S transistors 5 and 6 is
The size of the NMOS transistor is set to be larger in the order of the NMOS transistor 4 and the NMOS transistor 3, and the size of the PMOS transistor is set to PM
The size is set to be larger in the order of the OS transistor 6 and the PMOS transistor 5.

【0009】そしてまた、図(a)、(b)、
(c)、(d)、(e)、(f)、(g)、(h)およ
び(i)は、本実施例における各信号のタイミング図で
ある。
FIG. 2 (a), (b),
(C), (d), (e), (f), (g), (h) and (i) are timing diagrams of each signal in the present embodiment.

【0010】以下、図1ならびに図2(a)、(b)、
(c)、(d)、(e)、(f)、(g)、(h)およ
び(i)を参照して、本実施例の動作について説明す
る。
Hereinafter, FIGS. 1 and 2 (a), 2 (b),
The operation of this embodiment will be described with reference to (c), (d), (e), (f), (g), (h), and (i).

【0011】通常のデータ保持モード(図2において、
モードAと記載)においては、クロック102はリフレ
ッシュ要求に対応して活性化されており、クロック10
4、105、106および107は、全て電源電圧のV
ccレベルになっている。また、クロック103はVcc
ベルで、通常のデータ保持モードに選択されている。
Normal data holding mode (in FIG. 2,
In mode A), the clock 102 is activated in response to the refresh request,
4, 105, 106 and 107 are all the power supply voltage V
cc level. The clock 103 is at the Vcc level, and the normal data holding mode is selected.

【0012】この状態においては、PMOSトランジス
タ5および6は全て非活性状態となり、NMOSトラン
ジスタ3および4は活性化された状態となっている。ま
た節点N1 はVcc/2レベルとなっている。
In this state, PMOS transistors 5 and 6 are all inactive, and NMOS transistors 3 and 4 are in an activated state. The node N 1 has a V cc / 2 level.

【0013】この通常のデータ保持モードにおいては、
NMOSトランジスタ5および6の活性化に対応して、
cc/2発生回路9においては、節点N2 を介して電流
が流出し、定常的にその電力が消費されている。
In this normal data holding mode,
In response to the activation of the NMOS transistors 5 and 6,
In V cc / 2 generating circuit 9, a current flows through the node N 2, is constantly the power is being consumed.

【0014】また、図2において、時刻t1 において、
低電位の電源電圧によるデータ保持モード(図2におい
て、モードBと記載)が選択されると、時刻t2 におけ
る電源電圧Vccの降下後において、この動作モードを選
択するクロック103が時刻t3 において活性化され、
次いでクロック104および105が非活性化される。
その後、リフレッシュ要求をするクロック102のトグ
ルに同期して、それぞれ時刻t4 においてはクロック1
06が、また時刻t5 においてはクロック107がそれ
ぞれ活性化される。この場合、PMOSトランジスタ5
および6を、順次トランジスタ・サイズの小さい方から
活性化することにより、節点N1 の電位はVccレベルに
設定される。
In FIG. 2, at time t 1 ,
(2, wherein the mode B) data holding mode by the power supply voltage of the low potential when is selected, after the drop of the power supply voltage V cc at time t 2, the clock 103 the time t 3 when selecting the mode of operation Activated in
Next, clocks 104 and 105 are deactivated.
Then, the clock 1 is in synchronization with the toggles of the clock 102 to a refresh request, at time t 4, respectively
06, also the clock 107 at time t 5 are activated. In this case, the PMOS transistor 5
And 6, by activating the person successively smaller transistor sizes, the potential of the node N 1 is set to V cc level.

【0015】また、クロック103は時刻t6 において
非活性化され、この動作モードを非選択とすると、時刻
6 において、クロック106および107は全て非活
性化され、PMOSトランジスタ5および6は非活性化
される。その後において、リフレッシュ要求をするクロ
ック102のトグルに同期して、それぞれ時刻t7 およ
びt8 において、小さいトランジスタ・サイズのNMO
Sトランジスタ3および4の順に、順次活性化されてゆ
く。
Clock 103 is deactivated at time t 6. If this operation mode is not selected, clocks 106 and 107 are all deactivated at time t 6 , and PMOS transistors 5 and 6 are inactive. Be transformed into Thereafter, in synchronism with the toggle of the clock 102 that issues the refresh request, at time t 7 and time t 8 , the NMO of the small transistor size is
S transistors 3 and 4 are sequentially activated in this order.

【0016】このようにして、セル対極のレベルを徐々
に変化させて、電圧変動に対する能力を高め、Vcc/2
発生回路9の低電位の電源電圧によるデータ保持モード
において使用することを回避することにより、その消費
電流が低減される。
In this manner, the level of the cell counter electrode is gradually changed to enhance the capability against voltage fluctuation, and V cc / 2
By avoiding the use of the generation circuit 9 in the data holding mode with a low potential power supply voltage, the current consumption thereof is reduced.

【0017】即ち、本発明を適用することにより、ダイ
ナミック型セルの破壊電圧が問題とならない、低電位の
電源電圧による低電圧データ保持モードにおいては、固
定電位レベルの節点N1 のレベルを、Vcc/2発生回路
9を介して低電位の電源電圧VR に設定することによ
り、消費電流の低減を図ることが可能となる。
That is, by applying the present invention, in the low-voltage data holding mode using the low-potential power supply voltage where the breakdown voltage of the dynamic cell does not matter, the level of the fixed potential level node N 1 is set to V via cc / 2 generating circuit 9 by setting the power supply voltage V R of the low potential, it is possible to reduce the current consumption.

【0018】次に、本発明の第2の実施例について説明
する。図3に示されるのは、本実施例を示す回路図であ
り、図3に示されるように、本実施例は、一方の電極に
節点N1 より固定の電圧レベルを与えられるダイナミッ
ク型セル8と、ドレインがダイナミック型セル7の他方
の電極に接続され、ソースがビットライン201に接続
されるとともに、ゲートがワード線202に接続される
NMOSトランジスタ7と、それぞれドレインを節点N
1 とし、ソースを節点N2 とするとともに、ゲートにそ
れぞれクロック104および105が入力されるNMO
Sトランジスタ3および4と、それぞれドレインを節点
1 とし、ソースに電源電圧Vssが供給されるととも
に、ゲートにそれぞれクロック106および107が入
力されるPMOSトランジスタ5および6と、節点N2
に接続されるVcc/2発生回路9と、クロック102を
制御して出力するリフレッシュ・タイマー1と、クロッ
ク101、102および103を入力して、クロック1
04、105、106および107を活性化するタイミ
ング発生回路2とにより構成される。なお、NMOSト
ランジスタ3、4およびPMOSトランジスタ5、6を
含むトランジスタ・サイズは、NMOSトランジスタに
ついては、NMOSトランジスタ4、NMOSトランジ
スタ3の順にサイズが大きく設定され、また、PMOS
トランジスタについては、PMOSトランジスタ6、P
MOSトランジスタ5の順にサイズが大きく設定されて
いる。また、図4(a)、(b)、(c)、(d)、
(e)、(f)、(g)、(h)および(i)は、本実
施例における各信号のタイミング図である。本実施例の
第1の実施例との相違点は、PMOSトランジスタ5お
よび6のドレインに供給される電源電圧として、Vcc
代りに接地レベルのVssとした点である。
Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 3 is a circuit diagram showing this embodiment. As shown in FIG. 3, this embodiment has a dynamic cell 8 in which one electrode is given a fixed voltage level from a node N1. And an NMOS transistor 7 having a drain connected to the other electrode of the dynamic type cell 7, a source connected to the bit line 201, and a gate connected to the word line 202, and a drain connected to the node N
1 and the source is the node N 2, and the clocks 104 and 105 are input to the gate, respectively.
S-transistors 3 and 4, PMOS transistors 5 and 6 having drains at node N 1 , power supply voltage V ss supplied to the source, and clocks 106 and 107 input to the gate, and node N 2
And V cc / 2 generating circuit 9 connected to a refresh timer 1 to output the control clock 102, input the clock 101, 102 and 103, the clock 1
04, 105, 106, and 107. The size of the transistor including the NMOS transistors 3 and 4 and the PMOS transistors 5 and 6 is set larger in the order of the NMOS transistor 4 and the NMOS transistor 3 for the NMOS transistor.
Regarding the transistors, the PMOS transistors 6, P
The size is set larger in the order of the MOS transistors 5. 4 (a), (b), (c), (d),
(E), (f), (g), (h) and (i) are timing diagrams of each signal in the present embodiment. This embodiment is different from the first embodiment in that the power supply voltage supplied to the drains of the PMOS transistors 5 and 6 is V ss at the ground level instead of V cc .

【0019】この実施例においても、第1の実施例の場
合と同様に、低電位の電源電圧によるデータ保持モード
においては、消費電流が低減されるという効果が得られ
る。
In this embodiment, as in the case of the first embodiment, the effect of reducing current consumption can be obtained in the data holding mode using a low potential power supply voltage.

【0020】[0020]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、低電位
の電源電圧によるデータ保持モードにおいて、Vcc/2
発生回路の使用を必要としないことにより、その消費電
流を低減することができるという効果がある。
As described above, according to the present invention, in the data holding mode using the low potential power supply voltage, Vcc / 2
Since the use of the generation circuit is not required, the current consumption can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施例のメモリセル部を示す回
路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a memory cell unit according to a first embodiment of the present invention.

【図2】第1の実施例のメモリセル部の動作を示す各信
号のタイミング図である。
FIG. 2 is a timing chart of each signal showing the operation of the memory cell unit of the first embodiment.

【図3】本発明の第2の実施例のメモリセル部を示す回
路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a memory cell unit according to a second embodiment of the present invention.

【図4】第2の実施例のメモリセル部の動作を示す各信
号のタイミング図である。
FIG. 4 is a timing chart of each signal showing the operation of the memory cell unit of the second embodiment.

【図5】従来例のメモリセル部を示す回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram showing a memory cell section of a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 リフレッシュ・タイマー 2 タイミング発生回路 3、4、7、10 NMOSトランジスタ 5、6 PMOSトランジスタ 8、11 ダイナミック型セル 9、12 1/2Vcc発生回路DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Refresh timer 2 Timing generation circuit 3, 4, 7, 10 NMOS transistor 5, 6 PMOS transistor 8, 11 Dynamic-type cell 9, 12, 1/2 Vcc generation circuit

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 少なくとも、メモリセル部、リフレッシ
ュ・タイマー、タイミング発生回路およびVCC/2発生
回路(VCCは電源電圧)を含んで形成され、データ保持
モードとして、低電位のデータ保持モードと通常のデー
タ保持モードとを有するダイナミック型セルを含む半導
体メモリ装置において、 一方の電極に、所定の節点N1 より固定の電圧レベルが
与えられるダイナミッグ型セルと、 ドレインが前記ダイナミック型セルの他方の電極に接続
され、ソースが所定のビットラインに接続されるととも
に、ゲートが所定のワード線に接続される第1のNMO
Sトランジスタと、 それぞれドレインが前記節点N1 に接続され、ソースに
電源電圧VCCが供給されるとともに、ゲートにそれぞれ
前記低電位のデータ保持モード時に、前記タイミング発
生回路より活性化されて出力される第3および第4のク
ロックが入力される第1および第2のPMOSトランジ
スタと、 それぞれドレインが前記節点N1 に接続され、ソースに
前記VCC/2発生回路より出力されるVCC/2が供給さ
れるとともに、ゲートにそれぞれ前記通常のデータ保持
モード時に、前記タイミング発生回路より活性化されて
出力される第1および第2のクロックが入力される第2
および第3のNMOSトランジスタと、を含む前記メモ
リセル部を備えることを特徴とする半導体メモリ装置。
1. A least, the memory cell unit, a refresh timer, the timing generator and V CC / 2 generating circuit (V CC is the supply voltage) is formed to include a data holding
Modes include low-potential data retention mode and normal data
In semiconductor <br/> body memory device including a dynamic cell having a data holding mode, the one electrode, and Dainamiggu type cell voltage level of the fixed than the predetermined node N 1 is given, the drain is the dynamic A first NMO connected to the other electrode of the cell, a source connected to a predetermined bit line, and a gate connected to a predetermined word line;
Each of the S transistors has a drain connected to the node N 1 , a source supplied with a power supply voltage V CC , and a gate connected to each of the S transistors.
In the low-potential data holding mode, first and second PMOS transistors to which third and fourth clocks activated and output from the timing generation circuit are input, and drains of which are connected to the node N 1 , respectively. And the source is supplied with V cc / 2 output from the V cc / 2 generating circuit, and the gate is supplied with the normal data holding signal.
In the mode, the first and second clocks activated and output from the timing generation circuit are input.
And a third NMOS transistor.
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JPS63239670A (en) * 1987-03-27 1988-10-05 Hitachi Ltd Semiconductor storage device
JP2914989B2 (en) * 1989-02-10 1999-07-05 株式会社日立製作所 Semiconductor device
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