JPH0235397B2 - - Google Patents

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JPH0235397B2
JPH0235397B2 JP58156078A JP15607883A JPH0235397B2 JP H0235397 B2 JPH0235397 B2 JP H0235397B2 JP 58156078 A JP58156078 A JP 58156078A JP 15607883 A JP15607883 A JP 15607883A JP H0235397 B2 JPH0235397 B2 JP H0235397B2
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JP
Japan
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refresh
substrate voltage
voltage generation
transistors
generation circuit
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP58156078A
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Japanese (ja)
Other versions
JPS6047295A (en
Inventor
Yasaburo Inagaki
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NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分野〕 本発明は擬似スタテイツクメモリに関する。[Detailed description of the invention] [Technical field to which the invention pertains] The present invention relates to pseudo-static memory.

〔従来技術〕[Prior art]

半導体メモリは、微細加工技術の進歩と共に集
積度の向上がなされてきた。特にダイナミツクメ
モリではメモリセルの構造が簡単であるため、高
集積化が可能であり、低価格という利点がある。
ところがメモリセルがダイナミツク回路であるた
め、スタンドバイ時にもメモリセルの内容をリフ
レーシユしなければならず、外部コントロール系
が複雑になるという欠点がある。この欠点を改善
するため、内部リフレツシユ回路を内蔵し、スタ
ンドバイ時には自動的にリフレツシユを行なう擬
似スタテイツクメモリの開発が行なわれるように
なつてきた。
The degree of integration of semiconductor memories has been improved along with advances in microfabrication technology. In particular, dynamic memory has the advantage of having a simple memory cell structure, allowing for high integration and low cost.
However, since the memory cells are dynamic circuits, the contents of the memory cells have to be refreshed even during standby, making the external control system complicated. In order to improve this drawback, pseudo-static memories have been developed that incorporate internal refresh circuits and automatically perform refresh during standby.

擬似スタテイツクメモリの内部リフレツシユモ
ードには、クロツクパルスを印加して自動
的にリフレツシユを行なうパルスリフレツシユモ
ードと、をロウレベルに保つてタイマ回路
で決められる一定周期で自動的にリフレツシユを
行なうセルフリフレツシユモードがある。セルフ
リフレツシユ時のタイマ周期はメモリセルのリフ
レツシユ周期よりも短かくする必要があるが、そ
れでもリフレツシユ周期は長いのでリフレツシユ
に要する電流は少なくなる。ところが基板電圧発
生回路を内蔵した擬似スタテイツクメモリでは、
基板電圧発生回路は最小動作サイクル時に発生す
る基板電流を吸収できる能力が必要なため、セル
フリフレツシユモード時に、基板電圧発生回路で
消費される電流は減少せず、全電流に占める割合
が大きくなる欠点がある。
The internal refresh modes of the pseudo static memory include a pulse refresh mode in which refresh is performed automatically by applying a clock pulse, and a self-refresh mode in which refresh is performed automatically at a fixed period determined by a timer circuit by keeping the clock pulse low. There is a Tsushiyu mode. Although the timer cycle during self-refresh needs to be shorter than the refresh cycle of the memory cell, the refresh cycle is still long, so the current required for refresh is small. However, in pseudo-static memory with a built-in substrate voltage generation circuit,
Since the substrate voltage generation circuit needs to have the ability to absorb the substrate current generated during the minimum operating cycle, the current consumed by the substrate voltage generation circuit does not decrease in self-refresh mode, but instead accounts for a large proportion of the total current. There are drawbacks.

以下この欠点について、図面を用いて更に詳し
く説明する。
This drawback will be explained in more detail below using the drawings.

第1図は従来の擬似スタテイツクメモリの一例
に用いられる基板電圧発生回路の一例の回路図で
ある。トランジスタQ1〜Q6からなるインバータ
3段の発振部と、トランジスタQ7,Q8と容量C1
からなるチヤージポンプ部から構成されている。
トランジスタQ1,Q3,Q5はPチヤネルMOSトラ
ンジスタを、トランジスタQ2,Q4,Q6,Q7,Q8
はNチヤネルMOSトランジスタを示す。基板電
圧発生回路の発振周期は、擬似スタテイツクメモ
リが最小動作サイクル時に発生する基板電流を吸
収できるよう短かく設定することが必要である。
その結果、セルフリフレツシユ時には、タイマ周
期が長くなり、リフレツシユに要する電流が少な
くなつても、基板電圧発生回路で消費される電流
は、その発振周期は短いままなので少くなること
はない。
FIG. 1 is a circuit diagram of an example of a substrate voltage generating circuit used in an example of a conventional pseudo static memory. A three-stage inverter oscillation section consisting of transistors Q 1 to Q 6 , transistors Q 7 and Q 8 , and a capacitor C 1
It consists of a charge pump section.
Transistors Q 1 , Q 3 , Q 5 are P-channel MOS transistors, and transistors Q 2 , Q 4 , Q 6 , Q 7 , Q 8 are P-channel MOS transistors.
indicates an N-channel MOS transistor. The oscillation period of the substrate voltage generation circuit must be set short so that the pseudo static memory can absorb the substrate current generated during the minimum operation cycle.
As a result, during self-refreshing, even though the timer period becomes longer and the current required for refreshing decreases, the current consumed by the substrate voltage generation circuit does not decrease because its oscillation period remains short.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、上記の欠点を除去することに
より、セルフリフレツシユ時の消費電流を少くし
たところの基板電圧発生回路を有する擬似スタテ
イツクメモリを提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a pseudo static memory having a substrate voltage generation circuit which reduces current consumption during self-refresh by eliminating the above-mentioned drawbacks.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明の擬似スタテイツクメモリは、基板電圧
発生回路を内蔵した擬似スタテイツクメモリにお
いて、前記基板電圧発生回路の駆動を通常動作時
には内部クロツクでリフレツシユ時には外部クロ
ツクで行うよう制御する制御回路を有することか
ら構成される。
The pseudo-static memory of the present invention has a control circuit that controls the substrate voltage generation circuit to be driven by an internal clock during normal operation and by an external clock during refresh. It consists of

〔実施例の説明〕[Explanation of Examples]

以下、本発明の実施例について図面を参照して
説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第2図は本発明の一実施例に用いられる基板電
圧発生回路を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a substrate voltage generation circuit used in one embodiment of the present invention.

トランジスタQ1〜Q6からなるインバータ3段
の発振部と、トランジスタQ7,Q8と容量C1から
なるチヤージポンプ部と、トランジスタQ9,Q10
からなる入力バツフア部と、トランジスタQ11
Q14からなるスイツチ部から構成されている。ト
ランジスタQ1,Q3,Q5,Q9,Q11,Q13はPチヤ
ネルMOSトランジスタを、トランジスタQ2
Q4,Q6,Q7,Q8,Q10,Q12,Q14はNチヤネル
MOSトランジスタを示す。
An oscillation section consisting of three stages of inverters consisting of transistors Q 1 to Q 6 , a charge pump section consisting of transistors Q 7 and Q 8 and a capacitor C 1 , and transistors Q 9 and Q 10.
an input buffer section consisting of transistors Q 11 ~
It consists of a switch section consisting of 14 Q. Transistors Q 1 , Q 3 , Q 5 , Q 9 , Q 11 , Q 13 are P-channel MOS transistors, transistors Q 2 ,
Q 4 , Q 6 , Q 7 , Q 8 , Q 10 , Q 12 , Q 14 are N channels
Shows a MOS transistor.

すなわち、この一実施例に用いられる基板電圧
発生回路は、第1図の従来の基板電圧発生回路に
入力バツフア部とスイツチ部からなる制御回路1
1を付加し、入力バツフア部の入力には外部クロ
ツク信号がφ1が、又スイツチングトランジスタ
Q11〜Q14のゲートには内部クロツク信号φ2又は
φ2がそれぞれ接続されるようにしたものである。
That is, the substrate voltage generation circuit used in this embodiment includes a control circuit 1 consisting of an input buffer section and a switch section in addition to the conventional substrate voltage generation circuit shown in FIG.
1 is added to the input of the input buffer section, and the external clock signal φ1 is also connected to the switching transistor.
The internal clock signal φ2 or φ2 is connected to the gates of Q11 to Q14 , respectively.

次にその動作について説明する。通常動作時に
は内部クロツクφ2がロウレベルとなり、スイツ
チングトランジスタQ11,Q12がオンし、発振部
出力でチヤージポンプ部を駆動する。セルフリフ
レツシユ時には内部クロツクφ2がハイレベルと
なり、スイツチングトランジスタQ13,Q14がオ
ンし、外部クロツクφ1でチヤージポンプ部を駆
動する。セルフリフレツシユ時には、タイマ周期
が長くなり、基板電流が少なくなるので外部クロ
ツクφ1の周期を長くすることができ、基板電圧
発生回路で消費される電流を減少させることがで
きる。
Next, its operation will be explained. During normal operation, the internal clock φ2 is at a low level, switching transistors Q11 and Q12 are turned on, and the charge pump section is driven by the output of the oscillation section. During self-refresh, the internal clock φ2 becomes high level, switching transistors Q13 and Q14 are turned on, and the external clock φ1 drives the charge pump section. During self-refresh, the timer period becomes longer and the substrate current decreases, so the period of the external clock φ1 can be lengthened, and the current consumed by the substrate voltage generation circuit can be reduced.

なお、以上の説明はCMOS回路の場合につい
て行なつたが、Nチヤネルトランジスタ又はPチ
ヤネルトランジスタだけで構成することも可能で
ある。
Note that although the above description has been made regarding the case of a CMOS circuit, it is also possible to configure the circuit using only N-channel transistors or P-channel transistors.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上、詳細に説明した通り、本発明の擬似スタ
テイツクメモリは、基板電圧発生回路の駆動を通
常動作時には内部クロツクで、リフレツシユ時に
は外部クロツクで行うよう制御する制御回路を有
しているので、リフレツシユ時に外部クロツクの
周期をタイマ周期に合せて長くし基板電圧発生回
路における消費電流を少くすることができるとい
う効果を有している。
As described above in detail, the pseudo static memory of the present invention has a control circuit that controls the substrate voltage generation circuit to be driven by an internal clock during normal operation and by an external clock during refresh. This has the effect that the period of the external clock can be made longer in accordance with the timer period, thereby reducing the current consumption in the substrate voltage generating circuit.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は従来の擬似スタテイツクメモリの一例
に用いられる基板電圧発生回路の一例の回路図、
第2図は本発明の一実施例に用いられる基板電圧
発生回路の回路図である。 11……制御回路、Q1,Q3,Q5,Q9,Q11
Q13……PチヤネルMOSトランジスタ、Q2,Q4
Q6,Q7,Q8,Q10,Q12,Q14……Nチヤネル
MOSトランジスタ、C1……静電容量、φ1……外
部クロツク信号、φ22……内部クロツク信号。
FIG. 1 is a circuit diagram of an example of a substrate voltage generation circuit used in an example of a conventional pseudo static memory.
FIG. 2 is a circuit diagram of a substrate voltage generation circuit used in one embodiment of the present invention. 11...Control circuit, Q 1 , Q 3 , Q 5 , Q 9 , Q 11 ,
Q 13 ... P channel MOS transistor, Q 2 , Q 4 ,
Q 6 , Q 7 , Q 8 , Q 10 , Q 12 , Q 14 ...N channel
MOS transistor, C1 ...Capacitance, φ1 ...External clock signal, φ2 , 2 ...Internal clock signal.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 基板電圧発生回路を内蔵した擬似スタテイツ
クメモリにおいて、前記基板電圧発生回路の駆動
を通常動作時には内部クロツクで、リフレツシユ
時には外部クロツクで行うよう制御する制御回路
を有することを特徴とする擬似スタテイツクメモ
リ。
1. A pseudo-static memory with a built-in substrate voltage generation circuit, characterized in that it has a control circuit that controls the substrate voltage generation circuit to be driven by an internal clock during normal operation and by an external clock during refresh. memory.
JP58156078A 1983-08-26 1983-08-26 Pseudo static memory Granted JPS6047295A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58156078A JPS6047295A (en) 1983-08-26 1983-08-26 Pseudo static memory

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JP58156078A JPS6047295A (en) 1983-08-26 1983-08-26 Pseudo static memory

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JPH02147286A (en) * 1988-08-29 1990-06-06 Taiyo Yuden Co Ltd Optical data recording medium
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