JPH1064259A - Semiconductor storage - Google Patents

Semiconductor storage

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JPH1064259A
JPH1064259A JP8225131A JP22513196A JPH1064259A JP H1064259 A JPH1064259 A JP H1064259A JP 8225131 A JP8225131 A JP 8225131A JP 22513196 A JP22513196 A JP 22513196A JP H1064259 A JPH1064259 A JP H1064259A
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potential
memory cell
refresh
circuit
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce time required for refreshing a memory cell while reducing current at the time of self refreshing. SOLUTION: A peripheral circuit part 2 is used to access the memory cell of a memory cell array 1. A self refresh control circuit 3 performs the burst refreshing of the memory cell of the memory cell array 1. A first substrate potential generation circuit 4 generates a potential to be supplied to the cell substrate of the memory cell. A substrate potential control circuit 6 generates a potential for reducing the difference between a substrate potential supplied to the cell substrate and a low-potential power supply by controlling the first substrate potential generation circuit 4 at the time of standby between the burst refreshes of the memory cell array 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体記憶装置に係
り、詳しくはDRAMのセルフリフレッシュに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a DRAM self-refresh.

【0002】近年の半導体メモリは、高速化、低電流化
が進み、より高性能な要求が高い。特に、DRAMで
は、セルフリフレッシュ電流の低減化の要求が強い。そ
のため、DRAMのセルフリフレッシュ電流の低減化を
行う必要がある。
In recent years, semiconductor memories have been required to have higher speed and lower current, and to have higher performance. In particular, in DRAMs, there is a strong demand for a reduction in self-refresh current. Therefore, it is necessary to reduce the self-refresh current of the DRAM.

【0003】[0003]

【従来の技術】図7には従来のDRAMの一例が示され
ている。このDRAM100は多数のメモリセルを備え
るメモリセルアレイ101、ロウデコーダ102、セン
スアンプ103、コラムデコーダ104、セルフリフレ
ッシュ制御回路105、セル基板電位発生回路106及
び周辺基板電位発生回路107を備えている。ロウデコ
ーダ102、センスアンプ103、及びコラムデコーダ
104は、メモリセルアレイ101のメモリセルをアク
セスするための周辺回路部を構成する。
2. Description of the Related Art FIG. 7 shows an example of a conventional DRAM. The DRAM 100 includes a memory cell array 101 having a large number of memory cells, a row decoder 102, a sense amplifier 103, a column decoder 104, a self-refresh control circuit 105, a cell substrate potential generation circuit 106, and a peripheral substrate potential generation circuit 107. The row decoder 102, the sense amplifier 103, and the column decoder 104 constitute a peripheral circuit for accessing a memory cell of the memory cell array 101.

【0004】DRAM100にはシステム電源から高電
位及び低電位電源VDD,VSSが供給され、DRAM10
0は両電源VDD及びVSSに基づいて動作する。セル基板
電位発生回路106は高電位電源VDD及び低電位電源V
SSに基づいて図10に示すように、一定の値の基板電位
VC0を発生し、メモリセルアレイ101を構成するメ
モリセルのセル基板に供給する。周辺基板電位発生回路
107は高電位電源V DD及び低電位電源VSSに基づいて
図10に示すように、一定の値の基板電位VP0を発生
し、周辺回路部を構成するトランジスタの基板に供給す
る。
The DRAM 100 has a high power from a system power supply.
And low-potential power supply VDD, VSSIs supplied to the DRAM 10
0 is dual power supply VDDAnd VSSOperate based on Cell substrate
The potential generating circuit 106 has a high potential power supply VDDAnd low-potential power supply V
SSAs shown in FIG. 10, a constant value of the substrate potential
VC0 to generate the memory cell array 101
It is supplied to the cell substrate of the molycell. Peripheral substrate potential generation circuit
107 is a high potential power supply V DDAnd low-potential power supply VSSOn the basis of
As shown in FIG. 10, a constant value of substrate potential VP0 is generated.
And supplies it to the substrate of the transistor that constitutes the peripheral circuit section.
You.

【0005】図8はメモリセルを構成するnMOSトラ
ンジスタ115と、周辺回路部を構成するnMOSトラ
ンジスタ118との断面構造を示す。p型半導体基板1
10内にはn型の分離層111が形成され、分離層11
1内にはp型ウェル112が形成されている。p型のウ
ェル112内には所定間隔をおいてn型のソース領域1
13及びドレイン領域114が形成されている。p型ウ
ェル112、n型のソース領域113及びドレイン領域
114によってnMOSトランジスタ115が形成され
ている。p型ウェル112には前記セル基板電位発生回
路106から出力される基板電位VC0が供給されてい
る。
FIG. 8 shows a cross-sectional structure of an nMOS transistor 115 forming a memory cell and an nMOS transistor 118 forming a peripheral circuit portion. p-type semiconductor substrate 1
10, an n-type separation layer 111 is formed.
1 has a p-type well 112 formed therein. The n-type source region 1 is provided at a predetermined interval in the p-type well 112.
13 and a drain region 114 are formed. An nMOS transistor 115 is formed by the p-type well 112, the n-type source region 113, and the drain region 114. The substrate potential VC0 output from the cell substrate potential generation circuit 106 is supplied to the p-type well 112.

【0006】また、p型半導体基板110内には所定間
隔をおいてn型のソース領域116及びドレイン領域1
17が形成されている。p型半導体基板110、n型の
ソース領域116及びドレイン領域117によってnM
OSトランジスタ118が形成されている。p型半導体
基板110には前記周辺基板電位発生回路107から出
力される基板電位VP0が供給されている。
Further, an n-type source region 116 and a drain region 1 are provided in a p-type semiconductor substrate 110 at predetermined intervals.
17 are formed. The p-type semiconductor substrate 110, the n-type source region 116 and the drain region 117
An OS transistor 118 is formed. The substrate potential VP0 output from the peripheral substrate potential generating circuit 107 is supplied to the p-type semiconductor substrate 110.

【0007】ロウデコーダ102はメモリセルアレイ1
01から延びる複数のワード線WL(WL0〜WLn)
に接続されている。ロウデコーダ102はロウアドレス
信号ARを選択信号にデコードし、この選択信号に基づ
いてメモリセルアレイ101の複数のワード線WLのう
ち、所定のワード線を選択する。
[0007] The row decoder 102 is a memory cell array 1
01, a plurality of word lines WL (WL0 to WLn)
It is connected to the. The row decoder 102 decodes the row address signal AR into a selection signal, and selects a predetermined word line from a plurality of word lines WL of the memory cell array 101 based on the selection signal.

【0008】コラムデコーダ104はメモリセルアレイ
101から延びる複数のビット線対BL,BLバーに接
続されている。コラムデコーダ104はコラムアドレス
信号ACを選択信号にデコードし、この選択信号によっ
てメモリセルアレイ101の所定のビット線対を選択す
る。ロウデコーダ102によって所定のワード線が選択
されるとともに、コラムデコーダ104によって所定の
ビット線対が選択されると、その選択されたワード線及
びビット対に接続されているメモリセルが選択され、該
メモリセルへのデータの書き込み又はデータの読み出し
が行われる。センスアンプ103は選択されたメモリセ
ルから読み出されたデータを増幅する。
The column decoder 104 is connected to a plurality of bit line pairs BL and BL bars extending from the memory cell array 101. Column decoder 104 decodes column address signal AC into a selection signal, and selects a predetermined bit line pair of memory cell array 101 by the selection signal. When a predetermined word line is selected by the row decoder 102 and a predetermined bit line pair is selected by the column decoder 104, a memory cell connected to the selected word line and bit pair is selected. Data is written to or read from a memory cell. The sense amplifier 103 amplifies data read from the selected memory cell.

【0009】セルフリフレッシュ制御回路105は、外
部から入力されるロウアドレスストローブ信号RASバ
ーがLレベルに切り換わった後所定時間(この場合には
100μsec)経過すると、図10に示すようにLレ
ベルのセルフリフレッシュエントリー信号SRバーを生
成する。セルフリフレッシュ制御回路105はセルフリ
フレッシュエントリー信号SRバーのLレベルへの切り
換わり後において、動作クロックCLKに基づいてメモ
リセルアレイ101のメモリセルをディストリビュート
モードにてセルフリフレッシュする。
When a predetermined time (100 μsec in this case) elapses after the externally input row address strobe signal RAS switches to the L level, the self-refresh control circuit 105, as shown in FIG. A self refresh entry signal SR is generated. After the self-refresh control circuit 105 switches the self-refresh entry signal SR to the L level, the self-refresh control circuit 105 self-refreshes the memory cells of the memory cell array 101 in the distributed mode based on the operation clock CLK.

【0010】ディストリビュートモードとは予め定めら
れた1リフレッシュサイクルTcにおいて、メモリセル
アレイ101の複数のワード線WL(WL0〜WLn)
を等しい時間間隔Tc/nにて順次選択する方法であ
る。選択したワード線に接続された複数のメモリセルの
データはセンスアンプ103によって増幅されて再びメ
モリセルに書き込まれることにより、メモリセルのリフ
レッシュが行われる。また、各ワード線に接続されたメ
モリセルのリフレッシュは動作クロックCLKの半周期
以内の短時間で完了する。
In the distributed mode, a plurality of word lines WL (WL0 to WLn) of the memory cell array 101 in one predetermined refresh cycle Tc.
Are sequentially selected at equal time intervals Tc / n. The data of the plurality of memory cells connected to the selected word line is amplified by the sense amplifier 103 and written into the memory cells again, so that the memory cells are refreshed. Refresh of the memory cell connected to each word line is completed in a short time within a half cycle of the operation clock CLK.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】さて、セルフリフレッ
シュ時においては、メモリセルアレイ101は周辺回路
部によってアクセスされることはないため、メモリセル
からセル基板へのリーク電流を低減することによってリ
フレッシュに要する時間を短縮することができるという
有効性がある。
At the time of self-refresh, the memory cell array 101 is not accessed by the peripheral circuit portion. Therefore, refresh is required by reducing the leak current from the memory cell to the cell substrate. There is an advantage that the time can be reduced.

【0012】ところが、従来のDRAM100では、セ
ルフリフレッシュ制御回路105はメモリセルアレイ1
01のセルフリフレッシュをディストリビュートモード
にて行っており、セルフリフレッシュ時におけるメモリ
セルの基板電位VC0は通常動作時におけるメモリセル
の基板電位と等しい値に設定されている。よって、メモ
リセルからセル基板へのリーク電流を低減することがで
きず、セルフリフレッシュという限定された状態での有
効性を活用することができないため、リフレッシュに要
する時間を短縮できない。
However, in the conventional DRAM 100, the self-refresh control circuit 105 is
01 is performed in the distributed mode, and the substrate potential VC0 of the memory cell at the time of self refresh is set to a value equal to the substrate potential of the memory cell at the time of normal operation. Therefore, the leak current from the memory cell to the cell substrate cannot be reduced, and the effectiveness of the self-refresh in a limited state cannot be utilized, so that the time required for the refresh cannot be reduced.

【0013】また、セルフリフレッシュ時において、周
辺回路部の基板電圧も通常動作時の基板電圧と等しい値
であり、セルフリフレッシュ時に周辺回路部を構成する
トランジスタのテーリング電流を低減することができ
ず、消費電流が増大していた。
Further, at the time of self-refresh, the substrate voltage of the peripheral circuit is also equal to the substrate voltage at the time of normal operation, and the tailing current of the transistor constituting the peripheral circuit cannot be reduced at the time of self-refresh. The current consumption was increasing.

【0014】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたものであって、その目的は、セルフリフレッシュ時
における電流を低減しつつメモリセルのリフレッシュに
要する時間を短縮することができる半導体記憶装置を提
供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and has as its object to reduce the time required for refreshing memory cells while reducing the current during self-refresh. Is to provide.

【0015】また、本発明の別の目的は、セルフリフレ
ッシュ時における周辺回路部の電流を低減することがで
きる半導体記憶装置を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of reducing a current in a peripheral circuit portion at the time of self refresh.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】図1は本発明の原理説明
図である。周辺回路部2はメモリセルアレイ1のメモリ
セルをアクセスするためのものである。セルフリフレッ
シュ制御回路3はメモリセルアレイ1のメモリセルをバ
ーストリフレッシュするためのものである。第1の基板
電位発生回路4はメモリセルのセル基板に供給する電位
を発生する。基板電位制御回路6はメモリセルアレイ1
のバーストリフレッシュ間のスタンバイ時において、第
1の基板電位発生回路4を制御してセル基板に供給する
基板電位と低電位電源との差が小さくなるような電位を
発生させる。
FIG. 1 is a diagram illustrating the principle of the present invention. The peripheral circuit section 2 is for accessing a memory cell of the memory cell array 1. The self-refresh control circuit 3 is for performing a burst refresh of the memory cells of the memory cell array 1. The first substrate potential generation circuit 4 generates a potential to be supplied to a cell substrate of a memory cell. The substrate potential control circuit 6 includes the memory cell array 1
During standby during the burst refresh, the first substrate potential generation circuit 4 is controlled to generate a potential that reduces the difference between the substrate potential supplied to the cell substrate and the low potential power supply.

【0017】(作用)従って、メモリセルアレイ1のバ
ーストリフレッシュ間のスタンバイ時において、メモリ
セルのセル基板に供給される基板電圧は低電位電源との
差が小さいため、メモリセルからセル基板へのリーク電
流が低減される。よって、リフレッシュ時間を長くする
ことが可能となり、セルフリフレッシュ期間の消費電流
が低減される。
(Operation) Therefore, during standby during burst refresh of the memory cell array 1, the difference between the substrate voltage supplied to the cell substrate of the memory cell and the low-potential power supply is small. The current is reduced. Therefore, the refresh time can be lengthened, and the current consumption during the self-refresh period is reduced.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明を具体化した実施の
一形態を図2〜図6に基づいて説明する。図2は本形態
のDRAM10を示し、DRAM10は多数のメモリセ
ルを備えるメモリセルアレイ11、ロウデコーダ12、
センスアンプ13、コラムデコーダ14、セルフリフレ
ッシュ制御回路15、第1の基板電位発生回路16、第
2の基板電位発生回路17、及び基板電位制御回路20
を備えている。ロウデコーダ12、センスアンプ13、
及びコラムデコーダ14は、メモリセルアレイ11のメ
モリセルをアクセスするための周辺回路部を構成する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. FIG. 2 shows a DRAM 10 of the present embodiment. The DRAM 10 includes a memory cell array 11 having a large number of memory cells, a row decoder 12,
Sense amplifier 13, column decoder 14, self-refresh control circuit 15, first substrate potential generation circuit 16, second substrate potential generation circuit 17, and substrate potential control circuit 20
It has. Row decoder 12, sense amplifier 13,
The column decoder 14 constitutes a peripheral circuit for accessing a memory cell of the memory cell array 11.

【0019】DRAM10にはシステム電源から高電位
及び低電位電源VDD,VSSが供給され、DRAM10は
両電源VDD及びVSSに基づいて動作する。第1の基板電
位発生回路16はメモリセルのセル基板に供給する電位
を発生するための回路であり、高電位電源VDD及び低電
位電源VSSに基づいて図6に示す基板電位VC1を発生
し、メモリセルアレイ11を構成するメモリセルのセル
基板に供給する。第2の基板電位発生回路17は周辺回
路部の基板に供給する電位を発生するための回路であ
り、高電位電源VDD及び低電位電源VSSに基づいて図6
に示す基板電位VP1を発生し、周辺回路部を構成する
トランジスタの基板に供給する。
The DRAM 10 is supplied with high and low potential power supplies V DD and V SS from a system power supply, and the DRAM 10 operates based on both power supplies V DD and V SS . The first substrate potential generating circuit 16 is a circuit for generating a potential supplied to the cell substrate of the memory cell, generating a substrate potential VC1 shown in FIG. 6 based on the high potential power supply V DD and the low-potential power supply V SS Then, it is supplied to the cell substrate of the memory cells constituting the memory cell array 11. The second substrate potential generating circuit 17 is a circuit for generating a potential supplied to the substrate of the peripheral circuit portion, based on the high potential power supply V DD and the low-potential power supply V SS 6
And generates a substrate potential VP1 as shown in FIG.

【0020】図5はメモリセルを構成するnMOSトラ
ンジスタ85と、周辺回路部を構成するnMOSトラン
ジスタ90との断面構造を示す。p型半導体基板80内
にはn型の分離層81が形成され、分離層81内にはp
型ウェル82が形成されている。p型のウェル82内に
は所定間隔をおいてn型のソース領域83及びドレイン
領域84が形成されている。p型ウェル82、n型のソ
ース領域83及びドレイン領域84によってnMOSト
ランジスタ85が形成されている。p型ウェル82には
第1の基板電位発生回路16から出力される基板電位V
C1が供給され、分離層81には高電位電源VDDが供給
されている。
FIG. 5 shows a cross-sectional structure of an nMOS transistor 85 forming a memory cell and an nMOS transistor 90 forming a peripheral circuit portion. An n-type separation layer 81 is formed in a p-type semiconductor substrate 80, and a p-type separation layer 81 is formed in the separation layer 81.
A mold well 82 is formed. In a p-type well 82, an n-type source region 83 and a drain region 84 are formed at predetermined intervals. An nMOS transistor 85 is formed by the p-type well 82, the n-type source region 83, and the drain region 84. Substrate potential V output from first substrate potential generation circuit 16 is applied to p-type well 82.
C1 is supplied, and a high potential power supply V DD is supplied to the separation layer 81.

【0021】また、p型半導体基板80内にはn型の分
離層86が形成され、分離層86内にはp型ウェル87
が形成されている。p型のウェル87内には所定間隔を
おいてn型のソース領域88及びドレイン領域89が形
成されている。p型ウェル87、n型のソース領域88
及びドレイン領域89によってnMOSトランジスタ9
0が形成されている。p型ウェル87には第2の基板電
位発生回路17から出力される基板電位VP1が供給さ
れ、分離層86には高電位電源VDDが供給されている。
ここでは、例としてP基板を挙げているが、N基板でも
同様な構成は可能である。
An n-type separation layer 86 is formed in the p-type semiconductor substrate 80, and a p-type well 87 is formed in the separation layer 86.
Are formed. In a p-type well 87, an n-type source region 88 and a drain region 89 are formed at predetermined intervals. p-type well 87, n-type source region 88
And nMOS transistor 9 by drain region 89
0 is formed. The substrate potential VP1 output from the second substrate potential generating circuit 17 is supplied to the p-type well 87, and the high potential power supply VDD is supplied to the separation layer 86.
Here, a P substrate is given as an example, but a similar configuration is possible with an N substrate.

【0022】ロウデコーダ12はメモリセルアレイ11
から延びる複数のワード線WL0〜WLnに接続されて
いる。ロウデコーダ12はロウアドレス信号ARを選択
信号にデコードし、この選択信号に基づいてメモリセル
アレイ11の複数のワード線WL(WL0〜WLn)の
うち、所定のワード線を選択する。
The row decoder 12 is a memory cell array 11
Connected to a plurality of word lines WL0 to WLn extending from the word lines WL0 to WLn. The row decoder 12 decodes the row address signal AR into a selection signal, and selects a predetermined word line from a plurality of word lines WL (WL0 to WLn) of the memory cell array 11 based on the selection signal.

【0023】コラムデコーダ14はメモリセルアレイ1
1から延びる複数のビット線対BL,BLバーに接続さ
れている。コラムデコーダ14はコラムアドレス信号A
Cを選択信号にデコードし、この選択信号によってメモ
リセルアレイ11の所定のビット線対を選択する。ロウ
デコーダ12によって所定のワード線が選択されるとと
もに、コラムデコーダ14によって所定のビット線対が
選択されると、その選択されたワード線及びビット対に
接続されているメモリセルが選択され、該メモリセルへ
のデータの書き込み又はデータの読み出しが行われる。
センスアンプ13は選択されたメモリセルから読み出さ
れたデータを増幅する。
The column decoder 14 is a memory cell array 1
The bit lines are connected to a plurality of bit line pairs BL and BL bars extending from one bit line. The column decoder 14 outputs a column address signal A
C is decoded into a selection signal, and a predetermined bit line pair of the memory cell array 11 is selected by the selection signal. When a predetermined word line is selected by the row decoder 12 and a predetermined bit line pair is selected by the column decoder 14, a memory cell connected to the selected word line and bit pair is selected. Data is written to or read from a memory cell.
The sense amplifier 13 amplifies data read from the selected memory cell.

【0024】セルフリフレッシュ制御回路15は外部か
ら入力されるロウアドレスストローブ信号RASバーが
Lレベルに切り換わった後所定時間(この場合には10
0μsec)経過すると、図6に示すようにLレベルの
セルフリフレッシュエントリー信号SRバーを生成す
る。セルフリフレッシュ制御回路15はセルフリフレッ
シュエントリー信号SRバーのLレベルへの切り換わり
後において、動作クロックCLKに基づいてメモリセル
アレイ11のメモリセルをバーストモードにてセルフリ
フレッシュする。
The self-refresh control circuit 15 operates for a predetermined time (in this case, 10 seconds) after the externally input row address strobe signal RAS switches to the L level.
After 0 μsec), an L level self-refresh entry signal SR bar is generated as shown in FIG. After switching the self-refresh entry signal SR bar to the L level, the self-refresh control circuit 15 self-refreshes the memory cells of the memory cell array 11 in the burst mode based on the operation clock CLK.

【0025】バーストモードとは予め定められた1リフ
レッシュサイクルTc(本形態においては64mse
c)において、メモリセルアレイ11の複数のワード線
WL(WL0〜WLn)を動作クロックCLKに同期し
て順次選択する方法である。選択したワード線に接続さ
れた複数のメモリセルのデータはセンスアンプ13によ
って増幅されて再びメモリセルに書き込まれることによ
り、メモリセルのリフレッシュが行われる。また、各ワ
ード線に接続されたメモリセルのリフレッシュは動作ク
ロックCLKの半周期以内の短時間で完了する。
The burst mode is a predetermined one refresh cycle Tc (64 msec in the present embodiment).
In c), a plurality of word lines WL (WL0 to WLn) of the memory cell array 11 are sequentially selected in synchronization with the operation clock CLK. The data of the plurality of memory cells connected to the selected word line is amplified by the sense amplifier 13 and written into the memory cells again, so that the memory cells are refreshed. Refresh of the memory cell connected to each word line is completed in a short time within a half cycle of the operation clock CLK.

【0026】本形態においてワード線WLを例えば40
00本とし、1ワード線に接続されたメモリセルのリフ
レッシュに要する時間を例えば100nsecとする。
すると、1リフレッシュサイクルTcのうち、実際のリ
フレッシュに要する時間は0.4msec(=100n
sec×4000)となり、それ以外の時間63.6m
sec(=64msec−0.4msec)にはリフレ
ッシュが行われないスタンバイ状態となる。
In this embodiment, the word line WL is set to, for example, 40
In this example, the time required for refreshing the memory cells connected to one word line is set to, for example, 100 nsec.
Then, in one refresh cycle Tc, the time required for the actual refresh is 0.4 msec (= 100n)
sec × 4000) and the rest of the time is 63.6m
In a second (= 64 msec−0.4 msec), the standby state where no refresh is performed is set.

【0027】基板電位制御回路20は、メモリセルアレ
イ11のバーストリフレッシュ間におけるスタンバイ時
において、第1の基板電位発生回路16を制御してセル
基板に供給する基板電位VC1と低電位電源VSSとの差
が小さくなるような値の基板電位VC1を発生させる。
また、基板電位制御回路20は、メモリセルアレイ11
のバーストリフレッシュ間におけるスタンバイ時におい
て、第2の基板電位発生回路17を制御して周辺回路部
の基板電位VP1と低電位電源VSSとの電位差が大きく
なるような値の基板電位VP1を発生させるものであ
る。
The substrate potential control circuit 20 in the standby between burst refresh of the memory cell array 11, the substrate potential VC1 and the low-potential power supply V SS supplied to the cell substrate by controlling the first substrate potential generating circuit 16 A substrate potential VC1 having such a value as to reduce the difference is generated.
Further, the substrate potential control circuit 20 includes the memory cell array 11
In standby between burst refresh of generating the substrate potential VP1 values, such as the potential difference is large between the substrate potential VP1 of the peripheral circuit portion controls the second substrate potential generating circuit 17 and the low-potential power supply V SS Things.

【0028】すなわち、基板電位制御回路20は、発振
器21、バースト用カウンタ23、周期用カウンタ2
4、制御信号発生回路25、及び第1〜第4設定部26
〜29を備える。
That is, the substrate potential control circuit 20 includes an oscillator 21, a burst counter 23, and a period counter 2.
4, control signal generation circuit 25, and first to fourth setting units 26
~ 29.

【0029】発振器1は動作クロックCLKを発生す
る。バースト用カウンタ23はメモリセルアレイ11が
バーストモードにてリフレッシュされ始めると、動作ク
ロックCLKのパルスをカウントし始める。バースト用
カウント23は、動作クロックCLKのパルスをメモリ
セルアレイ11のワード線の本数分だけカウントすると
カウントアップし、信号S1を出力する。
The oscillator 1 generates an operation clock CLK. When the memory cell array 11 starts refreshing in the burst mode, the burst counter 23 starts counting pulses of the operation clock CLK. The burst count 23 counts up when a pulse of the operation clock CLK is counted by the number of word lines of the memory cell array 11, and outputs a signal S1.

【0030】周期用カウンタ24は動作クロックCLK
に基づいてリフレッシュサイクルTcを測定するもので
ある。周期用カウンタ24はメモリセルアレイ11がバ
ーストモードにてリフレッシュされ始めると、動作クロ
ックCLKのパルスをカウントし始める。周期用カウン
タ24は、リフレッシュサイクルTcの終了点よりも数
百μsec前まで動作クロックCLKのパルスをカウン
トすると、信号S2を出力する。また、周期用カウンタ
24は動作クロックCLKのパルスをリフレッシュサイ
クルTc分だけカウントすると、そのカウントアップ信
号に基づいてカウンタ24自身及びバースト用カウンタ
23のカウント値をリセットする。
The period counter 24 has an operation clock CLK.
Is used to measure the refresh cycle Tc. When the memory cell array 11 starts to be refreshed in the burst mode, the cycle counter 24 starts counting pulses of the operation clock CLK. The cycle counter 24 outputs the signal S2 when it counts the pulses of the operation clock CLK until several hundred μsec before the end point of the refresh cycle Tc. When counting the pulses of the operation clock CLK for the refresh cycle Tc, the cycle counter 24 resets the counter 24 itself and the count value of the burst counter 23 based on the count-up signal.

【0031】制御信号発生回路25は、バースト用カウ
ンタ23から出力される信号S1及び周期用カウンタ2
4から出力される信号S2に基づいて図6に示す制御信
号S3を出力する。すなわち、1回分のバーストリフレ
ッシュが終了して信号S1が入力されると、制御信号S
3はHレベルになり、リフレッシュサイクルTcの終了
点の数百μsec前になって信号S2が入力されると、
制御信号S3はLレベルになる。
The control signal generation circuit 25 includes a signal S1 output from the burst counter 23 and a period counter 2
The control signal S3 shown in FIG. 6 is output based on the signal S2 output from the control signal S4. That is, when the signal S1 is input after the completion of one burst refresh, the control signal S
3 becomes H level, and when the signal S2 is input several hundred μsec before the end point of the refresh cycle Tc,
The control signal S3 goes low.

【0032】第1設定部26はDRAM10のセルフリ
フレッシュ動作を除く通常の動作状態において、周辺回
路部の基板電位VP1として低電位電源VSSを発生する
回路である。第2設定部27はDRAM10のバースト
リフレッシュ間におけるスタンバイ時において、周辺回
路部の基板電位VP1と低電位電源VSSとの電位差が大
きくなるような値の基板電位VP1を発生する回路であ
る。
The first setting portion 26 in a normal operating state except DRAM10 self refresh operation, a circuit for generating a low-potential power supply V SS as the substrate potential VP1 of the peripheral circuit portion. The second setting unit 27 in the standby between DRAM10 the burst refresh is a circuit for generating a substrate potential VP1 values such as the potential difference between the substrate potential VP1 of the peripheral circuit portion and the low-potential power supply V SS increases.

【0033】図3は第1設定部26及び第2設定部27
の詳細を示す。第1設定部26はnMOSトランジスタ
31とインバータ32とからなる。DRAM10が通常
の動作状態及びバーストリフレッシュ中において制御信
号S3がLレベルであると、インバータ32の出力はH
レベルになり、nMOSトランジスタ31がオンする。
その結果、基板電位VP1として低電位電源VSSが出力
される。DRAM10のバーストリフレッシュ間のスタ
ンバイ時において制御信号S3がHレベルであると、イ
ンバータ32の出力はLレベルになり、nMOSトラン
ジスタ31はオフする。
FIG. 3 shows a first setting section 26 and a second setting section 27.
The details are shown below. The first setting unit 26 includes an nMOS transistor 31 and an inverter 32. When the control signal S3 is at the L level in the normal operation state of the DRAM 10 and during the burst refresh, the output of the inverter 32 becomes H level.
Level, and the nMOS transistor 31 is turned on.
As a result, the low-potential power supply V SS is output as the substrate potential VP1. When the control signal S3 is at the H level during standby during the burst refresh of the DRAM 10, the output of the inverter 32 goes to the L level, and the nMOS transistor 31 is turned off.

【0034】第2設定部27はpMOSトランジスタ3
5、nMOSトランジスタ36〜39,45,46、N
AND回路41、インバータ42,43,48,50、
コンデンサ44、及びアナログスイッチ47,49を備
える。
The second setting unit 27 is a pMOS transistor 3
5, nMOS transistors 36 to 39, 45, 46, N
AND circuit 41, inverters 42, 43, 48, 50,
It has a capacitor 44 and analog switches 47 and 49.

【0035】DRAM10が通常の動作状態及びバース
トリフレッシュ中において制御信号S3がLレベルであ
ると、インバータ48,49の出力はHレベルになり、
スイッチ47,49はオフする。
When the control signal S3 is at the L level during normal operation of the DRAM 10 and during burst refresh, the outputs of the inverters 48 and 49 are at the H level,
Switches 47 and 49 are turned off.

【0036】DRAM10のバーストリフレッシュ間の
スタンバイ時において制御信号S3がHレベルである
と、インバータ48,50の出力はLレベルになり、ス
イッチ47,49がオンする。このとき、pMOSトラ
ンジスタ35のゲートは低電位電源VSSに接続されてい
るので、pMOSトランジスタ35はオンしHレベルの
信号を出力する。そのため、NAND回路41はインバ
ータとして動作し、NAND回路41、インバータ4
2,43は発振回路として動作する。インバータ43の
出力に基づいてコンデンサ44の充電電圧が増加し、そ
の充電電圧がアナログスイッチ47,49を介してnM
OSトランジスタ39に伝達される。コンデンサ44の
充電電圧が低電位電源VSSよりも4個のnMOSトラン
ジスタ36〜39のしきい値電圧分だけ低下すると、n
MOSトランジスタ36〜39がオンする。そのため、
NAND回路41への出力信号はLレベルになり、発振
が停止し、コンデンサ44の充電が停止する。このと
き、コンデンサ44の充電電圧VP12が基板電位VP
1として出力される。
When the control signal S3 is at the H level during standby during the burst refresh of the DRAM 10, the outputs of the inverters 48 and 50 are at the L level, and the switches 47 and 49 are turned on. At this time, the gate of the pMOS transistor 35 is therefore connected to the low-potential power supply V SS, pMOS transistor 35 outputs the turns H level signal. Therefore, the NAND circuit 41 operates as an inverter, and the NAND circuit 41 and the inverter 4
2, 43 operate as an oscillation circuit. The charging voltage of the capacitor 44 increases based on the output of the inverter 43, and the charging voltage becomes nM via the analog switches 47 and 49.
The signal is transmitted to the OS transistor 39. When the charging voltage of the capacitor 44 is lower than the low potential power supply V SS by the threshold voltage of the four nMOS transistors 36 to 39, n
MOS transistors 36 to 39 are turned on. for that reason,
The output signal to the NAND circuit 41 becomes L level, the oscillation stops, and the charging of the capacitor 44 stops. At this time, the charging voltage VP12 of the capacitor 44 becomes equal to the substrate potential VP.
Output as 1.

【0037】第3設定部28はDRAM10のセルフリ
フレッシュ動作を除く通常の動作状態において、メモリ
セルのセル基板の基板電位VC1を発生する回路であ
る。第4設定部29はDRAM10のバーストリフレッ
シュ間におけるスタンバイ時において、セル基板の基板
電位VC1と低電位電源VSSとの電位差が小さくなるよ
うな値の基板電位VC1を発生する回路である。
The third setting section 28 is a circuit for generating the substrate potential VC1 of the cell substrate of the memory cell in a normal operation state except the self-refresh operation of the DRAM 10. The fourth setting unit 29 is a circuit in a standby between DRAM10 the burst refresh, generating a substrate potential VC1 values such as the potential difference between the substrate potential VC1 of the cell substrate and the low-potential power supply V SS decreases.

【0038】図4は第3設定部28及び第4設定部29
の詳細を示す。第3設定部28はpMOSトランジスタ
61、nMOSトランジスタ59,60,62〜64、
NAND回路55、インバータ56,57,66、コン
デンサ58、及びアナログスイッチ65を備える。
FIG. 4 shows a third setting unit 28 and a fourth setting unit 29.
The details are shown below. The third setting unit 28 includes a pMOS transistor 61, nMOS transistors 59, 60, 62 to 64,
The circuit includes a NAND circuit 55, inverters 56, 57, 66, a capacitor 58, and an analog switch 65.

【0039】DRAM10が通常の動作状態及びバース
トリフレッシュ中において制御信号S3がLレベルであ
ると、インバータ66の出力はHレベルになり、スイッ
チ65はオンする。このとき、pMOSトランジスタ6
1のゲートは低電位電源VSSに接続されているので、p
MOSトランジスタ61はオンしHレベルの信号を出力
する。アナログスイッチ65を介してNAND回路55
にHレベルの信号が入力されるため、NAND回路55
はインバータとして動作し、NAND回路55、インバ
ータ56,57は発振回路として動作する。インバータ
57の出力に基づいてコンデンサ58の充電電圧が増加
し、その充電電圧がnMOSトランジスタ64に伝達さ
れる。コンデンサ58の充電電圧が低電位電源VSSより
も3個のnMOSトランジスタ62,63,64のしき
い値電圧分だけ低下すると、nMOSトランジスタ6
2,63,64がオンする。そのため、NAND回路5
5への出力信号はLレベルになり、発振が停止し、コン
デンサ58の充電が停止する。このとき、コンデンサ5
8の充電電圧VC11が基板電位VC1として出力され
る。
When the control signal S3 is at L level during normal operation of the DRAM 10 and during burst refresh, the output of the inverter 66 goes to H level and the switch 65 is turned on. At this time, the pMOS transistor 6
1 is connected to the low potential power supply V SS ,
MOS transistor 61 is turned on and outputs an H level signal. NAND circuit 55 via analog switch 65
Is input to the NAND circuit 55.
Operates as an inverter, and the NAND circuit 55 and the inverters 56 and 57 operate as oscillation circuits. The charging voltage of capacitor 58 increases based on the output of inverter 57, and the charging voltage is transmitted to nMOS transistor 64. When the charging voltage of the capacitor 58 is lower than the low potential power supply V SS by the threshold voltage of the three nMOS transistors 62, 63, 64, the nMOS transistor 6
2, 63 and 64 are turned on. Therefore, the NAND circuit 5
The output signal to the L level becomes L level, oscillation stops, and charging of the capacitor 58 stops. At this time, the capacitor 5
8 is output as the substrate potential VC1.

【0040】DRAM10のバーストリフレッシュ間の
スタンバイ時において制御信号S3がHレベルである
と、インバータ66の出力はLレベルになり、スイッチ
65はオフする。
When the control signal S3 is at the H level during standby during the burst refresh of the DRAM 10, the output of the inverter 66 goes to the L level and the switch 65 is turned off.

【0041】第4設定部29はpMOSトランジスタ6
7、nMOSトランジスタ68,69、アナログスイッ
チ70と、前記nMOSトランジスタ59,60、前記
NAND回路55、インバータ56,57,66及びコ
ンデンサ58を備える。
The fourth setting unit 29 includes the pMOS transistor 6
7, nMOS transistors 68 and 69, an analog switch 70, the nMOS transistors 59 and 60, the NAND circuit 55, inverters 56, 57 and 66, and a capacitor 58.

【0042】DRAM10が通常の動作状態及びバース
トリフレッシュ中において制御信号S3がLレベルであ
ると、インバータ66の出力はHレベルになり、スイッ
チ70はオフする。
When the control signal S3 is at the L level during normal operation of the DRAM 10 and during burst refresh, the output of the inverter 66 goes to the H level and the switch 70 is turned off.

【0043】DRAM10のバーストリフレッシュ間の
スタンバイ時において制御信号S3がHレベルである
と、インバータ66の出力はLレベルになり、スイッチ
70がオンする。このとき、pMOSトランジスタ67
のゲートは低電位電源VSSに接続されているので、pM
OSトランジスタ67はオンしHレベルの信号を出力す
る。アナログスイッチ70を介してNAND回路55に
Hレベルの信号が入力されるため、NAND回路55は
インバータとして動作し、NAND回路55、インバー
タ56,57は発振回路として動作する。インバータ5
7の出力に基づいてコンデンサ58の充電電圧が増加
し、その充電電圧がnMOSトランジスタ69に伝達さ
れる。コンデンサ58の充電電圧が低電位電源VSSより
も2個のnMOSトランジスタ68,69のしきい値電
圧分だけ低下すると、nMOSトランジスタ68,69
がオンする。そのため、NAND回路55への出力信号
はLレベルになり、発振が停止し、コンデンサ58の充
電が停止する。このとき、コンデンサ58の充電電圧V
C12が基板電位VC1として出力される。
When the control signal S3 is at the H level during standby during the burst refresh of the DRAM 10, the output of the inverter 66 is at the L level, and the switch 70 is turned on. At this time, the pMOS transistor 67
Is connected to the low potential power supply V SS ,
The OS transistor 67 turns on and outputs an H-level signal. Since an H-level signal is input to the NAND circuit 55 via the analog switch 70, the NAND circuit 55 operates as an inverter, and the NAND circuit 55 and the inverters 56 and 57 operate as oscillation circuits. Inverter 5
7, the charging voltage of the capacitor 58 increases, and the charging voltage is transmitted to the nMOS transistor 69. When the charging voltage of the capacitor 58 is lower than the low potential power supply V SS by the threshold voltage of the two nMOS transistors 68 and 69, the nMOS transistors 68 and 69
Turns on. Therefore, the output signal to the NAND circuit 55 becomes L level, the oscillation stops, and the charging of the capacitor 58 stops. At this time, the charging voltage V of the capacitor 58
C12 is output as substrate potential VC1.

【0044】メモリセルアレイ11のバーストリフレッ
シュ間におけるスタンバイ時において、第1の基板電位
発生回路16を制御してセル基板に供給する基板電位V
C1と低電位電源VSSとの差が小さくなるような値の基
板電位VC1を発生させる。また、基板電位制御回路2
0は、メモリセルアレイ11のバーストリフレッシュ間
におけるスタンバイ時において、第2の基板電位発生回
路17を制御して周辺回路部の基板電位VP1と低電位
電源VSSとの電位差が大きくなるような値の基板電位V
P1を発生させるものである。
In the standby state during the burst refresh of the memory cell array 11, the substrate potential V supplied to the cell substrate by controlling the first substrate potential generating circuit 16 is controlled.
C1 and the difference between the low-potential power supply V SS generates the substrate potential VC1 of smaller becomes such a value. Further, the substrate potential control circuit 2
0, in the standby between burst refresh of the memory cell array 11, values such as the potential difference is large between the substrate potential VP1 of the peripheral circuit portion controls the second substrate potential generating circuit 17 and the low-potential power supply V SS Substrate potential V
P1 is generated.

【0045】さて、本実施の形態は、以下の効果があ
る。 (1)本形態のDRAM10では、セルフリフレッシュ
制御回路15がメモリセルアレイ11のセルフリフレッ
シュをバーストモードで行うため、セルフリフレッシュ
間においてスタンバイ時を生成することができる。この
スタンバイ時において、第4設定部29はセル基板82
の基板電位VC1と低電位電源VSSとの電位差が小さく
なるような基板電圧VC12を生成し、第1の基板電位
発生回路16が基板電位VC12をメモリセルのセル基
板82に供給する。そのため、スタンバイ時においてメ
モリセルからセル基板へのリーク電流が低減される。そ
の結果、次のリフレッシュサイクルTcにおいてメモリ
セルへのチャージ電流を少なくすることができ、リフレ
ッシュを短時間で行うことができ、リフレッシュ特性を
向上することができる。
The present embodiment has the following effects. (1) In the DRAM 10 of the present embodiment, since the self-refresh control circuit 15 performs the self-refresh of the memory cell array 11 in the burst mode, a standby time can be generated between the self-refresh. At the time of this standby, the fourth setting unit 29 sets the cell substrate 82
A substrate potential VC1 generates a substrate voltage VC12 as the potential difference between the low-potential power supply V SS decreases, the first substrate potential generating circuit 16 supplies the substrate potential VC12 to cell substrate 82 of the memory cell. Therefore, the leakage current from the memory cell to the cell substrate during standby is reduced. As a result, in the next refresh cycle Tc, the charge current to the memory cell can be reduced, the refresh can be performed in a short time, and the refresh characteristics can be improved.

【0046】(2)本形態のDRAM10では、メモリ
セルアレイ11のセルフリフレッシュ間におけるスタン
バイ時に、第2設定部27は周辺回路部の基板87の基
板電位VP1と低電位電源VSSとの電位差が大きくなる
ような基板電圧VP12を生成し、第2の基板電位発生
回路17が基板電位VP12を周辺回路部の基板87に
供給する。その結果、セルフリフレッシュ間のスタンバ
イ時において周辺回路部を構成するトランジスタ90の
しきい値電圧が大きくなり、トランジスタ90のテーリ
ング電流を低減することができ、消費電流を低減するこ
とができる。
[0046] (2) In the DRAM10 in this embodiment, in the standby between the self-refresh of the memory cell array 11, the second setting unit 27 increases the potential difference between the substrate potential VP1 substrate 87 of the peripheral circuit portion and the low-potential power supply V SS A second substrate potential generation circuit 17 supplies the substrate voltage VP12 to the substrate 87 of the peripheral circuit section. As a result, the threshold voltage of the transistor 90 forming the peripheral circuit portion increases during standby during self-refresh, so that the tailing current of the transistor 90 can be reduced, and the current consumption can be reduced.

【0047】[0047]

【発明の効果】以上詳述したように、請求項1〜3の発
明は、セルフリフレッシュ時における電流を低減しつつ
メモリセルのリフレッシュに要する時間を短縮すること
ができる。
As described in detail above, the inventions of claims 1 to 3 can shorten the time required for refreshing a memory cell while reducing the current during self refresh.

【0048】請求項2及び3の発明は、セルフリフレッ
シュ時における周辺回路部の電流を低減することができ
る。
According to the second and third aspects of the present invention, it is possible to reduce the current in the peripheral circuit portion during self refresh.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の原理説明図FIG. 1 is a diagram illustrating the principle of the present invention.

【図2】実施の形態のDRAMを示すブロック図FIG. 2 is a block diagram illustrating a DRAM according to an embodiment;

【図3】第1及び第2設定部の詳細を示す回路図FIG. 3 is a circuit diagram showing details of first and second setting units;

【図4】第3及び第4設定部の詳細を示す回路図FIG. 4 is a circuit diagram showing details of third and fourth setting units;

【図5】メモリセル及び周辺回路部のトランジスタの断
面図
FIG. 5 is a cross-sectional view of a memory cell and a transistor in a peripheral circuit portion.

【図6】実施の形態のDRAMの作用を示す波形図FIG. 6 is a waveform chart showing the operation of the DRAM of the embodiment.

【図7】従来のDRAMを示すブロック図FIG. 7 is a block diagram showing a conventional DRAM.

【図8】従来のメモリセル及び周辺回路部のトランジス
タの断面図
FIG. 8 is a cross-sectional view of a conventional memory cell and a transistor in a peripheral circuit portion.

【図9】従来のDRAMの作用を示す波形図FIG. 9 is a waveform chart showing the operation of a conventional DRAM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 メモリセルアレイ 2 周辺回路部 3 セルフリフレッシュ制御回路 4 第1の基板電位発生回路 5 第2の基板電位発生回路 6 基板電位制御回路 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Memory cell array 2 Peripheral circuit part 3 Self-refresh control circuit 4 First substrate potential generation circuit 5 Second substrate potential generation circuit 6 Substrate potential control circuit

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のメモリセルを備えたメモリセルア
レイと、 前記メモリセルアレイのメモリセルをアクセスするため
の周辺回路部と、 前記メモリセルアレイのメモリセルをバーストリフレッ
シュするためのセルフリフレッシュ制御回路と、 前記メモリセルのセル基板に供給する基板電位を発生す
るための第1の基板電位発生回路と、 メモリセルアレイのバーストリフレッシュ間のスタンバ
イ時において、前記第1の基板電位発生回路を制御して
前記セル基板に供給する基板電位と低電位電源との差が
小さくなるような電位を発生させる基板電位制御回路と
を備える半導体記憶装置。
A memory cell array having a plurality of memory cells; a peripheral circuit unit for accessing the memory cells of the memory cell array; a self-refresh control circuit for burst refreshing the memory cells of the memory cell array; A first substrate potential generation circuit for generating a substrate potential to be supplied to a cell substrate of the memory cell; and controlling the first substrate potential generation circuit during standby between burst refreshes of the memory cell array to control the cell potential. A semiconductor memory device comprising: a substrate potential control circuit that generates a potential that reduces a difference between a substrate potential supplied to a substrate and a low potential power supply.
【請求項2】 前記周辺回路部の基板に供給する基板電
位を発生するための第2の基板電位発生回路を備え、 前記基板電位制御回路は第2の基板電位発生回路を制御
して前記周辺回路部の基板に供給する基板電位と前記低
電位電源との電位差が大きくなるような電位を発生させ
る請求項1に記載の半導体記憶装置。
A second substrate potential generation circuit for generating a substrate potential to be supplied to a substrate of the peripheral circuit portion, wherein the substrate potential control circuit controls the second substrate potential generation circuit to generate a peripheral potential. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a potential is generated such that a potential difference between a substrate potential supplied to a substrate of a circuit unit and the low-potential power supply increases.
【請求項3】 前記基板電位制御回路は、通常動作時に
おける周辺回路部の基板電圧を設定するための第1設定
部と、 バーストリフレッシュ間のスタンバイ時における周辺回
路部の基板電圧を設定するための第2設定部と、 通常動作時におけるメモリセルのセル基板の基板電圧を
設定するための第3設定部と、 バーストリフレッシュ間のスタンバイ時におけるメモリ
セルのセル基板の基板電圧を設定するための第4設定部
と、 前記メモリセルアレイのバーストリフレッシュの終了を
測定するための第1のカウンタと、 前記メモリセルアレイのバーストリフレッシュ間におけ
るスタンバイ時を測定するための第2のカウンタと、 前記第1のカウンタの測定結果と第2のカウンタの測定
結果とに基づき、通常動作時には前記第1設定部の基板
電圧を前記第2の基板電位発生回路に出力させるととも
に、前記第3設定部の基板電圧を前記第1の基板電位発
生回路に出力させ、また、セルフリフレッシュ間のスタ
ンバイ時には前記第2設定部の基板電圧を前記第2の基
板電位発生回路に出力させるとともに、前記第4設定部
の基板電圧を前記第2の基板電位発生回路に出力させる
制御部とを備える請求項2に記載の半導体記憶装置。
3. The substrate potential control circuit includes: a first setting unit for setting a substrate voltage of a peripheral circuit unit during a normal operation; and a substrate voltage control circuit for setting a substrate voltage of the peripheral circuit unit during a standby period between burst refreshes. A third setting unit for setting the substrate voltage of the cell substrate of the memory cell during normal operation; and a third setting unit for setting the substrate voltage of the cell substrate of the memory cell during standby between burst refreshes. A fourth setting unit; a first counter for measuring the end of the burst refresh of the memory cell array; a second counter for measuring a standby state between burst refreshes of the memory cell array; Based on the measurement result of the counter and the measurement result of the second counter, during normal operation, And the substrate voltage of the third setting unit is output to the first substrate potential generation circuit, and the voltage of the second setting unit is output during standby during self-refresh. 3. The semiconductor memory device according to claim 2, further comprising: a control unit configured to output a substrate voltage to the second substrate potential generation circuit and to output a substrate voltage of the fourth setting unit to the second substrate potential generation circuit. 4. .
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