JP2971622B2 - 自由曲面測定方法 - Google Patents

自由曲面測定方法

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JP2971622B2 JP13850291A JP13850291A JP2971622B2 JP 2971622 B2 JP2971622 B2 JP 2971622B2 JP 13850291 A JP13850291 A JP 13850291A JP 13850291 A JP13850291 A JP 13850291A JP 2971622 B2 JP2971622 B2 JP 2971622B2
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聰一 門脇
孝子 久保田
幸三 有我
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばタッチシグナル
プローブ及び倣いプローブ等の球状の測定子を被測定自
由曲面に接触させて得られた三次元測定データから、任
意の指定断面上の実面座標値を算出するための自由曲面
測定方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、CAD/CAM(Computer Aided
Design /Computer Aided Manufacturing)システムに
よる設計・加工効率の向上及びNC工作機械の高性能化
等に伴い、複雑な形状の製品を高精度に加工することが
可能になってきた。このため、製品評価のための計測に
おいても、自由曲面を含む複雑な三次元形状を高速かつ
高精度に測定できることが望まれている。
【0003】一方、三次元測定機を使用して自由曲面を
評価することもなされている。三次元測定機では、通
常、プローブ先端がボール形状をしており、その測定デ
ータは、ボールの中心点座標として求まるため、自由曲
面の場合、個々の中心点座標から実際の測定面を精度良
く求めるのは容易でない。そこで、三次元測定機からプ
ローブ中心点群データを取込み、プローブの中心点群デ
ータから生成されたプローブ中心の自由曲面から実曲面
を推定する方法も考えられている。この場合、最も単純
な方法は、プローブ中心が描く自由曲面上の任意の点か
ら自由曲面の法線方向にプローブ半径分だけオフセット
させた点を実面上の点として算出する方法である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
方法では、プローブ中心曲面の法線方向によって、得ら
れる実面上の点の位置が異なってくるため、任意の断面
を指定して、その指定断面上での実面座標値を求めるこ
とができないという欠点がある。また、従来の方法で
は、自由曲面の傾きが急激に変化するエッジ部分などに
おいて、測定子中心曲面も急激に変化する。このため、
僅かな測定誤差や演算誤差によって微小曲面のオフセッ
ト方向が大きく変化し、実面推定座標値が前後に入り乱
れて実曲面の形成が困難になるという問題もある。
【0005】本発明は、このような従来の問題点を解決
するためになされたもので、自由曲面の傾斜が急激に変
化している場合でも、三次元測定機からの測定点群デー
タによって得られたプローブ中心の自由曲面から任意の
指定断面上の実面座標値を正確に求めることが可能な自
由曲面測定方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明に係る自由曲面測
定方法は、球状の測定子を被測定自由曲面に接触させて
得られた三次元測定データから前記測定子の中心によっ
て描かれる測定子中心曲面を算出するステップと、前記
測定子中心曲面と任意の指定断面との交線上の任意の着
目点を通り前記指定断面上に存在するガイド直線を算出
するステップと、前記測定子を前記ガイド直線に沿って
移動させた場合に前記測定子が前記測定子中心曲面に接
触する前記測定子の中心位置を実面座標値として算出す
るステップとを有することを特徴とする。
【0007】
【作用】本発明によれば、任意の指定断面を指定する
と、この指定断面上に着目点を通るガイド直線が算出さ
れ、上記算出されたガイド直線に沿って、測定子を移動
させたとした場合に、測定子が測定子中心曲面と接触す
る前記測定子の中心位置を実面座標値と決定する。この
ため、本発明によれば、指定断面上の実面座標値を精度
良く算出することができる。
【0008】また、測定子中心曲面は、球状の測定子が
被測定自由曲面上を接触しながら移動することにより得
られた曲面であるから、被測定自由曲面の傾斜が急激に
変化している場合でも、測定子中心曲面自体は本質的に
測定子の外形に倣った曲面となる。本発明は、ガイド直
線に沿って測定子を移動させ、上記測定子中心曲面に接
触させる方式であるため、接触時の測定子中心は実曲面
と正確に一致する。このため、本発明によれば、曲面又
は平面を測定子中心曲面側からオフセットさせる上記の
方法に比べ、実面の傾斜が急激に変化しているような場
合でも精度良く実面値を算出することができる。
【0009】
【実施例】以下、添付の図面を参照してこの発明の実施
例について説明する。図1は、この発明の実施例に係る
自由曲面測定方法を示す流れ図である。
【0010】先ず、三次元測定機の測定データからプロ
ーブ中心曲面を算出する(S1)。このプローブ中心
面の算出は以下の手順によって行われる。即ち、三次元
測定機を使用した測定工程では、図2に示すように、各
測定断面MS毎にプローブ中心点群データ(以下、「測
定点群データ」と呼ぶ)Dを求める。このとき、測定ピ
ッチ及び測定点数は任意で良い。従って、三次元測定機
から得られた測定点群データDは、まちまちの間隔とな
っている。
【0011】この測定点群データDに対し、次に第1の
自由曲線C1 の当てはめ処理を行う。この第1の自由曲
線C1 の当てはめ処理は、各測定断面の測定点列毎に行
われる。この第1の自由曲線C1 は、図3に示すよう
に、測定点間を微小値εの範囲をはみださないような複
数の曲線からなり、隣り合う曲線は、その接続点におい
て接線が共通であるように決定する。
【0012】次に、求められた各測定点列に対応する第
1の自由曲線C1 を、例えば弦長を基準として各々n等
分(nは任意の整数)した後、得られた等分点を滑らか
に通るように第1の自由曲線を再び算出する。ここで、
第j番目の測定点列におけるi番目((iは0〜n)の
分割点のベクトルデータをPijとする。
【0013】次に、図4に示すように、iを共通とする
分割点を通る自由曲線、即ち、上記の処理で求められた
第1の自由曲線C1 (この第1の自由曲線C1 の方向を
以下u方向とする)と交差する第2の自由曲線C2 (こ
の第2の自由曲線C2 の方向を以下v方向とする)を決
定する。この第2の自由曲線C2 は、通過点Pijを通
り、通過点Pijにおける接線が共通になることを条件と
して決定される。この自由曲線の決定アルゴリズムとし
ては、例えばC1 級接続又はC2 級接続の3次ベジェ曲
線の生成アルゴリズムを使用することができる。
【0014】次に、このようなアルゴリズムによって生
成された自由曲線で各々囲まれた範囲に接平面が共通に
なる自由曲面を生成する。例えば共通の境界曲線を有
し、且つその両端点で接平面が一致する条件を満たす2
枚のパッチは、境界線上の全ての点で接平面が一致する
ことが知られている。このような条件を満たすように順
次パッチを生成していけばよい。以上の処理により、単
位自由曲面が夫々生成され、これらの単位自由曲面の集
合によってプローブ中心曲面を生成することができる。
【0015】プローブ中心曲面が算出されたら、次に以
下の処理により実面の座標値を算出する。先ず、実面座
標値を算出するための断面を指定する(S2)。この断
面としては、平面、円筒面等、任意の断面を指定可能で
あるが、ここでは一例として平面を断面として指定した
場合について説明する。
【0016】図5に示すように、プローブ中心曲面S全
体をu,v方向共にm分割し、指定断面SSの近傍のパ
ッチ群を対象パッチ群として選択する。この選択処理
は、例えば各パッチを指定断面SSに平行でかつ所定の
間隔をもって配置された2つの平面を設定し、各パッチ
の少なくとも一部が両平面の内側に存在するかどうかを
調べることにより行うことができる。そして、選択され
たパッチ群を更に1/2に分割し、以上の操作を繰り返
すことにより、対象パッチの縮小と絞り込みとを行う。
【0017】絞り込まれた対象パッチは、ベジェ−グレ
ゴリーパッチであるが、その面積は十分に縮小されてい
るため、これを1又は複数の双一次パッチで分割近似す
る。続いて双一次パッチの境界線(直線)と指定断面と
の交点をチェックすることにより、交線近傍のパッチを
選択し、パッチリストを作成する。そして、スキャニン
グのスタートパッチをパッチリストから選択する。
【0018】次に、プローブ中心曲面Sと指定断面SS
との交線CLに沿った着目点のスキャニングを開始する
(S3)。スキャニングでは、先ず、着目点を通るガイ
ド直線を算出する(S4)。図6に示すように、ガイド
直線Lは、着目点SPにおける面法線ベクトルnを指定
断面SSに投影することにより決定される。
【0019】ガイド直線Lが決定されたら、ガイド直線
Lに沿ってプローブを移動させたときに、プローブとプ
ローブ中心曲面Sとが接触するプローブの中心位置を実
面座標値として算出する(S5)。
【0020】即ち、先ず、図7に示すように、プローブ
球Aをガイド直線L方向に投影し、その投影円内に含ま
れる微小パッチMPを選択する。なお、ガイド直線Lが
測定面の表方向に立つとした場合、分割小パッチの四隅
の点における面表方向法線ベクトルを求め、この方向が
ガイドラインと逆向きである場合は、選択対象とはしな
い。これは、三次元自由曲面の上面と下面のパッチを同
時に選択しないようにするためである。また、投影の際
のプローブ半径は、安全のためやや大きめに設定してお
くことが望ましい。具体的には、ガイド直線Lを立てた
パッチの四隅の中間制御点の双一次パッチからの距離分
だけプローブ半径をかさ上げしておく。
【0021】次に、図8に示すように、選択された分割
小パッチの四隅の点において、プローブ半径分の長さの
面表方向法線ベクトルnnを立て、ガイド直線Lへの距
離を求める。ガイド直線Lへの距離の最短値をdとする
とき、法線ベクトルnnの先端の点とガイド直線Lとの
距離がd+k以下である点をサンプル点として選択す
る。ここで、kは処理対象となる部分のパッチの一辺の
長さ程度とする。
【0022】図9に示すように、ガイド直線L上の位置
tからプローブ中心曲面Sへの最短距離をφ(t)とす
ると、φ(t)−プローブ半径=0をニュートン法によ
り解き、その解の点tを実面点とする。φ(t)は、ガ
イド直線L上の位置tからプローブ中心曲面Sに降ろし
た垂線と曲面Sとの交点から位置tまでの長さとして求
められる。
【0023】反復の初期値t0 は、先に求めたガイド直
線Lに最も近い面法線ベクトルの先端の点からガイド直
線Lへ垂直に降ろした点とする。これにより、実面点に
最も近いと予想される点から反復計算を実行できるの
で、計算時間を短縮することができる。また、dφ
(t)/dtは、解析的に求めることが困難であるので
差分近似する。
【0024】基本的なアルゴリズムは、図10のように
なる。先ず、rにプローブ半径、tに初期値t0 を夫々
代入する(S11)。この時点で、〔r−φ(t)〕の
絶対値がε1 よりも小さいときには、処理を終了する
(S12)。〔r−φ(t)〕の絶対値がε1 よりも大
きいときには、φ(t)を一旦φold に格納したのち、
tを微小距離ε2 だけ移動させたときの最短距離の差を
Δφに代入し、(r−φ(t))に微小距離ε2 とΔφ
との比を乗じた値をΔtに代入する(S13)。
【0025】次に、tをΔtだけ移動させ、新たな最短
距離φ(t)をφnew に代入する(S14)。ここで、
(r−φnew )の絶対値がε1 よりも小さくなったと
き、又はΔtがε2 よりも小さくなったときには、処理
を終了する(S15)。そうでない場合には、Δφとし
てφnew−φold を代入し、Δtとして(r−φ
(t))にΔtとΔφとの比を乗じた値を代入し、φol
d にφnew を代入する(S16)。これを、tをΔtだ
け移動させながら繰り返し、φ(t)−r=0の解を求
めていく。そして、得られたtを実面上の点として記憶
する。
【0026】全ての着目点についてガイド直線上の実面
点が算出されたら(S6)、次の指定断面について同様
のスキャニングを実行する(S7)。全ての指定断面S
Sについてのスキャニングが終了したら、各指定断面S
S上の実面座標値の算出処理を終了する。
【0027】以上の処理により、指定断面SS上に実面
座標値を精度良く算出することができる。また、この実
施例によれば、ガイド直線に沿ってプローブを移動させ
ながら、実際の接触を確認していく方法であるため、実
面の傾斜が急激に変化しているような場合でも、測定精
度の低下がないという利点がある。したがって、通常は
自由曲面オフセット方式による実面座標値の算出を行
い、オフセットする曲面が急激な傾斜を示すような場合
には、プローブ球接触方式による実面座標値の算出を行
う等、両者を併用して高速かつ正確な実面座標値の算出
を行うようにしても良い。
【0028】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、任
意の指定断面上にガイド直線を算出し、ガイド直線に沿
って測定子を移動させたときに、測定子が測定子中心曲
面と接触する測定子中心位置を実面座標値と決定するよ
うにしているので、被測定自由曲面の傾斜が急激に変化
しているような場合でも、任意の指定断面上に実面座標
値を高精度に算出可能であるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施例に係る自由曲面測定方法を示
す流れ図である。
【図2】 三次元測定機から得られる測定点群データを
示す模式図である。
【図3】 測定点群データを第1の自由曲線で当てはめ
た様子を示す模式図である。
【図4】 第1の自由曲線を等分して各等分点を第2の
自由曲線で滑らかに結合した様子を示す模式図である。
【図5】 自由曲面と指定断面との関係を示す模式図で
ある。
【図6】 指定断面とガイド直線との関係を示す模式図
である。
【図7】 処理対象微小パッチの選択方法を説明するた
めの模式図である。
【図8】 反復計算の初期値の決定方法を説明するため
の模式図である。
【図9】 ガイド直線に沿って測定子を移動させて実面
点を求める方法を説明するための模式図である。
【図10】 同実面値をニュートン法で求める方法を説
明するための流れ図である。
【符号の説明】
MS…測定断面、D…測定点群データ、C1 …第1の自
由曲線、C2 …第2の自由曲線、S…プローブ中心曲
面、SS…指定断面、SP…着目点、L…ガイド直線、
A…プローブ球。
フロントページの続き (72)発明者 有我 幸三 東京都文京区湯島1丁目3番4号 KT お茶の水聖橋ビル6階 株式会社システ ムテクノロジーインスティテュート内 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G01B 21/00 - 21/30

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 球状の測定子を被測定自由曲面に接触さ
    せて得られた三次元測定データから前記測定子の中心に
    よって描かれる測定子中心曲面を算出するステップと、
    前記測定子中心曲面と任意の指定断面との交線上の任意
    の着目点を通り前記指定断面上に存在するガイド直線を
    算出するステップと、前記測定子を前記ガイド直線に沿
    って移動させた場合に前記測定子が前記測定子中心曲面
    に接触する前記測定子の中心位置を実面座標値として算
    出するステップとを有することを特徴とする自由曲面測
    定方法。
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JP2003097939A (ja) * 2001-09-21 2003-04-03 Ricoh Co Ltd 形状測定装置、形状測定方法、形状測定用コンピュータプログラムを記憶する記憶媒体及び形状測定用コンピュータプログラム、形状修正加工方法、形状転写用の型、成型品及び光学システム
CN103063185B (zh) * 2012-12-31 2017-04-19 中国电子科技集团公司第四十五研究所 单点确定晶圆测试范围的方法

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