JP2970652B1 - Multilayer ceramic component and method of manufacturing the same - Google Patents
Multilayer ceramic component and method of manufacturing the sameInfo
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Abstract
【要約】
【課題】 ガラスセラミックと導体材料とからなる積層
体を一体焼成することにより作製されるセラミック積層
部品において、ガラスセラミックと導電体との焼成挙動
のミスマッチにより、焼成体に反りやうねりが生じた
り、内部に生じる歪みにより層間にクラックが生じやす
いといった問題があった。
【解決手段】 素子に対して十分な面積を有するシール
ド層が信号線路層をはさんで少なくとも２層以上設けら
れた構造をもたせることにより、焼成時の収縮のミスマ
ッチが緩和され、積層体の層間における剥離やクラック
の発生、素子の変形等のない積層セラミック部品を得る
ことができる。Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminated ceramic part produced by integrally firing a laminated body composed of a glass ceramic and a conductive material, and warping and undulation of the fired body due to a mismatch in firing behavior between the glass ceramic and the conductor. There is a problem that cracks easily occur between layers due to the occurrence of internal strain or internal strain. SOLUTION: By providing a structure in which at least two or more shield layers having a sufficient area for an element are provided with a signal line layer interposed therebetween, a mismatch in shrinkage at the time of firing is alleviated, and an interlayer of the laminated body is reduced. A multilayer ceramic component free from peeling, cracking, deformation of the element and the like can be obtained.
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はガラスセラミックス
層および導体層を積層して一体焼成される高周波特性に
優れた積層セラミック部品およびその製造方法に関する
ものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laminated ceramic component having excellent high-frequency characteristics, wherein a glass ceramic layer and a conductor layer are laminated and fired integrally, and a method for producing the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、情報通信分野における機器の小型
化、高周波化、多機能化にともない、その内部に用いら
れる電子部品にも小型化、多機能化が求められている。
そのために限られた面積のセラミック素子中に導体によ
り、配線パターンをより高密度に印刷し、これらを積層
した後、焼成するといった方法を採用していた。2. Description of the Related Art In recent years, with the miniaturization, high frequency, and multifunctionalization of devices in the field of information and communication, electronic components used therein have also been required to be miniaturized and multifunctional.
For this reason, a method has been adopted in which a wiring pattern is printed at a higher density with a conductor in a ceramic element having a limited area, and these are laminated and then fired.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
積層化の方法では、配線パターンを緻密にするとノイズ
やライン間の容量が発生しやすくなりひいては品質の低
下を招くといった問題や積層体を一体焼成することによ
って、素体と導体との焼成挙動のミスマッチにより、焼
成体に反りやうねりが生じたり、内部に生じる歪みによ
りそれぞれの層にクラックが生じやすいといった問題が
あった。However, in the conventional laminating method, if the wiring pattern is made dense, noise and capacitance between lines are likely to be generated, and the quality is lowered. By doing so, there is a problem that the firing behavior of the element body and the conductor is mismatched, so that the fired body is warped or undulated, and cracks are easily generated in each layer due to internal strain.
【０００４】本発明は上記課題に対して、焼成体の変形
や層間での剥離やクラックの発生のない積層セラミック
部品を提供することを目的とするものである。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a multilayer ceramic component which does not cause deformation of a fired body, peeling between layers or cracks.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は素子に対して十分な面積を有するシールド層
を信号線路層をはさんで少なくとも２層以上設ける構造
をもたせる。In order to solve the above problems, the present invention has a structure in which at least two or more shield layers having a sufficient area for an element are provided with a signal line layer interposed therebetween.
【０００６】この構成を用いることにより、積層体の層
間における剥離やクラックの発生、素子の変形等のない
積層セラミック部品を得ることができる。By using this configuration, it is possible to obtain a laminated ceramic component free from peeling and cracking between layers of the laminate and from deformation of the element.
【０００７】[0007]
【発明の実施の形態】本発明の請求項１に記載の発明
は、ガラスセラミック組成物よりなる絶縁体層と銀を主
成分とする導体層とから構成され、ガラスセラミックス
積層体の積層面に導体層を形成し、積層して焼成された
積層セラミック部品において、厚み方向に導体層よりな
る信号線路をはさんで少なくとも２層以上のシールド層
を有することを特徴とする積層セラミック部品であっ
て、これらシールド層を信号線路をはさんで設けること
により、焼成時の収縮により発生する内部応力が一方向
にのみ集中することを防ぎ、材料の積層界面での剥離や
クラック、素子の変形の少ない積層セラミック部品を得
ることができるという作用を有する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The invention according to claim 1 of the present invention comprises an insulator layer made of a glass ceramic composition and a conductor layer containing silver as a main component. A multilayer ceramic component comprising a conductor layer formed, laminated and fired, comprising at least two or more shield layers sandwiching a signal line formed of the conductor layer in a thickness direction. By providing these shield layers with signal lines interposed therebetween, the internal stress generated by shrinkage during firing is prevented from concentrating in only one direction, and peeling, cracking, and deformation of the element at the material lamination interface are reduced. This has the effect that a multilayer ceramic component can be obtained.
【０００８】本発明の請求項２に記載の発明は、前記シ
ールド層の一部分を信号線路層としても利用することを
特徴とする積層セラミック部品であって、シールド電極
を回路の一部として利用することで構造がより対称形に
近づく。これにより、焼成時の収縮により発生する内部
応力が一方向にのみ集中することを防ぎ、材料の積層界
面での剥離やクラック、素子の変形の少ない積層セラミ
ック部品を得ることができるという作用を有する。According to a second aspect of the present invention, there is provided a multilayer ceramic component wherein a part of the shield layer is also used as a signal line layer, wherein the shield electrode is used as a part of a circuit. This makes the structure more symmetrical. Thereby, it is possible to prevent the internal stress generated by shrinkage during firing from being concentrated only in one direction, and it is possible to obtain a laminated ceramic component with less peeling, cracking and deformation of the element at the lamination interface of the material. .
【０００９】本発明の請求項３に記載の発明は、前記シ
ールド層の最大間隔が素子厚みｄに対して、０．６ｄ以
上となることを特徴とする請求項１または２記載の積層
セラミック部品であって、シールド電極の間隔を十分に
とることにより、焼成時の収縮により発生する内部応力
が部分的に集中することを防ぎ、材料の積層界面での剥
離やクラック、素子の変形の少ない積層セラミック部品
をより確実に得ることができるという作用を有する。According to a third aspect of the present invention, in the multilayer ceramic component according to the first or second aspect, the maximum distance between the shield layers is at least 0.6 d with respect to the element thickness d. In addition, by taking a sufficient distance between the shield electrodes, it is possible to prevent the internal stress generated by shrinkage during firing from being partially concentrated, and to reduce lamination, cracking, and element deformation at the lamination interface of the material. This has the effect that a ceramic component can be obtained more reliably.
【００１０】本発明の請求項４に記載の発明は、前記シ
ールド層が厚み方向に対して上下対称に配置された請求
項１〜３のいずれかに記載の積層セラミック部品であっ
て、シールド層が上下対称の位置に存在することで、焼
成時の収縮により発生する内部応力が一方向にのみ集中
することなく、応力が均一に分散されることにより、材
料の積層界面での剥離やクラック、素子の変形の少ない
積層セラミック部品をさらに確実に得ることができると
いう作用を有する。The invention according to claim 4 of the present invention is the multilayer ceramic component according to any one of claims 1 to 3, wherein the shield layer is disposed vertically symmetrically with respect to a thickness direction. Are present in vertically symmetrical positions, so that the internal stress generated by shrinkage during firing does not concentrate in only one direction, and the stress is uniformly dispersed, so that peeling and cracking at the material lamination interface, This has the effect that a multilayer ceramic component with less element deformation can be obtained more reliably.
【００１１】本発明の請求項５に記載の発明は、前記シ
ールド層の面積が素子底面積の７０％〜９０％であるこ
とを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の積層セ
ラミック部品であって、シールド層の面積を上記のよう
に規定することで、回路の電気特性を劣化させることな
く、かつ焼成時の収縮により発生する内部応力が一方向
にのみ集中することを防ぐことにより、材料の積層界面
での剥離やクラック、素子の変形の少ない積層セラミッ
ク部品を確実に得ることができるという作用を有する。According to a fifth aspect of the present invention, in the multilayer ceramic according to any one of the first to fourth aspects, the area of the shield layer is 70% to 90% of the element bottom area. It is a component, by defining the area of the shield layer as described above, without deteriorating the electrical characteristics of the circuit and preventing the internal stress generated by shrinkage during firing from being concentrated only in one direction Accordingly, a laminated ceramic component having less peeling, cracking, and element deformation at a laminated interface of materials can be reliably obtained.
【００１２】本発明の請求項６に記載の発明は、前記シ
ールド層の少なくとも一部分にスリットを入れた形状の
シールド電極を有する構造であることを特徴とする請求
項１〜５のいずれかに記載の積層セラミック部品であっ
て、焼成時の収縮により発生する内部応力をできるだけ
緩和し、応力集中することなく分散されることにより、
材料の積層界面での剥離やクラック、素子の変形の少な
い積層セラミック部品を得ることができ、さらにペース
ト使用量が若干減少することで安価に製造できるという
作用を有する。The invention according to claim 6 of the present invention has a structure having a shield electrode with a slit formed in at least a part of the shield layer. The multilayer ceramic component of the above, by reducing the internal stress generated by shrinkage during firing as much as possible, by being dispersed without stress concentration,
It is possible to obtain a laminated ceramic part with less peeling, cracking and deformation of the element at the laminated interface of the material, and it has an effect that it can be manufactured at a low cost by slightly reducing the amount of the paste used.
【００１３】本発明の請求項７に記載の発明は、前記シ
ールド層の厚みが１５μｍ以下であることを特徴とする
請求項１〜６のいずれかに記載の積層セラミック部品で
あって、焼成時の収縮により発生する内部応力をできる
だけ緩和することで、材料の積層界面での剥離やクラッ
ク、素子の変形の少ない積層セラミック部品を特に電極
形状の影響を受けることなく得ることができるという作
用を有する。The invention according to claim 7 of the present invention is the multilayer ceramic component according to any one of claims 1 to 6, wherein the thickness of the shield layer is 15 μm or less. By reducing as much as possible the internal stress generated by the shrinkage of the material, it is possible to obtain a laminated ceramic part with less peeling, cracking and element deformation at the laminated interface of the material without being particularly affected by the electrode shape. .
【００１４】本発明の請求項８に記載の発明は、前記シ
ールド層に用いられている銀粉末の平均粒径が３μｍ以
上であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記
載の積層セラミック部品であって、焼成時の収縮をでき
るだけ素体に近づけることにより、内部応力をできるだ
け緩和し、材料の積層界面での剥離やクラック、素子の
変形の少ない積層セラミック部品をプロセス上の制約を
特に受けることなく得ることができるという作用を有す
る。The invention according to claim 8 of the present invention is characterized in that the average particle diameter of the silver powder used in the shield layer is 3 μm or more. By limiting the internal stress as much as possible by reducing the shrinkage during firing as close as possible to the elementary body, multilayer ceramic parts with less peeling, cracking and element deformation at the material lamination interface are subject to process restrictions. Can be obtained without being particularly affected.
【００１５】本発明の請求項９に記載の発明は、前記ガ
ラスセラミックス層がガラスとセラミック粉末の混合物
からなり、混合重量比率が８０：２０〜５０：５０であ
ることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の積
層セラミック部品であって、これにより９５０℃以下の
温度においての焼成が可能となり、導体層に銀を用いる
ことで、高周波特性に優れ、なおかつ材料の積層界面で
の剥離やクラック、素子の変形の少ない積層セラミック
部品を得ることができるという作用を有する。According to a ninth aspect of the present invention, the glass-ceramic layer is made of a mixture of glass and ceramic powder, and the mixing weight ratio is 80:20 to 50:50. 7. The multilayer ceramic component according to any one of items 1 to 7, wherein firing at a temperature of 950 ° C. or less is possible, and by using silver for the conductor layer, high-frequency characteristics are excellent and furthermore, the This has the effect that a laminated ceramic component with less peeling, cracking and deformation of the element can be obtained.
【００１６】本発明の請求項１０に記載の発明は、請求
項１記載の積層セラミック部品における積層体の積層
後、所定のサイスに切断し、焼成する工程において焼成
時の昇温速度を１５℃／ｍｉｎ以上とすることを特徴と
する複合積層セラミック部品の製造方法であって、これ
により、材料の積層界面での剥離やクラック、素子の変
形の少ない積層セラミック部品を短時間で確実に得るこ
とができるという作用を有する。According to a tenth aspect of the present invention, in the step of cutting a predetermined size after laminating the laminated body in the laminated ceramic component according to the first aspect, and firing the same, the temperature rise rate during firing is set to 15 ° C. / Min or more, wherein a multilayer ceramic component with less peeling, cracking and element deformation at the material lamination interface can be reliably obtained in a short time. It has the effect of being able to.
【００１７】以下本発明の一実施の形態について説明す
る。図１は本発明の一実施の形態における積層セラミッ
ク部品を示す断面図であり、この図１においては図２に
示した回路構成をもつ低域通過フィルタを積層構造によ
り実現したものである。図１に示した外部電極部分をＶ
ＩＡホールによって形成するような構造も可能である。Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a sectional view showing a laminated ceramic component according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, a low-pass filter having the circuit configuration shown in FIG. 2 is realized by a laminated structure. The external electrode portion shown in FIG.
A structure formed by IA holes is also possible.
【００１８】なお、ここでは低域通過フィルタとしての
積層セラミック部品を例に示したが、他にもコンデン
サ、インダクタ、フィルタ等の回路を内蔵した積層構造
からなる積層セラミック部品を構成することも可能であ
ることはいうまでもない。Although a multilayer ceramic component as a low-pass filter has been described as an example here, a multilayer ceramic component having a multilayer structure incorporating circuits such as a capacitor, an inductor, and a filter can also be configured. Needless to say,
【００１９】次に本発明の特徴とするガラスセラミック
組成物およびグリーンシート形成法について説明する。Next, the glass ceramic composition and the method for forming a green sheet, which are features of the present invention, will be described.
【００２０】（実施の形態１）ガラスについてはＳｉＯ
2，Ｈ3ＢＯ3，Ａｌ（ＯＨ）3，ＣａＣＯ3，ＢａＣＯ3，
ＳｒＣＯ3，Ｌａ2Ｏ3，Ｋ2Ｏ等のガラス原料を白金また
は白金ロジウム坩堝中で溶融し、冷却後粉砕してガラス
粉末を作製した。得られたガラス粉末と市販のフォルス
テライト粉を任意の配合比で混合し、ボールミルにて１
８時間湿式混合粉砕し、乾燥させることによりガラスセ
ラミックス組成物１の粉を作製した。このガラスセラミ
ックス粉１００ｇに対して酢酸ブチル７０ｇ、ポリビニ
ルブチラール樹脂１５ｇ、ジブチルフタレート８ｇをジ
ルコニアボールとともに加え、ボールミルで４８時間混
合した。得られたスラリーから周知のドクターブレード
法により厚さ５０μｍのグリーンシートを作製した。な
お、ここではセラミック粉として特に高周波における損
失の少ないフォルステライトを用いたが、他の材料であ
ってもよいことはいうまでもない。(Embodiment 1) Glass is SiO
2 , H 3 BO 3 , Al (OH) 3 , CaCO 3 , BaCO 3 ,
Glass materials such as SrCO 3 , La 2 O 3 and K 2 O were melted in a platinum or platinum rhodium crucible, cooled and pulverized to produce glass powder. The obtained glass powder and commercially available forsterite powder were mixed at an arbitrary mixing ratio, and mixed with a ball mill.
The powder of the glass ceramic composition 1 was prepared by wet mixing and pulverizing for 8 hours and drying. 70 g of butyl acetate, 15 g of polyvinyl butyral resin, and 8 g of dibutyl phthalate were added to 100 g of the glass ceramic powder together with zirconia balls, and mixed for 48 hours in a ball mill. A green sheet having a thickness of 50 μm was prepared from the obtained slurry by a well-known doctor blade method. In addition, here, forsterite having a small loss at high frequency is used as the ceramic powder, but it goes without saying that other materials may be used.
【００２１】前述の方法で作製したグリーンシートを積
層し、６０℃で熱圧着することによりガラスセラミック
積層体を作製した。この積層体上に銀ペーストをスクリ
ーン印刷法により所定の導体パターンに印刷し、それぞ
れ導体層２〜６を形成した。なお、２，５はシールド電
極導体層となり、３，４，６は内部電極導体層となる。The green sheets produced by the above-described method were laminated and thermocompression-bonded at 60 ° C. to produce a glass ceramic laminate. Silver paste was printed on this laminate in a predetermined conductor pattern by screen printing to form conductor layers 2 to 6, respectively. In addition, 2 and 5 become shield electrode conductor layers, and 3, 4 and 6 become internal electrode conductor layers.
【００２２】次いで各層を順次積層し、８０℃、１００
kgｆ／cm2で熱圧着した後、所定のサイズに切断した。
その後、５００℃で脱バインダーし、昇温速度１５℃／
ｍｉｎ以上となるように８５０℃〜９５０℃の温度で３
０ｍｉｎ焼成し、外部電極７，８により、電気的な接続
を確保し、図１に示す積層セラミック部品を形成した。
図１の２のシールド電極層については特に必要なもので
はないがこれを挿入することで、素子の反りの抑制に効
果がみられた。Next, each layer is sequentially laminated,
After thermocompression bonding at kgf / cm 2, it was cut into a predetermined size.
Then, the binder was removed at 500 ° C, and the temperature was raised at a rate of 15 ° C /
min at a temperature of 850 ° C. to 950 ° C.
After firing for 0 min, electrical connection was secured by the external electrodes 7 and 8, and the multilayer ceramic component shown in FIG. 1 was formed.
Although the shield electrode layer 2 in FIG. 1 is not particularly necessary, the insertion of the shield electrode layer was effective in suppressing the warpage of the element.
【００２３】（実施の形態２）シールド層の間隔につい
ては（表１）より、素子厚みｄに対して、０．６ｄ以上
とすることで、回路中にインダクタを含むような回路で
あっても十分なインピーダンスをとることができ、さら
に焼結体の外観上においても剥離やクラック、変形等の
少ない積層セラミック部品が得られる。また、厚み方向
にシールド層を対称に設けた図３に示した構造をとるこ
とでさらに反りや変形は抑制された。(Embodiment 2) As shown in Table 1, the distance between the shield layers is set to be 0.6 d or more with respect to the element thickness d, so that even in a circuit including an inductor in the circuit. A sufficient impedance can be obtained, and a multilayer ceramic component with less peeling, cracking, deformation, and the like on the appearance of the sintered body can be obtained. Further, by taking the structure shown in FIG. 3 in which the shield layers are provided symmetrically in the thickness direction, warpage and deformation are further suppressed.
【００２４】[0024]
【表１】 [Table 1]
【００２５】（実施の形態３）シールド層の面積につい
ては（表２）より、素子底面積の７０％未満になると、
シールドとしての効果が十分に得られなくなるおそれが
ある。また、９０％を越えると、グリーンシートとシー
ルド層との接着性が小さくなり、積層時に十分に接着が
得られず、焼成時に剥離やクラックが生じることがしば
しば観察される。(Embodiment 3) According to Table 2, when the area of the shield layer is less than 70% of the element bottom area,
There is a possibility that the effect as a shield may not be sufficiently obtained. On the other hand, if it exceeds 90%, the adhesion between the green sheet and the shield layer is reduced, and sufficient adhesion is not obtained at the time of lamination, and peeling or cracking often occurs at the time of firing.
【００２６】[0026]
【表２】 [Table 2]
【００２７】（実施の形態４）シールド層の厚みについ
ては（表３）より、できるだけ薄い方が望ましいといえ
る。焼成後１５μｍより大きい場合には、焼成時の電極
の収縮によりかなりの応力が部分的に生じており、これ
によって焼成後の反りがかなり大きくなっている。(Embodiment 4) The thickness of the shield layer is desirably as thin as possible according to Table 3. When it is larger than 15 μm after firing, considerable stress is partially generated due to contraction of the electrode during firing, and the warpage after firing is considerably increased.
【００２８】[0028]
【表３】 [Table 3]
【００２９】（実施の形態５）導体層として用いている
銀は一般的にガラスセラミック素体と比較して早く収縮
が始まる。特に、銀粒子が微細であるほどその傾向は強
い。ガラスセラミックの収縮開始温度は７００℃付近で
あるため、銀は素体の収縮が始まらないうちに収縮が完
了してしまう場合もある。この後ガラスセラミック素体
のみ収縮し始めるので、導体層付近のガラスセラミック
には、収縮を妨げる様な方向に応力が生じているものと
考えられる。これにより、界面に大きなストレスがかか
り、界面剥離や素体の反りが生じたものと考えられる。(Embodiment 5) In general, silver used as a conductor layer starts shrinking faster than a glass ceramic body. In particular, the tendency is stronger as the silver particles are finer. Since the shrinkage start temperature of the glass ceramic is around 700 ° C., silver may be completely shrunk before the elementary body shrinkage does not start. Thereafter, only the glass ceramic body starts to shrink, so that it is considered that stress is generated in the glass ceramic near the conductor layer in a direction that prevents shrinkage. As a result, it is considered that a large stress was applied to the interface, and the interface was peeled off and the element was warped.
【００３０】よって、これを回避するためには銀の粒子
径を３μｍ以上と大きくすることで焼成収縮挙動をでき
るだけガラスセラミックに近づけることで応力を緩和す
ることが可能となり、１．５μｍ程度の時においては１
００μｍ以上の反りが生じており、一部に剥離も観察さ
れたが、３μｍ以上とすることで反りは５０μｍ以下に
収まった。Therefore, in order to avoid this, it is possible to reduce the stress by making the firing shrinkage behavior as close to the glass ceramic as possible by increasing the particle diameter of silver to 3 μm or more. At 1
A warp of not less than 00 μm was generated, and peeling was also observed in a part of the warp.
【００３１】（実施の形態６）上記ガラスセラミックは
電極との同時焼成が可能であることが必要となる。ここ
では一例としてセラミック粉にフォルステライト、ガラ
スにはＳｉＯ2−ＢａＯ−Ｌａ2Ｏ3を主成分とした系の
ガラスについて検討を行った。(Embodiment 6) The above-mentioned glass ceramic needs to be able to be fired simultaneously with electrodes. Here, as an example, a study was made of a glass containing forsterite as a ceramic powder and SiO 2 —BaO—La 2 O 3 as a glass.
【００３２】ガラスが８０ｗｔ％を越えると素体中に電
極材料が拡散するおそれがあり、また５０ｗｔ％以下だ
と９００℃付近における焼結性がわるくなるためにガラ
ス：セラミックの重量比が８０：２０〜５０：５０であ
ることが望ましい。If the glass content exceeds 80% by weight, the electrode material may diffuse into the element body. If the glass content is less than 50% by weight, the sinterability at around 900 ° C. deteriorates. It is desirable that the ratio be 20 to 50:50.
【００３３】なお、上記以外にもガラスとしてＡｌ
2Ｏ3，ＣａＯ，ＳｒＯ，Ｂ2Ｏ3等を含んだ系であっても
実現可能であることはいうまでもない。In addition to the above, Al as glass
Needless to say, a system containing 2 O 3 , CaO, SrO, B 2 O 3 or the like can be realized.
【００３４】（実施の形態７）上記のガラスセラミック
と導体よりなる積層セラミック部品の焼成については
（表４）より、焼成時の昇温速度が１５℃／ｍｉｎより
小さい場合においては、１００μｍ以上の反りを生じて
いるが、昇温速度が１５℃／ｍｉｎ以上では５０μｍ以
下に反りを抑制することが可能である。(Embodiment 7) The firing of the above-mentioned laminated ceramic component comprising a glass ceramic and a conductor is shown in (Table 4). From Table 4, when the heating rate during firing is less than 15 ° C./min, the firing rate is 100 μm or more. Although warpage occurs, it is possible to suppress the warpage to 50 μm or less when the heating rate is 15 ° C./min or more.
【００３５】[0035]
【表４】 [Table 4]
【００３６】[0036]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、焼成時に
おいて積層体の層間における剥離やクラックの発生、素
子の変形等が抑制され、外観上、反り、変形、剥離等の
ない形状精度の高い積層セラミック部品を作製できると
いう効果が得られる。As described above, according to the present invention, the occurrence of peeling and cracking between layers of the laminate and the deformation of the element during firing are suppressed, and the shape accuracy without warpage, deformation, peeling, etc. in appearance is suppressed. Thus, an effect that a multilayer ceramic component having a high level can be manufactured can be obtained.
【図１】本発明の一実施の形態である積層セラミック部
品の断面図FIG. 1 is a cross-sectional view of a multilayer ceramic component according to an embodiment of the present invention.
【図２】本発明の一実施の形態である積層セラミック部
品の回路図FIG. 2 is a circuit diagram of a multilayer ceramic component according to an embodiment of the present invention.
【図３】本発明の一実施の形態である積層セラミック部
品の断面図FIG. 3 is a sectional view of a multilayer ceramic component according to an embodiment of the present invention.
１ ガラスセラミック組成物 ２，５ シールド電極導体層 ３，４，６ 内部電極導体層 ７，８ 外部電極導体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass-ceramic composition 2,5 Shield electrode conductor layer 3,4,6 Internal electrode conductor layer 7,8 External electrode conductor
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−151690（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−246722（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−284896（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−7435（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01F 17/00 H01F 27/00 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-3-151690 (JP, A) JP-A-9-246722 (JP, A) JP-A-3-284896 (JP, A) JP-A-10- 7435 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) H01F 17/00 H01F 27/00
Claims (9)
層と銀を主成分とする導体層とから構成され、ガラスセ
ラミック積層体の積層面に導体層を形成し、積層して焼
成された積層セラミック部品において、厚み方向に導体
層よりなる信号線路をはさんで少なくとも２層以上のシ
ールド層を有するとともに、このシールド層の最大間隔
が素子厚みｄに対して、０．６ｄ以上となる積層セラミ
ック部品。1. A laminated ceramic comprising an insulator layer made of a glass ceramic composition and a conductor layer containing silver as a main component, wherein a conductor layer is formed on a laminated surface of the glass ceramic laminate, laminated and fired. The component has at least two or more shield layers sandwiching a signal line composed of a conductor layer in the thickness direction, and has a maximum distance between the shield layers.
Is a multilayer ceramic component having an element thickness d of 0.6 d or more .
も利用する請求項１記載の積層セラミック部品。2. The multilayer ceramic component according to claim 1, wherein a part of the shield layer is also used as a signal line layer.
に配置された請求項１または２記載の積層セラミック部
品。3. The multilayer ceramic component according to claim 1, wherein the shield layer is vertically symmetrical with respect to the thickness direction.
〜９０％であることを特徴とする請求項１〜３のいずれ
かに記載の積層セラミック部品。4. The area of the shield layer is 70% of the element bottom area.
The multilayer ceramic component according to any one of claims 1 to 3 , wherein the ratio is from 90% to 90%.
トを入れた形状のシールド電極を有する構造であること
を特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の積層セラ
ミック部品。5. The multilayer ceramic component according to claim 1 , wherein the multilayer ceramic component has a structure having a shield electrode having a slit in at least a part of a shield layer.
ことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の積層
セラミック部品。6. The multilayer ceramic component according to claim 1 , wherein the thickness of the shield layer is 15 μm or less.
均粒径が３μｍ以上であることを特徴とする請求項１〜
６のいずれかに記載の積層セラミック部品。7. The silver powder used in the shield layer has an average particle size of 3 μm or more .
7. The multilayer ceramic component according to any one of 6 .
ック粉末の混合物からなり、混合重量比率が８０：２０
〜５０：５０であることを特徴とする請求項１〜６のい
ずれかに記載の積層セラミック部品。8. The glass ceramic layer is made of a mixture of glass and ceramic powder, and has a mixing weight ratio of 80:20.
The multilayer ceramic component according to any one of claims 1 to 6 , wherein the ratio is 50 to 50.
ける積層体の積層後、所定のサイズに切断し、焼成する
工程において焼成時の昇温速度を１５℃／ｍｉｎ以上と
することを特徴とする積層セラミック部品の製造方法。9. After lamination of the laminate in the multilayer ceramic part according to claim 1, and characterized in that cut into a predetermined size, the heating rate during sintering and 15 ° C. / min or more in the step of firing Manufacturing method of laminated ceramic parts.
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