JP2963300B2 - 連続処理ラインにおける循環タンクの温度制御方法 - Google Patents

連続処理ラインにおける循環タンクの温度制御方法

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JP2963300B2
JP2963300B2 JP9795693A JP9795693A JP2963300B2 JP 2963300 B2 JP2963300 B2 JP 2963300B2 JP 9795693 A JP9795693 A JP 9795693A JP 9795693 A JP9795693 A JP 9795693A JP 2963300 B2 JP2963300 B2 JP 2963300B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、連続処理ラインにおけ
る循環タンクの温度制御方法に関する。
【0002】
【従来の技術】例えば、鋼板の焼鈍等の処理を連続的に
実施する連続処理ラインにおいては、ペイオフリ−ルに
巻かれたコイル状の鋼板をラインの入側に配置し、コイ
ルから引き出した鋼板をラインに供給する。コイルの終
端には次に処理する別のコイルの先端を溶接により接続
するので、ライン上には常時、1つ又は複数コイルの鋼
板が配置され、処理は連続的に実施される。
【0003】この種の連続処理ラインでは、鋼板はまず
最初に、洗浄工程を通る。即ち、鋼板の表面には通常、
防錆油が塗布してあり、またゴミ,圧延油等が付着して
いる場合もあるので、焼鈍を実施する前にそれらを取り
除く必要がある。洗浄工程には、複数のラインタンク及
びブラシが設置してあり、鋼板はそれらを通過する時に
洗浄される。ラインタンク内及びブラシ部には、水又は
水と所定の添加剤を混合した液体が充填又はスプレ−さ
れる。ラインタンク及びブラシ部に供給する液体は、比
較的大型の循環タンク内で生成されるが、洗浄効果を高
めるため、循環タンク内では加熱により、液体を例えば
70度C程度の温度に維持するように、温度制御してい
る。
【0004】循環タンク内の液体は、ポンプによってラ
インタンク及びブラシ部に供給され、洗浄によって汚れ
た液体は、循環タンクに回収される。そして、汚れた液
体の一部分は、鋼板によって外部へ持ち出される。循環
タンク内の液量を所定以上に維持するために、レベル制
御装置が設置されており、鋼板による外部への持ち出し
等によって、循環タンク内の液面が低下すると、液面を
一定に維持するように、水及び添加剤が循環タンク内に
注入される。また、循環タンク内の液体の濃度を一定に
維持するように、水と添加剤の注入量が調整される。
【0005】この種の設備においては、従来より、循環
タンク内の液温を一定に維持するために、循環タンク内
に設置した温度センサにより、液温を検出し、検出した
液温が予め定めた目標値に近づくように、PID(比例
・積分・微分)制御により加熱量(例えば蒸気流量)を
調整している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】液面が低下した際及び
濃度が変化した際に外部から循環タンク内に注入される
水の温度は常温であり(添加剤は通常加温されてい
る)、循環タンク内の目標温度よりも低いので、水及び
添加剤の注入に伴なって、循環タンク内の液温が大幅に
低下する。温度制御装置が備わっているので、循環タン
ク内の液温が低下すると、それを防止するように加熱量
(例えば蒸気流量)が増大する。しかしながら、循環タ
ンクは大きな容量を有しているので、水が注入されてか
ら、全体の液温にその影響が現われ、その温度変化が温
度センサで検出されるまでには、大きな時間遅れがある
ので、しばらくの間は、液温が目標温度からずれるのは
避けられない。循環タンク内の液体の温度が低下する
と、洗浄能力が低下するので、連続処理ラインを通った
後の鋼板の品質(表面の清浄度など)が悪化する。
【0007】従って従来は、鋼板の品質が低下するのを
防止するために、循環タンク内の液体の目標温度を高め
の値に設定することにより、通常より液温が低下した時
でも充分な洗浄能力が得られるようにせざるを得なかっ
た。しかし、温度低下がない時には、必要な温度以上に
加熱するので、無駄なエネルギ−を消費するという不都
合がある。
【0008】そこで本発明は、循環タンク内の液体の温
度低下を抑制し、無駄なエネルギ−消費を防止すること
を課題とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明においては、連続処理ラインの洗浄工程等で
使用される液体を保持する循環タンク,該循環タンク内
の液体を洗浄工程等との間で循環する循環系,循環タン
ク内に新しい液体を補給する補給系,及び循環タンク内
の液体を加熱する加熱手段、を含む連続処理ラインにお
ける循環タンクの温度制御方法において:前記補給系か
ら循環タンク内への液体補給の有無を検出し;液体補給
がある時には、前記加熱手段の加熱量を予め定めた値に
固定するフィ−ドフォワ−ド制御を実施し;液体補給が
なく、かつ前記フィ−ドフォワ−ド制御が終了している
時には、循環タンク内の液体温度を検出し、検出した液
体温度が予め定めた目標温度に近づく方向に、前記加熱
手段の加熱量を自動的に調整する。
【0010】また好ましい態様では、補給系から循環タ
ンク内への液体補給がある状態から、ない状態に変化し
た時には、その時から予め定めた時間を経過するまで、
前記フィ−ドフォワ−ド制御を継続する。
【0011】
【作用】一般に連続処理ラインは、プロセスコンピュ−
タにより管理されており、循環タンク内の液面レベルを
目標値に維持する制御系においては、液面低下及び濃度
変化を検出する毎に、一定の流量で新しい液体を循環タ
ンク内に補給する。しかも、補給する液体の温度(常
温)はほぼ一定であるので、循環タンク内に液体を補給
する時には、循環タンク内の液温は一定の割合いで低下
する。またこの時の温度低下の割合いは、計算により求
めることが可能である。なお、補給する液体の温度が一
定と見なされない場合には、液体の温度を測定して補正
する必要がある。
【0012】本発明においては、液体補給がある時に
は、加熱手段の加熱量を予め定めた値に固定する。即
ち、液体補給がある時にはフィ−ドフォワ−ド制御を実
施するので、補給する液体量に対応する循環タンク内の
液温低下にみあう熱量補償を実施することができる。ま
た、液体補給がある時には、フィ−ドバック制御を停止
するので、循環タンク内の液温分布が安定していなくて
も、不安定な制御が実施される恐れはない。また、液体
補給がなく、フィ−ドフォワ−ド制御も終了している時
には、検出した液温と目標温度とに応じたフィ−ドバッ
ク制御を実施するが、この時の液温変動は小さいので、
フィ−ドバック制御により、液温と目標温度との誤差を
より小さくしうる。
【0013】新しい液体を補給すると、循環タンク内の
液温分布が一定でなくなるが、液体補給を停止してもす
ぐには液温分布が安定しない。そのような不安定な状態
でフィ−ドバック制御を開始すると、ハンチングなどの
不安定な制御が実施される可能性がある。しかし本発明
の好ましい態様では、補給系から循環タンク内への液体
補給がある状態から、ない状態に変化した時には、その
時から予め定めた時間を経過するまで、フィ−ドフォワ
−ド制御を継続するので、温度分布が安定した後でフィ
−ドバック制御が再開されることになり、安定な制御が
実現する。
【0014】
【実施例】鋼板の焼鈍等の処理を連続的に実施する連続
処理ラインの入口近傍に設置される洗浄工程の主要設備
を図1に示す。図1を参照すると、鋼板は、左端から供
給され、まず1番ラインタンクL1を通り、1番ブラシ
(スクラバ−)B2を通り、さらにラインタンク,ブラ
シ(図示せず)を通り、最後にn番ラインタンクLnを
通って次の工程に送られる。ラインタンクL1は循環タ
ンクT1と接続され、ブラシB2は循環タンクT2と接
続され、ラインタンクLnは、循環タンクTnと接続さ
れている。
【0015】循環タンクT1内の洗浄液は、ポンプP1
によって汲み上げられてラインタンクL1に供給され、
ラインタンクL1内で使用された洗浄液は、再び循環タ
ンクT1に回収され、循環タンクT1とラインタンクL
1との間を洗浄液が循環する。同様に、循環タンクT2
内の洗浄液は、ポンプP2によって汲み上げられて1番
ブラシB1に供給され、循環タンクT2と1番ブラシB
2の間を循環する。また、循環タンクTn内の洗浄液
は、ポンプPnによって汲み上げられて、それぞれライ
ンタンクLnに供給され、ラインタンクLn内の洗浄液
は、循環タンクTnに回収される。
【0016】循環タンクT1〜Tnの内部には、常時所
定の洗浄液が充填されている。循環タンクT1〜Tn内
の洗浄液は、それぞれ淡水と所定の添加剤との混合液で
あり、循環タンクTn内の洗浄液は淡水である。各循環
タンク内の液面レベルを所定量以上に維持するととも
に、洗浄液の濃度を一定に維持するために、必要に応じ
て、循環タンクT1〜Tnには淡水及び添加剤がそれぞ
れ弁を介して供給される。
【0017】循環タンクT1〜Tnに供給される淡水の
温度は常温であるが、効果的な洗浄をするには比較的高
い温度(例えば70度C)が必要である。そこで、循環
タンクT1及びT2の内部にそれぞれ配置された蛇管
に、高温のスチ−ム(蒸気)を供給して各循環タンク内
の洗浄液を加熱し、洗浄液が一定の目標温度になるよう
に制御している。循環タンクTn内の洗浄液は淡水であ
るので、循環タンクTn内には直接スチ−ムを供給し、
洗浄液を直接加熱している。
【0018】図1に示す設備の一部分の制御系の構成を
図2に示す。図2を参照して説明する。淡水は、配管1
に供給され、遮断弁V1及び流量計F1を通って、循環
タンクT1の内部に注入される。また添加剤は、配管2
に供給され、遮断弁V2及び流量計F2を通って、循環
タンクT1の内部に注入される。スチ−ムは、配管3か
ら調節弁V3を通り、循環タンクT1内の蛇管Psに供
給される。
【0019】制御ユニットC1は、循環タンクT1内の
洗浄液の液面制御及び濃度制御を実施する装置であり、
必要に応じて遮断弁V1の開閉を制御し、遮断弁V2の
開閉を制御する。この実施例では、循環タンクT1内の
洗浄液の液面が所定より低下すると、遮断弁V1及びV
2を同時に開き、流量計F1の積算値および流量計F2
の積算値が予め計算されたそれぞれの投入量に達する
と、遮断弁V1及びV2を閉じる。遮断弁V1及びV2
のそれぞれの開時間は、洗浄液の濃度に応じて調整され
る。
【0020】制御ユニットC2は、循環タンクT1内の
洗浄液の温度制御を実施する装置であり、循環タンクT
1内の洗浄液の温度が目標温度に近づくように、スチ−
ムの供給量を制御する。即ち、温度センサStによって
洗浄液の温度Tdを検出し、Tdが目標温度と一致する
ように、調節弁V3の開度を自動的に調節する。この実
施例では、制御ユニットC2に、遮断弁V1の開閉信号
Svが印加され、この開閉信号Svが温度制御の際に利
用される。なお制御ユニットC2は、マイクロコンピュ
−タを含んでいる。
【0021】制御ユニットC2の処理の内容を図3に示
し、遮断弁V1及び調節弁V3の動作タイミングの例を
図4に示す。図3及び図4を参照して説明する。電源が
オンすると、ステップ11で初期化を実行し、ステップ
12に進む。ステップ12では、信号Svの状態を参照
し、淡水弁V1の開閉を調べる。淡水弁V1が閉である
と、即ち淡水の投入中でなければステップ13に進み、
淡水弁V1が開であると、即ち淡水の投入中であるとス
テップ16に進む。
【0022】ステップ13では、温度センサの検出温度
Td及び蒸気弁V3の開度を入力する。そして次のステ
ップ14では、ステップ13で入力された検出温度T
d,V3の開度,及び予め定めた洗浄液の目標温度に基
づいて、PID(比例・微分・積分)演算を実施し、制
御出力である蒸気弁V3の開度を更新する。そして次の
ステップ15では、ステップ14で更新された開度と一
致するように、蒸気弁V3の開度を調節する。これらの
処理が繰り返し実施される。
【0023】淡水の投入中は、まずステップ16で、蒸
気弁V3の開度を予め定めた規定開度PMVに固定し、
次のステップ17では、信号Svの状態を繰り返し参照
し、淡水弁V1が閉じるのを待つ。淡水弁V1が閉じる
と、ステップ17から18に進む。ステップ18では、
タイマに所定時間T(T≧0)をセットし、該タイマを
スタ−トする。そして次のステップ19で、時間Tを経
過したか否か、即ちタイマがタイムオ−バになったか否
かを調べる。タイムオ−バになると、ステップ12に戻
り、上記処理を繰り返す。
【0024】つまり、図4に示すように、淡水(及び添
加剤)の投入中でない時には、蒸気弁V3の開度のPI
D制御が実施され、淡水の投入中,及び淡水の投入が終
了してから所定時間Tを経過するまでの間は、蒸気弁V
3の開度が比較的大きな一定値に固定される。
【0025】淡水は常温であり、洗浄液の目標温度(例
えば70度C)に比べてかなり低いので、淡水を投入す
る時には、急速に洗浄液の加熱を実施する必要がある。
ところが、淡水を投入してから、洗浄液温度の低下が温
度センサStで検出されるまでの時間遅れ、及びPID
制御系の追従の遅れがあるため、従来のようにフィ−ド
バック制御を実施すると、淡水を投入してからしばらく
の間は、洗浄液温度がその目標値よりかなり低くなる。
しかしこの実施例では、淡水の投入中、及び投入が終了
してから所定時間Tの間は、フィ−ドバック制御を中止
し、蒸気弁V3の開度を比較的大きな一定値に固定する
ので、洗浄液温度の検出遅れやPID制御系の追従遅れ
の影響を受けることがない。また、淡水の投入流量,そ
れらの温度,及び洗浄液目標温度は通常は略一定である
ので、淡水を投入する時の加熱で必要な熱量は、計算に
より予測することができる。従って、淡水を投入する時
に蒸気弁V3の開度を一定値に固定することにより、洗
浄液の温度低下を防止しうる。
【0026】なお図示しないが、他の循環タンクT2〜
Tnの制御系においても、上記と同様の温度制御が実施
される。
【0027】また、本実施例では、フィ−ドフォワ−ド
制御終了直後にフィ−ドバック制御に移行しているが、
循環タンク内の温度均一化の時間を考慮して、フィ−ド
フォワ−ド制御終了後予め定めた時間を経過するまでさ
らにフィ−ドバック制御を停止してもよい。さらに本実
施例では、蒸気弁V3に調節弁を用いた例を示したが、
遮断弁を用いても同様の効果が得られる。その際には、
蒸気弁V3の開度調節が不可能なため、全開時の加熱能
力を適正にするため、事前に適正な配管径の選択をし、
手動弁による絞り等の調節をしておくことが必要であ
る。
【0028】
【発明の効果】以上のとおり本発明によれば、洗浄液を
補充する時でも、循環タンク内の洗浄液の温度低下を抑
制しうるので、目標温度を予め高めに定める必要がな
く、無駄なエネルギ−消費を防止しうる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 洗浄工程の主要設備を示すブロック図であ
る。
【図2】 図1の一部分の制御系を示すブロック図であ
る。
【図3】 図2の制御ユニットC2の動作を示すフロ−
チャ−トである。
【図4】 図2の各弁の動作例を示すタイムチャ−トで
ある。
【符号の説明】
1,2,3:配管 B2:ブラシ C1,C2:制御ユニット L1,Ln:ライン
タンク T1,T2,Tn:循環タンク P1,P2,Pn:ポンプ Ps:蛇管 St:温度センサ V1:遮断弁(淡水弁) V2:遮断弁 V3:調節弁(蒸気弁) F1,F2:流量計

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 連続処理ラインの洗浄工程等で使用され
    る液体を保持する循環タンク,該循環タンク内の液体を
    洗浄工程等との間で循環する循環系,循環タンク内に新
    しい液体を補給する補給系,及び循環タンク内の液体を
    加熱する加熱手段、を含む連続処理ラインにおける循環
    タンクの温度制御方法において:前記補給系から循環タ
    ンク内への液体補給の有無を検出し;液体補給がある時
    には、前記加熱手段の加熱量を予め定めた値に固定する
    フィ−ドフォワ−ド制御を実施し;液体補給がなく、か
    つ前記フィ−ドフォワ−ド制御が終了している時には、
    循環タンク内の液体温度を検出し、検出した液体温度が
    予め定めた目標温度に近づく方向に、前記加熱手段の加
    熱量を自動的に調整する、ことを特徴とする連続処理ラ
    インにおける循環タンクの温度制御方法。
  2. 【請求項2】 補給系から循環タンク内への液体補給が
    ある状態から、ない状態に変化した時には、その時から
    予め定めた時間を経過するまで、前記フィ−ドフォワ−
    ド制御を継続する、前記請求項1記載の連続処理ライン
    における循環タンクの温度制御方法。
JP9795693A 1993-04-23 1993-04-23 連続処理ラインにおける循環タンクの温度制御方法 Expired - Lifetime JP2963300B2 (ja)

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