JP2954829B2 - ヘリウムによる加圧及びその回収 - Google Patents
ヘリウムによる加圧及びその回収Info
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- G01M3/02—Investigating fluid-tightness of structures by using fluid or vacuum
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
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- B01D53/226—Multiple stage diffusion in serial connexion
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- C01—INORGANIC CHEMISTRY
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Description
【0001】
【発明の分野】本発明は、容器における漏れの検出に関
し、特に、検出に使用したガスの保存及び回収に関す
る。
し、特に、検出に使用したガスの保存及び回収に関す
る。
【0002】
【発明の背景】流体を収容するように企図された容器
は、製造間に又はあるときにはそれらの有効寿命間に小
さい漏れ穴を発生する場合がある。漏れ穴は、容器をそ
れらの意図する用途に対して不適当にする可能性があ
る。また、漏れ穴は大気中に入る望まれない汚染物をも
たらす可能性もある。従って、容器を製造プロセス間に
又は現場において補修又は取り替えできるように小さい
漏れ穴の存在を検出するための漏れ検出器及び漏れ検出
法が考案されてきた。最も一般的には、漏れ穴は、容器
をトレーサーガスからなるガスで加圧し次いで容器の表
面にある周囲空気をその存在についてそしてある場合に
はトレーサーガスの濃度について分析することによって
検出される。
は、製造間に又はあるときにはそれらの有効寿命間に小
さい漏れ穴を発生する場合がある。漏れ穴は、容器をそ
れらの意図する用途に対して不適当にする可能性があ
る。また、漏れ穴は大気中に入る望まれない汚染物をも
たらす可能性もある。従って、容器を製造プロセス間に
又は現場において補修又は取り替えできるように小さい
漏れ穴の存在を検出するための漏れ検出器及び漏れ検出
法が考案されてきた。最も一般的には、漏れ穴は、容器
をトレーサーガスからなるガスで加圧し次いで容器の表
面にある周囲空気をその存在についてそしてある場合に
はトレーサーガスの濃度について分析することによって
検出される。
【0003】好ましいトレーサーガスは、不活性さ、小
さい分子構造及び検出を助ける高い伝熱性の故にヘリウ
ムである。その小さい分子構造は、それが容器の漏れ穴
のうち最も小さいものを容易に通過しそして質量分析計
又は熱伝導率分析計の如き器具によって容易に検出され
るのを可能にする。しかしながら、地球上のヘリウムの
天然源は制限されており、そしてその回収及び精製は費
用がかさむ。それ故に、ヘリウムはコストが高く、繰返
漏れ検出操作でのその保存及び回収は経済的に十分に証
明されている。ヘリウムの回収を達成した場合には、そ
の用途は、容器の他の一体性試験に例えば容器の耐圧試
験又は耐圧実験にまで経済的に拡張させることができ
る。本明細書で使用する用語「容器の一体性を確かめ
る」とは、容器内部の圧力を所望の圧力に上げ、これに
よって助けのない人間の感覚で明らかな漏れを発生して
いないことを示すこと、又は漏れ穴を検出する目的で特
殊装置を使用して容器の漏れの検出を行うことを意味す
る。
さい分子構造及び検出を助ける高い伝熱性の故にヘリウ
ムである。その小さい分子構造は、それが容器の漏れ穴
のうち最も小さいものを容易に通過しそして質量分析計
又は熱伝導率分析計の如き器具によって容易に検出され
るのを可能にする。しかしながら、地球上のヘリウムの
天然源は制限されており、そしてその回収及び精製は費
用がかさむ。それ故に、ヘリウムはコストが高く、繰返
漏れ検出操作でのその保存及び回収は経済的に十分に証
明されている。ヘリウムの回収を達成した場合には、そ
の用途は、容器の他の一体性試験に例えば容器の耐圧試
験又は耐圧実験にまで経済的に拡張させることができ
る。本明細書で使用する用語「容器の一体性を確かめ
る」とは、容器内部の圧力を所望の圧力に上げ、これに
よって助けのない人間の感覚で明らかな漏れを発生して
いないことを示すこと、又は漏れ穴を検出する目的で特
殊装置を使用して容器の漏れの検出を行うことを意味す
る。
【0004】
【発明の概要】本発明は、容器を一体性試験のためにヘ
リウムからなるガスで加圧し、そのガスを回収しそして
ガスを再使用のために精製する方法を提供する。ヘリウ
ム及び空気成分を含むガスの精製法は、(a)ヘリウム
及び空気成分を含むガスを流体流れ乾燥器で乾燥させ、
(b)乾燥したガス流れを膜分離器段階においてヘリウ
ムに富む透過生成物流れとヘリウムが減少したラフィネ
ート流れとに分離し、(c)ラフィネート流れ中のヘリ
ウムを膜ストリッパー段階で回収し、これによってパー
ジ流れを生成し、そして(d)パージ流れで乾燥器から
水をパージする、ことを含む。この方法は、ヘリウム及
び空気成分を含むガス流れを該ガス流れの乾燥前に圧縮
させることを更に含むことができる。
リウムからなるガスで加圧し、そのガスを回収しそして
ガスを再使用のために精製する方法を提供する。ヘリウ
ム及び空気成分を含むガスの精製法は、(a)ヘリウム
及び空気成分を含むガスを流体流れ乾燥器で乾燥させ、
(b)乾燥したガス流れを膜分離器段階においてヘリウ
ムに富む透過生成物流れとヘリウムが減少したラフィネ
ート流れとに分離し、(c)ラフィネート流れ中のヘリ
ウムを膜ストリッパー段階で回収し、これによってパー
ジ流れを生成し、そして(d)パージ流れで乾燥器から
水をパージする、ことを含む。この方法は、ヘリウム及
び空気成分を含むガス流れを該ガス流れの乾燥前に圧縮
させることを更に含むことができる。
【0005】1つの具体例では、膜ストリッパー段階に
おいてラフィネート流れからヘリウムを回収する工程は
パージ流れとして透過物流れを生成することを含み、そ
してこの工程はそのパージ流れが乾燥器から水をパージ
した後にそれをヘリウムを含むガス流れ中に加えてから
ガス流れを圧縮させることを更に含む。他の具体例で
は、膜ストリッパー段階においてラフィネート流れから
ヘリウムを回収する工程は、パージ流れとしてラフィネ
ート流れを生成し、ヘリウムに富む透過物流れを生成
し、そしてそのヘリウムに富む透過物流れをヘリウムを
含むガスの流れ中にそのガス流れの圧縮前に加えること
を含む。
おいてラフィネート流れからヘリウムを回収する工程は
パージ流れとして透過物流れを生成することを含み、そ
してこの工程はそのパージ流れが乾燥器から水をパージ
した後にそれをヘリウムを含むガス流れ中に加えてから
ガス流れを圧縮させることを更に含む。他の具体例で
は、膜ストリッパー段階においてラフィネート流れから
ヘリウムを回収する工程は、パージ流れとしてラフィネ
ート流れを生成し、ヘリウムに富む透過物流れを生成
し、そしてそのヘリウムに富む透過物流れをヘリウムを
含むガスの流れ中にそのガス流れの圧縮前に加えること
を含む。
【0006】容器を一体性試験のためにヘリウムを含む
ガスで加圧する方法は、(a)容器をヘリウムを含むガ
スを収容する低圧タンクと、容器の一体性試験に望まれ
るよりも低い圧力で連通させ、(b)低圧タンクからガ
スを容器に導入し、(c)低圧タンクと容器との間の連
通を止め、(d)容器をヘリウムを含むガスを収容する
高圧タンクと、容器の一体性試験に望まれる圧力で連通
させ、(e)高圧タンクからガスを容器に導入し、
(f)容器と高圧タンクとの間の連通を止め、(g)容
器を低圧タンクと連通させ、(h)差圧によって容器か
らのガスを低圧タンク中に受け取らせ、そして(i)工
程(e)又は(f)の間に又はその後に容器の一体性を
確かめる、ことを含む。
ガスで加圧する方法は、(a)容器をヘリウムを含むガ
スを収容する低圧タンクと、容器の一体性試験に望まれ
るよりも低い圧力で連通させ、(b)低圧タンクからガ
スを容器に導入し、(c)低圧タンクと容器との間の連
通を止め、(d)容器をヘリウムを含むガスを収容する
高圧タンクと、容器の一体性試験に望まれる圧力で連通
させ、(e)高圧タンクからガスを容器に導入し、
(f)容器と高圧タンクとの間の連通を止め、(g)容
器を低圧タンクと連通させ、(h)差圧によって容器か
らのガスを低圧タンク中に受け取らせ、そして(i)工
程(e)又は(f)の間に又はその後に容器の一体性を
確かめる、ことを含む。
【0007】更に他の具体例では、本発明は、高圧タン
クに入る又はその中にあるガスからヘリウム以外の成分
を選択的に除去するための手段を包含する。
クに入る又はその中にあるガスからヘリウム以外の成分
を選択的に除去するための手段を包含する。
【0008】
【好ましい具体例の説明】図1を説明すると、一体性に
ついて即ち耐圧能又は漏れについて評価しようとする容
器10は、カップリング12によって加圧回収系14に
連結されている。初期において、弁16を開くことによ
って、容器は、容器を排気させるための手段、典型的に
は第一真空ポンプ18と連通される。ポンプ18によっ
て、容器から空気及び他の揮発性物質の少なくとも一部
分が典型的には1トル絶対圧の圧力レベルまで排出され
る。次いで、第一真空ポンプ18に通じる弁16が閉じ
られる。しかしながら、随意に、第一真空ポンプ18及
びその機能を省略することもできる。
ついて即ち耐圧能又は漏れについて評価しようとする容
器10は、カップリング12によって加圧回収系14に
連結されている。初期において、弁16を開くことによ
って、容器は、容器を排気させるための手段、典型的に
は第一真空ポンプ18と連通される。ポンプ18によっ
て、容器から空気及び他の揮発性物質の少なくとも一部
分が典型的には1トル絶対圧の圧力レベルまで排出され
る。次いで、第一真空ポンプ18に通じる弁16が閉じ
られる。しかしながら、随意に、第一真空ポンプ18及
びその機能を省略することもできる。
【0009】その後、弁20が低圧タンク22に対して
開けられ、しかしてガスが容器に導入される。低圧タン
ク22内の圧力は、例えば、0.5〜350kPaゲー
ジ圧の範囲内である。低圧ガスは、容器に対して有害で
ない任意のガス又はガスの混合物であってよく、そして
トレーサーガスを包含し又はそれから実質上なるもので
ある。低圧ガス中のトレーサーガスの濃度は、使用され
る検出器具が容器表面での周囲空気中におけるトレーサ
ーガスの存在によって容器からの漏れを検出することが
できるのに少なくとも十分であるものである。1〜10
0容量%の濃度が使用される。ヘリウムが好ましいトレ
ーサーガスであるが、これは、単独で又は例えば空気若
しくは窒素との混合状態で使用することができる。フル
オロカーボンのような他のトレーサーガスを使用するこ
ともできる。
開けられ、しかしてガスが容器に導入される。低圧タン
ク22内の圧力は、例えば、0.5〜350kPaゲー
ジ圧の範囲内である。低圧ガスは、容器に対して有害で
ない任意のガス又はガスの混合物であってよく、そして
トレーサーガスを包含し又はそれから実質上なるもので
ある。低圧ガス中のトレーサーガスの濃度は、使用され
る検出器具が容器表面での周囲空気中におけるトレーサ
ーガスの存在によって容器からの漏れを検出することが
できるのに少なくとも十分であるものである。1〜10
0容量%の濃度が使用される。ヘリウムが好ましいトレ
ーサーガスであるが、これは、単独で又は例えば空気若
しくは窒素との混合状態で使用することができる。フル
オロカーボンのような他のトレーサーガスを使用するこ
ともできる。
【0010】容器10と低圧タンク22との間の圧力が
平衡になった後に、低圧タンク22に通じる弁が閉じら
れる。弁24が開かれ、しかして容器を高圧タンク26
と連通させそして高圧タンクからのガスを容器に所望の
試験圧まで導入させる。また、高圧タンク26は、好ま
しくは使用される検出器具がその漏れを例えば1〜10
0容量%の漏れを検出することができるような濃度でヘ
リウムを含有するガスを収容している。高圧タンク26
におけるガスの圧力は、容器10が例えば70〜4,0
00kPaゲージ圧の所望の試験圧に加圧され得るのに
十分なものである。
平衡になった後に、低圧タンク22に通じる弁が閉じら
れる。弁24が開かれ、しかして容器を高圧タンク26
と連通させそして高圧タンクからのガスを容器に所望の
試験圧まで導入させる。また、高圧タンク26は、好ま
しくは使用される検出器具がその漏れを例えば1〜10
0容量%の漏れを検出することができるような濃度でヘ
リウムを含有するガスを収容している。高圧タンク26
におけるガスの圧力は、容器10が例えば70〜4,0
00kPaゲージ圧の所望の試験圧に加圧され得るのに
十分なものである。
【0011】容器の試験圧は、通常、容器を所望の試験
圧にすることによって達成される。次いで、弁24を閉
じることによって容器と高圧タンク26との連通が止め
られる。容器が高圧にある間に、容器の表面上に漏れ検
出器具のプローベを通すことによって漏れの評価を行う
ことができる。
圧にすることによって達成される。次いで、弁24を閉
じることによって容器と高圧タンク26との連通が止め
られる。容器が高圧にある間に、容器の表面上に漏れ検
出器具のプローベを通すことによって漏れの評価を行う
ことができる。
【0012】次に、容器10は、弁20を開くことによ
って低圧タンク22と直接連通され、これによって容器
からのガスが圧力差によって低圧タンク22に受け取ら
れる。好ましくは、容器がこの圧力レベルに例えば35
0kPaゲージ圧にある間に容器から漏れが検出され
る。しかしながら、漏れの検出は、高圧タンクの圧力と
低圧タンクの圧力との間の任意の圧力で実施することが
できる。
って低圧タンク22と直接連通され、これによって容器
からのガスが圧力差によって低圧タンク22に受け取ら
れる。好ましくは、容器がこの圧力レベルに例えば35
0kPaゲージ圧にある間に容器から漏れが検出され
る。しかしながら、漏れの検出は、高圧タンクの圧力と
低圧タンクの圧力との間の任意の圧力で実施することが
できる。
【0013】容器と低圧タンク22との直接的な連通
は、弁20を閉じることによって止められる。次いで、
容器は、第二真空ポンプ32を経て低圧タンク22に通
じる弁28及び30を開くことによるが如くして、容器
からガスを低圧タンク22にポンプ輸送するための手段
と連通される。容器からガスが例えば1トル絶対圧の低
圧までポンプ輸送される。次いで、第二真空ポンプ32
に通じる弁28及び30が閉じられ、そして容器10が
加圧回収装置系14から分離される。しかしながら、随
意に、第二真空ポンプ32及びその機能を省略すること
もできる。
は、弁20を閉じることによって止められる。次いで、
容器は、第二真空ポンプ32を経て低圧タンク22に通
じる弁28及び30を開くことによるが如くして、容器
からガスを低圧タンク22にポンプ輸送するための手段
と連通される。容器からガスが例えば1トル絶対圧の低
圧までポンプ輸送される。次いで、第二真空ポンプ32
に通じる弁28及び30が閉じられ、そして容器10が
加圧回収装置系14から分離される。しかしながら、随
意に、第二真空ポンプ32及びその機能を省略すること
もできる。
【0014】圧縮器34のような手段によって低圧タン
ク22から高圧タンク26にガスがポンプ輸送される。
好ましくは、圧縮器34から高圧タンク26に入るガス
は、ガスからヘリウム以外の成分を選択的に除去するた
めの手段36を通る。半透膜のような公知手段が使用さ
れる。随意として、高圧タンク26内のガスは、圧縮器
38によってガスからヘリウム以外の成分を選択的に除
去するための手段40を介して再循環される。随意に、
精製手段36及び40を除去することもできる。という
のは、系14におけるガスの量が枯渇したときに、ガス
は、供給物貯蔵タンク42から弁44を経てヘリウム又
はヘリウム含有ガスを系14に導入することによって補
給されるからである。
ク22から高圧タンク26にガスがポンプ輸送される。
好ましくは、圧縮器34から高圧タンク26に入るガス
は、ガスからヘリウム以外の成分を選択的に除去するた
めの手段36を通る。半透膜のような公知手段が使用さ
れる。随意として、高圧タンク26内のガスは、圧縮器
38によってガスからヘリウム以外の成分を選択的に除
去するための手段40を介して再循環される。随意に、
精製手段36及び40を除去することもできる。という
のは、系14におけるガスの量が枯渇したときに、ガス
は、供給物貯蔵タンク42から弁44を経てヘリウム又
はヘリウム含有ガスを系14に導入することによって補
給されるからである。
【0015】使用される漏れ検出器は、容器表面の周囲
から空気の試料を取るような質量分析計又は熱伝導率分
析計の如き公知の装置である。試料は、分析器に連結さ
れたプローべを介して導入される。
から空気の試料を取るような質量分析計又は熱伝導率分
析計の如き公知の装置である。試料は、分析器に連結さ
れたプローべを介して導入される。
【0016】高圧タンクに入るガスからヘリウム以外の
成分を選択的に除去するための手段36又は高圧タンク
26中のガスからヘリウム以外の成分を選択的に除去す
るための手段40は通常の手段であってよいが、本発明
によって提供される新規なヘリウム精製装置系を使用す
るのが好ましい。図2は、かかる新規なヘリウム精製装
置系42に向けられている。水を含めて空気の成分で汚
染されたヘリウムガス流れ44は圧縮器34又は38で
加圧されるが、その流出口は、後冷却器46に次いで水
分離器48に通じている。水分離器48の流出口は、乾
燥器50の流入口に通じている。この乾燥器は、様々な
種類から選択することができる。図2の具体例では、乾
燥器50は、1991年11月26日に発行された“ガ
スの脱水法及びそのための複合体透過膜”と題するビー
・ビスソン、エス・ジグリア及びジェイ・ケイ・ネルソ
ン各氏の米国特許第5067971号に記載されるよう
な膜乾燥器である。水は乾燥器50にある膜を選択的に
透過して水分減少ラフィネート流れ52を生成し、そし
てこれは、膜乾燥器50から膜分離器段階54にあるヘ
リウム含有流れを受け取るための流入口と連通する口を
介して排出する。
成分を選択的に除去するための手段36又は高圧タンク
26中のガスからヘリウム以外の成分を選択的に除去す
るための手段40は通常の手段であってよいが、本発明
によって提供される新規なヘリウム精製装置系を使用す
るのが好ましい。図2は、かかる新規なヘリウム精製装
置系42に向けられている。水を含めて空気の成分で汚
染されたヘリウムガス流れ44は圧縮器34又は38で
加圧されるが、その流出口は、後冷却器46に次いで水
分離器48に通じている。水分離器48の流出口は、乾
燥器50の流入口に通じている。この乾燥器は、様々な
種類から選択することができる。図2の具体例では、乾
燥器50は、1991年11月26日に発行された“ガ
スの脱水法及びそのための複合体透過膜”と題するビー
・ビスソン、エス・ジグリア及びジェイ・ケイ・ネルソ
ン各氏の米国特許第5067971号に記載されるよう
な膜乾燥器である。水は乾燥器50にある膜を選択的に
透過して水分減少ラフィネート流れ52を生成し、そし
てこれは、膜乾燥器50から膜分離器段階54にあるヘ
リウム含有流れを受け取るための流入口と連通する口を
介して排出する。
【0017】ヘリウムは、膜分離器段階54にある膜を
選択的に透過してヘリウムに富んだ透過生成物流れ56
を生じる。生成物流れ56は、一体性試験のための装置
系の高圧タンク26に向けることができる。空気成分か
らなる汚染物は、膜分離器段階54にある膜を評価し得
る程に透過せず、そして膜分離器段階54にあるラフィ
ネート流出口から排出するヘリウム減少ラフィネート流
れ58を生じる。
選択的に透過してヘリウムに富んだ透過生成物流れ56
を生じる。生成物流れ56は、一体性試験のための装置
系の高圧タンク26に向けることができる。空気成分か
らなる汚染物は、膜分離器段階54にある膜を評価し得
る程に透過せず、そして膜分離器段階54にあるラフィ
ネート流出口から排出するヘリウム減少ラフィネート流
れ58を生じる。
【0018】ラフィネート流れ58は、第一膜ストリッ
パー段階60への流入口に入る。流入したラフィネート
流れ58中のヘリウムは、膜を選択的に透過してヘリウ
ムに富んだ透過物流れ62を生成する。空気成分からな
る汚染物は、膜を評価し得る程に透過せず、そして膜ス
トリッパー段階60にあるラフィネート流出口から排出
するヘリウム減少ラフィネート流れ64を生じる。
パー段階60への流入口に入る。流入したラフィネート
流れ58中のヘリウムは、膜を選択的に透過してヘリウ
ムに富んだ透過物流れ62を生成する。空気成分からな
る汚染物は、膜を評価し得る程に透過せず、そして膜ス
トリッパー段階60にあるラフィネート流出口から排出
するヘリウム減少ラフィネート流れ64を生じる。
【0019】第一膜ストリッパー段階60からのラフィ
ネート流れ64は、第二膜ストリッパー段階68に入
る。空気成分からなる汚染物は、膜を評価し得る程には
透過せず、そして第二膜ストリッパー段階68から排出
され、しかして系42からラフィネート流出口を経て排
出される。ヘリウムは、第二膜ストリッパー段階68に
ある膜を選択的に透過してヘリウムに富んだ透過物流れ
72を生成する。この流れ72は、第一膜ストリッパー
段階60からのヘリウムに富んだ透過物流れ62と合流
する。膜分離器段階及び膜ストリッパー段階で使用する
のに好適な膜材料は、1990年4月24日に発行され
た“ポリ(メタクリル酸メチル)ブレンドの複合体膜、
それらの製造及びそれらの使用”と題するジェイ・ケイ
・ネルソン氏の米国特許第4919865号に記載され
ている。
ネート流れ64は、第二膜ストリッパー段階68に入
る。空気成分からなる汚染物は、膜を評価し得る程には
透過せず、そして第二膜ストリッパー段階68から排出
され、しかして系42からラフィネート流出口を経て排
出される。ヘリウムは、第二膜ストリッパー段階68に
ある膜を選択的に透過してヘリウムに富んだ透過物流れ
72を生成する。この流れ72は、第一膜ストリッパー
段階60からのヘリウムに富んだ透過物流れ62と合流
する。膜分離器段階及び膜ストリッパー段階で使用する
のに好適な膜材料は、1990年4月24日に発行され
た“ポリ(メタクリル酸メチル)ブレンドの複合体膜、
それらの製造及びそれらの使用”と題するジェイ・ケイ
・ネルソン氏の米国特許第4919865号に記載され
ている。
【0020】合流した透過物流れ74は、低い水分含量
を有しそして乾燥器50を再生するのに好適である。合
流した透過物流れ74は、水分減少パージ流れを受け取
るために乾燥器50にある口に流入する。膜乾燥器50
は、合流した透過物流れ74を膜の透過側から透過済み
の水を掃除するためのパージ流れとして使用し、これに
よって膜を横切った水の濃度勾配及び透過速度を維持す
ることによって再生される。水に富んだパージ流れ76
は、乾燥器の膜の透過側にある乾燥器口から排出する。
を有しそして乾燥器50を再生するのに好適である。合
流した透過物流れ74は、水分減少パージ流れを受け取
るために乾燥器50にある口に流入する。膜乾燥器50
は、合流した透過物流れ74を膜の透過側から透過済み
の水を掃除するためのパージ流れとして使用し、これに
よって膜を横切った水の濃度勾配及び透過速度を維持す
ることによって再生される。水に富んだパージ流れ76
は、乾燥器の膜の透過側にある乾燥器口から排出する。
【0021】しかる後、乾燥器からの水に富んだパージ
流れ76は冷却器78で冷却され、凝縮した水は分離器
80で物理的に分離され、そしてパージ流れ82はヘリ
ウム精製系42に再循環させるために圧縮器34に向け
られる。膜乾燥器50、分離器段階54及びストリッパ
ー段階60、68に導入された流れは典型的には310
Kである。精製系への不純な供給流れ(典型的には82
0kPaの圧力にある)は、約700kPa〜約950
kPaの好ましい操作圧力範囲を有する。各流れについ
て他の典型的なパラメーターの例を次の表に記載する。
流れ76は冷却器78で冷却され、凝縮した水は分離器
80で物理的に分離され、そしてパージ流れ82はヘリ
ウム精製系42に再循環させるために圧縮器34に向け
られる。膜乾燥器50、分離器段階54及びストリッパ
ー段階60、68に導入された流れは典型的には310
Kである。精製系への不純な供給流れ(典型的には82
0kPaの圧力にある)は、約700kPa〜約950
kPaの好ましい操作圧力範囲を有する。各流れについ
て他の典型的なパラメーターの例を次の表に記載する。
【0022】
【表1】
【0023】図3に示される別の具体例では、図2の具
体例と同様であるがしかし幾分異なる流れ配置で連結さ
せた構成部材が使用される。第二膜ストリッパー段階6
8からのラフィネート70は、極めて低い水分含量を有
しそして乾燥器50を再生するのに好適である。ラフィ
ネート70は、膜の透過側を掃除するパージ流れとして
働かせるために乾燥器50に向けられる。乾燥器50を
通るパージ流れ70の流動性及び乾燥器膜の透過側から
の水の除去は、流入口が乾燥器のラフィネート流出口に
連結された真空ポンプ83を備えることによって向上さ
せることができる。真空ポンプ83からの流れは、典型
的には大気に排出される。図3に示される具体例では、
第一及び第二膜ストリッパー60、68からの合流され
た透過物流れ74は、ヘリウム精製装置系42に再循環
させるために圧縮器34、38の流入口に向けられる。
体例と同様であるがしかし幾分異なる流れ配置で連結さ
せた構成部材が使用される。第二膜ストリッパー段階6
8からのラフィネート70は、極めて低い水分含量を有
しそして乾燥器50を再生するのに好適である。ラフィ
ネート70は、膜の透過側を掃除するパージ流れとして
働かせるために乾燥器50に向けられる。乾燥器50を
通るパージ流れ70の流動性及び乾燥器膜の透過側から
の水の除去は、流入口が乾燥器のラフィネート流出口に
連結された真空ポンプ83を備えることによって向上さ
せることができる。真空ポンプ83からの流れは、典型
的には大気に排出される。図3に示される具体例では、
第一及び第二膜ストリッパー60、68からの合流され
た透過物流れ74は、ヘリウム精製装置系42に再循環
させるために圧縮器34、38の流入口に向けられる。
【0024】図4に示される更に他の具体例では、図2
の具体例と同様の構成部材及び流れ配置が使用される。
しかしながら、図2の膜乾燥器は、少なくとも2つの切
替可能な吸着剤床からなる慣用の吸着剤乾燥器によって
置き換えられる。床のうちの1つ84はヘリウムガスを
含有する圧縮された供給流れを乾燥させることができ、
これに対して他の床86は第一及び第二膜精製段階6
0、68からの透過物流れからなるパージガス74によ
って再生される。合流されたパージ流れは、加熱器88
で加熱され、再生されつつある吸着剤床86を通され、
冷却器88で冷却され、分離器90で水分離され、そし
てヘリウム回収装置系42へ再循環させるために圧縮器
34、38の流入口に向けられる。
の具体例と同様の構成部材及び流れ配置が使用される。
しかしながら、図2の膜乾燥器は、少なくとも2つの切
替可能な吸着剤床からなる慣用の吸着剤乾燥器によって
置き換えられる。床のうちの1つ84はヘリウムガスを
含有する圧縮された供給流れを乾燥させることができ、
これに対して他の床86は第一及び第二膜精製段階6
0、68からの透過物流れからなるパージガス74によ
って再生される。合流されたパージ流れは、加熱器88
で加熱され、再生されつつある吸着剤床86を通され、
冷却器88で冷却され、分離器90で水分離され、そし
てヘリウム回収装置系42へ再循環させるために圧縮器
34、38の流入口に向けられる。
【0025】図5に示される更に他の具体例では、図3
の具体例と同様の構成部材及び流れ配置が使用される
が、但し、図4に関して記載したような慣用の吸着剤乾
燥器によって図3の膜乾燥器が置き換えられる。
の具体例と同様の構成部材及び流れ配置が使用される
が、但し、図4に関して記載したような慣用の吸着剤乾
燥器によって図3の膜乾燥器が置き換えられる。
【0026】上記の如き特定の具体例を参照しながら本
発明を説明したけれども、特許請求の範囲内にはすべて
の変更修正及び均等物を包含させるつもりであることを
理解されたい。
発明を説明したけれども、特許請求の範囲内にはすべて
の変更修正及び均等物を包含させるつもりであることを
理解されたい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に従って容器を一体性試験のために加圧
するための装置系の概略図である。
するための装置系の概略図である。
【図2】図1の装置系に従って一体性試験に使用される
ヘリウムを精製するための本発明の装置系の概略図であ
る。
ヘリウムを精製するための本発明の装置系の概略図であ
る。
【図3】ヘリウムの流体流れを精製するための本発明の
他の具体例の概略図である。
他の具体例の概略図である。
【図4】ヘリウムの流体流れを精製するための本発明の
更に他の具体例の概略図である。
更に他の具体例の概略図である。
【図5】ヘリウムの流体流れを精製するための本発明の
なお更に他の具体例の概略図である。
なお更に他の具体例の概略図である。
10 容器 12 カップリング 14 加圧回収装置系 18、32 真空タンク 22 低圧タンク 26 高圧タンク 32、34、38 圧縮器 36、40 精製手段 48、80、90 水分離器 42 ヘリウム精製装置系 50 乾燥器 54 膜分離器段階 60、68 膜ストリッパー段階(膜精製段階) 84、86 吸着剤床
フロントページの続き (72)発明者 ブラディーミル・トマス・ゴルジャコウ スキ アメリカ合衆国ニューヨーク州ウィリア ムズビル、パームデイル・ドライブ212 (72)発明者 サルバトーレ・ジリア アメリカ合衆国マサチューセッツ州ノー ウッド、ネポンセット・ストリート379 ビー (56)参考文献 特開 平4−89542(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C01B 23/00 G01M 3/20
Claims (3)
- 【請求項1】 ヘリウム及び空気成分を含むガス流れを
精製するに当たり、 (a)ガス流れを流体流れ乾燥器で乾燥させ、 (b)乾燥したガス流れを膜分離器段階においてヘリウ
ムに富む透過生成物流れとヘリウムが減少したラフィネ
ート流れとに分離し、 (c)ラフィネート流れ中のヘリウムを膜ストリッパー
段階で回収し、これによってパージ流れを生成し、そし
て (d)パージ流れで乾燥器から水をパージする、 ことを含むガス流れの精製法。 - 【請求項2】 ヘリウム及び空気成分並びに水を含むガ
ス流れを精製するためのヘリウム精製装置系において、 (a)(1)水分に富む流れを受け取る口、(2)水分
が減少した流れを排出させる口、(3)乾燥器から水分
をパージするための水分減少パージ流れを受け取る口及
び(4)水分に富んだパージ流れを排出させる口を有す
る流体流れ乾燥器、 (b)(1)ヘリウムを含むガス流れを受け取る流入口
であって、水分減少流れを排出させる乾燥器口と連通し
た流入口、(2)ヘリウムに富んだ透過物流れを排出さ
せる透過物流出口及び(3)ヘリウム減少ラフィネート
流れを排出させるラフィネート流出口を有する膜分離器
段階、及び (c)(1)膜分離器段階のラフィネート流出口と連通
する流入口及び(2)パージ流れを排出させる流出口で
あって、水分減少パージ流れを受け取る乾燥器口と連通
する流出口を有する膜ストリッパー段階、 を含むヘリウム精製装置系。 - 【請求項3】 容器を一体性試験のためにヘリウムを含
むガスで加圧しそしてヘリウムを再使用のために回収す
る方法であって、 (a)容器をヘリウムを含むガスを収容する低圧タンク
と、容器の一体性試験に望まれるよりも低い圧力で連通
させ、 (b)低圧タンクからガスを容器に導入し、 (c)低圧タンクと容器との間の連通を止め、 (d)容器をヘリウムを含むガスを収容する高圧タンク
と、容器の一体性試験に望まれる圧力で連通させ、 (e)高圧タンクからガスを容器に導入し、 (f)容器と高圧タンクとの間の連通を止め、 (g)容器を低圧タンクと連通させ、 (h)差圧によって容器からのガスを低圧タンク中に受
け取らせ、そして (i)工程(e)又は(f)の間に又はその後に容器の
一体性を確かめる、ことを含む方法。
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---|---|
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CA (1) | CA2121743A1 (ja) |
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GB2274253B (en) * | 1993-01-14 | 1997-04-16 | Boc Group Plc | Gas separation apparatus |
DE4326265A1 (de) * | 1993-08-05 | 1995-02-09 | Leybold Ag | Testgasdetektor, vorzugsweise für Lecksuchgeräte, sowie Verfahren zum Betrieb eines Testgasdetektors dieser Art |
FR2724327B1 (fr) * | 1994-09-12 | 1996-10-25 | Air Liquide | Procede de separation membranaire par cascade de membranes de selectivites differentes |
US5707425A (en) * | 1994-10-21 | 1998-01-13 | Nitrotec Corporation | Helium recovery from higher helium content streams |
US5792239A (en) * | 1994-10-21 | 1998-08-11 | Nitrotec Corporation | Separation of gases by pressure swing adsorption |
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FR2730790B1 (fr) * | 1995-02-17 | 1997-05-23 | Air Liquide | Procede d'introduction d'un gaz de remplissage dans une enceinte et installation de mise en oeuvre |
DE19627922A1 (de) * | 1996-07-11 | 1998-01-15 | Leybold Vakuum Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Rückgewinnung des bei der Heliumlecksuche verwendeten Heliums |
US5906673A (en) * | 1997-05-15 | 1999-05-25 | Nitrotec Corporation | Pressure swing system with auxiliary adsorbent bed |
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