JP2951952B2 - 磁気記録用基板 - Google Patents

磁気記録用基板

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JP2951952B2 JP22439798A JP22439798A JP2951952B2 JP 2951952 B2 JP2951952 B2 JP 2951952B2 JP 22439798 A JP22439798 A JP 22439798A JP 22439798 A JP22439798 A JP 22439798A JP 2951952 B2 JP2951952 B2 JP 2951952B2
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glass
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亮 榎本
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  • Glass Compositions (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高強度、高剛性、
表面平滑性などの諸特性に優れる磁気記録用基板に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】近年、磁気ディスク装置は、大容量化、
高記録密度化してきている。それに伴い、磁気記録用基
板に対しては、表面平滑性が高いこと、うねりが小さく
微小突起がないこと、硬度、強度および弾性率が高いこ
となどの諸特性が要求されるようになってきた。このよ
うな要請に応えられる磁気記録用基板として、従来、ア
ルミニウム合金基板、アルミニウム合金基板の表面にア
ルマイト皮膜したもの、アルミニウム合金基板の表面に
Ni−Pめっき膜を形成したNi−Pめっき基板、ガラス基
板、セラミックス基板などが提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
磁気記録用基板、例えば、アルミニウム合金基板は、金
属間化合物を生成しやすく、これが基板の研削や研磨中
に脱落して表面にくぼみや傷を発生させることにより表
面平滑性を悪くする欠点があった。また、この従来の基
板は、剛性が低いために高速回転すると基板ののびやう
ねりなどにより記録、読み取りのエラーが発生しやすい
という問題点もあった。
【0004】一方、前記アルマイト基板は、アルマイト
処理される下地のアルミニウムが材料となって皮膜が形
成されるため、アルミニウム合金中の微量不純物が金属
間化合物として析出し、上記アルミニウム合金基板と同
様に、表面平滑性が悪くなる。しかも、それだけでなく
アルミニウム合金とアルマイトとの熱膨張係数差によ
り、皮膜にクラックが発生しやすいという問題点があっ
た。
【0005】次に、前記Ni−Pめっき基板は、めっきを
行う前の前処理が必要であり、それゆえ処理工程が複雑
となって高価になるだけでなく、燃焼工程においてめっ
きが剥離しやすいという問題点があった。
【0006】次に、前記ガラス基板は、表面平滑性は優
れているものの、強度における信頼性が乏しく、またこ
れを改善するためには強化処理が必要で高価になるとい
う問題点があった。
【0007】さらに、前記セラミック基板は、成形工程
が複雑でしかも加工が難しいために高価になるという問
題点があった。
【0008】本発明の目的は、上記各従来磁気記録用基
板が抱える問題点、すなわち、表面平滑性が劣ること、
強度が低いこと、あるいは製造工程が複雑でコスト高に
なることなど、を克服できる磁気記録用基板を提供する
ことにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】上述した技術的課題に対
し、本発明では、表面平滑性を良くするために基板表面
をガラス質材料で覆うこととし、また、基板の機械的強
度を確保するためにマトリックス層をガラス前駆体溶液
を用いて形成すると同時に、町部分からガラス質表面層
が剥離するのを防止するようにして、上記の諸問題の克
服を図ることにした。すなわち、本発明は、マトリック
スガラスと耐熱性無機長繊維を二次元的に配列してなる
シート状成形体との複合層、およびその複合層の表面を
覆う厚さ0.3〜600 μmのガラス質表面層からなり、か
つ前記マトリックスガラスの少なくともその一部がガラ
ス前駆体の焼成体によって構成されていることを特徴と
する磁気記録用基板である。
【0010】なお、本発明においては、前記マトリック
スガラス層は、ガラス前駆体溶液の含浸, 乾燥の各処理
を複数回繰返しによって形成されたものであること、ま
た、ガラス前駆体溶液中にさらにガラス微粉末を添加し
たものにて形成されたものであること、そして、該基板
の表面あらさRmax は0.002 〜0.1 μmにすることが好
ましい。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明にかかる磁気記録用基板
は、上述したように、主要部が、マトリックスガラス中
に耐熱性無機長繊維を二次元的に配列した状態の複合体
にて構成され、しかも、そのマトリックスガラスの少な
くとも一部は、ガラス前駆体溶液の焼成体にて構成され
たものである。したがって、得られる基板は、前記無機
長繊維とマトリックスガラスとが密着性に優れているこ
とから、補強効果が高く強度や剛性が高いものとなる。
そればかりでなく、強度の高いものが得られるため、従
来の基板よりも厚さを薄くすることができ、その結果と
して、磁気ディスク装置等の小型軽量化に効果的であ
る。
【0012】また、本発明にかかる磁気記録用基板は、
複合体の外表面がガラス質材料で被覆されたものである
から、表面平滑性に優れたものが得られるが、同時に表
面層がガラス質であることから、硬度の高いものが得ら
れる。
【0013】本発明にかかる基板において用いられる上
記耐熱性無機長繊維としては、アルミナ繊維、シリカ繊
維、炭化けい素繊維、チラノ繊維、炭素繊維、ジルコニ
ア繊維、シリカ・アルミナ繊維などの連続繊維のいずれ
か少なくとも1種のものを選択して用いることができ
る。
【0014】本発明においては、マトリックスガラスお
よびガラス質表面層を形成するために用いるガラス素材
としては、ソーダライムガラス、アルミノシリケートガ
ラス、鉛ホウ酸ガラス、ソーダアルミノシリケートガラ
ス、鉛アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムガ
ラス、アルミナリン酸ガラスなどのなかから選ばれるい
ずれか少なくとも1種のものを用いることが好ましい。
【0015】以上のとおりに構成される本発明にかかる
繊維強化ガラス基板は、次のような各工程を経ることに
よって製造されるものである。まず第1の工程は、耐熱
性無機長繊維を二次元的に配向させてなるシート状成形
体を準備し、これにガラス前駆体溶液を含浸させ、引き
続き乾燥を施すことにより、前記シート状物がマトリッ
クスガラスで支持された状態の予備成形体を得る段階で
ある。
【0016】この工程において、上記シート状成形体中
に含浸させてマトリックスを形成するためのガラス成分
として、本発明では、ガラス前駆体を用いる。このよう
なガラス前駆体としては、熱処理することによってガラ
スを生成するものが好ましい。例えば、各種金属アルコ
キシドおよびそれらの加水分解物、硝酸塩、酢酸塩、塩
化物、炭酸塩および水酸化物などの水溶液および各種有
機溶媒溶液、シリカゾル、アルミナゾルなどの各種ゾル
などから選ばれるいずれか少なくとも1種のものを用い
る。このようなガラス前駆体を熱処理することによって
生成するガラスとしては、ソーダライムガラス、アルミ
ノシリケートガラス、鉛ホウ酸ガラス、ソーダアルミノ
シリケートガラス、鉛アルカリガラス、ホウケイ酸ガラ
ス、バリウムガラス、アルミナリン酸ガラスなどの中か
ら選ばれるいずれか少なくとも1種が好適である。ま
た、かかるガラス前駆体溶液には、上記の各種ガラスの
中から選ばれる少なくとも1種について、それの微粉末
を混合して用いてもよい。
【0017】次に、本発明の第2の工程は、第(1) 工程
で得られる前記予備成形体を、500℃以上の温度にて加
圧焼成することにより、前記予備成形体についての焼成
複合体を得る工程である。この工程での加圧焼成によ
り、前記予備成形体中に含浸しているガラス前駆体の成
分がガラスとなり、前記耐熱性無機長繊維を二次元的に
配向させてなるシート状成形体の空隙が、該ガラス前駆
体から生成したガラスの浸入により封孔され、高密度、
高強度、高剛性の焼成複合体が容易に形成される。
【0018】次に、本発明の第3の工程は、第(2) 工程
で得られる焼成複合体の表面に、ガラス質材料を被覆し
て平滑表面層を形成する工程である。このガラス質平滑
表面層の形成は、基板の表面平滑性を向上させるために
行うものである。ガラス質材料を焼成複合体の両面に被
覆する方法としては、グレージング法、スパッタ法、真
空蒸着法、イオンプレーティング法など、を用いる。そ
の他、前記ガラス前駆体溶液などを塗布した後焼成する
などの方法でもよい。なお、上記ガラス質材料として
は、上述した各種のガラスの中から選ばれる少なくとも
1種を用いるのが好ましい。
【0019】そして、この第(3) 工程で被覆形成するガ
ラス質平滑表面層の厚さは、0.3 μm〜600 μmが望ま
しく、特に10〜20μmが好適である。
【0020】また、本発明にかかる基板は、これを磁気
ディスク基板として用いる場合、表面の平滑性を向上さ
せるためには、前記平滑表面層をさらに公知の方法にて
研磨することがより好ましい。この場合、研磨後の表面
あらさ(Rmax)は、0.002 〜0.1 μmの範囲内とするのが
望ましく、0.005 〜0.02μmの範囲の表面粗さとするこ
とがより好適である。
【0021】
【実施例】
実施例1 (1) 最終的なガラス組成が、SiO2:75wt%、B2O3:19wt
%、Na2O:6wt%となるように、けい素、ほう素、ナト
リウムの各アルコキシド、加水分解用水および溶媒とす
るエチルアルコールの所定量を添加混合し、濃縮するこ
とによって、ガラス前駆体溶液を作製した。 (2) アルミナ繊維のクロスを2枚重ね合わせ、この重合
クロスに上記第(1) 工程の前駆体溶液を含浸させ、その
後乾燥した。この処理は都合6回繰返し、予備成形体を
作製した。 (3) 上記第(2) 工程で得られた予備成形体を、大気中 7
50℃の温度で加圧焼成し、焼成複合体を作製した。 (4) 上記第(3) 工程で得られた焼成複合体の両面に、上
記第(1) 工程で得られたガラス前駆体溶液をスピンコー
トし、その後乾燥し、大気中にて 750℃の温度で焼成
し、厚さ 140μmのガラス質平滑表面層を形成した。 (5) 上記第(4) 工程で得られた基板を、Al2O3 砥粒とラ
ップ盤を用いて研磨加工し、表面粗さ:Rmax 0.01μm
の本発明の繊維強化ガラス基板を作製した。
【0022】このようにして得られた基板について、機
械試験を行ったところ、引張強度は63 kg/mm2 を示し、
ヤング率は8600 kg/mm2 であり、磁気ディスク基板とし
て必要な高い強度、ヤング率、表面平滑性の繊維強化ガ
ラス基板であることが確かめられた。
【0023】実施例2 (1) 最終的なガラスの組成が、SiO2:70wt%、B2O3:18
wt%、PbO :12wt%となるように、けい素、ほう素、鉛
の各アルコキシド、加水分解用の水、溶媒とするエチル
アルコールおよび有機酸の所定量を添加混合すると共
に、さらに上述したのと同じガラス微粉末 (−300 メッ
シュ) を10wt%添加し濃縮することにより、ガラス前駆
体溶液を作製した。 (2) 炭化けい素繊維のクロスを2枚重ね合わせ、この重
合クロスに上記第(1) 工程の前駆体溶液を含浸させ、そ
の後乾燥した。この処理は都合2回繰返し、予備成形体
を作製した。 (3) 上記第(2) 工程で得られた予備成形体を、大気中 7
00℃の温度で加圧焼成し、焼成複合体を作製した。 (4) 上記第(3) 工程で得られた焼成複合体の両面に、上
記第(1) 工程において、ガラス微粉末を添加する前の状
態のガラス前駆体溶液をスピンコートし、その後乾燥
し、大気中にて 700℃の温度で焼成し、厚さ 180μmの
ガラス質の表面層を形成した。 (5) 実施例1と同様の方法にて表面を研磨加工し、表面
粗さ:Rmax 0.03μmの本発明の繊維強化ガラス基板を
作製した。
【0024】このようにして得られた基板について、機
械試験を行ったところ、引張強度は58kg/mm2 で、ヤン
グ率が8100 kg/mm2 であり、磁気ディスク基板として必
要な高い強度、ヤング率、表面平滑性の繊維強化ガラス
基板であることが確かめられた。
【0025】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
高強度で剛性および表面平滑性に優れた高密度記録の可
能な磁気記録用基板を提供できる。

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 マトリックスガラスと耐熱性無機長繊維
    を二次元的に配列してなるシート状成形体との複合層、
    およびその複合層の表面を覆う厚さ0.3 〜600 μmのガ
    ラス質表面層からなり、かつ前記マトリックスガラスの
    少なくともその一部がガラス前駆体の焼成体によって構
    成されていることを特徴とする磁気記録用基板。
  2. 【請求項2】 前記マトリックスガラス層が、ガラス前
    駆体溶液の含浸, 乾燥の各処理を複数回繰返して形成さ
    れたものであることを特徴とする請求項1に記載の磁気
    記録用基板。
  3. 【請求項3】 前記マトリックスガラス層は、ガラス前
    駆体溶液中にさらにガラス微粉末を添加したものにて形
    成されたものであることを特徴とする請求項1または2
    に記載の磁気記録用基板。
  4. 【請求項4】 表面あらさRmax が0.002 〜0.1 μmで
    あることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記
    載の磁気記録用基板。
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