JP2951091B2 - Epoxy resin composition - Google Patents

Epoxy resin composition

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JP2951091B2 JP33828591A JP33828591A JP2951091B2 JP 2951091 B2 JP2951091 B2 JP 2951091B2 JP 33828591 A JP33828591 A JP 33828591A JP 33828591 A JP33828591 A JP 33828591A JP 2951091 B2 JP2951091 B2 JP 2951091B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体デバイスの表面
実装化における耐半田ストレス性に優れた半導体封止用
エポキシ樹脂組成物に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation which is excellent in soldering stress resistance in surface mounting of a semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、ダイオード、トランジスタ、集積
回路等の電子部品を熱硬化性樹脂で封止しているが、特
に集積回路では耐熱性、耐湿性に優れたオルソクレゾー
ルノボラックエポキシ樹脂をノボラック型フェノール樹
脂で硬化させたエポキシ樹脂が用いられている。ところ
が近年、集積回路の高集積化に伴いチップがだんだん大
型化し、かつパッケージは従来のDIPタイプから、表
面実装化された小型、薄型のフラットパッケージ、SO
P,SOJ,PLCCに変わってきている。つまり大型
チップを、小型で薄いパッケージに封入することにな
り、応力によりクラックが発生、これらのクラックによ
る耐湿性の低下等の問題が大きくクローズアップされて
きている。特に半田付けの工程において、急激に250
℃以上の高温にさらされることにより、前記の問題点が
発生している。これらの大型チップを封止するのに適し
た、信頼性の高い封止用樹脂組成物の開発が望まれてき
ている。
2. Description of the Related Art Conventionally, electronic components such as diodes, transistors, and integrated circuits are sealed with a thermosetting resin. In particular, in an integrated circuit, ortho-cresol novolak epoxy resin having excellent heat resistance and moisture resistance is made of a novolak type. An epoxy resin cured with a phenol resin is used. However, in recent years, the chip has been gradually increased in size with the increase in the degree of integration of integrated circuits, and the package has been changed from the conventional DIP type to a small, thin flat package surface-mounted, SO
It is changing to P, SOJ, PLCC. That is, a large chip is sealed in a small and thin package, and cracks are generated by stress, and problems such as a decrease in moisture resistance due to the cracks have been greatly highlighted. Especially in the soldering process, 250
Exposure to a high temperature of not less than ° C. has caused the above problem. Development of a highly reliable sealing resin composition suitable for sealing these large chips has been desired.

【0003】これらの問題点を解決するために、半田付
け時に熱衝撃を緩和する目的で、熱可塑性オリゴマーの
添加(特開昭62−115849号公報)や各種シリコ
ーン化合物の添加(特開昭62−115850号公報、
62−116654号公報、62−128162号公
報)、さらにはシリコーン変性(特開昭62−1368
60号公報)等の手法で対処しているが、いずれも半田
付け時にパッケージにクラックが生じてしまい、信頼性
の高い封止用エポキシ樹脂組成物を得るまでには至らな
かった。
In order to solve these problems, addition of a thermoplastic oligomer (Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-15849) and addition of various silicone compounds (Japanese Patent Application Laid-Open No. JP-115850,
62-116654 and 62-128162), and further modified with silicone (JP-A-62-1368).
No. 60), cracks are generated in the package at the time of soldering, and it has not been possible to obtain a highly reliable epoxy resin composition for sealing.

【0004】一方、半田付け時の耐熱ストレス性、つま
り耐半田ストレス性に優れた半導体封止用エポキシ樹脂
組成物を得る為に、樹脂系としてビフェニル型エポキシ
樹脂の使用(特開昭64−65116号公報)等が検討
されてきたが、ビフェニル型エポキシ樹脂の使用によ
り、リードフレームとの密着性及び、低吸水性が向上
し、耐半田ストレス性の向上、特にクラック発生が低減
するが、耐熱性が劣るために特に250℃以上の高温で
は、耐半田ストレス性が不十分である。
On the other hand, in order to obtain an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation having excellent heat stress resistance during soldering, that is, excellent solder stress resistance, a biphenyl type epoxy resin is used as a resin system (JP-A-64-65116). However, the use of a biphenyl-type epoxy resin has improved the adhesion to the lead frame and the low water absorption, and improved the solder stress resistance, especially the occurrence of cracks. In particular, at a high temperature of 250 ° C. or higher, the solder stress resistance is insufficient because of poor resistance.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は成形性および
信頼性を劣化させることなく、半田付け時の半田耐熱性
に優れた、半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供する
ものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation which has excellent solder heat resistance during soldering without deteriorating formability and reliability.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明のエポキシ樹脂組
成物は(A)下記式(1)で示されるパラクレゾールと
α−ナフトールの共縮合ノボラックエポキシ樹脂
The epoxy resin composition of the present invention comprises (A) a co-condensed novolak epoxy resin of paracresol and α-naphthol represented by the following formula (1):

【化3】 (式中のnの数は1〜6)を総エポキシ樹脂量に対して
50〜100重量%含むエポキシ樹脂、 (B)下記式(2)で示され多官能ノボラック型フェノ
ール樹脂硬化剤を総フェノール樹脂硬化剤量に対して2
5〜95重量%含むフェノール樹脂硬化剤、
Embedded image (B) an epoxy resin containing 50 to 100% by weight based on the total amount of the epoxy resin (the number of n in the formula is 1 to 6); and (B) a polyfunctional novolak type phenol resin curing agent represented by the following formula (2): 2 for the amount of phenolic resin curing agent
A phenolic resin curing agent containing 5 to 95% by weight,

【化4】 (式中のR1 は、水素、ハロゲン、低級アルキル基の中
から選択される原子又は基、nの数は1〜6) (C)総フェノール樹脂硬化剤量に対して5〜10重量
%のビスフェノールA、 (D)無機質充填材及び (E)硬化促進剤 を必須成分とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物であ
る。従来のエポキシ樹脂組成物に比べ、非常に優れた半
田耐熱性を持つものである。
Embedded image (Wherein R 1 is an atom or group selected from hydrogen, halogen, and lower alkyl group, and the number of n is 1 to 6). (C) 5 to 10% by weight based on the total amount of the phenol resin curing agent (D) an inorganic filler and (E) a curing accelerator as essential components. It has much better solder heat resistance than the conventional epoxy resin composition.

【0007】本発明に用いるパラクレゾールとα−ナフ
トールの共縮合ノボラックエポキシ樹脂は、パラクレゾ
ールとα−ナフトールをホルムアルデヒドより共縮合さ
せたノボラック樹脂のエポキシ化物であり、その共縮合
時のα−ナフトール量は50重量%以上が望ましく、式
(1)の構造を主とする樹脂である。nは1〜6で、6
を越えると流動性が悪くなり、成形性が悪化する。特徴
としては、低吸水性に優れ、樹脂の線膨張係数が小さ
く、成形時の離型性に優れ、半田付け時の半田耐熱性に
良好な結果を示すものである。パラクレゾールとα−ナ
フトールの共縮合ノボラックエポキシ樹脂の使用量は、
これを調節することにより半田耐熱性を最大限に引き出
すことができる。
The co-condensed novolak epoxy resin of para-cresol and α-naphthol used in the present invention is an epoxidized novolak resin obtained by co-condensing para-cresol and α-naphthol from formaldehyde. The amount is desirably 50% by weight or more, and the resin is mainly composed of the structure of the formula (1). n is 1 to 6, 6
If it exceeds, the fluidity becomes poor and the moldability deteriorates. The characteristics are excellent in low water absorption, small in coefficient of linear expansion of resin, excellent in mold releasability during molding, and excellent in solder heat resistance during soldering. The amount of co-condensed novolak epoxy resin of paracresol and α-naphthol is
By adjusting this, the solder heat resistance can be maximized.

【0008】半田耐熱性の効果をだすためには、パラク
レゾールとα−ナフトールの共縮合ノボラックエポキシ
樹脂を総エポキシ樹脂量の50重量%以上、好ましくは
70重量%以上の使用が望ましい。50重量%未満では
低吸水性、低線膨張係数が十分に得られず、半田耐熱性
が不十分である。パラクレゾールとα−ナフトールの共
縮合ノボラックエポキシ樹脂以外の他のエポキシ樹脂を
併用する場合、用いるエポキシ樹脂とは、エポキシ基を
有するポリマー全般をいう。例えばビスフェノール型エ
ポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビ
フェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポ
キシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、トリア
ジン環含有エポキシ樹脂等のことをいう。
In order to achieve the effect of solder heat resistance, it is desirable to use a cocondensed novolak epoxy resin of paracresol and α-naphthol in an amount of 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more of the total epoxy resin amount. If the amount is less than 50% by weight, low water absorption and low linear expansion coefficient cannot be sufficiently obtained, and solder heat resistance is insufficient. When an epoxy resin other than the co-condensed novolak epoxy resin of paracresol and α-naphthol is used in combination, the epoxy resin used generally refers to any polymer having an epoxy group. For example, it refers to a bisphenol-type epoxy resin, a cresol novolak-type epoxy resin, a biphenyl-type epoxy resin, a phenol novolak-type epoxy resin, a triphenylmethane-type epoxy resin, a triazine ring-containing epoxy resin, and the like.

【0009】式(2)で示される構造の多官能ノボラッ
ク型フェノール樹脂硬化剤とエポキシ樹脂との反応硬化
物は強靭性、低吸水性が得られる特徴を有する。特に半
田付け時の高温時での強靭性に優れており、250〜2
60℃での半田付け時の半田耐熱性に著しい効果をもた
らす。半田耐熱性の効果を引き出すには式(2)で示さ
れる多官能ノボラック型フェノール樹脂硬化剤を総フェ
ノール樹脂硬化剤の25重量%以上、好ましくは60重
量%以上の使用が望ましい。25重量%未満では熱時強
靭性が不十分となり、半田付け時の半田耐熱性が十分に
得られない。さらに式中のR1は水素、ハロゲン、低級
アルキル基の中から選択される原子または基である。低
級アルキル基としては炭素数が1〜4で、4を越えると
流動性が悪くなり、成形性が悪化する。低級アルキル基
としてはメチル基が好ましい。
The reaction cured product of the polyfunctional novolak type phenolic resin curing agent having the structure represented by the formula (2) and the epoxy resin has the characteristics of obtaining toughness and low water absorption. In particular, it has excellent toughness at high temperature during soldering,
It has a remarkable effect on solder heat resistance when soldering at 60 ° C. In order to bring out the effect of solder heat resistance, it is desirable to use the polyfunctional novolak type phenolic resin curing agent represented by the formula (2) in an amount of 25% by weight or more, preferably 60% by weight or more of the total phenolic resin curing agent. If it is less than 25% by weight, the toughness at the time of heating becomes insufficient, and sufficient solder heat resistance at the time of soldering cannot be obtained. Further, R 1 in the formula is an atom or a group selected from among hydrogen, halogen, and a lower alkyl group. The lower alkyl group has 1 to 4 carbon atoms, and if it has more than 4, the fluidity will be poor and the moldability will be poor. A methyl group is preferred as the lower alkyl group.

【0010】ビスフェノールAを式(2)で示される多
官能ノボラック型フェノール樹脂硬化剤と共に総フェノ
ール樹脂硬化剤量の5〜10重量%併用することによ
り、更なる強靭化が得られる。ビスフェノールAの量が
5重量%未満では強靭化の効果が少なく、10重量%を
越えると硬化性が低下する。また多官能ノボラック型フ
ェノール樹脂硬化剤及びビスフェノールAに他のものを
併用する場合、用いるものとしては種々のフェノール性
水酸基を有するポリマー全体をいう。例えば、フェノー
ルノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ジシク
ロペンタジエン変性フェノール樹脂とフェノールノボラ
ック樹脂及びクレゾールノボラック樹脂との共縮合物、
パラキシレン変性フェノール樹脂等を用いることができ
る。
Further toughness can be obtained by using bisphenol A together with a polyfunctional novolak type phenolic resin curing agent represented by the formula (2) in an amount of 5 to 10% by weight based on the total amount of the phenolic resin curing agent. If the amount of bisphenol A is less than 5% by weight, the effect of toughening is small, and if it exceeds 10% by weight, the curability is reduced. When other polyphenols are used in combination with the polyfunctional novolak type phenolic resin curing agent and bisphenol A, those used include the whole polymer having various phenolic hydroxyl groups. For example, a phenol novolak resin, a cresol novolak resin, a co-condensate of a dicyclopentadiene-modified phenol resin with a phenol novolak resin and a cresol novolak resin,
A para-xylene-modified phenol resin or the like can be used.

【0011】本発明で用いる無機質充填材としては、溶
融シリカ粉末、球状シリカ粉末、結晶シリカ粉末、二次
凝集シリカ粉末、多孔質シリカ粉末を粉砕したシリカ粉
末、アルミナ等が挙げられ、特に溶融シリカ粉末、球状
シリカ粉末及び溶融シリカ粉末と球状シリカ粉末との混
合物が好ましい。また無機質充填材の配合量としては、
耐半田ストレス性と成形性のバランスから、総樹脂組成
物中に70〜90重量%含まれるものが望ましい。
Examples of the inorganic filler used in the present invention include fused silica powder, spherical silica powder, crystalline silica powder, secondary aggregated silica powder, silica powder obtained by pulverizing porous silica powder, and alumina. Powders, spherical silica powders and mixtures of fused silica powder and spherical silica powder are preferred. In addition, as the compounding amount of the inorganic filler,
From the balance between solder stress resistance and moldability, it is desirable that the total resin composition contains 70 to 90% by weight.

【0012】さらに本発明に用いる硬化促進剤はエポキ
シ基と水酸基の反応を促進するものであれば良く、一般
に封止材料に使用されているものを広く使用することが
できる。例えばトリフェニルホスフィン(TPP)、ト
リブチルホスフィン、トリ(4−メチルフェニル)ホス
フィン等の有機ホスフィン化合物、トリブチルアミン、
トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、トリスジ
メチルアミノメチルフェノール、1,8−ジアザビシク
ロ[5,4,0]−7−ウンデセン(DBU)等の3級
アミン、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダ
ゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミ
ダゾール化合物等が挙げられる。これらを単独で用いて
も、あるいはその2種以上を併用することも可能であ
る。
Further, the curing accelerator used in the present invention may be any one which promotes the reaction between an epoxy group and a hydroxyl group, and those generally used for a sealing material can be widely used. For example, organic phosphine compounds such as triphenylphosphine (TPP), tributylphosphine, and tri (4-methylphenyl) phosphine; tributylamine;
Tertiary amines such as triethylamine, benzyldimethylamine, trisdimethylaminomethylphenol, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7-undecene (DBU), 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-ethyl And imidazole compounds such as -4-methylimidazole. These can be used alone or in combination of two or more.

【0013】本発明の組成物は前述のもの以外、必要に
応じてカーボンブラック等の着色剤、カルナバワック
ス、合成ワックス等の離型剤、ブロム化エポキシ、三酸
化アンチモン等の難燃剤、γ−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン等のカップリング剤、シリコーンゴ
ム、ポリブタジエン等のゴム成分を添加することができ
る。本発明のエポキシ樹脂組成物はエポキシ樹脂、硬化
剤、無機質充填材、硬化促進剤、その他の添加剤をミキ
サー等で均一に混合した後、ロール、押し出し機等の一
般混練装置により熱溶融混練し、冷却、粉砕することに
より成形材料とすることができる。
The composition of the present invention may further comprise a coloring agent such as carbon black, a release agent such as carnauba wax and synthetic wax, a flame retardant such as brominated epoxy and antimony trioxide, and a γ- Coupling agents such as glycidoxypropyltrimethoxysilane and rubber components such as silicone rubber and polybutadiene can be added. The epoxy resin composition of the present invention is prepared by uniformly mixing an epoxy resin, a curing agent, an inorganic filler, a curing accelerator, and other additives with a mixer or the like, and then hot-melting and kneading with a general kneading device such as a roll or an extruder. By cooling, pulverizing, a molding material can be obtained.

【0014】[0014]

【実施例】以下本発明を実施例で具体的に説明する。The present invention will be specifically described below with reference to examples.

【0015】実施例1 下記式(1)で示されるパラクレゾールとα−ナフトールの共縮合ノボラック エポキシ樹脂(nはn=1が80重量%、n=2が20重量%の混合物、 エポキシ当量200、軟化点65℃) 13重量部Example 1 A co-condensed novolak epoxy resin of paracresol and α-naphthol represented by the following formula (1) (n is a mixture of 80% by weight of n = 1 and 20% by weight of n = 2, epoxy equivalent: 200) , Softening point 65 ° C) 13 parts by weight

【0016】[0016]

【化5】 Embedded image

【0017】 下記式(3)で示される多官能ノボラック型フェノール樹脂硬化剤(nはn= 1、2、3、4で各々35、48、14、3重量%の混合物、 水酸基当量106、軟化点129℃) 6.65重量部A polyfunctional novolak-type phenol resin curing agent represented by the following formula (3) (n is a mixture of 35, 48, 14, and 3% by weight, respectively, where n = 1, 2, 3, and 4; a hydroxyl equivalent of 106; 6.29 parts by weight)

【0018】[0018]

【化6】 Embedded image

【0019】 ビスフェノールA 0.35重量部 溶融シリカ粉末 78.8重量部 トリフェニルホスフィン 0.2重量部 カーボンブラック 0.5重量部 カルナバワックス 0.5重量部 をミキサーで常温で混合し、70〜100℃で2軸ロー
ルにより混練し、冷却後粉砕して成形材料とした。得ら
れた成形材料をタブレット化し、低圧トランスファー成
形機にて175℃、70kg/cm2 、120秒の条件で半
田クラック試験用として6×6mmのチップを52pパッ
ケージに封入し、また半田耐湿試験用として3×6mmの
チップを16pSOPパッケージに封入した。封止した
テスト用素子について下記の半田クラック試験及び半田
耐湿性試験を行った。
Bisphenol A 0.35 parts by weight Fused silica powder 78.8 parts by weight Triphenylphosphine 0.2 parts by weight Carbon black 0.5 parts by weight Carnauba wax 0.5 parts by weight is mixed at room temperature with a mixer, The mixture was kneaded with a biaxial roll at 100 ° C., cooled and pulverized to obtain a molding material. The obtained molding material is tableted, and a low pressure transfer molding machine is used to enclose a 6 × 6 mm chip in a 52p package for a solder crack test at 175 ° C., 70 kg / cm 2 for 120 seconds, and for a solder moisture resistance test. A 3 × 6 mm chip was sealed in a 16pSOP package. The sealed test element was subjected to the following solder crack test and solder moisture resistance test.

【0020】半田クラック試験:封止したテスト用素子
を85℃、85%RHの環境下で48Hr及び72Hr
処理し、その後260℃の半田槽に10秒間浸漬後、顕
微鏡で外部クラックを観察した。 半田耐湿性試験:封止したテスト用素子を85℃、85
%RHの環境下で48Hr及び72Hr処理し、その後
260℃の半田槽に10秒間浸漬後、プレッシャークッ
カー試験(125℃、100%RH)を行い、回路のオ
ープン不良を測定した。試験結果を表1に示す。
Solder crack test: The sealed test element was subjected to 48 hours and 72 hours at 85 ° C. and 85% RH.
After the treatment, it was immersed in a solder bath at 260 ° C. for 10 seconds, and external cracks were observed with a microscope. Solder moisture resistance test: Sealed test element at 85 ° C, 85
The samples were treated for 48 hours and 72 hours in an environment of% RH, then immersed in a solder bath at 260 ° C. for 10 seconds, and then subjected to a pressure cooker test (125 ° C., 100% RH) to measure the open failure of the circuit. Table 1 shows the test results.

【0021】実施例2〜5 表1の処方に従って配合し、実施例1と同様にして成形
材料を得た。この成形材料でテスト用素子を封止した成
形品を得、この成形品を用いて実施例1と同様に半田ク
ラック試験及び半田耐湿性試験を行った。試験結果を表
1に示す。 比較例1〜5 表1の処方に従って配合し、実施例1と同様にして成形
材料を得た。この成形材料でテスト用素子を封止した成
形品を得、この成形品を用いて実施例1と同様に半田ク
ラック試験及び半田耐湿性試験を行った。試験結果を表
1に示す。
Examples 2 to 5 Compounded according to the formulation shown in Table 1, and a molding material was obtained in the same manner as in Example 1. A molded product in which a test element was sealed with this molding material was obtained, and a solder crack test and a solder moisture resistance test were performed using this molded product in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the test results. Comparative Examples 1 to 5 Compounded according to the formulation shown in Table 1, and a molding material was obtained in the same manner as in Example 1. A molded product in which a test element was sealed with this molding material was obtained, and a solder crack test and a solder moisture resistance test were performed using this molded product in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the test results.

【0022】[0022]

【表1】 [Table 1]

【0023】[0023]

【発明の効果】本発明のエポキシ樹脂組成物は、従来の
エポキシ樹脂組成物と比べ、成形性を劣化させることが
なく、耐半田ストレス性が向上し、半田付け時における
クラックの発生が起こらない。さらに低吸水性であるた
め半田耐湿性も大幅に向上する。これらから明かなよう
に、本樹脂組成物は成形性、信頼性、半田付け時の耐半
田ストレス性に優れた半導体封止材料として有用であ
る。
The epoxy resin composition of the present invention does not deteriorate moldability, improves solder stress resistance, and does not generate cracks during soldering, as compared with conventional epoxy resin compositions. . Furthermore, since it has low water absorption, the solder moisture resistance is greatly improved. As apparent from these, the present resin composition is useful as a semiconductor encapsulating material having excellent moldability, reliability, and resistance to soldering stress during soldering.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 (A)下記式(1)で示されるパラクレ
ゾールとα−ナフトールの共縮合ノボラックエポキシ樹
脂 【化1】 (式中のnの数は1〜6)を総エポキシ樹脂量に対して
50〜100重量%含むエポキシ樹脂、 (B)下記式(2)で示され多官能ノボラック型フェノ
ール樹脂硬化剤を総フェノール樹脂硬化剤量に対して2
5〜95重量%含むフェノール樹脂硬化剤、 【化2】 (式中のR1 は、水素、ハロゲン、低級アルキル基の中
から選択される原子又は基、nの数は1〜6) (C)総フェノール樹脂硬化剤量に対して5〜10重量
%のビスフェノールA、 (D)無機質充填材及び (E)硬化促進剤 を必須成分とすることを特徴とする半導体封止用エポキ
シ樹脂組成物。
(A) A co-condensed novolak epoxy resin of paracresol and α-naphthol represented by the following formula (1): (B) an epoxy resin containing 50 to 100% by weight based on the total amount of the epoxy resin (the number of n in the formula is 1 to 6); and (B) a polyfunctional novolak type phenol resin curing agent represented by the following formula (2): 2 for the amount of phenolic resin curing agent
A phenolic resin curing agent containing 5 to 95% by weight; (Wherein R 1 is an atom or group selected from hydrogen, halogen, and lower alkyl group, and the number of n is 1 to 6). (C) 5 to 10% by weight based on the total amount of the phenol resin curing agent An epoxy resin composition for semiconductor encapsulation, comprising, as essential components, bisphenol A, (D) an inorganic filler and (E) a curing accelerator.
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