JP2947122B2 - バッファ回路 - Google Patents
バッファ回路Info
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Description
られるクロックバッファとして有用なバッファ回路に関
する。
多数の負荷に分配する場合、インバータ・バッファをツ
リー型に配置して、外部クロック端子につながる負荷を
分散させることが行われている。しかし、LSIの大規
模化が更に進むにつれて、長いクロックラインがチップ
上に引き回されると、各部のクロックラインの負荷の違
い(インバータ数、配線容量、配線抵抗等)に起因する
クロック位相のズレ(クロックスキュー)が大きな問題
になる。
ッファとして、通常のCMOSインバータとは逆に、電
源側にNMOSトランジスタ、接地側にPMOSトラン
ジスタを配置したソースフォロアバッファが提案されて
いる(信学技報ED94-63,SDM94-100,VLD94-60(1994-09),
pp61-65参照)。このソースフォロアバッファでは、出
力端電位が入力端電位に追随するため、出力端につなが
るMOSトランジスタのチャネル層の電位が入力端電位
とほぼ同一となる。従って、通常のCMOSインバータ
におけるミラー効果による実効入力容量の増大がなく、
等価的にゲート容量が見えなくなって、高速化が図られ
る。
バッファでは、出力の“H”レベルを電源電位まで出
し、“L”レベルを接地電位まで出すためには、用いる
PMOSトランジスタ,NMOSトランジスタともに、
デプレション(D)型とすることが必要である。しか
し、PMOSトランジスタ及びNMOSトランジスタを
D型とするには、それぞれ別々のイオン注入工程を必要
とするから、LSIの工程数の増大とチップコストの増
大をもたらす。ソースフォロアのPMOSトランジス
タ,NMOSトランジスタともに、エンハンスメント
(E)型とすると、それらのしきい値により制限されて
十分な“H”レベル,“L”レベルが出ないため、次段
にCMOS回路がつながる場合にはそのCMOS回路で
大きな貫通電流が流れるといった不都合が生じる。
数の増大をもたらすことなく、また貫通電流を極力抑え
て高速動作を可能としたバッファ回路を提供することを
目的としている。
回路は、ドレインが電源に接続されたE型の第1のNM
OSトランジスタ及びドレインが接地されたE型の第1
のPMOSトランジスタにより構成され、これら第1の
NMOSトランジスタと第1のPMOSトランジスタの
ゲートが共通に信号入力端に、ソースが共通に出力ノー
ドに接続されたソースフォロアと、ソースが電源に接続
されたE型の第2のPMOSトランジスタ及びソースが
接地されたE型の第2のNMOSトランジスタにより構
成され、これら第2のPMOSトランジスタと第2のN
MOSトランジスタのゲートが共通に前記ソースフォロ
アの出力ノードに接続され、ドレインが共通に信号出力
端に接続されたインバータと、前記ソースフォロアの出
力ノードと電源との間に介挿されて前記インバータの出
力によりゲートが制御されるE型の第3のPMOSトラ
ンジスタと、前記ソースフォロアの出力ノードと接地と
の間に介挿されて前記インバータの出力によりゲートが
制御されるE型の第3のNMOSトランジスタとを有す
ることを特徴としている。
るメインクロックバッファと、このメインクロックバッ
ファの出力クロックを受けて複数の負荷のクロックライ
ンにクロックを分配するための複数のサブクロックバッ
ファとを有するバッファ回路において、前記サブクロッ
クバッファは、ドレインが電源に接続されたE型の第1
のNMOSトランジスタ及びドレインが接地されたE型
の第1のPMOSトランジスタにより構成され、これら
第1のNMOSトランジスタと第1のPMOSトランジ
スタのゲートが共通に信号入力端に、ソースが共通に出
力ノードに接続されたソースフォロアと、ソースが電源
に接続されたE型の第2のPMOSトランジスタ及びソ
ースが接地されたE型の第2のNMOSトランジスタに
より構成され、これら第2のPMOSトランジスタと第
2のNMOSトランジスタのゲートが共通に前記ソース
フォロアの出力ノードに接続され、ドレインが共通に信
号出力端に接続されたインバータと、前記ソースフォロ
アの出力ノードと電源との間に介挿されて前記インバー
タの出力によりゲートが制御されるE型の第3のPMO
Sトランジスタと、前記ソースフォロアの出力ノードと
接地との間に介挿されて前記インバータの出力によりゲ
ートが制御されるE型の第3のNMOSトランジスタと
を有することを特徴としている。
ロアを構成する第1のNMOSトランジスタ,第1のP
MOSトランジスタ共にE型としている。これだけで
は、十分な“H”レベル及び“L”レベル出力を出せな
いが、ソースフォロアの出力ノードには、共にE型の第
2のPMOSトランジスタと第2のNMOSトランジス
タを用いたインバータ、即ち通常のCMOSインバータ
が接続されて、ソースフォロアの出力ノードの反転出力
を得る。同時に、ソースフォロア出力ノードと電源及び
接地の間に設けられたE型の第3のPMOSトランジス
タ及び第3のNMOSトランジスタはCMOSインバー
タの出力によりゲートが制御されてオン,オフする。従
って、E型MOSトランジスタのみを用いて、ソースフ
ォロアの出力ノードは電源電位、接地電位まで振れ、最
終出力端も電源電位,接地電位まで振れる。
NMOSトランジスタを作るためのイオン注入工程が必
要なく、LSIの工程数が削減できる。また、ソースフ
ォロアの出力ノードでは十分な“H”レベル,“L”レ
ベル出力が出るため、出力段のCMOSインバータ、更
にこれにつながる次段のCMOS回路での貫通電流を低
減することができる。
説明する。図1は、この発明の一実施例に係るバッファ
回路である。信号入力端INにゲートが共通接続された
第1のE型NMOSトランジスタQN1と第1のE型PM
OSトランジスタQP1によりソースフォロア11が構成
されている。NMOSトランジスタQN1はドレインが電
源VDDに接続され、ソースが出力ノードN1に接続され
ている。PMOSトランジスタQP1はドレインが接地V
SSに接続され、ソースが出力ノードN1に接続されてい
る。
は、通常のCMOSインバータ12が接続されている。
即ち、E型の第2のPMOSトランジスタQP2は、ソー
スがVDD、ドレインが信号出力端OUTにそれぞれ接続
され、ゲートがソースフォロア11の出力ノードN1に
接続されている。E型の第2のNMOSトランジスタQ
N2は、ソースがVSS、ドレインが信号出力端OUTにそ
れぞれ接続され、ゲートがソースフォロア11の出力ノ
ードN1に接続されている。
DDの間には第3のE型PMOSトランジスタQP3が、ま
た出力ノードN1とVSSの間には第3のE型NMOSト
ランジスタQN3が、それぞれドレインを出力ノードN1
側にして介挿されている。これらのMOSトランジスタ
QP3,QN3のゲートはCMOSインバータ12の出力に
より共通に制御される。具体的に例えば、第2,第3の
NMOSトランジスタQN2,QN3のしきい値電圧は、V
TN=+0.8V程度、第2,第3のPMOSトランジス
タQP2,QP3のしきい値電圧は、VTP=−0.8V程度
であり、第1のNMOSトランジスタQN1のしきい値
は、バックゲートバイアス効果のため、VTN=1.0
V、第1のPMOSトランジスタQP1のしきい値はやは
りバックゲートバイアス効果のため、VTP=−1.0V
程度となる。
を、図2の各部電圧波形を参照して説明する。信号入力
端INには、“L”レベル=VSS、“H”レベル=VDD
のクロックが入るものとする。信号入力端INが“L”
レベルの時、ソースフォロア11の第1のPMOSトラ
ンジスタQP1はオン、第1のNMOSトランジスタQN1
はオフであり、出力ノードN1は“L”、従って信号出
力端OUTは“H”である。
ソースフォロア11のNMOSトランジスタQN1がオン
になり、出力ノードN1は殆ど遅れがなく、信号入力端
INと同相で立ち上がる。出力ノードN1の電位は、V
DD−VTNになるとNMOSトランジスタQN1がオフにな
り、ホールドしようとする。しかしこのとき、CMOS
インバータ12の回路しきい値が例えばVDD/2程度で
あるとすれば、既にCMOSインバータ12の出力端子
OUTが“L”レベルに下がり始めており、これにより
出力ノードN1に介挿された第3のPMOSトランジス
タQP3がオン、第3のNMOSトランジスタQN3がオフ
になる。第3のPMOSトランジスタQP3のドレイン端
子である出力ノードN1の電位上昇は、しきい値により
制限されることはなく、出力ノードN1はほぼ完全にV
DDまで持ち上げられる。
に、VDD−|VTP|でPMOSトランジスタQP1がオン
して、出力ノードN1は信号入力端INと同相で立ち下
がる。そして、出力ノードN1は|VTP|まで下がると
ホールドしようとするが、このときCMOSインバータ
12の出力が立ち上がっており、これにより第3のNM
OSトランジスタQN3がオン、第3のPMOSトランジ
スタQP3がオフになる。従って出力ノードN1はVSSま
で下がる。
スフォロア11にE型MOSトランジスタを用いている
が、第3のPMOSトランジスタQP3及び第3のNMO
SトランジスタQN3の働きによって、出力ノードN1は
“H”レベル=VDD,“L”レベル=VSSまで出る。従
って、CMOSインバータ12での貫通電流は小さく抑
えられ、またCMOSインバータ12がやはり十分な
“H”レベル,“L”レベル出力を出すから、これにつ
ながる次段のCMOS回路での貫通電流も抑えられる。
OSトランジスタを用いないから、D型MOSトランジ
スタを得るための特別のチャネルイオン注入工程を要せ
ず、LSIに適用して工程が簡単になる。勿論、ソース
フォロアバッファの利点を活かして高速スイッチング動
作が可能である。
けるクロックバッファ回路の模式的なレイアウト例を示
している。外部クロックCKが入るメインクロックバッ
ファ31と、このメインクロックバッファ31の出力ク
ロックを受けて複数の負荷へのクロックラインにクロッ
クを分配するための複数のサブクロックバッファ32
(321 ,322 ,…,32n )を有する。この様な分
散型クロックバッファ回路のサブクロックバッファ32
として、図1に示したバッファ回路を用いる。メインク
ロックバッファ31には、通常のCMOSインバータバ
ッファを用いる。
ッファ31に負荷としてつながる多数のサブクロックバ
ッファ32は、入力段に等価入力容量が小さいソースフ
ォロアを用いているために、メインクロックバッファ3
1にとっては負荷容量が小さいものとなる。従って、ク
ロックスキューが改善される。
型MOSトランジスタを用いてソースフォロアとこれに
接続されるCMOSインバータを構成し、またソースフ
ォロア出力ノードにはその電位をVDD、VSSまで振幅さ
せるためにCMOSインバータ出力により制御されるE
型のPMOSトランジスタ及びNMOSトランジスタを
設けて、工程数の増大をもたらすことなく、貫通電流を
抑制して高速動作を可能としたバッファ回路を得ること
ができる。
す。
す。
N1…第1のNMOSトランジスタ、QP1…第1のPMO
Sトランジスタ、QN2…第2のNMOSトランジスタ、
QP2…第2のPMOSトランジスタ、QN3…第3のNM
OSトランジスタ、QP3…第3のPMOSトランジス
タ。
Claims (2)
- 【請求項1】 ドレインが電源に接続されたエンハンス
メント型の第1のNMOSトランジスタ及びドレインが
接地されたエンハンスメント型の第1のPMOSトラン
ジスタにより構成され、これら第1のNMOSトランジ
スタと第1のPMOSトランジスタのゲートが共通に信
号入力端に、ソースが共通に出力ノードに接続されたソ
ースフォロアと、 ソースが電源に接続されたエンハンスメント型の第2の
PMOSトランジスタ及びソースが接地されたエンハン
スメント型の第2のNMOSトランジスタにより構成さ
れ、これら第2のPMOSトランジスタと第2のNMO
Sトランジスタのゲートが共通に前記ソースフォロアの
出力ノードに接続され、ドレインが共通に信号出力端に
接続されたインバータと、 前記ソースフォロアの出力ノードと電源との間に介挿さ
れて前記インバータの出力によりゲートが制御されるエ
ンハンスメント型の第3のPMOSトランジスタと、 前記ソースフォロアの出力ノードと接地との間に介挿さ
れて前記インバータの出力によりゲートが制御されるエ
ンハンスメント型の第3のNMOSトランジスタとを有
することを特徴とするバッファ回路。 - 【請求項2】 クロック信号が供給されるメインクロッ
クバッファと、このメインクロックバッファの出力クロ
ックを受けて複数の負荷のクロックラインにクロック信
号を分配するための複数のサブクロックバッファとを有
するバッファ回路において、前記サブクロックバッファ
は、 ドレインが電源に接続されたエンハンスメント型の第1
のNMOSトランジスタ及びドレインが接地されたエン
ハンスメント型の第1のPMOSトランジスタにより構
成され、これら第1のNMOSトランジスタと第1のP
MOSトランジスタのゲートが共通に信号入力端に、ソ
ースが共通に出力ノードに接続されたソースフォロア
と、 ソースが電源に接続されたエンハンスメント型の第2の
PMOSトランジスタ及びソースが接地されたエンハン
スメント型の第2のNMOSトランジスタにより構成さ
れ、これら第2のPMOSトランジスタと第2のNMO
Sトランジスタのゲートが共通に前記ソースフォロアの
出力ノードに接続され、ドレインが共通に信号出力端に
接続されたインバータと、 前記ソースフォロアの出力ノードと電源との間に介挿さ
れて前記インバータの出力によりゲートが制御されるエ
ンハンスメント型の第3のPMOSトランジスタと、 前記ソースフォロアの出力ノードと接地との間に介挿さ
れて前記インバータの出力によりゲートが制御されるエ
ンハンスメント型の第3のNMOSトランジスタとを有
することを特徴とするバッファ回路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7134830A JP2947122B2 (ja) | 1995-05-08 | 1995-05-08 | バッファ回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7134830A JP2947122B2 (ja) | 1995-05-08 | 1995-05-08 | バッファ回路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08307239A JPH08307239A (ja) | 1996-11-22 |
JP2947122B2 true JP2947122B2 (ja) | 1999-09-13 |
Family
ID=15137467
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7134830A Expired - Fee Related JP2947122B2 (ja) | 1995-05-08 | 1995-05-08 | バッファ回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2947122B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9536593B1 (en) * | 2016-05-23 | 2017-01-03 | Qualcomm Incorporated | Low power receiver with wide input voltage range |
DE102020114004A1 (de) * | 2019-07-08 | 2021-01-14 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Pufferschaltung zwischen unterschiedlichen spannungsdomänen |
-
1995
- 1995-05-08 JP JP7134830A patent/JP2947122B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH08307239A (ja) | 1996-11-22 |
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