JP2943363B2 - フェニルケトン類の製造法 - Google Patents
フェニルケトン類の製造法Info
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- JP2943363B2 JP2943363B2 JP3046708A JP4670891A JP2943363B2 JP 2943363 B2 JP2943363 B2 JP 2943363B2 JP 3046708 A JP3046708 A JP 3046708A JP 4670891 A JP4670891 A JP 4670891A JP 2943363 B2 JP2943363 B2 JP 2943363B2
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- ruthenium
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- triphenylphosphine
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、下記一般式 化3で示
されるフェニルケトン類の製造法に関する。上記フェニ
ルケトン類は、医薬、農薬、香料、染料をはじめとして
種々の製品を製造する際にその基幹原料として重要な化
合物である。
されるフェニルケトン類の製造法に関する。上記フェニ
ルケトン類は、医薬、農薬、香料、染料をはじめとして
種々の製品を製造する際にその基幹原料として重要な化
合物である。
【0002】
【従来の技術】フェニルケトンを得る一般的な方法とし
てはベンゼン誘導体のフリーデルクラフツ反応によるア
シル化がよく知られているが、ベンゼン誘導体のアシル
化に対する反応性から、基質としての種類が限られた
り、ベンゼン環の置換基効果のため、例えば得られてく
るジ置換のフェニルケトン類の置換位置は制限される。
また、アルキルベンゼン誘導体の直接酸化の方法も種々
検討されているが、例えば毒性の強いクロム化合物を用
いていたり(J.Org.Chem.50,2791
(1985))、反応条件が厳しい等、必ずしも有利な
方法とは言いがたい。
てはベンゼン誘導体のフリーデルクラフツ反応によるア
シル化がよく知られているが、ベンゼン誘導体のアシル
化に対する反応性から、基質としての種類が限られた
り、ベンゼン環の置換基効果のため、例えば得られてく
るジ置換のフェニルケトン類の置換位置は制限される。
また、アルキルベンゼン誘導体の直接酸化の方法も種々
検討されているが、例えば毒性の強いクロム化合物を用
いていたり(J.Org.Chem.50,2791
(1985))、反応条件が厳しい等、必ずしも有利な
方法とは言いがたい。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の種々の問題点を解決するフェニルケトン類の有利な製
造法を提供することにある。
の種々の問題点を解決するフェニルケトン類の有利な製
造法を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するため、種々検討の結果本発明に至った。すなわ
ち本発明は、一般式 化1
解決するため、種々検討の結果本発明に至った。すなわ
ち本発明は、一般式 化1
【0005】 (式中、Rは炭素数1〜10のアルキル基または置換基
を有していてもよいフェニル基を示し、Xは低級アルキ
ル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、フェノキシ基また
は水素原子を示す。)で示されるアルキルベンゼン誘導
体と一般式 化2
を有していてもよいフェニル基を示し、Xは低級アルキ
ル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、フェノキシ基また
は水素原子を示す。)で示されるアルキルベンゼン誘導
体と一般式 化2
【0006】 (式中、Rは同一または相異なり低級アルキル基を示
し、R’はハロゲンもしくはニトロ基を有していてもよ
いフェニル基、または低級アルキル基を示す。)で示さ
れるヒドロペルオキシド化合物とを、ルテニウム触媒の
存在下反応させることを特徴とする一般式 化3
し、R’はハロゲンもしくはニトロ基を有していてもよ
いフェニル基、または低級アルキル基を示す。)で示さ
れるヒドロペルオキシド化合物とを、ルテニウム触媒の
存在下反応させることを特徴とする一般式 化3
【0007】 (式中、RおよびXは前記と同じ意味を表わす。)で示
されるフェニルケトン類の製造法を提供するものであ
る。
されるフェニルケトン類の製造法を提供するものであ
る。
【0008】本発明において原料として用いられる上記
一般式 化1で示されるアルキルベンゼン誘導体として
は、例えば、エチルベンゼン、n−プロピルベンゼン、
n−ヘプチルベンゼン、p−エチルトルエン、p−クロ
ロエチルベンゼン、m−クロロエチルベンゼン、o−ク
ロロエチルベンゼン、m−フェノキシエチルベンゼン、
p−メトキシエチルベンゼン、ジフェニルメタン、1,
3−ジフェニルプロパン等があげられる。
一般式 化1で示されるアルキルベンゼン誘導体として
は、例えば、エチルベンゼン、n−プロピルベンゼン、
n−ヘプチルベンゼン、p−エチルトルエン、p−クロ
ロエチルベンゼン、m−クロロエチルベンゼン、o−ク
ロロエチルベンゼン、m−フェノキシエチルベンゼン、
p−メトキシエチルベンゼン、ジフェニルメタン、1,
3−ジフェニルプロパン等があげられる。
【0009】ルテニウム触媒としては、ジクロロトリス
(トリフェニルホスフィン)ルテニウム、ジヒドリドテ
トラキス(トリフェニルホスフィン)ルテニウムまたは
三塩化ルテニウム水和物等があげられ、その使用量は、
特には制限されないが、通常、アルカンに対し、0.0
1モル%〜20モル%の範囲である。
(トリフェニルホスフィン)ルテニウム、ジヒドリドテ
トラキス(トリフェニルホスフィン)ルテニウムまたは
三塩化ルテニウム水和物等があげられ、その使用量は、
特には制限されないが、通常、アルカンに対し、0.0
1モル%〜20モル%の範囲である。
【0010】また、上記一般式 化2で示されるヒドロ
ペルオキシド化合物としては、t−ブチルヒドロペルオ
キシド、2−メチル−2−ブチルヒドロペルオキシド、
2−メチル−2−ペンチルヒドロペルオキシド、クメン
ヒドロペルオキシド、4’−クロロクメンヒドロペルオ
キシド、4’−ニトロクメンヒドロペルオキシド等があ
げられ、その使用量は、特には制限されないが、通常、
アルカンに対し、0.1モル%〜1000モル%の範囲
である。
ペルオキシド化合物としては、t−ブチルヒドロペルオ
キシド、2−メチル−2−ブチルヒドロペルオキシド、
2−メチル−2−ペンチルヒドロペルオキシド、クメン
ヒドロペルオキシド、4’−クロロクメンヒドロペルオ
キシド、4’−ニトロクメンヒドロペルオキシド等があ
げられ、その使用量は、特には制限されないが、通常、
アルカンに対し、0.1モル%〜1000モル%の範囲
である。
【0011】本発明において、反応溶媒は特には必要と
しないが、溶媒を用いる場合には、原料のアルカンより
も不活性であることが必要であり、例えば、ベンゼン、
モノクロロベンゼン、ジクロロメタン等があげられる。
また、本反応は、水の存在下におこなってもよく、例え
ば、t−ブチルヒドロペルオキシドを用いる場合には、
一般に市販されている70%水溶液のままで使用するこ
とができる。
しないが、溶媒を用いる場合には、原料のアルカンより
も不活性であることが必要であり、例えば、ベンゼン、
モノクロロベンゼン、ジクロロメタン等があげられる。
また、本反応は、水の存在下におこなってもよく、例え
ば、t−ブチルヒドロペルオキシドを用いる場合には、
一般に市販されている70%水溶液のままで使用するこ
とができる。
【0012】反応温度は、通常、0℃から反応混合物の
還流温度の範囲であり、好ましくは20℃から50℃の
範囲である。反応時間は、特には制限されないが、通
常、反応混合物をGC等で分析し目的物のケトンの生成
率が頭打ちとなるときを反応終点とすればよい。
還流温度の範囲であり、好ましくは20℃から50℃の
範囲である。反応時間は、特には制限されないが、通
常、反応混合物をGC等で分析し目的物のケトンの生成
率が頭打ちとなるときを反応終点とすればよい。
【0013】反応終了後、例えば、亜硫酸ナトリウム水
溶液を反応混合物に加え、攪拌し、残存する過酸化物を
分解した後、分液、洗浄、濃縮、必要により精留等の操
作により目的のフェニルケトン類を得ることができる。
溶液を反応混合物に加え、攪拌し、残存する過酸化物を
分解した後、分液、洗浄、濃縮、必要により精留等の操
作により目的のフェニルケトン類を得ることができる。
【0014】
【発明の効果】本発明は、低毒性でかつ調製が簡単なル
テニウム錯体を触媒として用い、入手容易なヒドロペル
オキシド化合物とアルカンとを一段階でかつ温和な条件
で反応させることができる優れたフェニルケトン類の製
造法である。
テニウム錯体を触媒として用い、入手容易なヒドロペル
オキシド化合物とアルカンとを一段階でかつ温和な条件
で反応させることができる優れたフェニルケトン類の製
造法である。
【0015】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0016】実施例1〜3 エチルベンゼン212mg、触媒3モル%(対エチルベ
ンゼン)およびベンゼン2.0mlの混合物に25℃で
3.59M・t−ブチルヒドロペルオキシドのベンゼン
溶液0.28mlを1時間かけて滴下した。反応混合物
を同温度でさらに0.5時間攪拌後、GCで分析し、表
−1に示す結果を得た。生成物については、GC−IS
法による定量およびGC−MSによる構造の同定をおこ
なった。
ンゼン)およびベンゼン2.0mlの混合物に25℃で
3.59M・t−ブチルヒドロペルオキシドのベンゼン
溶液0.28mlを1時間かけて滴下した。反応混合物
を同温度でさらに0.5時間攪拌後、GCで分析し、表
−1に示す結果を得た。生成物については、GC−IS
法による定量およびGC−MSによる構造の同定をおこ
なった。
【0017】 〔表−1〕 ─────────────────────────────────── 実施例 触媒 転化率*1(%) アセトフェノン 収率*2(%) 1 Cat−1 28.8 57.6 2 Cat−2 34.0 65.4 3 Cat−3 21.8 39.8 ──────────────────────────────────── 註) Cat−1:ジクロロトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム Cat−2:ジヒドリドテトラキス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム Cat−3:三塩化ルテニウム水和物 *1 対t−ブチルヒドロペルオキシド *2 対消費エチルベンゼン
【0018】実施例4 エチルベンゼン212mg、ジクロロトリス(トリフェ
ニルホスフィン)ルテニウム58mgおよびベンゼン
2.0mlの混合物に25℃でクメンヒドロペルオキシ
ド152mgを1時間かけて滴下した。反応混合物を同
温度でさらに0.5時間攪拌後、GCで分析し、次の結
果を得た。 エチルベンゼン転化率21.5%(対クメンヒドロペル
オキシド) アセトフェノン収率102.5%(対消費エチルベンゼ
ン)
ニルホスフィン)ルテニウム58mgおよびベンゼン
2.0mlの混合物に25℃でクメンヒドロペルオキシ
ド152mgを1時間かけて滴下した。反応混合物を同
温度でさらに0.5時間攪拌後、GCで分析し、次の結
果を得た。 エチルベンゼン転化率21.5%(対クメンヒドロペル
オキシド) アセトフェノン収率102.5%(対消費エチルベンゼ
ン)
【0019】実施例5 エチルベンゼン212mg、ジクロロトリス(トリフェ
ニルホスフィン)ルテニウム58mgおよびベンゼン
2.0mlの混合物に25℃で3.09M・t−ブチル
ヒドロペルオキシドのベンゼン溶液2.59mlを1時
間かけて滴下した。反応混合物を同温度でさらに1時間
攪拌した。反応混合物にエーテルおよび10%亜硫酸ナ
トリウム水溶液を加え、攪拌、分液後、有機層を飽和食
塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾
過し、濾液を濃縮して得られた油状物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製し、アセトフェノン124
mgを無色の油状物として得た。1 H−NMR(CDCl3 ) δ 2.59(s,3H),7.42〜7.59(m,
3H),7.93〜7.97(m,2H) IR (neat)1686cm1-1 HR−MS 120、0572(C8 H8 Oとしての計
算値120、0575)
ニルホスフィン)ルテニウム58mgおよびベンゼン
2.0mlの混合物に25℃で3.09M・t−ブチル
ヒドロペルオキシドのベンゼン溶液2.59mlを1時
間かけて滴下した。反応混合物を同温度でさらに1時間
攪拌した。反応混合物にエーテルおよび10%亜硫酸ナ
トリウム水溶液を加え、攪拌、分液後、有機層を飽和食
塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤を濾
過し、濾液を濃縮して得られた油状物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製し、アセトフェノン124
mgを無色の油状物として得た。1 H−NMR(CDCl3 ) δ 2.59(s,3H),7.42〜7.59(m,
3H),7.93〜7.97(m,2H) IR (neat)1686cm1-1 HR−MS 120、0572(C8 H8 Oとしての計
算値120、0575)
【0020】実施例6〜11 エチルベンゼンを表−3のアルキルベンゼン誘導体に代
える以外は、実施例5と同様の条件で反応を行い、表−
3に示す結果を得た。
える以外は、実施例5と同様の条件で反応を行い、表−
3に示す結果を得た。
【0021】 〔表−3〕 ──────────────────────────────────── 実施例 出発物質 転化率*1 生成物 単離収率(%) (%) 6 n−プロピル 41.6 プロピオ 21.0 ベンゼン フェノン 7 p−エチル 65.7 4’−メチル 38.4 トルエン アセトフェノン 8 p−クロロエ 46.3 4’−クロロ 42.3 チルベンゼン アセトフェノン 9 m−クロロエ 47.7 3’−クロロ 34.3 チルベンゼン アセトフェノン 10 p−メトキシ 65.9 4’−メトキシ 45.0 エチルベンゼン エチルベンゼン 11 ジフェニル ベンゾフェノン 75.0 メタン *1 GC−IS法により求めた。
【0022】実施例6のプロピオフェノンの物性 1 H−NMR(CDCl3 ) δ 7.95(m,2H),7.40〜7.56(m,
3H),2.98(q,2H,J=7.3Hz),1.
21(t,3H,J=7.3Hz) IR(neat) 1688cm1-1 実施例7の4’−メチルアセトフェノンの物性 1 H−NMR(CDCl3 ) δ 7.84(m,2H),7.22(m,2H),
2.54(s,3H),2.38(s,3H) IR(neat) 1682cm1-1 実施例8の4’−クロロアセトフェノンの物性 1 H−NMR(CDCl3 ) δ 7.88(m,2H),7.42(m,2H),
2.57(s,3H) IR(neat) 1688cm1-1 実施例9の3’−クロロアセトフェノンの物性 1 H−NMR(CDCl3 ) δ 7.91(m,1H),7.82(m,1H),
7.52(m,1H),7.39(m,1H),2.5
8(s,3H) IR(neat) 1690cm1-1 実施例10の4’−メトキシアセトフェノンの物性 1 H−NMR(CDCl3 ) δ 7.92(m,2H),6.91(m,2H),
3.85(s,3H),2.53(s,3H) IR(KBr) 1669cm1-1 実施例11のベンゾフェノンの物性 1 H−NMR(CDCl3 ) δ 7.65〜7.85(m,4H),7.18〜7.
58(m,6H) IR(neat) 1660cm1-1
3H),2.98(q,2H,J=7.3Hz),1.
21(t,3H,J=7.3Hz) IR(neat) 1688cm1-1 実施例7の4’−メチルアセトフェノンの物性 1 H−NMR(CDCl3 ) δ 7.84(m,2H),7.22(m,2H),
2.54(s,3H),2.38(s,3H) IR(neat) 1682cm1-1 実施例8の4’−クロロアセトフェノンの物性 1 H−NMR(CDCl3 ) δ 7.88(m,2H),7.42(m,2H),
2.57(s,3H) IR(neat) 1688cm1-1 実施例9の3’−クロロアセトフェノンの物性 1 H−NMR(CDCl3 ) δ 7.91(m,1H),7.82(m,1H),
7.52(m,1H),7.39(m,1H),2.5
8(s,3H) IR(neat) 1690cm1-1 実施例10の4’−メトキシアセトフェノンの物性 1 H−NMR(CDCl3 ) δ 7.92(m,2H),6.91(m,2H),
3.85(s,3H),2.53(s,3H) IR(KBr) 1669cm1-1 実施例11のベンゾフェノンの物性 1 H−NMR(CDCl3 ) δ 7.65〜7.85(m,4H),7.18〜7.
58(m,6H) IR(neat) 1660cm1-1
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07C 49/807 C07C 49/807 49/84 49/84 C // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (56)参考文献 特開 昭61−87634(JP,A) Journal of the Ch emical Society Che mical Communicatio ns,(1987)Vol.16,p.1266− 1267 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B01J 31/24 C07C 45/28 C07C 49/76 - 49/84 C07C 61/00 300 CA(STN) WPI/L(QUESTEL)
Claims (4)
- 【請求項1】一般式 化1 (式中、Rは炭素数1〜10のアルキル基または置換基
を有していてもよいフェニル基を示し、Xは低級アルキ
ル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、フェノキシ基また
は水素原子を示す。)で示されるアルキルベンゼン誘導
体と一般式 化2 (式中、Rは同一または相異なり低級アルキル基を示
し、R’はハロゲンもしくはニトロ基を有していてもよ
いフェニル基、または低級アルキル基を示す。)で示さ
れるヒドロペルオキシド化合物とを、ルテニウム触媒の
存在下反応させることを特徴とする一般式 化3 (式中、RおよびXは前記と同じ意味を表わす。)で示
されるフェニルケトン類の製造法。 - 【請求項2】ルテニウム触媒がジクロロトリス(トリフ
ェニルホスフィン)ルテニウム、ジヒドリドテトラキス
(トリフェニルホスフィン)ルテニウムまたは三塩化ル
テニウム水和物である請求項1記載のフェニルケトン類
の製造法。 - 【請求項3】ヒドロペルオキシド化合物がt−ブチルヒ
ドロペルオキシドまたはクメンヒドロペルオキシドであ
る請求項1記載のフェニルケトン類の製造法。 - 【請求項4】ルテニウム触媒がジクロロトリス(トリフ
ェニルホスフィン)ルテニウム、ジヒドリドテトラキス
(トリフェニルホスフィン)ルテニウムまたは三塩化ル
テニウム水和物であり、ヒドロペルオキシド化合物がt
−ブチルヒドロペルオキシドまたはクメンヒドロペルオ
キシドである請求項1記載のフェニルケトン類の製造
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3046708A JP2943363B2 (ja) | 1991-03-12 | 1991-03-12 | フェニルケトン類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3046708A JP2943363B2 (ja) | 1991-03-12 | 1991-03-12 | フェニルケトン類の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04283536A JPH04283536A (ja) | 1992-10-08 |
JP2943363B2 true JP2943363B2 (ja) | 1999-08-30 |
Family
ID=12754861
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3046708A Expired - Fee Related JP2943363B2 (ja) | 1991-03-12 | 1991-03-12 | フェニルケトン類の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2943363B2 (ja) |
-
1991
- 1991-03-12 JP JP3046708A patent/JP2943363B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Journal of the Chemical Society Chemical Communications,(1987)Vol.16,p.1266−1267 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04283536A (ja) | 1992-10-08 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |