JP2930225B2 - 集積回路素子 - Google Patents

集積回路素子

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JP2930225B2 JP25253791A JP25253791A JP2930225B2 JP 2930225 B2 JP2930225 B2 JP 2930225B2 JP 25253791 A JP25253791 A JP 25253791A JP 25253791 A JP25253791 A JP 25253791A JP 2930225 B2 JP2930225 B2 JP 2930225B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、サーマルヘッドの通電
を制御するための複数個のスイッチング素子を備えた集
積回路素子に関する。
【0002】
【従来の技術】図9は、典型的な従来例のサーマルヘッ
ド1のブロック図である。サーマルヘッド1は、絶縁基
板上に形成され駆動電圧VHが供給される共通電極2に
それぞれ発熱抵抗体4の一端部が接続され、各発熱抵抗
体4の他端部は、それぞれ個別電極5を介して、スイッ
チングトランジスタ(以下、トランジスタと称する)6
の入力端子に個別に接続される。各トランジスタ6の出
力端子は、共通に接地配線7に接続されて接地電位GN
DHに接続され、各トランジスタ6のゲート端子にはA
ND素子8がそれぞれ接続される。
【0003】前記トランジスタ6およびAND素子8
は、集積回路技術によって形成され駆動電圧VDD、接
地電位GNDLが供給される駆動回路素子9内に形成さ
れ、駆動回路素子9内には全てのAND素子8の数と同
一数のフリップフロップ回路からなるシフトレジスタ1
0、および同一数のラッチ素子からなるラッチ回路11
が形成される。本従来例では、各AND素子8には、ス
トローブ信号SBが共通に入力される。前記各電圧V
H,VDD,GNDH,GNDLは可撓性配線基板など
の外部配線基板が駆動回路素子9に接続されて供給され
る。
【0004】図10は、前記駆動回路素子9におけるト
ランジスタ6に関連する範囲の平面図である。駆動回路
素子9は、P−ch接合あるいはN−ch接合などが構
成される複数のトランジスタ領域12とトランジスタ領
域12に構成されたトランジスタ6が導通状態のとき、
前記発熱抵抗体4からの電流が出力される出力バッド1
3がトランジスタ領域12毎に鉛直線状に配列される。
この出力バッド13は、たとえばボンディングワイヤ1
4を用いてサーマルヘッド1の絶縁基板上の接地配線7
にそれぞれ接続される。
【0005】図11は、他の従来例の駆動回路素子9の
平面図であり、本従来例では隣接するトランジスタ領域
12毎の出力バッド13がいわゆる2段の千鳥状に配列
される。このとき各トランジスタ領域12と出力バッド
13との間は、たとえばアルミニウムなどのから成る接
続配線15でそれぞれ接続される。
【0006】上記図10および図11に示すいずれの構
成例も駆動回路素子9の出力バッド13をボンディング
ワイヤ14を用いて接続する構成のためボンディング工
程における作業性のため出力バッド13は、駆動回路素
子9の周縁部にのみ配置される。
【0007】図12および図13は、サーマルヘッド1
の前記絶縁基板にフェースダウンボンディング法によっ
て接続される形式の駆動回路素子9aの異なる構成例の
平面図である。図12の場合、図10に示した構成とほ
ぼ同様であるが、フェースダウンボンディング法による
接続では、図10および図11に示したボンディングワ
イヤ14で接続を行う必要がなく、したがって駆動回路
素子9aの任意の箇所に出力バッド13を設けることが
できる。したがってワイヤボンディングを行う際には図
11に示すように、たとえばたかだか2段の千鳥配置が
限界であったのに対し、フェースダウンボンディング法
では図13に示すように4段の千鳥配置が可能となる。
【0008】図14は、従来例のサーマルヘッドにおい
てフェースダウンボンディングを行う場合の駆動回路素
子9aにおけるトランジスタ領域12および出力バッド
13に関連する詳細な平面図であり、図15はトランジ
スタ領域12の拡大平面図である。この従来例では、出
力バッド13が3段の千鳥配置の場合を想定して説明す
る。トランジスタ領域12は、櫛歯状のソース領域17
に、やはり櫛歯状のドレン領域18が交互に組み合わさ
れて構成され、ソース領域17にはフェースダウンボン
ディング法でサーマルヘッド1の絶縁基板の電源ライン
に接続される入力バッド16が接続され、複数のドレン
領域18にはそれぞれ前述した接続配線15を介して出
力バッド13が接続される。
【0009】また図14の例では、トランジスタ領域1
2には3つのトランジスタ6がそれぞれ構成され、各ト
ランジスタ6に対応して出力バッド13がそれぞれ設け
られている。また3つののトランジスタ6に対応して各
トランジスタ6を導通/遮断制御する3つのゲート電極
20が設けられる。図15に示すようにそれぞれ櫛歯状
を為し、交互に組み合わされて用いられるソース領域1
7およびドレン領域18の間に相当する部分に、ゲート
領域19が設けられ、このゲート領域19には前記ゲー
ト電極20が接続される。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】図16は、このような
従来例の問題点を説明する図である。前記いずれの従来
例においても、とりわけフェースダウンボンディング法
で高密度に配置された前記発熱抵抗体4に接続される駆
動回路素子では、前記出力バッド13を3段あるいは4
段の千鳥配置とする必要がある。また各トランジスタ6
の特性のばらつきを抑制するため、トランジスタ6の面
積、すなわち図15に示したソース領域17、ドレン領
域18およびゲート領域19の占有する面積をそれぞれ
等しくする必要があり、このため従来例では図16に示
すように同一占有面積のトランジスタ領域12を直線状
に配列し、各トランジスタ領域12から3段または4段
に千鳥配列された出力バッド13に前記接続配線15を
用いて接続されている。
【0011】この出力バッド13と接続配線15とは、
駆動回路素子9,9aの発熱抵抗体4を選択的に発熱駆
動する機能を実現するための論理機能などを実現する部
分ではなく、駆動回路素子9,9aの前記制御機能から
すると無駄な部分であり、このために駆動回路素子9,
9aのチェップ面積が増大し、サーマルヘッド1の構成
が大型化するとともに駆動回路素子9,9aのコストア
ップを招いている。さらに出力パッド13を3段ないし
4段に配置するため、接続配線15の長さに大小がで
き、その抵抗に差が生じ、たとえばサーマルヘッド用の
ドライバーICとして使用する場合、発熱抵抗体4に一
定の電力が供給できず印画に濃度むらを生じる原因とな
る。
【0012】また、前述したように、各トランジスタ領
域12は直線状に配列されるため、駆動回路素子9,9
aの形状は、比較的長手のものとなり、しかもその周縁
部の長さが比較的長くなり、使用性が低いという課題を
有している。
【0013】本件発明者の計測によれば、出力パッド1
3が3段の千鳥配置となっている駆動回路素子9,9a
の場合には、駆動回路素子9,9a全体の寸法は7.6
5*1.8mm2である。このとき、図14に示すよう
な3ビット分のトランジスタ領域12と、これに対応す
る3ビット分の出力バッド13および入力パッド16な
どを含む構成の占有面積は、810*200μm2であ
り、1ビット分のトランジスタ領域12、出力バッド1
3および入力パッド16などを含む構成の占有面積は、
350*67μm2である。
【0014】本発明の目的は、上述の技術的課題を解消
し、構成を格段に小型化、簡略化することができ、しか
も使用性を向上することができる集積回路素子を提供す
ることである。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明は、一主面の所定
領域を、m行×n列(m,nは2以上の自然数)の行列
状に配列する複数個の区画に区分するとともに該各区画
内に出力パッドと該パッドに接続されるスイッチング素
子とを形成した集積回路素子であって、同一列に配列し
たm個の区画内に形成されるm個の出力パッドを千鳥状
に順次変位させるべく各スイッチング素子の回路パター
ン形状を行毎に異ならせたことを特徴とする集積回路素
子である。
【0016】
【0017】
【作用】本発明に従う集積回路素子は、m行n列に区分
された各区画に出力パッドと、それに接続されるスイッ
チング素子とを形成し、同一列内のm個の出力パッドを
千鳥状に列方向に位置をずらして配置させている。これ
によってサーマルヘッド等との配線の接続が容易になる
とともに、出力パッドとスイッチング素子との接続配線
の長さに大小が生ぜず、かつ形状をコンパクトにするこ
とができる。さらに集積回路素子の周縁部の長さを可及
的に縮小することができ、集積回路素子の使用性が向上
される。
【0018】
【0019】
【実施例】図2は本発明の一実施例の駆動回路素子30
に関連する構成の電気的構成を示す回路図であり、図3
はサーマルヘッド21の断面図であり、図4はサーマル
ヘッド21の電気回路図である。サーマルヘッド21
は、たとえばアルミニウムから成る放熱板22上に酸化
アルミニウムAl23などのセラミックから形成される
絶縁基板23が搭載される。絶縁基板23上にはガラス
から成るグレーズ層24が形成され、この上には窒化タ
ンタルTa34などをスパッタリングなどの薄膜技術で
数100Åの膜厚に成膜して、抵抗体層25が形成され
る。さらにその上には、アルミニウムなどの金属をスパ
ッタリングやエッチングなどの薄膜技術でパターン形成
する。
【0020】すなわちサーマルヘッド21に形成される
N個(例として1728個)の発熱抵抗体26を、後述
する予め定める個数(例として64個)毎に区分し、区
分されて得られるブロックB1〜B27(総称するとき
は参照符Bで示す)毎の発熱抵抗体26の一方端に共通
に接続される共通電極27を形成する。
【0021】発熱抵抗体26の他端には、発熱抵抗体2
6毎に個別電極29が形成され、ブロックB1〜B27
毎に後述する構成の駆動回路素子30の配置領域31内
に延びて、その端部はパッド部32として構成される。
【0022】前記配置領域31内には、絶縁基板23の
端部付近から駆動回路素子30に印画用の制御信号や印
画データなどを供給するために両端がパッド部37とし
て構成される複数の信号ライン38が設けられ、また各
配置領域31に亘り共通接地電極39が形成される。
【0023】絶縁基板23上で発熱抵抗体26を被覆し
て、たとえば窒化ケイ素Si34から成る保護膜41が
形成される。また駆動回路素子30はバンプ42を有
し、前記配置領域31内におけるパッド部32,37な
どに、はんだ層44を介してフェイスダウンボンディン
グ法で接続される。また前記信号ライン38のパッド部
37には、たとえば可撓性合成樹脂材料などから成る支
持フィルム45上に回路配線46が形成された可撓性配
線基板47がはんだ層44を介して接続される。
【0024】図2に示されるようにサーマルヘッド21
の駆動回路素子30には、各個別電極29に入力端が接
続され、一つのブロックBの発熱抵抗体26と同数のト
ランジスタ48がそれぞれ設けられる。各トランジスタ
48は、共通接地電極39に接続され、各トランジスタ
48の入力端子にはトランジスタ48と同数のAND素
子49がそれぞれ接続される。
【0025】前記トランジスタ48およびAND素子4
9は、集積回路技術によって形成される駆動回路素子3
0内に形成され、駆動回路素子30内には各AND素子
49の数と同数のフリップフロップ回路53からなるシ
フトレジスタ50、および同数のラッチ素子54からな
るラッチ回路51が形成される。
【0026】シフトレジスタ53は、外部からシリアル
データの形式でクロック信号CKとともに入力される印
画データDを格納し、パラレルデータとして出力する。
シフトレジスタ53からのパラレルデータはラッチ回路
51でラッチ信号LTの入力によりラッチされる。
【0027】各AND素子49には、AND素子49を
導通/遮断させるストローブ信号SBが共通に入力され
る。またラッチ回路51には、ラッチ回路51にラッチ
動作を行わせるラッチ信号LTが入力される。これらの
電源VH,VDD,GNDH,GNDLは可撓性配線基
板などの外部配線基板47が駆動回路素子30にAl配
線38で接続されて供給される。
【0028】ストローブ信号SBは、プルアップ抵抗6
0で所定のバイアス電位が与えられ、バッファ52を介
して、各AND素子49の各一方入力端子に共通に入力
される。ラッチ信号LTは、バッファ65を介してラッ
チ回路51の各ラッチ素子54に共通に入力される。
【0029】図6は本発明の基礎となる構成の駆動回路
素子30内の各トランジスタ48の配列状態を示す平面
図であり、図5は駆動回路素子30の1つの列における
トランジスタ48の配列状態を示す平面図であり、図1
は1つのトランジスタ48の平面図である。本構成で
は、駆動回路素子30において、個々のトランジスタ4
8を構成する略矩形状の形成領域33を、図6に示すよ
うにm行n列の行列状に配置する。各形成領域33に
は、後述するようにソース領域およびドレイン領域が設
けられ、トランジスタとして実質的な機能を担う構造が
作成されるトランジスタ領域34と、図2に示す各トラ
ンジスタ48が導通したときに共通電極27から発熱抵
抗体26および個別電極29を経て流れる電流が流れ込
む出力パッド35とがそれぞれ設けられる。
【0030】以下、図1および図5を参照して、形成領
域33内の構成を詳述する。前述したように出力パッド
35は、前記各個別電極29のパッド部32が、図6に
示す出力パッド35の配列状態と同一の配列状態で絶縁
基板23上に形成されることにより、駆動回路素子30
をフェイスダウンボンディングにて絶縁基板23上に接
続することができ、これにより各個別電極29と接続さ
れる。トランジスタ領域34には、各出力パッド35に
接続され、図6の形成領域33の配列状態における行方
向、すなわち図1および図5の右方側に延び、複数の櫛
歯状をなす第1ドレイン領域55が接続され、列方向す
なわち図1および図5の下方に向けて延び、やはり複数
の櫛歯状をなす第2ドレイン領域56が接続される。こ
のような構成は、各トランジスタ領域34において全て
共通である。
【0031】一方、トランジスタ領域34には、図6に
おけるm行n列の複数の形成領域33の前記第1および
第2ドレイン領域55,56と共通に組合わされるソー
ス領域57が設けられる。このソース領域57は、各形
成領域33毎に前記各第1および第2ドレイン領域5
5,56と対応する複数の櫛歯状にそれぞれ形成された
第1ソース領域58および第2ソース領域59がそれぞ
れ配置され、各形成領域33毎の第1および第2ソース
領域58,59が前述した列方向に共通に接続され、全
体としてソース領域57を構成する。
【0032】前述したように、列方向すなわち図6およ
び図5の上下方向に配列された複数の形成領域33の図
5下方端部には、前記ソース領域57が例として形成領
域33の面積程度に形成され、ここに絶縁基板23上に
形成された前記共通接地電極39にフェイスダウンボン
ディング法にて接続される入力パッド36が形成され
る。また図5に示すように、それぞれ櫛歯状をなし相互
に組合わされる第1および第2ドレイン領域55,56
と、第1および第2ソース領域58,59との間に相当
する部分に配置され、単一のソース領域57に基づいて
形成されるトランジスタ領域34の数と同数のゲート電
極62が形成される。
【0033】図1に示されるようにゲート電極62は、
ドレイン領域55,56およびソース領域58,59の
間であって、図1の紙面背後側あるいは手前側に形成さ
れる、図中2点鎖線で示すゲート領域63に接続され
る。これら各ゲート電極62は、図2に示すAND素子
49とそれぞれ接続される。
【0034】図7は、本構成例の作用を説明する図であ
る。本構成例では駆動回路素子30内において、各トラ
ンジスタ48が構成される前述した形成領域33内に、
トランジスタ領域34と出力パッド35とを設けるよう
にしている。したがって図6の配置列において、行数m
=3の場合を想定すると、従来例では図14に示す構成
となる。これを図7(1)に簡略化して示す。すなわ
ち、3ビット分のトランジスタ領域12と、3段の千鳥
配置となる3つの出力パッド13が配置されるパッド領
域13aとが設けられ、これらの寸法例は従来技術の項
で述べたとおりである。
【0035】これに対し本構成例では、図7(2)で示
されるように3つの形成領域33が縦に配列された構成
となる。このような形成領域33にそれぞれ構成される
トランジスタ48において、従来例のトランジスタ6と
同等のトランジスタ能力を得るためには、従来例の場合
と同等なトランジスタ面積が必要となるので、出力パッ
ド35を含んだ形で同面積にするためには、1ビットあ
たりの形成領域33の面積は190×200μm2 程度
となり、図7(2)に示す3ビット分では600×20
0μm2 となる。したがって従来例の駆動回路素子9,
9aと本構成例の駆動回路素子30との全トランジスタ
6,48の占有面積をそれぞれ比較すると、本構成例で
は、
【0036】
【数1】 (600×200μm2)/(810×200μm2)=74% 程度に小形化される。
【0037】また本件発明者の計測によれば、従来例の
駆動回路素子9,9aと本構成例の駆動回路素子30と
の全体の占有面積は、本構成例の場合、7.65×1.
6mm2 となり、従来例に比べて89%程度の表面積と
なる。また集積回路素子のコストはチップ面積にほぼ比
例することが知られており、本構成例では上述のように
チップ面積を縮小したので、コストダウンを図ることが
できる。
【0038】また本構成例では、図6に示したように形
成領域33をm行n列の行列状に配列するようにしてい
る。これにより従来技術の項で示したように、駆動回路
素子9,9aにおいてトランジスタ領域12が直線状に
配列される構成と比較し、mn個の形成領域33から成
る構成が比較的に長手の帯状となる事態を防止し、コン
パクトにまとまった形状とすることができる。すなわち
このような構成の周縁部の長さを最小とすることができ
る。これにより駆動回路素子30の使用性が格段に向上
される。
【0039】図8は、本発明の一実施例の形成領域33
の出力パッド35とトランジスタ領域34の配置状態を
1つの列について示す平面図である。形成領域33は、
図6と同様に横方向にn列配置される。本実施例は、先
に説明した基礎となる構成と類似し、対応する部分には
同一の参照符を付す。基礎となる構成では、出力パッド
35が形成領域33の予め定める同一の位置、たとえば
左上部であったのに対し、本実施例では、出力パッド3
5が、たとえば4段の千鳥配置となるように、同一列の
形成領域33中で、順次変位される。このような構成例
は、図8に示すように櫛歯状の第1ドレイン領域55お
よび第1ソース領域58は、第1行において図1と同様
に構成され、第2行において出力パッド35の右方の長
さを縮小し、左方にその縮小した長さに相当する長さの
櫛歯状とし、第2行で左方の長さを増し右方の長さを縮
小し、第4行において図1と左右対称な構成とされる。
このような構成によって先に述べた基礎となる構成と同
様な効果に加えて、出力パッド35とサーマルヘッド等
との配線の接続が容易になる。
【0040】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、m行n列
に区分された各区画に出力パッドとそれに接続されるス
イッチング素子とが形成され、同一列内のm個の出力パ
ッドが千鳥状に列方向に位置をずらして配置されている
ので、同一列内の各出力パッドがサーマルヘッド等と配
線で容易に接続される。また各スイッチング素子が直線
上に配列される従来技術の場合と比較し、形状をコンパ
クトにでき、しかも集積回路素子の周縁部の長さを可及
的に縮小できる。これらによって集積回路素子の使用性
が向上される。
【0041】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の基礎となる構成のトランジスタ48の
平面図である。
【図2】本発明の一実施例の駆動回路素子30に関連す
る構成の電気的構成を示す回路図である。
【図3】サーマルヘッド21の断面図である。
【図4】サーマルヘッド21の電気回路図である。
【図5】本発明の基礎となる構成の1つの列におけるト
ランジスタ48の平面図である。
【図6】本発明の基礎となる構成のトランジスタ48の
配列状態を示す平面図である。
【図7】本発明の基礎となる構成の作用を説明する図で
ある。
【図8】本発明の一実施例の1つの列におけるトランジ
スタ48の配列状態を示す平面図である。
【図9】従来例のサーマルヘッド1の電気回路図であ
る。
【図10】ワイヤボンディングされる従来例の駆動回路
素子9におけるトランジスタ領域12の配列状態を示す
平面図である。
【図11】ワイヤボンディングされる他の従来例の駆動
回路素子9におけるトランジスタ領域12の配列状態を
示す平面図である。
【図12】フェイスダウンボンディングされる従来例の
駆動回路素子9aにおけるトランジスタ領域12の配列
状態を示す平面図である。
【図13】フェイスダウンボンディングされる他の従来
例の駆動回路素子9aにおけるトランジスタ領域12の
配列状態を示す平面図である。
【図14】この従来例のトランジスタ領域12付近の拡
大平面図である。
【図15】トランジスタ領域12の平面図である。
【図16】従来例の問題点を示す平面図である。
【符号の説明】
21 サーマルヘッド 26 発熱抵抗体 30 駆動回路素子 33 形成領域 34 トランジスタ領域 35 出力パッド 47 可撓性配線基板 48 トランジスタ 52,56 反転回路 50 シフトレジスタ 51 ラッチ回路 55,57 バッファ LT ラッチ信号 SB ストローブ信号
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 21/60 301 H01L 21/82 H01L 21/822 H01L 27/04

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一主面の所定領域を、m行×n列(m,
    nは2以上の自然数)の行列状に配列する複数個の区画
    に区分するとともに該各区画内に出力パッドと該パッド
    に接続されるスイッチング素子とを形成した集積回路素
    子であって、同一列に配列したm個の区画内に形成され
    るm個の出力パッドを千鳥状に順次変位させるべく各ス
    イッチング素子の回路パターン形状を行毎に異ならせた
    ことを特徴とする集積回路素子。
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