JP2926822B2 - 遠心ウェーハ乾燥装置 - Google Patents
遠心ウェーハ乾燥装置Info
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- JP2926822B2 JP2926822B2 JP510790A JP510790A JP2926822B2 JP 2926822 B2 JP2926822 B2 JP 2926822B2 JP 510790 A JP510790 A JP 510790A JP 510790 A JP510790 A JP 510790A JP 2926822 B2 JP2926822 B2 JP 2926822B2
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- centrifugal
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は遠心ウェーハ乾燥装置に関し、特にウェーハ
の浸漬水洗処理後の乾燥を行う遠心ウェーハ乾燥装置に
関する。
の浸漬水洗処理後の乾燥を行う遠心ウェーハ乾燥装置に
関する。
〔従来の技術〕 従来、この種の遠心ウェーハ乾燥装置は、ウェーハカ
セットに収納されたウェーハの乾燥を行うチャンバと、
チャンバを内外に開放する排気口と、吸気口に設けた除
電装置と、チャンバ内でウェーハカセットに収納された
ウェーハを回転するための回転駆動部とを有していた。
セットに収納されたウェーハの乾燥を行うチャンバと、
チャンバを内外に開放する排気口と、吸気口に設けた除
電装置と、チャンバ内でウェーハカセットに収納された
ウェーハを回転するための回転駆動部とを有していた。
第４図は従来の遠心ウェーハ乾燥装置の乾燥部の一例
の断面図である。
の断面図である。
以下、第４図を用いてその動作について説明する。
チャンバ１内に設けたロータ７の中にウェーハカセッ
ト２に収納したウェーハ３をセットし、モータ８を高速
回転させ、ロータ7,ウェーハ3,ウェーハカセット２を一
度に回転させる。そのとき、排気口４からチャンバ１の
中の空気を排出し、排出した空気量と同量の空気を吸気
口５からチャンバ１の中に導入する。導入する空気は、
ウェーハ３とウェーハカセット２の帯電を防止するため
除電装置６によりイオン化されている。
ト２に収納したウェーハ３をセットし、モータ８を高速
回転させ、ロータ7,ウェーハ3,ウェーハカセット２を一
度に回転させる。そのとき、排気口４からチャンバ１の
中の空気を排出し、排出した空気量と同量の空気を吸気
口５からチャンバ１の中に導入する。導入する空気は、
ウェーハ３とウェーハカセット２の帯電を防止するため
除電装置６によりイオン化されている。
以上説明したように、ウェーハカセット２及びウェー
ハ３に付着した水分を遠心力と空気の流速により吹き飛
ばして、ウェーハカセット２及びウェーハ３を乾燥させ
るものであった。
ハ３に付着した水分を遠心力と空気の流速により吹き飛
ばして、ウェーハカセット２及びウェーハ３を乾燥させ
るものであった。
上述した従来の遠心ウェーハ乾燥装置は、ウェーハを
速度回転させることにより得られる遠心力とウェーハ表
面での空気の流れによってウェーハ上の水分を除去し乾
燥させるので、静電気対策が施されているもののその機
能は不充分であり、ウェーハカセット及びウェーハが帯
電する。そこで、零にすることができないチャンバ内の
塵埃をウェーハカセット及びウェーハが吸着してしま
い、LSI等の質の低下，歩留りの低下をひきおこしてし
まうという欠点がある。
速度回転させることにより得られる遠心力とウェーハ表
面での空気の流れによってウェーハ上の水分を除去し乾
燥させるので、静電気対策が施されているもののその機
能は不充分であり、ウェーハカセット及びウェーハが帯
電する。そこで、零にすることができないチャンバ内の
塵埃をウェーハカセット及びウェーハが吸着してしま
い、LSI等の質の低下，歩留りの低下をひきおこしてし
まうという欠点がある。
また、乾燥能力は、回転数によって決まるため、高い
乾燥能力を得るためには高回転数が望まれ、回転駆動部
からの発塵が多くなり、装置故障率も高くなるという欠
点がある また、乾燥時にウェーハに付着している液体が水であ
るため乾燥時間が長いという欠点もある。
乾燥能力を得るためには高回転数が望まれ、回転駆動部
からの発塵が多くなり、装置故障率も高くなるという欠
点がある また、乾燥時にウェーハに付着している液体が水であ
るため乾燥時間が長いという欠点もある。
本発明の目的は、帯電によるLSI等の質の低下や歩留
りの低下がなく、装置の故障率が低く、ウェーハの乾燥
時間の短い遠心ウェーハ乾燥装置を提供することにあ
る。
りの低下がなく、装置の故障率が低く、ウェーハの乾燥
時間の短い遠心ウェーハ乾燥装置を提供することにあ
る。
本発明は、ウェーハカセットに収納されたウェーハの
乾燥を行うチャンバと、該チャンバを内外に開放する吸
気口と排気口と、前記チャンバ内を除電する除電装置
と、前記チャンバ内の前記ウェーハカセットを回転する
回転駆動部とを備えた遠心ウェーハ乾燥装置において、
前記チャンバ内部へ導電性で、かつ、揮発性が高い液体
を供給する液体供給装置が設けられている。
乾燥を行うチャンバと、該チャンバを内外に開放する吸
気口と排気口と、前記チャンバ内を除電する除電装置
と、前記チャンバ内の前記ウェーハカセットを回転する
回転駆動部とを備えた遠心ウェーハ乾燥装置において、
前記チャンバ内部へ導電性で、かつ、揮発性が高い液体
を供給する液体供給装置が設けられている。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明す
る。
る。
第１図は本発明の第１の実施例の乾燥部の断面図であ
る。
る。
第１図において、チャンバ１は、ウェーハカセット２
に収納したウェーハ３を乾燥する部屋であり、排気口４
は、チャンバ１内の雰囲気を外へ排出する開口であり、
吸気口５は、排気口４から排出された雰囲気をチャンバ
１の外から内へ補う開口であり、除電装置６は、吸気口
５を通過する空気をプラス或いはマイナスに帯電させる
ものであり、ロータ７は、ウェーハカセット２に収納し
たウェーハ３を内部に保持し、ウェーハ３の面方向に高
速回転できる構造を有し、モータ８は、ロータ７を回転
させる駆動源であり、排液口９は、チャンバ１の中の液
体をチャンバ１の内から外へ排液するための開口であ
り、液体供給配管10は、チャンバ１の外から内に配管さ
れており、１流体スプレーポスト11に接続されている。
に収納したウェーハ３を乾燥する部屋であり、排気口４
は、チャンバ１内の雰囲気を外へ排出する開口であり、
吸気口５は、排気口４から排出された雰囲気をチャンバ
１の外から内へ補う開口であり、除電装置６は、吸気口
５を通過する空気をプラス或いはマイナスに帯電させる
ものであり、ロータ７は、ウェーハカセット２に収納し
たウェーハ３を内部に保持し、ウェーハ３の面方向に高
速回転できる構造を有し、モータ８は、ロータ７を回転
させる駆動源であり、排液口９は、チャンバ１の中の液
体をチャンバ１の内から外へ排液するための開口であ
り、液体供給配管10は、チャンバ１の外から内に配管さ
れており、１流体スプレーポスト11に接続されている。
１流体スプレーポスト11は、チャンバ１の中のウェー
ハカセット２及びウェーハ３全体に導電性でかつ揮発性
の高い流体を供給できる構造を有している。
ハカセット２及びウェーハ３全体に導電性でかつ揮発性
の高い流体を供給できる構造を有している。
第１の実施例では、導電性で揮発性の高い液体にイソ
プロピルアルコール（以後IPAと記す）を用いて説明す
る。
プロピルアルコール（以後IPAと記す）を用いて説明す
る。
第２図は本発明の第１の実施例の配管図である。
第２図において、IPA供給バルブ12は、１流体スプレ
ーポスト11へIPAを供給する流路を開閉するものであ
り、流量調整バルブ13は、１流体スプレーポスト11に供
給するIPAの流量を調整するものであり、液体フィルタ1
4は、１流体スプレーポスト11に供給するIPAを濾過する
ものである。
ーポスト11へIPAを供給する流路を開閉するものであ
り、流量調整バルブ13は、１流体スプレーポスト11に供
給するIPAの流量を調整するものであり、液体フィルタ1
4は、１流体スプレーポスト11に供給するIPAを濾過する
ものである。
以下、第１の実施例の動作について説明する。
第１図及び第２図に示すように、チャンバ１の中にウ
ェーハカセット２に収納したウェーハ３をセットした
後、モータ８を駆動させロータ７を回転させる。当然の
ことながら、セットしたウェーハ3,ウェーハカセット２
には水分が付着している。
ェーハカセット２に収納したウェーハ３をセットした
後、モータ８を駆動させロータ７を回転させる。当然の
ことながら、セットしたウェーハ3,ウェーハカセット２
には水分が付着している。
ロータ７の回転と同時に、IPA供給バルブ12を開け、
流量調整バルブ13により流量調整され、かつ、流体フィ
ルタ14により濾過されたIPAが、液体供給配管10を通り
１流体スプレーポスト11から噴霧され、回転中のウェー
ハカセット２及びウェーハ３全体に供給される。
流量調整バルブ13により流量調整され、かつ、流体フィ
ルタ14により濾過されたIPAが、液体供給配管10を通り
１流体スプレーポスト11から噴霧され、回転中のウェー
ハカセット２及びウェーハ３全体に供給される。
ウェーハカセット２及びウェーハ３の全面にIPAが付
着し、水分がIPAに置換された後、IPA供給バルブ12を閉
じ１流体スプレーポスト11からのIPA供給を停止する。
この時、ロータ７の回転は継続して行う。但し、回転数
は低速回転とし、除電装置６も動作させる。この際、除
電装置６を動作させなくとも帯電が非常に少ないので、
無くても良い。
着し、水分がIPAに置換された後、IPA供給バルブ12を閉
じ１流体スプレーポスト11からのIPA供給を停止する。
この時、ロータ７の回転は継続して行う。但し、回転数
は低速回転とし、除電装置６も動作させる。この際、除
電装置６を動作させなくとも帯電が非常に少ないので、
無くても良い。
以上の動作により、ウェーハカセット２及びウェーハ
３を塵埃付着させることなく短時間で乾燥できる。
３を塵埃付着させることなく短時間で乾燥できる。
第３図は本発明の第２の実施例の配管図である。
第３図において、N2供給バルブ15は、N2を２流体スプ
レーポスト16に供給する流路を開閉するものであり、気
体用フィルタ17は、N2を濾過するためのものであり、２
流体スプレーポスト16は、IPAとN2の混合によりIPAを噴
霧させるものであり、気体供給配管18は、N2を２流体ス
プレーポスト16に供給するためのものである。
レーポスト16に供給する流路を開閉するものであり、気
体用フィルタ17は、N2を濾過するためのものであり、２
流体スプレーポスト16は、IPAとN2の混合によりIPAを噴
霧させるものであり、気体供給配管18は、N2を２流体ス
プレーポスト16に供給するためのものである。
この実施例では、IPAの供給に２流体スプレーポスト1
6を使用しているので、IPAとN2の流量を調整することに
より、自在なスプレーパターンが得られる。従って、最
適条件が出しやすい、IPAの使用量を最低限にできる等
の利点がある。
6を使用しているので、IPAとN2の流量を調整することに
より、自在なスプレーパターンが得られる。従って、最
適条件が出しやすい、IPAの使用量を最低限にできる等
の利点がある。
以上説明したように本発明は、水分が付着したウェー
ハ及びウェーハカセットを乾燥させるために、付着して
いる水分を揮発性でかつ導電性の液体に置換させて遠心
乾燥させるため、空気摩擦によるウェーハ及びウェーハ
カセットの帯電が抑えられる。その結果、なくすことの
できなかったチャンバ内の塵埃のウェーハ及びウェーハ
カセットの帯電による吸着が抑えられ、また、乾燥時間
も短縮できる効果がある。
ハ及びウェーハカセットを乾燥させるために、付着して
いる水分を揮発性でかつ導電性の液体に置換させて遠心
乾燥させるため、空気摩擦によるウェーハ及びウェーハ
カセットの帯電が抑えられる。その結果、なくすことの
できなかったチャンバ内の塵埃のウェーハ及びウェーハ
カセットの帯電による吸着が抑えられ、また、乾燥時間
も短縮できる効果がある。
更に、通常の遠心乾燥より低速で遠心乾燥できるた
め、ウェーハ及びウェーハカセットの帯電が更に抑えら
れ、塵埃の付着が更に低減できる上、回転機構部の負担
を軽減できることによる稼働率の向上という効果もあ
る。
め、ウェーハ及びウェーハカセットの帯電が更に抑えら
れ、塵埃の付着が更に低減できる上、回転機構部の負担
を軽減できることによる稼働率の向上という効果もあ
る。
【図面の簡単な説明】 第１図は本発明の第１の実施例の乾燥部の断面図、第２
図は本発明の第１の実施例の配管図、第３図は本発明の
第２の実施例の配管図、第４図は従来の遠心ウェーハ乾
燥装置の乾燥部の一例の断面図である。 １……チャンバ、２……ウェーハカセット、３……ウェ
ーハ、４……排気口、５……吸気口、６……除電装置、
７……ロータ、８……モータ、９……排液口、10……液
体供給配管、11……１流体スプレーポスト、12……IPA
供給バルブ、13……流量調整バルブ、14……液体フィル
タ、15……N2供給バルブ、16……２流体スプレーポス
ト、17……気体用フィルタ、18……気体供給配管。
図は本発明の第１の実施例の配管図、第３図は本発明の
第２の実施例の配管図、第４図は従来の遠心ウェーハ乾
燥装置の乾燥部の一例の断面図である。 １……チャンバ、２……ウェーハカセット、３……ウェ
ーハ、４……排気口、５……吸気口、６……除電装置、
７……ロータ、８……モータ、９……排液口、10……液
体供給配管、11……１流体スプレーポスト、12……IPA
供給バルブ、13……流量調整バルブ、14……液体フィル
タ、15……N2供給バルブ、16……２流体スプレーポス
ト、17……気体用フィルタ、18……気体供給配管。
Claims (1)
- 【請求項１】ウェーハカセットに収納されたウェーハの
乾燥を行うチャンバと、該チャンバを内外に開放する吸
気口と排気口と、前記チャンバ内を除電する除電装置
と、前記チャンバ内の前記ウェーハカセットを回転する
回転駆動部とを備えた遠心ウェーハ乾燥装置において、
前記チャンバ内部へ導電性で、かつ、揮発性が高い液体
を供給する液体供給装置を設けたことを特徴とする遠心
ウェーハ乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP510790A JP2926822B2 (ja) | 1990-01-12 | 1990-01-12 | 遠心ウェーハ乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP510790A JP2926822B2 (ja) | 1990-01-12 | 1990-01-12 | 遠心ウェーハ乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03209821A JPH03209821A (ja) | 1991-09-12 |
| JP2926822B2 true JP2926822B2 (ja) | 1999-07-28 |
Family
ID=11602139
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP510790A Expired - Fee Related JP2926822B2 (ja) | 1990-01-12 | 1990-01-12 | 遠心ウェーハ乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2926822B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100360402B1 (ko) * | 2000-03-22 | 2002-11-13 | 삼성전자 주식회사 | 회전성 분사노즐을 구비하는 웨이퍼 건조 장치 및 이를이용한 웨이퍼 건조 방법 |
-
1990
- 1990-01-12 JP JP510790A patent/JP2926822B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03209821A (ja) | 1991-09-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 10 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090514 |
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