JP2909098B2 - ジフルオロメチル‐チアジアゾリル‐オキシアセトアミドの選択除草剤としての使用 - Google Patents

ジフルオロメチル‐チアジアゾリル‐オキシアセトアミドの選択除草剤としての使用

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はそのあるものが公知であるジフルオロメチル
−チアジアゾリル−オキシアセトアミドの種々の作物に
対する選択的除草剤としての使用、更に新規なジフルオ
ロメチル−チアジアゾリル−オキシアセトアミドの群並
びにこれら及び新規な中間体の製造方法に関するもので
ある。
あるヘテロアリールオキシアセトアミド例えばN−メ
チル−2−(ベンゾチアゾル−2−イル−オキシ)−ア
セトアニリドが除草特性を示すことは既に開示されてい
る(ヨーロッパ特許出願公開第5,501号及び米国特許第
4,509,971号参照)。しかしながら、従来公知である化
合物の除草活性は常に完全に満足できるものではない。
更に、あるジフルオロメチル−チアアジアゾゾリル−
オキシアセトアミドが記載されている(ヨーロッパ特許
出願公開第148,501号及び米国特許特許第4,708,731号参
照)。しかしながら、今日これらの化合物の実際の除草
特性、殊に存在するいずれかの選択的除草特性について
は何ら公知でない。
そのあるものは公知である一般式(I) 式中、R1は水素又はアルキル、アルケニル、アルキニ
ルもしくはアラルキルよりなる群からの随時置換されて
いてもよい基を表わし、 R2はアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアル
キル、シクロアルケニル、アラルキル、アリール、アル
コキシ、アルケニルオキシまたはアルキニルオキシより
なる群からの随時置換されていてもよい基を表わすか、
或いは R1及びR2はこれらのものが結合する窒素原子と一緒に
なって更にヘテロ原子を含有することができ、且つベン
ゾ基がそれに融合していてもよい、随時置換されていて
もよい、飽和または不飽和の複素環を形成する、 のジフルオロメチル−チアジアゾリル−オキシアセトア
ミドが有用な植物において良好な選択性を保持しつつ、
強い除草作用を示すことが見い出された。
驚くべきことに、一般式(I)のジフルオロメチル−
チアジアゾリル−オキシアセトアミドは重要な作物植物
により良好に許容されつつ、防除が困難である通常の雑
草に対して上記の化合物よりかなり強い除草作用を示
す。
本発明は好ましくはR1が水素、随時フッ素、塩素、シ
アノもしくはC1〜C4−アルコキシで置換されていてもよ
いC1〜C8−アルキル、随時フッ素及び/もしくは塩素で
置換されていてもよいC2〜C8−アルケニル、C2〜C8−ア
ルキニルまたはベンジルを表わし、R2が随時フッ素、塩
素、シアノもしくはC1〜C4−アルコキシで置換されてい
てもよいC1〜C8−アルキル、随時フッ素及び/もしくは
塩素で置換されていてもよいC2〜C8−アルケニル、C2
C8−アルキニル、随時塩素及び/もしくはC1C3−アルキ
ルで置換されていてもよいC3〜C6−シクロアルキル、C5
−またはC6−シクロアルケニル、随時フッ素、塩素及び
/もしくはC1〜C4−アルキルで置換されていてもよいベ
ンジル、随時フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、シアノ、ニ
トロ、C1〜C4−アルキル、トリフルオロメチル、C1〜C4
−アルコキシ及び/もしくはC1〜C4−アルキルチオで置
換されていてもよいフェニル、随時C1〜C4−アルコキシ
で置換されていてもよいC1〜C8−アルコキシまたはC3
C4−アルケニルオキシを表わすか、或いはR1及びR2がこ
れらのものが結合する窒素原子と一緒になって随時C1
C3−アルキルで1〜3置換されていてもよく且つ随時ベ
ンゾ融合されていてもよく、更にヘテロ原子として酸素
原子を含有し得る、飽和または不飽和の5〜7員の窒素
複素環を形成する一般式(I)の化合物をベースとする
除草剤の使用及び除草剤に関するものである。
本発明により殊に好適に用いられる式(I)の化合物
はR1がC1〜C4−アルキル、アリルまたはプロパルギルを
表わし、R2がC1〜C6−アルキル、C1〜C2−アルコキシ−
C1〜C2−アルキル、アリル、プロパルギル、シクロペン
チル、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、ベンジル、
フェニル(随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、
メチル、エチル、トリフルオロメチル、メトキシ及び/
またはエトキシで置換されていてもよい)、C1〜C6−ア
ルコキシまたはC1〜C2−アルコキシ−C1〜C2−アルコキ
シを表わすか、或いはR1及びR2がこれらのものが結合す
る窒素原子と一緒になって随時メチル及び/もしくはエ
チルで1〜3置換されていてもよいピペリジニル、随時
メチル及び/もしくはエチルで1もしくは2置換されて
いてもよいピロリジニル、パーヒドロアゼピニルまたは
1,2,3,4−テトラヒドロ−キノリニルを表わすものであ
る。
本発明により用いる式(I)化合物の例を下の第1表
に示す。
式(I)の化合物は開示され、そして/またはそれ自
体公知である方法により製造し得る(米国特許第4,708,
731号参照)。
式(I)の化合物のあるものは従来未知であった。か
くてまた本発明は一般式(I a) 式中、A1はC2〜C4−アルキルを表わし、そして A2は随時置換されていてもよいアリールを表わす、 の新規なジフルオロメチルチアジアゾリル−オキシアセ
トアミド。に関するものである 一般式(I a)の新規なジフルオロメチル−チアジア
ゾリル−オキシアセトアミドは式(II) の5−ジフルオロメチル−2−メチルスルホニル−1,3,
4−チアジアゾールを適当ならば希釈剤の存在下及び適
当ならば酸受容体の存在下で一般式(III) 式中、A1及びA2は上記の意味を有する、 のヒドロキシアセトアミドと反応させる場合に得られ
る。
好適な式(I a)の新規なジフルオロメチル−チアジ
アゾリル−オキシアセトアミドはA1がイソプロピルを表
わし、そしてA2が随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニ
トロ、メチル、エチル、トリフルオロメチル、メトキシ
及び/またはエトキシで置換されていてもよいフェニル
を表わすものである。
出発物質として5−ジフルオロメチル−2−メチルス
ルホニル−1,3,4−チアジアゾール及びN−イソプロピ
ル−ヒドロキシアセトアニリドを用いる場合、式(I
a)の新規な化合物の製造方法は次式により概説し得
る。
出発物質として用いる式(II)の5−ジフルオロメチ
ル−2−メチルスルホニル−1,3,4−チアジアゾールは
従来文献からは未知であり、そして本発明の目的であ
る。
式(II)の新規な化合物は式(IV) の5−ジフルオロメチル−2−メチルチオ−1,3,4−チ
アジアゾールを適当ならば触媒例えばタングステン酸ナ
トリウムの存在下並びに適当ならば希釈剤例えば水、ギ
酸及び/または酢酸の存在下にて0乃至110℃の温度で
酸化剤例えば過酸化水素と反応させる場合に得られる。
中間体として必要とされる式(IV)の5−ジフルオロ
メチル−2−メチルチオ−1,3,4−チアジアゾールは同
様に文献からは従来未知であり、そして本発明の目的で
ある。
新規な式(IV)の化合物はジフルオロ酢酸を酸受容体
例えば炭酸カリウムの存在下及び適当ならば希釈剤例え
ばトルエンの存在下にて0乃至100℃の間の温度でメチ
ルジチオカルバゼートと反応させる場合に得られる。
式(III)は出発物質としても用いられるヒドロキシ
アセトアミドの一般的定義を与える。式(III)におい
て、A1は好ましくはイソプロピルを表わし、そしてA2
好ましくは随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、
メチル、エチル、トリフルオロメチル、メトキシ及び/
またはエトキシで置換されていてもよいフェニルを表わ
す。
挙げ得る式(III)の出発物質の例には次のものがあ
る:N−イソプロピル−ヒドロキシアセトアニリド、2′
−フルオロ−、3′−フルオロ−、4′−フルオロ−、
3′,4′−ジフルオロ−、2′,4′−ジフルオロ−、
2′,6′−ジフルオロ−、2′−クロロ−、3′−クロ
ロ−、4′−クロロ−、2′,4′−ジクロロ−、3′,
4′−ジクロロ−、2′,6′−ジクロロ−、2′,5′−
ジクロロ−、3′,5′−ジクロロ−、2′−クロロ−
6′−フルオロ−、3′−ブロモ−、4′−ブロモ−、
3′−シアノ−、4′−シアノ−、3′−ニトロ−、
4′−ニトロ−、2′−メチル−、3′−メチル−、
4′−メチル−、2′,3′−ジメチル−、2′,4′−ジ
メチル−、2′,5′−ジメチル−、3′,4′−ジメチル
−、2′−メチル−5′−ニトロ−、2′−クロロ−
5′−メチル−、5′−クロロ−2′−メチル−、2′
−クロロ−6′−メチル−、3′−エチル−、4′−エ
チル−、3′−トリフルオロメチル−、4′−トリフル
オロメチル−、2′−トリフルオロメチル−、2′−メ
トキシ−、3′−メトキシ−、3′−エトキシ及び4′
−エトキシ−N−イソプロピル−ヒドロキシアセトアニ
リド。
式(III)のヒドロキシアセトアミドは公知され、そ
して/またはそれ自体公知である方法により製造し得る
(ヨーロッパ特許出願公開第37,526号、米国特許第4,50
9,971号、同第4,645,525号、同第4,334,073号参照)。
本発明による式、(I a)の新規なチアゾロピリミジ
ン誘導体の製造方法は好ましくは希釈剤を用いて行う。
本法に適する希釈剤は実質的に全ての不活性有機溶媒で
ある。これらのものには好ましくは脂肪族及び芳香族
の、随時ハロゲン化されていてもよい炭化水素例えばペ
ンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、石油エ
ーテル、ベンジン、リグロイン、ベンゼン、トルエン、
キシレン、塩化メチレン、塩化エチレン、クロロホル
ム、四塩化炭素、クロロベンゼン及びo−ジクロロベン
ゼン、エーテル例えばジエチルエーテル及びジブチルエ
ーテル、グリコールジメチルエーテル及び、ジグリコー
ルジメチルエーテル、テトラメドロフラン及びジオキサ
ン、ケトン例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソプロピルケトン及びメチルイソブチルケトン、エ
ステル例えば酢酸及び酢酸エチル、ニトリル例えばアセ
トニトリル及びプロピオニトリル、アミド例えばジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド及びN−メチル
−ピロリドン並びにまたジメチルスルホキシド、テトラ
メチレンスルホン及びヘキサメチルリン酸トリアミドが
含まれる。
本発明による方法に使用し得る酸受容体にはこのタイ
プの反応に通常使用し得るすべての酸結合剤がある。ア
ルカリ金属水酸化物例えば水酸化ナトリウム及び水酸化
カリウム、アルカリ土金属水酸化物例えば水酸化カルシ
ウム、アルカリ金属炭酸塩及びアルカリ金属アルコラー
ト例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムt
−ブチラートおよびカリウムt−ブチラート、更に脂肪
族、芳香族または複素環式アミン例えばトリエチルアミ
ン、トリメチルアミン、ジメチルアニリン、ジメチルベ
ンジルアミン、ピリジン、1,5−ジアザビシクロ−[4,
3,0]−ノン−5−エン(DBN)、1,8−ジアザビシクロ
−[5,4,0]−ウンデス−7−エン(DBU)及び1,4−ジ
アザビシクロ[2,2,2]−オクタン(DABCO)が好ましく
適している。
本発明による方法において、反応温度は比較的広い範
囲内で変え得る。一般に、本法は−50乃至110℃間の温
度、好ましくは−20乃至100℃間の温度で行う。
一般に、本発明による方法は大気圧下で行う。しかし
ながらまた、昇圧または減圧下で反応を行うことができ
る。
本発明による方法を行う際に、各々の場合に必要とさ
れる出発物質は一般にほぼ等モル量で用いる。しかしな
がらまた、各々に用いる2つの成分の1つを比較的大過
剰に用いることもできる。一般に、反応は適当な希釈剤
中にて酸受容体の存在下で行い、そして反応混合物を必
要とされる特定の温度で数時間撹拌する。本発明による
方法において、各々の場合に常法により処理を行う。
本発明による活性化合物は、落葉剤、乾燥剤、広葉樹
の破壊剤及び、ことに殺雑草剤として使用することがで
きる。雑草とは、最も広い意味において、植物を望まな
い場所に成長するすべての植物を意味する。本発明によ
る物質は、本質的に使用量に依存して完全除草剤または
選択的除草剤として作用する。
本発明による化合物は、例えば、次の植物に関連して
使用することができる: 次の属の双子葉雑草:カラシ属(Sinapis)、マメグン
バイナズナ属(Leipidium)、ヤエムグラ属(Galiu
m)、ハコベ属(Stellaria)、シカギク属(Matricari
a)、カミツレモドキ属(Anthemis)、ガリンソガ属(G
alinsoga)、アカザ属(Chenopodium)、イラクサ属(U
rtica)、キオン属(Senecio)、ヒユ属(Amaranthu
s)、スベリヒユ属(Portulaca)、オナモミ属(Xanthi
um)、ヒルガオ属(Convolvulus)、サツマイモ属(Ipo
moea)、タデ属(Polygonum)、セスバニア属(Sesbani
a)、オナモミ属(Ambrosia)、アザミ属(Cirsium)、
ヒレアザミ属(Carduus)、ノゲシ属(Sonchus)、ナス
属(Solanum)、イヌガラシ属(Rorippa)、キカシグサ
属(Rotala)、アゼナ属(Lindernia)、ラミウム属(L
amium)、クワガタソウ属(Veronica)、イチビ属(Abu
tilon)、エメクス属(Emex)、チョウセンアサガオ属
(Datura)、スミレ属(Viola)、チシマオドリコ属(G
aleopsis)、ケシ属(Papaver)およびセンタウレア属
(Centaurea)。
次の属の双子葉栽培植物:ワタ属(Gossypium)、ダイ
ズ属(Glycine)、フダンソウ属(Beta)、ニンジン属
(Daucus)、インゲンマメ属(Phaseolus)、エンドウ
属(Pisum)、ナス属(Solanum)、アマ属(Linum)、
サツマイモ属(Ipomoea)、ソラマメ属(Vicia)、タバ
コ属(Nicotiana)、トマト属(Lycopersicon)、ラッ
カセイ属(Arachis)、アブラナ属(Brassica)、アキ
ノノゲシ属(Lactuca)、キュウリ属(Cucumis)及びウ
リ属(Cucurbita)。
次の属の単子葉雑草:ヒエ属(Echinochioa)、エノコ
ログサ属(Setaria)、キビ属(Panicum)、メヒシバ属
(Digitaria)、アワガリエ属(Phleum)、スズメノカ
タビラ属(Poa)、ウシノケグサ属(Festuca)、オヒシ
バ属(Eleusine)、ブラキアリア属(Brachiaria)、ド
クムギ属(Lolium)、スズメノチャヒキ属(Bromus)、
カラスムギ属(Avena)、カヤツリグサ属(Cyperus)、
モロコシ属(Sorghum)、カモジグサ属(Agropyron)、
シノドン属(Cynodon)、ミズアオイ属(Monochori
a)、テンツキ属(Fimbristylis)、オモダカ属(Sagit
taria)、ハリイ属(Eleocharis)、ホタルイ属(Scirp
us)、パスパルム属(Paspalum)、カモノハシ属(Isch
aemum)、スフエノクレア属(Sphenoclea)、ダクチロ
クテニウム属(Dactyloctenium)、ヌカボ属(Agrosti
s)、スズメノテッポウ属(Alopecurus)及びアペラ属
(Apera)。
次の属の単子葉栽培植物::イネ属(Oryza)、トウモロ
コシ属(Zea)、コムギ属(Triticum)、オオムギ属(H
ordeum)、カラスムギ属(Avena)、ライムギ属(Secal
e)、モロコシ属(Sorghum)、キビ属(Panicum)、サ
トウキビ属(Saccharum)、アナナス属(Ananas)、ク
サスギカズラ属(Asparagus)およびネギ属(Alliu
m)。
しかしながら、本発明による活性化合物の使用はこれ
らの属にまったく限定されず、同じ方法で他の植物に及
ぶ。
化合物は、濃度に依存して、例えば、工業地域および
鉄道線路上、樹木が存在するかあるいは存在しない道路
及び四角い広場上の雑草の完全防除に適する。同等に、
化合物は多年生栽培植物、例えば造林、装飾樹木、果樹
園、ブドウ園、かんきつ類の木立、クルミの果樹園、バ
ナナの植林、コーヒーの植林、茶の植林、ゴムの木の植
林、油ヤシの植林、カカオの植林、小果樹の植え付け及
びホップの栽培植物の中の雑草の防除に、そして1年生
栽培植物中の雑草の選択的防除に使用することができ
る。
本発明による式(I)の化合物は主に発芽前法を用い
て、単子葉及び双子葉作物例えば大麦、小麦、トウモロ
コシ、イネ、大豆、ワタ、テンサイ、ジャガイモ及びあ
ぶらなにおける単子葉雑草の選択的防除に殊に適してい
る。
本活性化合物は、普通の組成物例えば、溶液、乳液、
水和剤、懸濁剤、粉末、粉剤、塗布剤、可溶性粉末、顆
粒、懸濁−乳液濃厚剤、活性化合物を含浸させた天然及
び合成物質、並びに種子用の重合物質中の極く細かいカ
プセルに変えることができる。
これらの組成物は公知の方法において、例えば活性化
合物を伸展剤、即ち液体溶媒及び/または固体の担体と
随時表面活性剤、即ち乳化剤及び/または分散剤及び/
または発泡剤と混合して製造される。
また伸展剤として水を用いる場合、例えば補助溶媒と
して有機溶媒を用いることもできる。液体溶媒として、
主に、芳香族炭化水素例えばキシレン、トルエンもしく
はアルキルナフタレン、塩素化された芳香族もしくは塩
素化された脂肪族炭化水素例えばクロロエンゼン、クロ
ロエチレンもしくは塩化メチレン、脂肪族炭化水素例え
ばシクロヘキサン、またはパラフィン例えば鉱油留分、
鉱油及び植物油、アルコール例えばブタノールもしくは
クリコール並びにそのエーテル及びエステル、ケトン例
えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトンもしくはシクロヘキサノン、強い有極性溶媒例え
ばジメチルホルムアミド及びジメチルスルホキシド並び
に水が適している。
固体の担体として、例えばアンモニウム塩並びに粉砕
した天然鉱物、例えばカオリン、クレイ、タルク、チョ
ーク、石英、アタパルジャイト、モントモリロナイト、
またはケイソウ土並びに粉砕した合成鉱物例えば高度に
分散性ケイ酸、アルミナ及びシリケートが適している;
粒剤に対する固体の担体として、粉砕し且つ分別した天
然岩、例えば方解石、大理石、軽石、海泡石及び白雲石
並びに無機及び有機のひきわり合成顆粒及び有機物質の
顆粒例えばおがくず、やしがら、トウモロコシ穂軸及び
タバコ茎が適している;乳化剤及び/または発泡剤とし
て非イオン性及び陰イオン性乳化剤例えばポリオキシエ
チレン−脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪族ア
ルコールエーテル例えばアルキルアリールポリグリコー
ルエーテル、アルキルスルホネート、アルキルスルフェ
ート、アリールスルホネート並びにアルブミン加水分解
生成物が適している;分散剤として、例えばリグニンス
ルファイト廃液及びメチルセルロースが適している。
接着剤例えばカルボキシメチルセルロース並びに粉
状、粒状またはラテックス状の天然及び合成重合体例え
ばアラビアゴム、ポリビニルアルコール及びポリビニル
アセテート並びに天然リン脂質、例えばセファリン及び
レシチン、及び合成リン脂質を組成物に用いることがで
きる。更に添加物は鉱油及び植物油であることができ
る。
着色剤例えば無機顔料、例えば酸化鉄、酸化チタン及
びプルシアンブルー並びに有機染料例えばアリザリン染
料、アゾ染料及び金属フタロシアン染料、及び微量の栄
養剤例えば鉄、マンガン、ホウ素、銅、コバルト、モリ
ブテン及び亜鉛の塩を用いることができる。
調製物は一般に活性化合物0.1乃至95重量%間、好ま
しくは0.5乃至90重量%間を含有する。
また本発明による活性化合物は、そのまま或いはその
調製物の形態において、公知の除草剤との混合物として
雑草を防除するために用いることもでき、仕上げた配合
物または槽混合が可能である。
混合物として適する除草剤には公知の除草剤、例えば
穀物中の雑草を防除するための1−アミノ−6−エチル
チオ−3−(2,2−ジメチルプロピル)−1,3,5−トリア
ジン−2,4−(1H,3H)−ジオン(AMETHYDIONE)または
N−(2−ベンゾチアゾリル)−N,N′−ジメチルウレ
ア(METABENZTHIAZURON);テンサイ中の雑草を防除す
るための4−アミノ−3−メチル−6−フェニル−1,2,
4−トリアジン−5−(4H)−オン(METAMITRON)及び
大豆中の雑草を防除するための4−アミノ−6−(1,1
−ジエチルエチル)−3−メチルチオ−1,2,4−トリア
ジン−5(4H)−オン(METRIBUZIN);更にまた5−ア
ミノ−4−クロロ−2−フェニレン−2,3−ジヒドロ−
3−オキシ−ピリダジン(CHLORIDAZON);2−{[(4
−クロロ−6−メトキシ−2−ピリミジニル)−アミノ
カルボニル]−アミノスルホニル}−安息香酸エチル
(CHLORIMURON);2−[(2−クロロフェニル)−メチ
ル]−4,4−ジメチルイソキサゾリジン−3−オン(DIM
ETHAZONE);N,N−ジメチルN′−(3−トリフルオロメ
チルフェニル)−ウレア(FLUOMETURON);1−メチル−
3−フェニル−5−(3−トリフルオロメチフェニル)
−4−ピリドン(FLURDONE);2−[5−メチル−5−
(1−メチルエチル)−4−オキソ−2−イミダゾリル
−2−イル]−3−キノリンカルボン酸(IMAZAQUIN);
2−[4,5−ジヒドロ−4−メチル−4−イソプロピル−
5−オキソ−(1H)−イミダゾル−2−イル]−5−エ
チル−ピリジン−3−カルボン酸(IMAZETHAPYR);N−
メチル−2−(1,3−ベンゾチアゾル−2−イル−オキ
シ)−アセトアニリド(MEFENACET);1−(3−トリフ
ルオロメチル−フェニル)4−メチルアミノ−5−クロ
ロ−6−ピリダゾン(NORFLURAZON);N−(1−エチル
プロピル)−3,4−ジメチル−2,6−ジニトロアニリン
(PENDIMETHALIN);3−[[[[(4−メトキシ−6−
メチル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−アミノ]−
カルボニル]−アミノ]−スルホニル]−チオフェン−
2−カルボン酸メチル(THIAMETURON)及び2,6−ジニト
ロ−4−トリフルオロメチル−N,N−ジプロピルアニリ
ン(TRIFLURALIN)がある。驚くべきことに、ある混合
物は相乗作用も示す。
他の公知の活性化合物、例えば、殺菌・殺カビ剤、殺
虫剤(insecticides)、殺ダニ剤(acaricides)、殺線
虫剤(nematicides)、小鳥忌避剤、植物栄養剤及び土
壌改良剤との混合物が可能である。
本活性化合物はそのままで、或いはその配合物の形態
またはその配合物から更に希釈して調製した使用形態、
例えば調製済液剤、懸濁剤、乳剤、粉剤、塗布剤及び粒
剤の形態で使用することができる。これらのものは普通
の方法で、例えば液剤散布(watering)、スプレー、ア
トマイジング(atomising)または粒剤散布(scatterin
g)によって施用される。
本発明による活性化合物は植物の発芽の前または後に
施用することができる。
また本化合物は種子をまく前に土壌中に混入すること
ができる。
本活性化合物の使用量は実質的な範囲内で変えること
ができる。この量は本質的に所望の効果の特質に依存す
る。一般に、施用量は土壌表面1ヘクタール当り活性化
合物0.01乃至10kg間、好ましくは0.05乃至5kg/ha間であ
る。
本発明による活性化合物の製造及び使用は次の実施例
から知り得る。
使 用 例 次の使用例において、下の式の化合物を比較物質とし
て用いた: N−メチル−2−(ベンゾチアゾル−2−イル−オキ
シ)−アセトアニリド(ヨーロッパ特許出願公開第5,50
1号及び米国特許第4,509,971号に開示)。
実施例 A 発芽前試験 溶 媒:アセトン5重量部 乳化剤:アルキルアリールポリグリコールエーテル1重
量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化
合物1重量部を上記量の溶媒と混合し、上記量の乳化剤
を加え、この濃厚物を水で希釈して所望の濃度にした。
試験植物の種子を通常の土壌中にまき、24時間後、活
性化合物の調製物を液剤散布した。単位面積当りの水の
量を一定に保持することが適当である。調製物中の活性
化合物の濃度は重要ではなく、単位面積当り施用した活
性化合物の量のみが決めてとなる。3週間後、植物に対
する損傷の程度を、未処理対照植物の発育と比較して、
%損傷として評価した。数字は次を意味する: 0%=作用なし(未処理対照と同様) 100%=全破壊 この試験において、例えば第1表からの実施例
(2)、(3)、(4)、(5)、(6)、(8)、
(10)、(12)、(13)、(14)、(15)、(16)、
(17)、(18)、(19)、(20)、(21)及び(22)の
化合物は従来のものと比較して明らかに優れていた。そ
の結果を第A表に示す。
製造実施例 実施例 1 水6ml中の水酸化ナトリウム1.44g(0.036モル)の溶
液を−20℃に冷却した5−ジフルオロメチル−2−メチ
ルスルホニル−1,3,4−チアジアゾール6.4g(0.03モ
ル)N−メチル−ヒドロキシアセトアニリド4.9g(0.03
モル)及びアセトン50mlの撹拌した混合物に滴下しなが
ら加え、そして反応混合物を氷/塩混合物を用いて冷却
しながら12時間撹拌した。次に反応混合物を酢酸を用い
て酸性にし、そして水流ポンプの真空下で蒸発させた。
残渣をトルエン/水で洗浄し、硫酸ナトリウムを用いて
乾燥し、そして過した。溶媒を水流ポンプの真空下で
の蒸留により注意して液から除去した。
融点67℃の結晶性残渣としてN−メチル−2−(5−
ジフルオロメチル−1,3,4−ジアジアゾル−2−イル−
オキシ)−アセトアニリド8.8g(理論地の98%)が得ら
れた。
実施例 2 水6ml中の水酸化ナトリウム1.44g(0.036モル)の溶
液を−20℃に冷却した5−ジフルオロメチル−2−メチ
ルスルホニル−1,3,4−チアジアゾール6.4g(0.03モ
ル)N−(3−クロロ−フェニル)−N−イソプロピル
ヒドロキシアセトアミド7.2g(0.03モル)及びアセトン
50mlの撹拌した混合物に滴下しながら加え、そして反応
混合物を氷/塩混合物を用いて冷却しながら15時間撹拌
した。次に反応混合物を酢酸を用いて酸性にし、そして
水流ポンプの真空下で蒸発させた。続いて水で希釈した
際に結晶状で得られた生成物を吸引過により単離し
た。
融点98℃のN−(3−クロロ−フェニル)−N−イソ
プロピル−2−(5−ジフルオロメチル−1,3,4−ジア
ジアゾル−2−イル−オキシ)−アセトアニリド11g
(理論地の〜100%)が得られた。
実施例1及び2と同様に、そして本発明による製造方
法に従って、例えば第1表(上記)に示す式(I)また
は(1a)の他の化合物を製造することもできた。
式(II)の出発化合物 35%過酸化水素溶液420mlを50℃で加熱した5−ジフ
ルオロメチル−2−メチルチオ−1,3,4−チアジアゾー
ル198g(1.28モル)、ギ酸390ml及びタングステン酸ナ
トリウム0.8gの撹拌した混合物に滴下しながら加え、こ
の工程中に温度は短時間に95℃に上昇した。次にこの工
程中で結晶状で得られた生成物を吸引濾過により単離し
た。
融点59℃の5−ジフルオロメチル−2−メチルスルホ
ニル−1,3,4−チアジアゾール250g(理論値の91%)が
得られた。
式(IV)の出発化合物 ジフルオロ酢酸131g(1.29モル)を炭酸カリウム89g
(0.65モル)及び水130mlの撹拌した混合物に20℃で滴
下しながら加えた。トルエン300mlの添加後、水を水分
離機中にて共沸蒸留により除去した。更にトルエン700m
l及びメチルジチオカルバゼート156g(1.29モル)を残
留した有機相に加えた。次にオキシ塩化リン404g(1.61
モル)を50〜60℃で滴下しながら加え、混合物を2時間
撹拌し、次に氷水中に注いだ。有機相を分別し、水で洗
浄し、硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、そして過し
た。溶媒を水流ポンプの真空下での蒸留により液から
除去した。
徐々に結晶化する無定形残渣として5−ジフルオロメ
チル−2−メチルチオ−1,3,4−チアジアゾール190g
(理論値の96%)が得られた。融点:23℃。
本発明の主なる特徴及び態様は以下のとおりである。
1.一般式(I) 式中、R1は水素又はアルキル、アルケニル、アルキニ
ルもしくはアラルキルよりなる群からの随時置換されて
いてもよい基を表わし、 R2はアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアル
キル、シクロアルケニル、アラルキル、アリール、アル
コキシ、アルケニルオキシまたはアルキニルオキシより
なる群からの随時置換されていてもよい基を表わすか、
或いは R1及びR2はこれらのものが結合する窒素原子と一緒に
なって更にヘテロ原子を含有することができ、且つベン
ゾ基がそれに融合していてもよい、随時置換されていて
もよい、飽和または不飽和の複素環を形成する、 のジフルオロメチル−チアジアゾリル−オキシアセトア
ミドを雑草及び/またはその環境に作用させることを特
徴とする、作物中の雑草の選択的防除方法。
2.R1が水素、随時フッ素、塩素、シアノもしくはC1〜C4
−アルコキシで置換されていてもよいC1〜C8−アルキ
ル、随時フッ素及び/もしくは塩素で置換されていても
よいC2−C8−アルケニル、C2〜C8−アルキニルまたはベ
ンジルを表わし、 R2が随時フッ素、塩素、シアノもしくはC1〜C4−アル
コキシで置換されていてもよいC1〜C8−アルキル、随時
フッ素及び/もしくは塩素で置換されていてもよいC2
C8−アルケニル、C2〜C8−アルキニル、随時塩素及び/
もしくはC1〜C3−アルキルで置換されていてもよいC3
C6−シクロアルキル、C5−またはC6−シクロアルケニ
ル、随時フッ素、塩素及び/もしくはC1〜C4−アルキル
で置換されていてもよいベンジル、随時フッ素、塩素、
臭素、ヨウ素、シアノ、ニトロ、C1〜C4−アルキル、ト
リフルオロメチル、C1〜C4−アルコキシ及び/もしくは
C1〜C4−アルキルチオで置換されていてもよいフェニ
ル、随時ジC1〜C4−アルコキシで置換されていてもよい
C1〜C8−アルコキシまたはC3〜C4−アルケニルオキシを
表わすか、 或いはR1及びR2がこれらのものが結合する窒素原子と
一緒になって随時C1〜C3−アルキルで1〜3置換されて
いてもよく且つ随時ベンゾ融合されていてもよく、且つ
更にヘテロ原子として酸素原子を含有し得る飽和または
不飽和の5〜7員の窒素複素環を形成する式(I)の化
合物を用いることを特徴とする、上記1に記載の方法。
3.R1がC1〜C4−アルキル、アリルまたはプロパルギルを
表わし、 R2がC1〜C6−アルキル、C1〜C2−アルコキシ−C1〜C2
−アルキル、アリル、プロパルギル、シクロペンチル、
シクロヘキシル、シクロヘキセニル、ベンジル、フェニ
ル(随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、メチ
ル、エチル、トリフルオロメチル、メトキシ、エトキシ
で置換されていてもよい)、C1〜C6−アルコキシまたは
C1〜C2−アルコキシ−C1〜C2−アルコキシを表わすか、 或いはR1及びR2がこれらのものが結合する窒素原子と
一緒になって随時メチル及び/もしくはエチルで1〜3
置換されていても良いピペリジニル、随時メチル及び/
もしくはエチルで1もしくは2置換されていてもよいピ
ロリジニル、パーヒドロアゼピニルまたは1,2,3,4−テ
トラヒドロ−キノリニルを表わす式(I)に化合物を用
いることを特徴とする、上記に記載の方法。
4.作物(crops)中の雑草(weeds)を選択的に防御する
際の上記1に記載の一般式(I)のジフルオロメチル−
チアジアゾリル−オキシアセトアミドに使用。
5.上記1に記載の式(I)のジフルオロメチル−チアジ
アゾリル−オキシアセトアミドを増量剤及び/または表
面活性剤と混合することを特徴とする、選択的除草剤の
製造方法。
6.一般式(I a) 式中、A1はC2〜C4−アルキルを表わし、そして A2は随時置換されていてもよいアリールを表わす、 のジフルオロメチル−チアジアゾリル−オキシアセトア
ミド。
7.A1がイソプロピルを表わし、そしてA2が随時フッ素、
塩素、臭素、シアノ、ニトロ、メチル、エチル、トリフ
ルオロメチル、メトキシ及び/またはエトキシを表わす
ことを特徴とする、上記6に記載の式(I c)のジフル
オロメチル−チアジアゾリル−オキシアセトアミド。
8.式(II) の5−ジフルオロメチル−2−メチルスルホニル−1,3,
4−チアジアゾールを適当ならば希釈剤の存在下及び適
当ならば酸受容体の存在下で一般式(III) 式中、A1及びA2は上記6に記載の意味を有する、 のヒドロキシアセトアミドと反応させることを特徴とす
る、特許請求の範囲第3項記載の式(I a)のジフルオ
ロメチル−チアジアゾリル−オキシアセトアミドの製造
方法。
9.式(II) の5−ジフルオロメチル−2−メチルスルホニル−1,3,
4−チアジアゾール。
10.式(IV) の5−ジフルオロメチル−2−メチルチオ−1,3,4−チ
アジアゾール。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロベルト・アール・シユミツト ドイツ連邦共和国デー5060ベルギツシユ グラート バツハ2・イムバルトビンケ ル 110 (72)発明者 ハリイ・ストラング ドイツ連邦共和国デー4000ジユツセルド ルフ31・ウンタードルフシユトラーセ 6アー (56)参考文献 特開 昭60−158185(JP,A) 特開 昭58−206578(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) A01N 43/82 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式(I a) 式中、A1はイソプロピルを表わし、そして A2は随時フツ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、メチ
    ル、エチル、トリフルオロメチル、メトキシ及び/また
    はエトキシで置換されていてもよいフエニルを表わす、 のジフルオロメチル−チアジアゾリル−オキシアセトア
    ミド。
  2. 【請求項2】式(II) の5−ジフルオロメチル−2−メチルスルホニル−1,3,
    4−チアジアゾールを適当ならば希釈剤の存在下及び適
    当ならば酸受容体の存在下で一般式(III) 式中、A1及びA2は特許請求の範囲第1項記載の意味を有
    する、 のヒドロキシアセトアミドと反応させることを特徴とす
    る、特許請求の範囲第1項記載の式(I a)のジフルオ
    ロメチル−チアジアゾリル−オキシアセトアミドの製造
    方法。
  3. 【請求項3】特許請求の範囲第1項記載の式(I a)の
    ジフルオロメチル−チアジアゾリル−オキシアセトアミ
    ドの少なくとも1種を含むことを特徴とする選択的除草
    組成物。
  4. 【請求項4】特許請求の範囲第1項記載の式(I a)の
    ジフルオロメチル−チアジアゾリル−オキシアセトアミ
    ドを雑草及び/またはその生息場所に施用することを特
    徴とする、作物中における雑草を選択的に防除する方
    法。
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