JP2904273B2 - 拡散洗浄スクリーンの洗浄方法 - Google Patents
拡散洗浄スクリーンの洗浄方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、パルプ化工程の洗
浄塔の上部に設けられた拡散洗浄器の拡散洗浄スクリー
ンの洗浄方法に関する。
浄塔の上部に設けられた拡散洗浄器の拡散洗浄スクリー
ンの洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】製紙工
場のパルプ化工程では、二酸化塩素、塩素、水酸化ナト
リウム、ハイポクロライト（次亜塩素酸塩）のような酸
又はアルカリの薬剤を用いて、パルプ中に含まれるリグ
ニンを除去する漂白処理が行われている。この漂白処理
を行う装置の一つとして昇流式の洗浄塔がある。この洗
浄塔を用いた漂白処理では、パルプスラリーが連続的に
洗浄塔の下部から導入され、ポンプで塔内の上方に送ら
れ、次いで洗浄塔の上部に設けられた拡散洗浄器で前記
薬剤による処理に付される。この装置はパルプ化工程の
連続操業を可能とし、工業的に有用である。
場のパルプ化工程では、二酸化塩素、塩素、水酸化ナト
リウム、ハイポクロライト（次亜塩素酸塩）のような酸
又はアルカリの薬剤を用いて、パルプ中に含まれるリグ
ニンを除去する漂白処理が行われている。この漂白処理
を行う装置の一つとして昇流式の洗浄塔がある。この洗
浄塔を用いた漂白処理では、パルプスラリーが連続的に
洗浄塔の下部から導入され、ポンプで塔内の上方に送ら
れ、次いで洗浄塔の上部に設けられた拡散洗浄器で前記
薬剤による処理に付される。この装置はパルプ化工程の
連続操業を可能とし、工業的に有用である。
【０００３】しかし、例えば、アルカリで処理を行うＥ
／ＯＨ塔の上部に設けられた拡散洗浄器の拡散洗浄スク
リーン上にはパルプに由来するシュウ酸カルシウムが付
着するなど、長期操業により拡散洗浄器の拡散洗浄スク
リーン（多孔板）上にはスケールが付着し、薬剤の流量
が低下して漂白処理効率が低下するので、拡散洗浄スク
リーンは定期的なスケール除去を必要としている。
／ＯＨ塔の上部に設けられた拡散洗浄器の拡散洗浄スク
リーン上にはパルプに由来するシュウ酸カルシウムが付
着するなど、長期操業により拡散洗浄器の拡散洗浄スク
リーン（多孔板）上にはスケールが付着し、薬剤の流量
が低下して漂白処理効率が低下するので、拡散洗浄スク
リーンは定期的なスケール除去を必要としている。
【０００４】前記のスケール除去は、洗浄塔内のパルプ
スラリーを全て排出した後、該洗浄塔内にスケール洗浄
液を循環させてスケールを溶解する方法或いはジェット
洗浄で人手によりスケールを掻き落とす方法が採られて
きた。しかしながら、いずれの場合であっても洗浄塔内
のパルプスラリーを全て排出する必要があり、また排出
されたパルプスラリーは全て廃棄されるため、原料損失
の問題があった。更に、前者の方法では洗浄塔内を循環
させるため、例えば８００ｍ3 もの大量のスケール洗浄
液を必要とした。また、後者の方法では人手による作業
のため、作業性や安全性に問題があった。
スラリーを全て排出した後、該洗浄塔内にスケール洗浄
液を循環させてスケールを溶解する方法或いはジェット
洗浄で人手によりスケールを掻き落とす方法が採られて
きた。しかしながら、いずれの場合であっても洗浄塔内
のパルプスラリーを全て排出する必要があり、また排出
されたパルプスラリーは全て廃棄されるため、原料損失
の問題があった。更に、前者の方法では洗浄塔内を循環
させるため、例えば８００ｍ3 もの大量のスケール洗浄
液を必要とした。また、後者の方法では人手による作業
のため、作業性や安全性に問題があった。
【０００５】本発明は、上記の問題を解決し、パルプ化
工程の洗浄塔に設けられた拡散洗浄器の拡散洗浄スクリ
ーンを、従来より少量のスケール洗浄液で効率よく洗浄
する方法を提供することを課題とする。
工程の洗浄塔に設けられた拡散洗浄器の拡散洗浄スクリ
ーンを、従来より少量のスケール洗浄液で効率よく洗浄
する方法を提供することを課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、洗浄塔内
のパルプスラリーを、パルプスラリーの上面が拡散洗浄
器の拡散洗浄スクリーンの下端部に達するまで排出した
後、拡散洗浄器内にスケール洗浄液を循環させても、意
外なことにスケール洗浄液とパルプスラリーとの界面
で、スケール洗浄液がパルプスラリー中に殆ど拡散しな
い事実を見出し、本発明を完成するに至った。
のパルプスラリーを、パルプスラリーの上面が拡散洗浄
器の拡散洗浄スクリーンの下端部に達するまで排出した
後、拡散洗浄器内にスケール洗浄液を循環させても、意
外なことにスケール洗浄液とパルプスラリーとの界面
で、スケール洗浄液がパルプスラリー中に殆ど拡散しな
い事実を見出し、本発明を完成するに至った。
【０００７】かくして本発明によれば、パルプ化工程の
洗浄塔の上部に設けられた拡散洗浄器の拡散洗浄スクリ
ーン上のスケールを除去するに際して、パルプスラリー
の上面が該スクリーンの下端部に達するまで洗浄塔内の
パルプスラリーを排出した後、拡散洗浄器内にスケール
洗浄液を循環させてスケールを除去することを特徴とす
る拡散洗浄スクリーンの洗浄方法が提供される。
洗浄塔の上部に設けられた拡散洗浄器の拡散洗浄スクリ
ーン上のスケールを除去するに際して、パルプスラリー
の上面が該スクリーンの下端部に達するまで洗浄塔内の
パルプスラリーを排出した後、拡散洗浄器内にスケール
洗浄液を循環させてスケールを除去することを特徴とす
る拡散洗浄スクリーンの洗浄方法が提供される。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明に適用しうるパルプ化工程
の洗浄塔とその周辺設備の一例を図１に示す。以下、こ
の図を用いて本発明を説明する。図１は、上部に拡散洗
浄器１を設けた洗浄塔２と、スケール洗浄液原液タンク
３ａ及び３ｂ、高温水タンク４、漂白処理液原液タンク
５及び白水タンク６のような各種薬剤タンク、ポンプ、
バルブ及びそれらを接続する配管よりなる。図中の白抜
きのバルブ記号は開バルブを、黒塗りのバルブ記号は閉
バルブを示し、それぞれ本発明のスクリーンの洗浄時の
状態を示す。
の洗浄塔とその周辺設備の一例を図１に示す。以下、こ
の図を用いて本発明を説明する。図１は、上部に拡散洗
浄器１を設けた洗浄塔２と、スケール洗浄液原液タンク
３ａ及び３ｂ、高温水タンク４、漂白処理液原液タンク
５及び白水タンク６のような各種薬剤タンク、ポンプ、
バルブ及びそれらを接続する配管よりなる。図中の白抜
きのバルブ記号は開バルブを、黒塗りのバルブ記号は閉
バルブを示し、それぞれ本発明のスクリーンの洗浄時の
状態を示す。
【０００９】漂白処理においては、パルプスラリー７
（例えば、濃度３〜１５％）は洗浄塔２の下部のパルプ
供給口Ｃから導入され、ポンプ（図示せず）で洗浄塔２
内の上部へ送られる。次いで、パルプスラリー７は洗浄
塔２の上部に設けられた拡散洗浄器１で漂白処理液によ
り処理され、洗浄塔２の側壁のパルプ排出口Ｄから次工
程に送られる。一方、漂白処理液は、白水タンク６から
供給される白水に漂白処理液原液タンク５から供給され
る漂白処理原液が添加されて一定濃度に調整された液で
あり、洗浄塔２の上部の薬剤供給口Ａから拡散洗浄器１
へ供給される。次いで、パルプスラリー７の処理を終え
た漂白処理液は、洗浄塔２の側壁の薬剤排出口Ｂから漂
白処理液の循環系に戻され、必要に応じて白水及び漂白
処理原液で濃度調整され、再び循環される。
（例えば、濃度３〜１５％）は洗浄塔２の下部のパルプ
供給口Ｃから導入され、ポンプ（図示せず）で洗浄塔２
内の上部へ送られる。次いで、パルプスラリー７は洗浄
塔２の上部に設けられた拡散洗浄器１で漂白処理液によ
り処理され、洗浄塔２の側壁のパルプ排出口Ｄから次工
程に送られる。一方、漂白処理液は、白水タンク６から
供給される白水に漂白処理液原液タンク５から供給され
る漂白処理原液が添加されて一定濃度に調整された液で
あり、洗浄塔２の上部の薬剤供給口Ａから拡散洗浄器１
へ供給される。次いで、パルプスラリー７の処理を終え
た漂白処理液は、洗浄塔２の側壁の薬剤排出口Ｂから漂
白処理液の循環系に戻され、必要に応じて白水及び漂白
処理原液で濃度調整され、再び循環される。
【００１０】また、図２及び３に洗浄塔の上部に設けら
れた拡散洗浄器１の一例を示す。図２は拡散洗浄器１の
構造と作動を示す切除図であり、図３は拡散洗浄器１の
スクリーン８及びノズル９の構造と作動を示す部分切除
図である。拡散洗浄器１の内部は同心円状に設けられた
拡散洗浄スクリーン８で仕切られ、放射状に通常５〜１
０室に分かれている。また、各拡散洗浄スクリーン８の
間には、薬剤供給口Ａから供給される漂白処理液を均一
に噴出するノズル９が各２本挿設されている。また、こ
のノズル９は漂白処理液が拡散洗浄器１の全体に行き渡
るように回転機構を備えている。
れた拡散洗浄器１の一例を示す。図２は拡散洗浄器１の
構造と作動を示す切除図であり、図３は拡散洗浄器１の
スクリーン８及びノズル９の構造と作動を示す部分切除
図である。拡散洗浄器１の内部は同心円状に設けられた
拡散洗浄スクリーン８で仕切られ、放射状に通常５〜１
０室に分かれている。また、各拡散洗浄スクリーン８の
間には、薬剤供給口Ａから供給される漂白処理液を均一
に噴出するノズル９が各２本挿設されている。また、こ
のノズル９は漂白処理液が拡散洗浄器１の全体に行き渡
るように回転機構を備えている。
【００１１】漂白処理時、拡散洗浄器１の内部の各室
は、パルプ供給口Ｃから導入されたパルプスラリー７で
満たされ、パルプスラリー７がパルプ排出口Ｄに向けて
流動している。一方、薬剤供給口Ａから供給された漂白
処理液は、各ノズル９から噴出され、パルプスラリー７
と混合された後（ここで漂白の化学反応が行われる）、
拡散洗浄スクリーン８で濾過、回収され、薬剤排出口Ｂ
から排出される。
は、パルプ供給口Ｃから導入されたパルプスラリー７で
満たされ、パルプスラリー７がパルプ排出口Ｄに向けて
流動している。一方、薬剤供給口Ａから供給された漂白
処理液は、各ノズル９から噴出され、パルプスラリー７
と混合された後（ここで漂白の化学反応が行われる）、
拡散洗浄スクリーン８で濾過、回収され、薬剤排出口Ｂ
から排出される。
【００１２】従来のスケール洗浄液を用いた洗浄方法で
は、洗浄塔内のパルプスラリーを全て排出した後、拡散
洗浄器だけでなく、該洗浄塔内にも大量のスケール洗浄
液を循環させていた。しかるに、本発明の方法では、パ
ルプスラリー７の上面が拡散洗浄スクリーン８の下端部
（図１中、Ｅのレベル）に達するまで洗浄塔内のパルプ
スラリー７をパルプ供給口Ｃから排出した後、拡散洗浄
器内にだけスケール洗浄液を循環させる。
は、洗浄塔内のパルプスラリーを全て排出した後、拡散
洗浄器だけでなく、該洗浄塔内にも大量のスケール洗浄
液を循環させていた。しかるに、本発明の方法では、パ
ルプスラリー７の上面が拡散洗浄スクリーン８の下端部
（図１中、Ｅのレベル）に達するまで洗浄塔内のパルプ
スラリー７をパルプ供給口Ｃから排出した後、拡散洗浄
器内にだけスケール洗浄液を循環させる。
【００１３】本発明の方法は、パルプ化工程の洗浄塔の
上部に設けられた拡散洗浄器の拡散洗浄スクリーンの洗
浄に適用され、洗浄の条件は公知の技術から適宜選択利
用される。スケール洗浄液としては、拡散洗浄スクリー
ン上に付着するスケールの成分に応じて、ＥＤＴＡ（Et
hylen Diamine Tetraacetic Acid）、ＭＴＡ（Nitriro
Triacetic Acid）、ＤＴＰＡ（Diethylene Triamine Pe
ntaacetic Acid）、ＨＥＤＴＡ（Hydroxy Ethylen Diam
ine Triacetic Acid）等のアミノカルボン酸型キレート
剤又はそれらのアルカリ金属塩；クエン酸、グルコン
酸、ヒドロキシ酢酸等のオキシカルボン酸型キレート剤
又はそれらのアルカリ金属塩；塩酸、フッ酸、スルファ
ミン酸等の無機酸又は有機酸；その他水酸化ナトリウ
ム、過酸化水素等の１種又は２種以上を組み合わせたス
ケール洗浄剤溶液を用いることができる。なお、パルプ
に由来するシュウ酸カルシウムが付着しやすいＥ／ＯＨ
塔の拡散洗浄器の拡散洗浄スクリーンの洗浄には、ＥＤ
ＴＡ４Ｎａ（エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム塩）
と水酸化ナトリウムを主成分とするスケール洗浄液を好
適に用いることができる。
上部に設けられた拡散洗浄器の拡散洗浄スクリーンの洗
浄に適用され、洗浄の条件は公知の技術から適宜選択利
用される。スケール洗浄液としては、拡散洗浄スクリー
ン上に付着するスケールの成分に応じて、ＥＤＴＡ（Et
hylen Diamine Tetraacetic Acid）、ＭＴＡ（Nitriro
Triacetic Acid）、ＤＴＰＡ（Diethylene Triamine Pe
ntaacetic Acid）、ＨＥＤＴＡ（Hydroxy Ethylen Diam
ine Triacetic Acid）等のアミノカルボン酸型キレート
剤又はそれらのアルカリ金属塩；クエン酸、グルコン
酸、ヒドロキシ酢酸等のオキシカルボン酸型キレート剤
又はそれらのアルカリ金属塩；塩酸、フッ酸、スルファ
ミン酸等の無機酸又は有機酸；その他水酸化ナトリウ
ム、過酸化水素等の１種又は２種以上を組み合わせたス
ケール洗浄剤溶液を用いることができる。なお、パルプ
に由来するシュウ酸カルシウムが付着しやすいＥ／ＯＨ
塔の拡散洗浄器の拡散洗浄スクリーンの洗浄には、ＥＤ
ＴＡ４Ｎａ（エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム塩）
と水酸化ナトリウムを主成分とするスケール洗浄液を好
適に用いることができる。
【００１４】拡散洗浄スクリーンの洗浄時の処理温度、
すなわちスケール洗浄液の液温は、スケールの成分や用
いるスケール洗浄液により適宜決定することができる。
例えば、スケールがシュウ酸カルシウムで、ＥＤＴＡ４
Ｎａと水酸化ナトリウムを主成分とするスケール洗浄液
を用いる場合、約４０〜９０℃が好ましい。液温はスケ
ール洗浄液原液の希釈に用いる高温水の液温及びその他
の加熱機構により制御することができる。また、洗浄の
処理時間は、洗浄塔の規模（容量）、スケール付着量、
スケール洗浄液の濃度及び液温などにより異なるが、一
般に３〜２４時間である。
すなわちスケール洗浄液の液温は、スケールの成分や用
いるスケール洗浄液により適宜決定することができる。
例えば、スケールがシュウ酸カルシウムで、ＥＤＴＡ４
Ｎａと水酸化ナトリウムを主成分とするスケール洗浄液
を用いる場合、約４０〜９０℃が好ましい。液温はスケ
ール洗浄液原液の希釈に用いる高温水の液温及びその他
の加熱機構により制御することができる。また、洗浄の
処理時間は、洗浄塔の規模（容量）、スケール付着量、
スケール洗浄液の濃度及び液温などにより異なるが、一
般に３〜２４時間である。
【００１５】本発明においてスケール洗浄液の供給方法
及び循環経路は、洗浄塔とその周辺設備の構成により適
宜選択され、特に限定されない。例えば、図１では、ス
ケール洗浄液は、スケール洗浄液原液タンク３ａ及び３
ｂから供給されるスケール洗浄液原液が高温水タンク４
から供給される高温水で希釈された液であり、バルブの
開閉により白水タンク６をバッファタンクとして循環さ
れる。すなわちスケール洗浄液は薬剤供給口Ａから供給
され、ノズル９から噴出される。次いで、スケール洗浄
液は、漂白処理時の漂白処理液と同様にして回収され、
薬剤排出口Ｂからスケール洗浄液の循環系に戻され、白
水タンク６を経て再び循環される。
及び循環経路は、洗浄塔とその周辺設備の構成により適
宜選択され、特に限定されない。例えば、図１では、ス
ケール洗浄液は、スケール洗浄液原液タンク３ａ及び３
ｂから供給されるスケール洗浄液原液が高温水タンク４
から供給される高温水で希釈された液であり、バルブの
開閉により白水タンク６をバッファタンクとして循環さ
れる。すなわちスケール洗浄液は薬剤供給口Ａから供給
され、ノズル９から噴出される。次いで、スケール洗浄
液は、漂白処理時の漂白処理液と同様にして回収され、
薬剤排出口Ｂからスケール洗浄液の循環系に戻され、白
水タンク６を経て再び循環される。
【００１６】スケール洗浄の完了は、循環するスケール
洗浄液の流動負荷の低下（流量の増加）により判断する
ことができる。すなわち、この流動負荷の低下は、拡散
洗浄スクリーン上のスケールが除去されたことを意味す
る。また、この流動負荷の変化は、通常パルプ化工程に
既存の付帯設備を用いて知ることができる。
洗浄液の流動負荷の低下（流量の増加）により判断する
ことができる。すなわち、この流動負荷の低下は、拡散
洗浄スクリーン上のスケールが除去されたことを意味す
る。また、この流動負荷の変化は、通常パルプ化工程に
既存の付帯設備を用いて知ることができる。
【００１７】洗浄完了後、スケール洗浄液との界面付近
にあったパルプスラリー中に含有されるスケール洗浄液
は、必要に応じて酸又はアルカリを添加した温水又は常
温水を用いたフラッシングにより除去（中和）すること
が好ましい。具体的には、スケール洗浄液を拡散洗浄器
１から排出した後、必要に応じて塩酸又は硫酸のような
酸、或いは水酸化ナトリウムのようなアルカリを添加し
た温水又は常温水を、スケール洗浄液と同様にして洗浄
塔２の上部の薬剤供給口Ａ、ノズル９を経て拡散洗浄器
１内を循環させる。このフラッシングの完了は、循環水
のｐＨ値により判断することができる。すなわち循環水
のｐＨ値が洗浄塔の通常操業時の数値に達した時点で、
温水又は常温水の循環を停止すればよい。なお、循環水
のｐＨ値は、通常パルプ化工程に既存の付帯設備を用い
て知ることができる。
にあったパルプスラリー中に含有されるスケール洗浄液
は、必要に応じて酸又はアルカリを添加した温水又は常
温水を用いたフラッシングにより除去（中和）すること
が好ましい。具体的には、スケール洗浄液を拡散洗浄器
１から排出した後、必要に応じて塩酸又は硫酸のような
酸、或いは水酸化ナトリウムのようなアルカリを添加し
た温水又は常温水を、スケール洗浄液と同様にして洗浄
塔２の上部の薬剤供給口Ａ、ノズル９を経て拡散洗浄器
１内を循環させる。このフラッシングの完了は、循環水
のｐＨ値により判断することができる。すなわち循環水
のｐＨ値が洗浄塔の通常操業時の数値に達した時点で、
温水又は常温水の循環を停止すればよい。なお、循環水
のｐＨ値は、通常パルプ化工程に既存の付帯設備を用い
て知ることができる。
【００１８】
【実施例】以下、実施例により本発明を詳しく述べる
が、本発明の適用範囲はこれらに限定されるものではな
い。また、以下の実施例及び比較例は図１を用いて説明
する。
が、本発明の適用範囲はこれらに限定されるものではな
い。また、以下の実施例及び比較例は図１を用いて説明
する。
【００１９】参考例１ 某紙・パルプ工場のパルプ化工程において、漂白処理効
率が低下したため、その原因を調査したところ、洗浄塔
２（ディフューザー）の上部に設けられた拡散洗浄器１
の拡散洗浄スクリーン８（多孔板）にスケールが付着
し、漂白処理液の通りが悪くなっていることが判明し
た。そこで、付着したスケールを蛍光Ｘ線及びＩＲで分
析したところ、付着したスケールはシュウ酸カルシウム
を主体とするスケールであることがわかった。
率が低下したため、その原因を調査したところ、洗浄塔
２（ディフューザー）の上部に設けられた拡散洗浄器１
の拡散洗浄スクリーン８（多孔板）にスケールが付着
し、漂白処理液の通りが悪くなっていることが判明し
た。そこで、付着したスケールを蛍光Ｘ線及びＩＲで分
析したところ、付着したスケールはシュウ酸カルシウム
を主体とするスケールであることがわかった。
【００２０】比較例１ 漂白処理効率が低下した某紙・パルプ工場のパルプ化工
程の洗浄塔２内のパルプスラリー７をパルプ供給口Ｃよ
り塔外へ排出した。次いで、スケール洗浄液原液タンク
３ａ及び３ｂのＥＤＴＡ４Ｎａ（エチレンジアミン四酢
酸四ナトリウム塩）と水酸化ナトリウムを有効成分と
し、高温水タンク４の高温水で希釈されたスケール洗浄
液（液温：約８０℃）を、洗浄塔の上部の薬剤供給口Ａ
から導入し、拡散洗浄スクリーン８が充分浸漬するまで
洗浄塔２内に満たし（約８００ｍ3）、該洗浄液をポン
プで２０時間循環した。スケール洗浄液の循環経路は、
薬剤供給口Ａ→拡散洗浄器１→（洗浄塔２）→パルプ供
給口Ｃ→白水タンク６→（配管、ポンプ）→薬剤供給口
Ａであった。その結果、拡散洗浄スクリーン上の付着ス
ケールは９０％除去された。しかしながら、この方法で
は、洗浄前に排出されたパルプスラリーが廃棄されるた
め経済的な損失と共に、膨大な量のスケール洗浄液を使
用したため使用後の洗浄液の中和処理や廃水処理に多大
の経費や時間を費やした。
程の洗浄塔２内のパルプスラリー７をパルプ供給口Ｃよ
り塔外へ排出した。次いで、スケール洗浄液原液タンク
３ａ及び３ｂのＥＤＴＡ４Ｎａ（エチレンジアミン四酢
酸四ナトリウム塩）と水酸化ナトリウムを有効成分と
し、高温水タンク４の高温水で希釈されたスケール洗浄
液（液温：約８０℃）を、洗浄塔の上部の薬剤供給口Ａ
から導入し、拡散洗浄スクリーン８が充分浸漬するまで
洗浄塔２内に満たし（約８００ｍ3）、該洗浄液をポン
プで２０時間循環した。スケール洗浄液の循環経路は、
薬剤供給口Ａ→拡散洗浄器１→（洗浄塔２）→パルプ供
給口Ｃ→白水タンク６→（配管、ポンプ）→薬剤供給口
Ａであった。その結果、拡散洗浄スクリーン上の付着ス
ケールは９０％除去された。しかしながら、この方法で
は、洗浄前に排出されたパルプスラリーが廃棄されるた
め経済的な損失と共に、膨大な量のスケール洗浄液を使
用したため使用後の洗浄液の中和処理や廃水処理に多大
の経費や時間を費やした。
【００２１】比較例２ 漂白処理効率が低下した某紙・パルプ工場のパルプ化工
程の洗浄塔２内のパルプスラリー７を洗浄塔外へ排出
し、拡散洗浄スクリーン８の下端部に達するまで水を充
填した。次いで、比較例１と同様にしてＥＤＴＡ４Ｎａ
と水酸化ナトリウムを有効成分とするスケール洗浄液
（液温：約８０℃）を、拡散洗浄スクリーン８が充分浸
漬するまで拡散洗浄器１内に満たし（約２００ｍ3 ）、
該洗浄液をポンプで２０時間循環した。但し、スケール
洗浄液の循環経路は、薬剤供給口Ａ→拡散洗浄器１→薬
剤排出口Ｂ→白水タンク６→（配管、ポンプ）→薬剤供
給口Ａであった。その結果、拡散洗浄スクリーン８上の
付着スケールは殆ど除去されなかった。その原因を調査
したところ、スケール洗浄液が先に洗浄塔２内に充填し
ておいた水によって希釈され、スケール洗浄液中の有効
成分の濃度が低下したためであることがわかった。
程の洗浄塔２内のパルプスラリー７を洗浄塔外へ排出
し、拡散洗浄スクリーン８の下端部に達するまで水を充
填した。次いで、比較例１と同様にしてＥＤＴＡ４Ｎａ
と水酸化ナトリウムを有効成分とするスケール洗浄液
（液温：約８０℃）を、拡散洗浄スクリーン８が充分浸
漬するまで拡散洗浄器１内に満たし（約２００ｍ3 ）、
該洗浄液をポンプで２０時間循環した。但し、スケール
洗浄液の循環経路は、薬剤供給口Ａ→拡散洗浄器１→薬
剤排出口Ｂ→白水タンク６→（配管、ポンプ）→薬剤供
給口Ａであった。その結果、拡散洗浄スクリーン８上の
付着スケールは殆ど除去されなかった。その原因を調査
したところ、スケール洗浄液が先に洗浄塔２内に充填し
ておいた水によって希釈され、スケール洗浄液中の有効
成分の濃度が低下したためであることがわかった。
【００２２】実施例１ 漂白処理効率が低下した某紙・パルプ工場のパルプ化工
程の洗浄塔２内のパルプスラリー７を、パルプスラリー
の上面が拡散洗浄スクリーン８の下端部（図１中、Ｅの
レベル）に達するまでパルプ供給口Ｃから排出した。次
いで、比較例２と同様にしてＥＤＴＡ４Ｎａと水酸化ナ
トリウムを有効成分とするスケール洗浄液（液温：約８
０℃）を、拡散洗浄スクリーンが充分浸漬するまで拡散
洗浄器１内に満たし（約２００ｍ3 ）、比較例２と同じ
循環経路で該洗浄液をポンプで２０時間循環した。その
結果、拡散洗浄スクリーン８上の付着スケールは９５％
以上除去された。また、スケール洗浄液とパルプスラリ
ーとの界面において、洗浄液の希釈や熱の授受のなかっ
たことを確認した。
程の洗浄塔２内のパルプスラリー７を、パルプスラリー
の上面が拡散洗浄スクリーン８の下端部（図１中、Ｅの
レベル）に達するまでパルプ供給口Ｃから排出した。次
いで、比較例２と同様にしてＥＤＴＡ４Ｎａと水酸化ナ
トリウムを有効成分とするスケール洗浄液（液温：約８
０℃）を、拡散洗浄スクリーンが充分浸漬するまで拡散
洗浄器１内に満たし（約２００ｍ3 ）、比較例２と同じ
循環経路で該洗浄液をポンプで２０時間循環した。その
結果、拡散洗浄スクリーン８上の付着スケールは９５％
以上除去された。また、スケール洗浄液とパルプスラリ
ーとの界面において、洗浄液の希釈や熱の授受のなかっ
たことを確認した。
【００２３】拡散洗浄器１から洗浄液を排出した後、洗
浄液との界面にあった洗浄塔内のパルプスラリーを約４
０〜９０℃の温水で３回フラッシングして、該パルプス
ラリーのｐＨを１０程度にまで低下させた。上記処理を
終えた後、従来通りのパルプの漂白処理を行ったとこ
ろ、スケール洗浄操作後のパルプの品質に問題は生じな
かった。
浄液との界面にあった洗浄塔内のパルプスラリーを約４
０〜９０℃の温水で３回フラッシングして、該パルプス
ラリーのｐＨを１０程度にまで低下させた。上記処理を
終えた後、従来通りのパルプの漂白処理を行ったとこ
ろ、スケール洗浄操作後のパルプの品質に問題は生じな
かった。
【００２４】実施例１でのスケール洗浄液の使用量は、
比較例１での使用量の約１／４に削減され、この経済的
な効果は大きい。また、実施例１では大量のパルプスラ
リーを洗浄塔外に排出するという煩雑な作業が軽減さ
れ、更に洗浄処理後の中和処理や廃水処理の費用や時間
が削減された。
比較例１での使用量の約１／４に削減され、この経済的
な効果は大きい。また、実施例１では大量のパルプスラ
リーを洗浄塔外に排出するという煩雑な作業が軽減さ
れ、更に洗浄処理後の中和処理や廃水処理の費用や時間
が削減された。
【００２５】
【発明の効果】本発明は、パルプ化工程の洗浄塔の上部
に設けられた拡散洗浄器の拡散洗浄スクリーン上のスケ
ールを除去するに際して、パルプスラリーの上面が該ス
クリーンの下端部に達するまで洗浄塔内のパルプスラリ
ーを排出した後、拡散洗浄器内にスケール洗浄液を循環
させてスケールを除去することを特徴とする。したがっ
て、本発明によれば、パルプ化工程の洗浄塔に設けられ
た拡散洗浄器の拡散洗浄スクリーンを、従来より少量の
スケール洗浄液で効率よく洗浄することができる。ま
た、本発明によれば、洗浄塔内のパルプスラリーを全て
排出する必要がなく、パルプ原料の損失が低減し、作業
の効率化を図ることができる。
に設けられた拡散洗浄器の拡散洗浄スクリーン上のスケ
ールを除去するに際して、パルプスラリーの上面が該ス
クリーンの下端部に達するまで洗浄塔内のパルプスラリ
ーを排出した後、拡散洗浄器内にスケール洗浄液を循環
させてスケールを除去することを特徴とする。したがっ
て、本発明によれば、パルプ化工程の洗浄塔に設けられ
た拡散洗浄器の拡散洗浄スクリーンを、従来より少量の
スケール洗浄液で効率よく洗浄することができる。ま
た、本発明によれば、洗浄塔内のパルプスラリーを全て
排出する必要がなく、パルプ原料の損失が低減し、作業
の効率化を図ることができる。
【図１】この発明の方法に適用しうるパルプ化工程の洗
浄塔とその周辺設備の一例を示す概略図である。
浄塔とその周辺設備の一例を示す概略図である。
【図２】図１の洗浄塔の上部に設けられた拡散洗浄器の
構造と作動を示す切除図である。
構造と作動を示す切除図である。
【図３】図２の拡散洗浄器のスクリーン及びノズルの構
造と作動を示す部分切除図である。
造と作動を示す部分切除図である。
１ 拡散洗浄器 ２ 洗浄塔 ３ａ、３ｂ スケール洗浄液原液タンク ４ 高温水タンク ５ 漂白処理液原液タンク ６ 白水タンク ７ パルプスラリー ８ 拡散洗浄スクリーン ９ ノズル Ａ 薬剤供給口 Ｂ 薬剤排出口 Ｃ パルプ供給口 Ｄ パルプ排出口 Ｅ パルプスラリーのレベル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 克己 大阪市東淀川区東淡路２丁目10番15号 株式会社 片山化学工業研究所内 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) D21C 9/04
Claims (2)
- 【請求項１】 パルプ化工程の洗浄塔の上部に設けられ
た拡散洗浄器の拡散洗浄スクリーン上のスケールを除去
するに際して、パルプスラリーの上面が該スクリーンの
下端部に達するまで洗浄塔内のパルプスラリーを排出し
た後、拡散洗浄器内にスケール洗浄液を循環させてスケ
ールを除去することを特徴とする拡散洗浄スクリーンの
洗浄方法。 - 【請求項２】 スケールがシュウ酸カルシウムである請
求項１記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21324297A JP2904273B2 (ja) | 1997-08-07 | 1997-08-07 | 拡散洗浄スクリーンの洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21324297A JP2904273B2 (ja) | 1997-08-07 | 1997-08-07 | 拡散洗浄スクリーンの洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1161672A JPH1161672A (ja) | 1999-03-05 |
| JP2904273B2 true JP2904273B2 (ja) | 1999-06-14 |
Family
ID=16635879
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21324297A Expired - Lifetime JP2904273B2 (ja) | 1997-08-07 | 1997-08-07 | 拡散洗浄スクリーンの洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2904273B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003024892A (ja) * | 2001-07-13 | 2003-01-28 | Chubu Plant Service Co Ltd | 冷却水配管の配管洗浄方法とその洗浄装置 |
| JP5246908B2 (ja) * | 2006-05-18 | 2013-07-24 | 伯東株式会社 | デポジット洗浄方法 |
| JP4973284B2 (ja) * | 2007-03-30 | 2012-07-11 | 栗田工業株式会社 | パルプ洗浄剤、パルプ製造方法、及びパルプ洗浄方法 |
| JP5063265B2 (ja) * | 2007-09-05 | 2012-10-31 | 日本製紙株式会社 | ディフュージョンウォッシャーの洗浄補助装置 |
| CN102601083B (zh) * | 2012-03-20 | 2014-09-10 | 湖南骏泰浆纸有限责任公司 | 一种洗浆机表面结垢物清洗装置与清洗方法 |
| JP6064141B2 (ja) * | 2015-04-30 | 2017-01-25 | ナルコジャパン合同会社 | 溶解パルプ製造工程で発生する付着物の洗浄方法 |
-
1997
- 1997-08-07 JP JP21324297A patent/JP2904273B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH1161672A (ja) | 1999-03-05 |
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