JP2895222B2 - 2次元の絶対位置測定装置 - Google Patents

2次元の絶対位置測定装置

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は測定装置へ関連づけて部材の2次元の絶対位
置を測定する装置に関する。
従来技術 ドイツ連邦共和国特許公報第3821046号に光学的電子
的変位および/または角度測定のための方法が示されて
いる。この方法の場合、測定されるべき物体の表面へ所
定の角度の下に第1のおよび第2の光学的ビームが方向
づけられており、これらのビームは表面上の1つの共通
の照射個所において回折される。両方のビームは異なる
周波数を有するかまたは両方のビームの周波数が同時に
変化され、この場合、ビームの一方が位相変調器を有す
る。基準信号に対して相対的な、1つの光学的センサか
ら送出される信号の位相変化が、評価される。測定され
るべき物体の表面上の両方のビームの照射個所におい
て、回折が行なわれる。何故ならば表面は常に、光学的
格子の作用を有する多少の凹凸を有するからである。こ
の公知の方法により、所定の測定時点に例えば測定開始
時に基準位置が規定される場合に、絶対位置測定が可能
となる。他方、ちょうど検出中の測定値に基づいて、測
定位置へ関連づけて測定されるべき部材の絶対位置測定
は、可能ではない。
本発明の課題は、ちょうど検出中の測定値から位置の
絶対測定を可能とする測定装置に関連づけて、部材の2
次元の絶対位置を測定するための装置を提供することで
ある。この課題は請求項1の特徴部分の構成により解決
されている。
発明の利点 請求項1に示された本発明の装置は、著しくわずかな
構成の下に著しく高い分解能を有する。測定されるべき
部材の少なくとも1つの表面をホログラムとして構成し
たため、簡単に構成された光学的測定装置により評価さ
れる大きい情報密度の格納が可能となる。
ホログラムの中に含まれる情報は、次のようにして評
価される。即ち測定波がホログラムへ方向づけられてお
り、更に基準(参照)波が、ホログラムにより回折され
た測定波と干渉するために設けられていることによる。
干渉された光は、少なくとも2つのセンサを含むセンサ
装置により検出される。これらのセンサはその出力信号
を信号処理装置へ送出する。信号処理装置はこれらの信
号とメモリの中に記憶されている値から、部材の2次元
の絶対位置を測定装置に関連づけて求める。
本発明の第1の実施例によれば、信号処理装置が絶対
位置を、干渉された波の強さに比例する、センサの出力
信号から求める。例えば少なくとも2つのセンサから送
出される信号の差を形成することによりまたは商を形成
することにより、求められる。
この実施例の著しい利点は、光学的装置の簡単な構成
にある、何故ならば測定波も基準波も同じ周波数を有す
ることができるからである。
第2の実施例においては、前記の少なくとも2つのセ
ンサから送出される出力信号の間に位相変調器または周
波数変調器が設けられており、さらに信号処理装置が絶
対位置を、センサの出力信号の間の位相関係から求める
ように構成されている。この実施例において必要とされ
ることは、測定波と基準波との間に位相変調作用または
周波数変調作用が実施されることである。変調作用は、
測定波と基準波の光学的周波と比較して著しく低い周波
数における位相関係の評価を可能とする。この低い周波
数は簡単な電子装置により評価可能である。この実施例
の特別の利点は、測定波および基準波の強度が絶対位置
測定の結果へ参入しないことにある。そのため一層高い
精度および/または分解能が得られる。
本発明の構成によれば、測定波および基準波を、異な
る方向からホログラムの共通の照射個所へ方向づけるよ
うに構成したのである。この構成において、光学装置の
調整は簡単に実施できる、何故ならば、測定波も基準波
も共通の照射個所へ方向づけられていることだけを、保
証すべきだからである。光学的センサ装置のこの調整は
著しく簡単である。照射個所において回折されさらに干
渉された波がセンサへ照射することだけを保証すべきで
ある。
光学的測定装置の小型化は、ビーム源として半導体レ
ーザを用いることにより可能となり、この場合、光学構
成は、例えば統合化される光学装置においてい行なわれ
る。
分解能と測定精度の一層の向上は、光学的センサ装置
をラインとしてまたは2次元のマルチセンサ装置として
構成したことにより、可能となる。光学的センサ装置の
この構成の場合、複数個のセンサからの出力信号はその
都度に評価される。
本発明の装置の構成によれば、それぞれ少なくとも1
つの第2の測定波および基準波が設けられており、これ
らは既に存在している波とは異なる波長を有している。
本発明の構成によれば、センサ装置において2つの第
2のセンサも設けられており、この場合、両方のセンサ
はそれぞれ、干渉された波の波長を検出する。光学的測
定装置の、異なる波長を有する2つの部分への分割が、
ホログラムの簡単な実現を可能とする。何故ならば例え
ば一方の設計仕様の部分には一方の波長が、および他方
のそれには他方の波長が配属できるからである。そのた
めホログラムの算出および製造が著しく簡単になる。
本発明の構成によれば、異なる波長は時間的に交番的
に形成される。わずか2つのセンサしか含む必要のない
センサ装置に対するわずかな費用は有利である。何故な
らば信号処理装置は、種々の波長への配属を、この目的
でこの装置へ導かれる信号を用いて実施できるからであ
る。
本発明の装置の種々の構成は、従属形式の請求項に示
されており、次の記載で説明する。
図面 第1図および第2図は、2次元の絶対位置測定用の本
発明の装置の2つの実施例を示す。
第1図は部材10を示し、この部材の2次元の絶対位置
が、測定装置11に関連づけて測定される。光学的測定装
置11はビーム源12を含み、そのビーム源から、測定波13
と基準波14が導出される。測定波13も基準波14も光導体
15の中を導かれる。基準波のビーム路の中に変調器16が
設けられている。測定波13および基準波14は、ホログラ
ムとして構成されている、部材10の表面18の共通の照射
個所17へ方向づけられている。ホログラムのストラクチ
ャは線19で示されている。照射個所17におて回折された
波13,14は干渉し次に、少なくとも2つのセンサ21,22を
含む光学的センサ装置20により検出される。センサ21,2
2の出力信号は、位置を求める信号処理装置23へ導かれ
る。
第2図は、第1図に示された装置のビーム路の第2の
構成を示す。第1図に示された部材と一致する部材は、
第2図において第1図と同じ参照数字を有する。基準波
14は測定波13と共に、センサ装置20とホログラム18との
間に存在する個所で、重畳される。両方の波13,14を1
つにまとめるためにビームスプリッタ24が設けられてい
る。
次に第1図および第2図に示された本発明による装置
の動作を説明する。
光学的測定装置11により求められるべき部材10の2次
元の絶対位置に関する情報は、部材10の、ホログラムと
して構成されている表面18の中に含まれている。このホ
ログラムは、別個に製造し続いて部材10の表面と結合す
ることもできる。ホログラム18のストラクチャは理論的
に算出可能であり、さらに線19で簡単化された形状で示
されているよりも、実際は著しく複雑である。ホログラ
ム18の中に含まれている情報は光路において読み出され
る。ホログラム18ヘ方向づけられた測定波13は照射点17
において回折される。位置情報は回折された波の位相状
態の中に含まれている。回折された波は基準波14を基準
として評価される。この基準波はこの目的で測定波13と
干渉される。第1図に示されているように干渉は、測定
波13も基準波14も同じ照射個所17へ方向づけられること
により、行なわれる。しかし基準波14もホログラム18へ
照射することは、必要とはされない。そのため第2図に
示されている様に、基準波14を光学的センサ装置20の直
前で、ホログラムにより回折された測定波13とはじめて
干渉させることもできる。基準波14は例えば直接センサ
装置20へ方向づけることができる。両方の波13,14を1
つにまとめるためにビームスプリッタ24を用いることも
できる。
干渉された波は、少なくとも2つのセンサ21,22を含
む光学的センサ装置20へ達する。ホログラムにより生ぜ
させられた、測定波13と基準波14との波面差に依存し
て、両方のセンサ21,22に、異なるビーム強度が現われ
る。信号処理装置23において強度差から、2次元の絶対
位置が、メモリ中に記憶されている値との比較により求
められる。信号処理装置23は例えばセンサ21,22に現わ
れた信号差を算出するか、または例えばこれから比を形
成する。一層高い分解能および/または測定精度は、セ
ンサ装置20の中に2つよりも多いセンサ21,22が含まれ
ている時に、得られる。センサ装置20は例えばライン形
式のまたは2次元のマルチセンサ装置として構成されて
いる。この場合、信号処理装置23において、位置の絶対
測定に用いられる複数個の信号が供給される。
第2の構成において絶対位置は、センサ21と22との間
に生ずる位相差から求められる。光学的周波数領域にお
ける位相の関係づけの算出は、測定波13または基準波14
が互いに位相変調または周波数変調を有する時に、回避
される。測定結果において位相変調と周波数変調とは等
しい。この目的で、例えば基準波14を相応に変調する変
調器16が設けられている。センサ21,22から送出される
信号の間の位相の関係づけは、信号処理装置23におい
て、変調器16の変調周波数の領域において処理される。
位相情報の評価は、強度の評価よりも優れた利点を有
する。何故ならば強度変化が、例えば光学的コンポーネ
ントの汚染によりまたは例えば老化現象により生じ得る
位置算出動作に影響を与えないからである。
ホログラムのストラクチャの複雑な算出処理は、位相
測定において測定されるべき両方の方向の各々に対して
別個のストラクチャを前もって与える場合に、簡単化さ
れる。異なるストラクチャの評価は、異なる波長の2つ
の光学的ビームの評価により可能である。
本発明による装置の第1の変形実施例によれば、2つ
の測定波13および基準波14が設けられている。この場
合、センサ装置20は、少なくとも2つのセンサを、一方
の波長を有するビームの受信のために含み、さらに少な
くとも2つのセンサを、他方の波長を有するビームの受
信のために含む。両方の波長用に、両方の測定装置11の
完全に別個の構成も可能である。例えば測定装置11のい
くらかの部分が両方の波長に対して同時に有利に用いら
れる。異なる波長を有する両方の測定ビーム13を、共通
に案内することもできる。この場合、一方の基準ビーム
14は、両方の測定方向のために、表面18への他方の基準
ビーム14の投射方向に対して約90゜の角度を有する。同
様に両方の測定ビームを両方の測定方向に対して分割し
さらに基準ビーム14を共通に案内することもできる。ビ
ーム源12は、異なる波長を有するビームを個別にまたは
共通に発生することができる。
2つの測定波13と2つの基準波14とを有する測定装置
の別の実施例において、測定波13と基準波14の波長の切
り換えは、所定の時間間隔において行なわれる。第1の
時間区間においては一方の測定方向における位置測定の
ための波長が発生され、次の時間区間においては他方の
測定における位置測定のための波長が発生される。この
構成は、わずか2つのセンサ21,22しか必要とされない
利点を有する。異なる波長の場合に必要とされる別個の
評価は、信号処理装置23において、この信号処理装置に
測定波および基準波のその都度存在する波長が送出する
信号が導かれることにより、行なわれる。
光学的測定装置11は例えば統合化される光学装置の中
に組み立てられる。この場合、少なくとも1つの測定波
13および基準波14が光導体15の中へ導かれる。ビーム源
12としては、測定装置11の著しくコンパクトな構造を可
能にする半導体レーザが、特に適している。
光学的測定装置11の調整作業は、実質的に、測定波13
と基準波14を干渉させるだけで済む。ホログラム18への
測定波13の、および場合により基準波14の照射角度は、
およびホログラム18へのセンサ装置20の観察角度は、所
定の限界内で任意に選択可能である。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭57−203902(JP,A) 特開 平1−318902(JP,A) 特開 平4−231805(JP,A) 特開 平1−263522(JP,A) 特開 平2−192114(JP,A) 特開 平7−253333(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G01B 11/00

Claims (12)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】測定装置(11)へ関連づけて部材(10)の
    2次元の絶対位置を測定する装置であって、この場合、
    光学的測定波(13)が、ホログラムとして形成されてい
    る、部材(10)の表面(18)へ方向づけられており、さ
    らに光学的基準波(14)が、該ホログラム(18)により
    回折される測定波(13)と干渉させる目的で設けられて
    おり、さらに前記の位置測定装置は、少なくとも2つの
    センサ(21,22)を含む、干渉された波(13,14)を検出
    するための光学的センサ装置(20)を備えており、さら
    に信号処理装置(23)を備えており、該信号処理装置
    は、前記のセンサ(21,22)の出力信号からおよびメモ
    リの中に記憶されている値から、位置を求めることを特
    徴とする部材の2次元の絶対位置を測定するための装
    置。
  2. 【請求項2】信号処理装置(23)が絶対位置を、干渉さ
    れた波(13,14)の強さに比例する、センサ(21,22)の
    出力信号から求めるようにした請求項1記載の装置。
  3. 【請求項3】測定波(13)と基準波(14)との間の位相
    変調器または周波変調器が設けられており、さらに信号
    処理装置(23)が絶対位置を、センサ(21,22)の出力
    信号の間の位相関係から求めるようにした請求項1記載
    の装置。
  4. 【請求項4】異なる方向からの測定波(13)および基準
    波(14)を、ホログラム(18)の共通の照射個所(17)
    へ方向づけるようにした請求項1から3までのいずれか
    1項記載の装置。
  5. 【請求項5】基準波(14)を、照射個所(17)において
    回折された測定波(13)と干渉させるようにした請求項
    1から3までのいずれか1項記載の装置。
  6. 【請求項6】測定波(13)および基準波(14)を発生す
    るための半導体レーザ(12)が設けられている請求項1
    から5までのいずれか1項記載の装置。
  7. 【請求項7】測定波(13)または基準波(14)を変調す
    るための光学的音響的変調器(16)が設けられている請
    求項1から6までのいずれか1項記載の装置。
  8. 【請求項8】ラインの形式で構成されたマルチセンサ装
    置(20)が設けられている請求項1から7までのいずれ
    か1項記載の装置。
  9. 【請求項9】2次元のセンサ装置(20)の中に少なくと
    も4つの光学的センサが設けられている請求項1から7
    までのいずれか1項記載の装置。
  10. 【請求項10】少なくとも1つの第2の光学的測定波
    が、ホログラムとして構成された、部材(10)の表面
    (18)へ方向づけられており、さらに少なくとも1つの
    第2の光学的基準波が、ホログラム(18)により回折さ
    れた測定波との干渉の目的で設けられており、この場
    合、前記第2の測定波および第2の基準波は、前記第1
    の測定波(13)および基準波(14)とは異なる第2の波
    長を有しており、さらにこの場合、一方の波長を有する
    測定波(13)および基準波(14)が一方の測定方向にお
    ける位置測定の目的で表面(18)の上に設けられてお
    り、さらに他方の波長を有する測定波(13)および基準
    波(14)が第2の例えば90゜だけ旋回された測定方向に
    おける位置測定の目的で表面(18)の上に設けられてお
    り、さらに少なくとも2つのセンサから成るセンサ群を
    少なくとも2つ含む光学的センサ装置が設けられてお
    り、さらに両方のセンサ群がそれぞれ1つの、干渉され
    た波の所定の波長を有している請求項1から9までのい
    ずれか1項記載の装置。
  11. 【請求項11】少なくとも1つの第2の光学的測定波
    が、ホログラムとして構成されている、部材(10)の表
    面(18)へ方向づけられており、さらに少なくとも1つ
    の第2の光学的基準波が、ホログラム(18)により回折
    された測定波との干渉の目的で設けられており、この場
    合、この第2の測定波および第2の基準波が第1の測定
    波(13)および基準波(14)とは異なる第2の波長を有
    しており、この場合、交番的にその都度に測定波(13)
    および基準波(14)が一方の波長をおよび続いて他方の
    波長を有するようにし、さらにこの場合、一方の周波数
    を有する測定波(13)および基準波(14)が一方の方向
    における位置測定の目的で、および他方の波長を有する
    測定波(13)および基準波(14)が他方の方向における
    位置測定の目的で、表面(18)に設けられており、さら
    にその都度に存在する、測定波(13)および基準波(1
    4)の波長を与える、信号処理装置(23)へ導かれる信
    号が設けられている請求項1から9までのいずれか1項
    記載の装置。
  12. 【請求項12】統合化される光学装置の中に実現されて
    いる請求項1から11までのいずれか1項記載の装置。
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