JP2873409B2 - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

薄膜磁気ヘッドの製造方法

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JP2873409B2 JP16376291A JP16376291A JP2873409B2 JP 2873409 B2 JP2873409 B2 JP 2873409B2 JP 16376291 A JP16376291 A JP 16376291A JP 16376291 A JP16376291 A JP 16376291A JP 2873409 B2 JP2873409 B2 JP 2873409B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク等に用い
られる薄膜磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来における薄膜磁気ヘッドにおいて、
外部との信号の連結は、図3に示す様に、薄膜磁気ヘッ
ドの信号を外部と連結する電極14と、前記電極14と
反対側表面に、外部からのリード部との導通部15aを
設けたバンプ15とを経由して行っている。そして、前
記バンプ15の導通部15aを除いた他の部分は、保護
膜16によって覆われている。前記バンプ15は、良導
電材料である、主として銅(Cu)から成り、このCu
から成るバンプ15に対する防食、及びリード部との接
着性向上のため、バンプ15表面における導通部15a
及びこの周辺の保護膜16の表面は、防食性及び延伸性
に優れ、良導電材料である金材料(Au)から成るボン
ディングパッド19によって覆われていた。
【0003】このボンディングパッド19は、薄膜技術
により、基体12上に電極14、バンプ15、保護膜1
6が形成された後、保護膜16の研磨によって現れた導
通部15aの表面に、Auがスパッタリング等によって
付着形成されたものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記構成の
薄膜磁気ヘッドにおいて、Auから成るボンディングパ
ッドによって覆われる部分を、バンプ表面の導通部と一
致させることは、製造技術上困難であり、ボンディング
パッドが、どうしても導通部周辺の保護膜にかかってい
た。そして、この部分におけるボンディングパッドと保
護膜との接着性の悪さにより、ボンディングパッドのハ
ガレが起こり易いという問題があり、このハガレを起こ
すボンディングパッドそのものの形成を無くしたいとい
う強い要望があった。
【0005】このようなボンディングパッドを設けない
技術として、特開昭63−187412号が知られてい
るが、これは製造途中においてCuからなるバンプの表
面に耐酸化薄膜をメッキして、その後に形成される絶縁
保護膜との密着性を図った後、研磨により上記バンプの
表面を露出させて外部リード線との接続を行うというも
のであり、導通部となるバンプの上面露出部は前述の従
来例と同様にCuとなっているため防食性、延伸性に欠
けるといる問題を有している。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明における薄膜磁気ヘッドの製造方法は、基
体上にCuからなる電極を形成する工程、前記電極上に
レジスト膜をコーティングし、バンプが形成される領域
のレジスト膜を除去するように前記レジスト膜をパター
ニングする工程、前記パターニングによりレジスト膜が
除去された領域にCuの電解メッキにより周辺に前記レ
ジスト膜上にオーバーハング部分が残るようにバンプ下
層を形成する工程、Auの電解メッキにより前記バンプ
下層を覆うようにバンプ上層を形成する工程、前記レジ
スト膜を剥離した後に、前記バンプ上、下層全体を覆う
ように保護膜を形成する工程、前記保護膜を研磨して前
記バンプ上層の一部を露出させる工程、を含むことを特
徴とするものである。
【0007】
【作用】上述の様な構成によれば、バンプ自体の露出さ
れた導通部がAuで形成されていることによって、バン
プに対する防食、及び外部端子からのリード部との良好
な接着性が得られ、これによってバンプの露出された導
通部面にボンディングパッドを形成することが不要にな
る。
【0008】
【実施例】以下に本発明の実施例を図面を参照して具体
的に説明する。
【0009】本発明によって製造された薄膜磁気ヘッド
の一例を、図面を参照して説明する。
【0010】図1に示す様に、薄膜磁気ヘッド1は、例
えばAlから成る基体2の上に設けられた磁気ヘ
ッド素子3と、磁気ヘッド素子3の信号を外部と連結す
る良導電材料であるCuから成る電極4と、この電極4
表面に形成されたバンプ5と、図示されないリード部を
接続するための導通部5c部分を除く他の部分を覆う例
えばAlから成る保護膜6とから構成されてい
る。前記電極4を経由する磁気ヘッド素子3の信号は、
前記導通部5cに接続される外部端子からのリード部に
よって外部端子へ連結される。
【0011】図1におけるX−X′断面を拡大したもの
を図2に示す様に、電極4上に形成されたバンプ5は、
この電極4と反対側の導通部5cが保護膜6表面に露出
されている。又、バンプ5は、電極4側に位置するバン
プ下層5aと、バンプ下層5aを覆う様に形成されたバ
ンプ上層5bとの2層から成る。そして、バンプ上層5
bの一部は保護膜6表面に露出され導通部5cとなって
いる。バンプ下層5aは良導電材料である、例えばCu
で形成され、バンプ下層5a上のバンプ上層5bは、良
導電材料であるAuから形成されている。この構成によ
り、バンプ5においてΛuで形成されたバンプ上層5b
部分は露出されているが、バンプ下層5aはバンプ上層
5bによって覆われ露出されない。。
【0012】これによって、バンプ5に対する防食、及
び外部端子からのリード部との良好な接着性が得られる
と共に、バンプ5の露出側表面にボンディングパッドを
形成することが不要になる。
【0013】上記構成の薄膜磁気ヘッド1は次の様に製
造される。
【0014】先ず、Alから成る基体2の上に磁
気ヘッド素子3の形成と同時にCuから成る電極4が、
薄膜技術によりパターン形成される。この上にCuをス
パッタリング付着させることによって電極膜が形成され
る。この電極膜は、バンプ5が電解メッキにより形成さ
れる際に、基体2周辺部からの通電用として使用される
ものである。次に、この上にレジスト膜7がコーティン
グされ、電極4の上にバンプ5が形成される領域を除去
する様にパターンニングされる。そして、前記電極膜上
にCuを電解メッキすることにより、電極4の上におい
て例えば厚み30μm程度のバンプ下層5aがレジスト
膜7の上にオーバーハングするように形成される。つい
でAuを電解メッキすることによりバンプ下層5aの上
を覆うように例えば厚み20μm程度のバンプ上層5b
が形成される。次にレジスト膜が剥離され、ミリングに
より電極膜の不要部分が除去された後、これ等全表面に
Alがスパッタリングにより付着され、保護膜6
が形成される。そして、所定の厚み(例えば50μm程
度)を残して保護膜6が研磨されることにより、保護膜
6表面に防食性及び延伸性に優れた良導電材料であるA
uで形成されたバンプ上層5bの一部が露出される。
【0015】これによって、バンプ5に対する防食、及
びリード部との良好な接着性が得られる薄膜磁気ヘッド
1が形成される。
【0016】
【発明の効果】以上詳述した本発明によれば、保護膜表
面のバンプの露出面が耐食性、接着性に優れているAu
材料からなるのでボンディングパッドを形成することが
不要となるため、ボンディングパッドのハガレという問
題が無くなると共に、薄膜磁気ヘッドを生産する上にお
いて生産性の向上が図れる。また、バンプを2層構造と
し、バンプ下層はオーバーハングさせて形成するので、
多量のメッキを行うことにより十分な厚みを持たせるこ
とができ、その上に形成されるAu層の厚みを薄くする
等の調整が容易となり、生産性の向上を一層図ることが
できる。しかも、バンプ下層を形成する際に用いたレジ
スト膜をそのままにしてバンプ上層を形成することがで
きるので、バンプ上層となるAu層の厚みを任意の厚さ
に設定できるという利点を有している。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わる薄膜磁気ヘッドの部分的に破断
された拡大斜視図である。
【図2】図1に示す薄膜磁気ヘッドのX−X′断面拡大
図である。
【図3】従来の薄膜磁気ヘッドの構成を説明するための
要部断面図である。
【符号の説明】
1 薄膜磁気ヘッド 2 基体 3 磁気ヘッド素子 4 電極 5 バンプ 6 保護膜

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基体上にCuからなる電極を形成する工
    程、 前記電極上にレジスト膜をコーティングし、バンプが形
    成される領域のレジスト膜を除去するように前記レジス
    ト膜をパターニングする工程、 前記パターニングによりレジスト膜が除去された領域に
    Cuの電解メッキにより周辺に前記レジスト膜上にオー
    バーハング部分が残るようにバンプ下層を形成する工
    程、 Auの電解メッキにより前記バンプ下層を覆うようにバ
    ンプ上層を形成する工程、 前記レジスト膜を剥離した後に、前記バンプ上、下層全
    体を覆うように保護膜を形成する工程、 前記保護膜を研磨して前記バンプ上層の一部を露出させ
    る工程、 を含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
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