JP2865880B2 - 干渉計センサ - Google Patents
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 37
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 20
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 15
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 2
- 101100533625 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) drc-4 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 101150033482 SLD2 gene Proteins 0.000 description 1
- 101100533627 Schizosaccharomyces pombe (strain 972 / ATCC 24843) drc1 gene Proteins 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q20/00—Monitoring the movement or position of the probe
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
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- G—PHYSICS
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- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
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- G01B9/02057—Passive reduction of errors by using common path configuration, i.e. reference and object path almost entirely overlapping
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- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
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- G—PHYSICS
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、請求項1の上位概念に
よる、有利には原子力顕微鏡に対する干渉計センサに関
する。
よる、有利には原子力顕微鏡に対する干渉計センサに関
する。
【0002】
【従来の技術】原子力顕微鏡では、その表面が探査され
るべき試料がx−y−zスキャナにセットされ、微細な
先端に対して軽く押圧される。この先端は板ばねに取付
固定されている。この板ばねのふれは種々の手段で測定
することができる。
るべき試料がx−y−zスキャナにセットされ、微細な
先端に対して軽く押圧される。この先端は板ばねに取付
固定されている。この板ばねのふれは種々の手段で測定
することができる。
【0003】EP−A−0290648号明細書から、
板ばねとその支持体を、電気量、例えばキャパシタンス
がふれによって変化するように構成することが公知であ
る。R.Erlandson著の刊行物(J.Vac.
Sci.Technol.A6(2),266(198
8))には干渉計的方法が記載されている。そのために
板ばねは測定先端の近傍で反射性に構成され、この測定
面にFizeau型干渉計の測定ビームが顕微鏡対物レ
ンズによってフォーカシングされる。顕微鏡対物レンズ
の反対側には、限界面を基準面として用いるプレートが
存在する。この基準面に対して垂直に到達する、近似的
に平行なレーザビームは分割立方体から到来する。分割
立方体は、測定面および基準面から反射された光を検出
器へ透過し、レーザから到来するビームを顕微鏡対物レ
ンズの方向へ方向転換する。分割立方体はそのために偏
光に依存して構成されており、分割立方体とプレートの
間にはλ/4プレートが配置されている。このプレート
は、ビームがレーザへ逆反射されるのを阻止する。検出
器により検出されたビーム出力は、測定ビームと比較ビ
ームとの干渉のため、他の干渉計からの測定面の距離に
依存する。従って測定面の距離変化の際に検出器信号の
変化が得られる。
板ばねとその支持体を、電気量、例えばキャパシタンス
がふれによって変化するように構成することが公知であ
る。R.Erlandson著の刊行物(J.Vac.
Sci.Technol.A6(2),266(198
8))には干渉計的方法が記載されている。そのために
板ばねは測定先端の近傍で反射性に構成され、この測定
面にFizeau型干渉計の測定ビームが顕微鏡対物レ
ンズによってフォーカシングされる。顕微鏡対物レンズ
の反対側には、限界面を基準面として用いるプレートが
存在する。この基準面に対して垂直に到達する、近似的
に平行なレーザビームは分割立方体から到来する。分割
立方体は、測定面および基準面から反射された光を検出
器へ透過し、レーザから到来するビームを顕微鏡対物レ
ンズの方向へ方向転換する。分割立方体はそのために偏
光に依存して構成されており、分割立方体とプレートの
間にはλ/4プレートが配置されている。このプレート
は、ビームがレーザへ逆反射されるのを阻止する。検出
器により検出されたビーム出力は、測定ビームと比較ビ
ームとの干渉のため、他の干渉計からの測定面の距離に
依存する。従って測定面の距離変化の際に検出器信号の
変化が得られる。
【0004】この公知の干渉計センサの欠点は、測定面
の小さな距離変化を、最大または最小ビーム出力が検出
器に達すると、十分に正確に測定できないことである。
その他、測定面および基準面により反射される光の大き
な波長差、高い波長安定性および大きなコヒーレンス長
が必要あり、従い高価なレーザが必要である。さらに、
大きな波長差は装置の大きな温度鋭敏性を生じさせる。
の小さな距離変化を、最大または最小ビーム出力が検出
器に達すると、十分に正確に測定できないことである。
その他、測定面および基準面により反射される光の大き
な波長差、高い波長安定性および大きなコヒーレンス長
が必要あり、従い高価なレーザが必要である。さらに、
大きな波長差は装置の大きな温度鋭敏性を生じさせる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、小さ
な距離変化を常に十分な精度で測定することができ、安
価で設計上小さなレーザしか必要とせず、温度の影響に
対しては可能な限り不感である干渉計センサを提供する
ことである。
な距離変化を常に十分な精度で測定することができ、安
価で設計上小さなレーザしか必要とせず、温度の影響に
対しては可能な限り不感である干渉計センサを提供する
ことである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題は本発明により
次のように構成して解決される。すなわちビーム分割器
と基準面が顕微鏡対物レンズと測定面との間に配置され
ており、遅延素子が基準面と測定面との間に配置されて
おり、前記遅延素子は次のように構成されている、すな
わち、相互に垂直に偏光し、約λ/4の光路差を有する
2つの成分波が発生し、それにより2つの偏光方向にお
いて測定ビームと比較ビームとの間で約λ/4の光路差
の差異が生じるように構成されており、検出装置とし
て、偏光に依存するビーム分割器と2つの検出器とが設
けられているように構成して解決される。
次のように構成して解決される。すなわちビーム分割器
と基準面が顕微鏡対物レンズと測定面との間に配置され
ており、遅延素子が基準面と測定面との間に配置されて
おり、前記遅延素子は次のように構成されている、すな
わち、相互に垂直に偏光し、約λ/4の光路差を有する
2つの成分波が発生し、それにより2つの偏光方向にお
いて測定ビームと比較ビームとの間で約λ/4の光路差
の差異が生じるように構成されており、検出装置とし
て、偏光に依存するビーム分割器と2つの検出器とが設
けられているように構成して解決される。
【0007】ビーム分割器および基準面を顕微鏡対物レ
ンズと測定面との間に配置する装置は、いわゆるMir
au型装置構成から公知である。これは例えばDE−P
S965 607号明細書に記載されている。しかしこ
のMirau型干渉装置は、顕微鏡プレパレートの(二
次元)インターフェログラムを形成するためだけのもの
として公知である。この装置では、プレパレートの表面
形状の探査が干渉縞を用いて行われ、干渉縞の経過から
表面のトポグラフが検出され得る。ここでは表面の探査
が取扱われる。
ンズと測定面との間に配置する装置は、いわゆるMir
au型装置構成から公知である。これは例えばDE−P
S965 607号明細書に記載されている。しかしこ
のMirau型干渉装置は、顕微鏡プレパレートの(二
次元)インターフェログラムを形成するためだけのもの
として公知である。この装置では、プレパレートの表面
形状の探査が干渉縞を用いて行われ、干渉縞の経過から
表面のトポグラフが検出され得る。ここでは表面の探査
が取扱われる。
【0008】しかし本発明では、実質的に点状の測定個
所に対して、距離変化を時間の関数として検出すること
を課題とする。トポグラフの時間的変化を画像評価を介
して検出することにより、前記課題に対してMirau
型装置構成を採用しようとすれば、過度に大きく一部は
過剰のコストが生じる。というのは、トポグラフ自体は
この場合変化しないからである。過度に大きなコストを
回避しようとして、表面の実質的にへ点のみを取出せ
ば、上に述べた別の問題が生じる。すなわち、小さな変
化とその方向を十分な精度で確実に検出することが常に
はできない。このことは公知のMirau型装置構成の
利用に際して点周囲の情報により一部補償できる。
所に対して、距離変化を時間の関数として検出すること
を課題とする。トポグラフの時間的変化を画像評価を介
して検出することにより、前記課題に対してMirau
型装置構成を採用しようとすれば、過度に大きく一部は
過剰のコストが生じる。というのは、トポグラフ自体は
この場合変化しないからである。過度に大きなコストを
回避しようとして、表面の実質的にへ点のみを取出せ
ば、上に述べた別の問題が生じる。すなわち、小さな変
化とその方向を十分な精度で確実に検出することが常に
はできない。このことは公知のMirau型装置構成の
利用に際して点周囲の情報により一部補償できる。
【0009】本発明では、遅延素子によって一方のビー
ムの偏光方向に対して垂直の偏光方向を有するビームを
遅延し、2つの検出器によって当該偏光方向においてビ
ームを別個に検出する。このことにより比較的僅かなコ
ストで課題が解決される。
ムの偏光方向に対して垂直の偏光方向を有するビームを
遅延し、2つの検出器によって当該偏光方向においてビ
ームを別個に検出する。このことにより比較的僅かなコ
ストで課題が解決される。
【0010】基準面を顕微鏡対物レンズと測定面との間
に配置し、それにより測定面と基準面との間の距離が小
さくなることによって、光源として、小さな波長および
小さなコヒーレンス長を有するレーザ、例えばレーザダ
イオードを使用することができる。
に配置し、それにより測定面と基準面との間の距離が小
さくなることによって、光源として、小さな波長および
小さなコヒーレンス長を有するレーザ、例えばレーザダ
イオードを使用することができる。
【0011】本発明の有利な第1実施例によれば、レー
ザから発射されたビームは測定面ないし基準面にフォー
カシングされ、顕微鏡対物レンズおよびビーム分割器は
光軸に対して回転対称に照射される。
ザから発射されたビームは測定面ないし基準面にフォー
カシングされ、顕微鏡対物レンズおよびビーム分割器は
光軸に対して回転対称に照射される。
【0012】第2実施例では、レーザから発したビーム
は小さな距離を置いて測定面ないし基準面の前方でフォ
ーカシングされ、それにより測定面および基準面から反
射されたビームが光軸上にフォーカシングされ、そこか
ら小面積のミラーにより検出装置へ方向変換される。
は小さな距離を置いて測定面ないし基準面の前方でフォ
ーカシングされ、それにより測定面および基準面から反
射されたビームが光軸上にフォーカシングされ、そこか
ら小面積のミラーにより検出装置へ方向変換される。
【0013】第3の実施例では、顕微鏡対物レンズとビ
ーム分割器は、測定面ないし基準面へ向うビームによっ
て最大でも半分だけ照射され、検出装置へ向うビームに
よって最大で他方の半分が照射される。それにより往復
するビームが空間的に相互に分離される。
ーム分割器は、測定面ないし基準面へ向うビームによっ
て最大でも半分だけ照射され、検出装置へ向うビームに
よって最大で他方の半分が照射される。それにより往復
するビームが空間的に相互に分離される。
【0014】遅延素子はビーム分割器と測定面との間、
またはビーム分割器と基準面との間に配置することがで
きる。またビーム分割器の部分反射層を支持するプレー
トまたは基準面の反射層を支持するプレートへ接着する
か、またはその自由表面に接合することができる。
またはビーム分割器と基準面との間に配置することがで
きる。またビーム分割器の部分反射層を支持するプレー
トまたは基準面の反射層を支持するプレートへ接着する
か、またはその自由表面に接合することができる。
【0015】上に引用したErlandson著の刊行
物におけるλ/4プレートはまったく異なる課題を有す
ることを述べておく。そこでは単に、レーザビームがレ
ーザへ逆反射されるのを、偏光ビーム分割器と共働して
阻止するのに用いられるだけである。本発明における遅
延素子の使用法はむしろ、いわゆる直角位相信号を形成
するための公知の手段に相応する。これについては実施
例で詳細に説明する。
物におけるλ/4プレートはまったく異なる課題を有す
ることを述べておく。そこでは単に、レーザビームがレ
ーザへ逆反射されるのを、偏光ビーム分割器と共働して
阻止するのに用いられるだけである。本発明における遅
延素子の使用法はむしろ、いわゆる直角位相信号を形成
するための公知の手段に相応する。これについては実施
例で詳細に説明する。
【0016】勿論(2重通過に対する)遅延素子の光路
差は、λ/4のみならずλ/4+nλ/2とすることも
できる。
差は、λ/4のみならずλ/4+nλ/2とすることも
できる。
【0017】本発明の利点は、−Erlandsonの
装置構成とは反対に−顕微鏡対物レンズに対して非常に
僅かな要求しか課せられないことである。というのは、
レンズ誤差は測定ビームおよび比較ビームの波頭を同じ
ように変形するからである。そのため干渉性は侵害を受
けない。本発明での顕微鏡対物レンズは公知のMira
u型装置構成とは反対に−像を形成しないから、単一レ
ンズから構成することができ、それどころかプラスチッ
ク製とすることもできる。
装置構成とは反対に−顕微鏡対物レンズに対して非常に
僅かな要求しか課せられないことである。というのは、
レンズ誤差は測定ビームおよび比較ビームの波頭を同じ
ように変形するからである。そのため干渉性は侵害を受
けない。本発明での顕微鏡対物レンズは公知のMira
u型装置構成とは反対に−像を形成しないから、単一レ
ンズから構成することができ、それどころかプラスチッ
ク製とすることもできる。
【0018】
【実施例】図1には11によりレーザ、例えばコリメー
タを有するレーザダイオードが示されている。近似的に
平行なビーム束11aは一部が分割立方体(キューブ)
12により検出器13へ反射される。この検出器の唯1
つの役割りは、レーザから発射される出力を制御するこ
とである。この制御は、出力安定性が十分である場合、
または精度要求が低い場合は省略することができる。分
割立方体を通過する光束は、顕微鏡対物レンズにより反
射性の測定面15にフォーカシングされる。収れんした
光束はビーム分割器16sにより測定ビーム11mと比
較ビーム11vに分割される。比較ビームは基準面17
rにより反射される。基準面は顕微鏡対物レンズから直
接出入するビームのほんの小さな一部のみをカットす
る。測定ビームと比較ビームは、ビーム分割器16sに
よる反射の後、再び1つにされ、近似的に平行なビーム
として分割立方体12へ戻る。この分割立方体により、
ビームは共に検出装置18の方向へ反射される。
タを有するレーザダイオードが示されている。近似的に
平行なビーム束11aは一部が分割立方体(キューブ)
12により検出器13へ反射される。この検出器の唯1
つの役割りは、レーザから発射される出力を制御するこ
とである。この制御は、出力安定性が十分である場合、
または精度要求が低い場合は省略することができる。分
割立方体を通過する光束は、顕微鏡対物レンズにより反
射性の測定面15にフォーカシングされる。収れんした
光束はビーム分割器16sにより測定ビーム11mと比
較ビーム11vに分割される。比較ビームは基準面17
rにより反射される。基準面は顕微鏡対物レンズから直
接出入するビームのほんの小さな一部のみをカットす
る。測定ビームと比較ビームは、ビーム分割器16sに
よる反射の後、再び1つにされ、近似的に平行なビーム
として分割立方体12へ戻る。この分割立方体により、
ビームは共に検出装置18の方向へ反射される。
【0019】ビーム分割器16sは部分反射性の層を有
し、この層はガラス板16に被着されている。有利な実
施例では、このガラス板へ遅延素子16v、例えば複屈
折性のポリビニールアルコール膜(Polyvinyl
−alkoholfoile)がはめ込まれる。遅延素
子はその複屈折によって、相互に垂直な偏光を有する成
分波を生ぜしめる。この成分波には、2回通過する際に
約λ/4の光路差が生じる。この測定ビーム11mの分
解により、2つの偏光方向に対して測定ビームと比較ビ
ームとの間に異なる光路差が生じる。この差異は約λ/
4である。図に示された実施例においては、偏光装置が
図平面中および図平面に垂直になるよう遅延素子を取付
けると有利である。
し、この層はガラス板16に被着されている。有利な実
施例では、このガラス板へ遅延素子16v、例えば複屈
折性のポリビニールアルコール膜(Polyvinyl
−alkoholfoile)がはめ込まれる。遅延素
子はその複屈折によって、相互に垂直な偏光を有する成
分波を生ぜしめる。この成分波には、2回通過する際に
約λ/4の光路差が生じる。この測定ビーム11mの分
解により、2つの偏光方向に対して測定ビームと比較ビ
ームとの間に異なる光路差が生じる。この差異は約λ/
4である。図に示された実施例においては、偏光装置が
図平面中および図平面に垂直になるよう遅延素子を取付
けると有利である。
【0020】検出装置18では、偏光に依存するビーム
分割器18sによって、一方の偏光方向を有するビーム
が一方の検出器18dに、他方の偏光方向を有するビー
ムが他方の検出器18eに導かれる。2つの偏光方向に
対する遅延素子により、約λ/4の光路差の差異が測定
ビーム11mと比較ビーム11vとの間に生じれば、検
出器18d,18eは異なる信号を受信し、この信号に
より測定面15の距離変化の方向と量について信頼度が
高く高精度の検出がされる。そのためには光源11のビ
ームはビーム分割器16sへ当る際、2つの偏光方向の
片方でのみ線形に偏光されてはならない。光源が均等に
線形に偏光されれば、この偏光方向は、遅延素子の偏光
方向へ近似的に同じビーム強度が及ぶように配置され
る。
分割器18sによって、一方の偏光方向を有するビーム
が一方の検出器18dに、他方の偏光方向を有するビー
ムが他方の検出器18eに導かれる。2つの偏光方向に
対する遅延素子により、約λ/4の光路差の差異が測定
ビーム11mと比較ビーム11vとの間に生じれば、検
出器18d,18eは異なる信号を受信し、この信号に
より測定面15の距離変化の方向と量について信頼度が
高く高精度の検出がされる。そのためには光源11のビ
ームはビーム分割器16sへ当る際、2つの偏光方向の
片方でのみ線形に偏光されてはならない。光源が均等に
線形に偏光されれば、この偏光方向は、遅延素子の偏光
方向へ近似的に同じビーム強度が及ぶように配置され
る。
【0021】光源として、例えばSony社のSLD2
02Uを使用することができる。これのビームはほとん
ど完全に線形に偏光される。検出器としては、例えばS
iemens社のケイ素フォトダイオードBPW34B
が適している。
02Uを使用することができる。これのビームはほとん
ど完全に線形に偏光される。検出器としては、例えばS
iemens社のケイ素フォトダイオードBPW34B
が適している。
【0022】遅延素子、例えばλ/4プレートによるビ
ームの2つの成分への分解、および偏光に依存するビー
ム分解器による2つの成分の分離は干渉計において、
M.Ross著のLaser Application
s,Vol./1,84頁(Academic Pre
ss,New York 1971年から公知である。
直角位相信号としても公知のこの方法は以下の実施例で
詳細に説明する。
ームの2つの成分への分解、および偏光に依存するビー
ム分解器による2つの成分の分離は干渉計において、
M.Ross著のLaser Application
s,Vol./1,84頁(Academic Pre
ss,New York 1971年から公知である。
直角位相信号としても公知のこの方法は以下の実施例で
詳細に説明する。
【0023】測定面15の光軸10方向への距離変化
は、例えば検出器18dにおいて測定ビームと比較ビー
ムの干渉により交流電圧信号を生ぜしめる。この信号は
直流電圧信号に重畳されており、以下の経過を有する。
は、例えば検出器18dにおいて測定ビームと比較ビー
ムの干渉により交流電圧信号を生ぜしめる。この信号は
直流電圧信号に重畳されており、以下の経過を有する。
【0024】 U(d)=U1 sin(4πd/λ+ψo) ここで、dは距離、λは使用するビームの波長、U1は
交流電圧信号の最大振幅そしてψoは一定の位相角であ
る。このような信号によって、最大および最小距離変化
の近傍では正確に、またその方向を確実に検出すること
ができない。この欠点は、第2の検出器の交流電圧信号
の位相が約π/2ずれていれば第2の検出器により回避
される。というのは、この信号は第1の信号が極大値を
通過する個所で、経過において常に大きく明確な変化を
有しているからである。このように位相にずれた2つの
信号は遅延素子16vにより次のようにして形成され
る。すなわち、遅延素子にて測定ビームの2つの偏光方
向に対して、λ/4の波長差ないしπ/2の位相差が2
度の通過の際に生じるようにして形成される。
交流電圧信号の最大振幅そしてψoは一定の位相角であ
る。このような信号によって、最大および最小距離変化
の近傍では正確に、またその方向を確実に検出すること
ができない。この欠点は、第2の検出器の交流電圧信号
の位相が約π/2ずれていれば第2の検出器により回避
される。というのは、この信号は第1の信号が極大値を
通過する個所で、経過において常に大きく明確な変化を
有しているからである。このように位相にずれた2つの
信号は遅延素子16vにより次のようにして形成され
る。すなわち、遅延素子にて測定ビームの2つの偏光方
向に対して、λ/4の波長差ないしπ/2の位相差が2
度の通過の際に生じるようにして形成される。
【0025】既述の装置ではビームの一部が光源へ逆反
射される。これは多くのレーザで阻止しなければならな
い。これはレーザ11と分割立方体12との間のFar
aday型アイソレータにより達成される。実質的によ
り安価なのは図2および図3に示した装置である。この
装置では往路と復路の幾何学的分離によりビームが光源
に逆反射されることがない。
射される。これは多くのレーザで阻止しなければならな
い。これはレーザ11と分割立方体12との間のFar
aday型アイソレータにより達成される。実質的によ
り安価なのは図2および図3に示した装置である。この
装置では往路と復路の幾何学的分離によりビームが光源
に逆反射されることがない。
【0026】図2では、測定面15から顕微鏡対物レン
ズ14の距離が比較的にやや大きなことにより測定面が
対物レンズの焦点に入ることがない。これにより反射さ
れたビーム束が収斂され、従いビーム束の焦点では、ガ
ラス板上の小さなミラー32sにより照射ビーム路から
方向変換される。方向変換された収斂されたビーム束
は、偏光に依存する分割立方体18sの距離が大きい場
合、レンズ33により標準化される。その他の構成は図
1に相応する。
ズ14の距離が比較的にやや大きなことにより測定面が
対物レンズの焦点に入ることがない。これにより反射さ
れたビーム束が収斂され、従いビーム束の焦点では、ガ
ラス板上の小さなミラー32sにより照射ビーム路から
方向変換される。方向変換された収斂されたビーム束
は、偏光に依存する分割立方体18sの距離が大きい場
合、レンズ33により標準化される。その他の構成は図
1に相応する。
【0027】図3では、測定面15ないし基準面17r
に向かうビーム束により、顕微鏡対物レンズ14および
ビーム分割器16sの最大で半分が照射され、測定面1
5ないし基準面17rにより反射されるビーム束は顕微
鏡対物レンズ14およびビーム分割器16sの他方の半
分を通過する。その他の構成は方向変換ミラー21まで
図1に相応する。
に向かうビーム束により、顕微鏡対物レンズ14および
ビーム分割器16sの最大で半分が照射され、測定面1
5ないし基準面17rにより反射されるビーム束は顕微
鏡対物レンズ14およびビーム分割器16sの他方の半
分を通過する。その他の構成は方向変換ミラー21まで
図1に相応する。
【0028】遅延素子は−図1から図3に示すように−
ビーム分割器16sと測定面15との間に配置すること
ができる。この場合、λ/8小片をガラス板16の裏面
に、またはλ/8膜をガラス板16の2つの半部分の間
に結合することにより、ガラス板16へ集積化すると有
利である。勿論、遅延素子を自立構成素子としてビーム
分割器16sと測定面15との間に配置することもでき
る。
ビーム分割器16sと測定面15との間に配置すること
ができる。この場合、λ/8小片をガラス板16の裏面
に、またはλ/8膜をガラス板16の2つの半部分の間
に結合することにより、ガラス板16へ集積化すると有
利である。勿論、遅延素子を自立構成素子としてビーム
分割器16sと測定面15との間に配置することもでき
る。
【0029】遅延素子はλ/8小片または膜として、ビ
ーム分割器と基準面の間に配置することができる。この
場合、遅延素子は測定ビームと比較ビームの分割前並び
にそれらの統合後で2つのビームに同じように作用し、
そのためビーム光路の当該部分で光路差の差違を生ぜし
めない。
ーム分割器と基準面の間に配置することができる。この
場合、遅延素子は測定ビームと比較ビームの分割前並び
にそれらの統合後で2つのビームに同じように作用し、
そのためビーム光路の当該部分で光路差の差違を生ぜし
めない。
【0030】有利な実施例が図4に示されている。この
実施例ではλ/8分の1膜16vがガラス板47の2つ
の半部分の間に接合されている。これらの半部分ではビ
ーム分割器16sとは反対側で、基準面17rが反射層
の形で被着されている。この場合も勿論、遅延素子は自
立構成素子としてビーム分割器16sと基準面17rと
の間に配置することができる。
実施例ではλ/8分の1膜16vがガラス板47の2つ
の半部分の間に接合されている。これらの半部分ではビ
ーム分割器16sとは反対側で、基準面17rが反射層
の形で被着されている。この場合も勿論、遅延素子は自
立構成素子としてビーム分割器16sと基準面17rと
の間に配置することができる。
【0031】遅延素子はまた、層56sの形で構成する
こともできる。この層は同時に部分反射性であり、従い
ビーム分割器として使用される。基準面もまた反射性層
57rとして構成される。この層は同時に遅延素子とし
て作用する。図5にはこのことが、遅延素子が2種の層
により構成された場合に対して示してある。しかしこの
ように遅延素子を構成することは、顕微鏡対物レンズ1
4と基準面15まで続く素子(図3に示されているよう
に)が非回転対称に照射される場合のみ可能である。こ
れにより、ビームは上記の層に、光学的中央軸10とは
異なる角度で達し、それにより斜めにビームが入射する
際のフレンネルの式から公知なように、s偏光とp偏光
への分割が得られる。
こともできる。この層は同時に部分反射性であり、従い
ビーム分割器として使用される。基準面もまた反射性層
57rとして構成される。この層は同時に遅延素子とし
て作用する。図5にはこのことが、遅延素子が2種の層
により構成された場合に対して示してある。しかしこの
ように遅延素子を構成することは、顕微鏡対物レンズ1
4と基準面15まで続く素子(図3に示されているよう
に)が非回転対称に照射される場合のみ可能である。こ
れにより、ビームは上記の層に、光学的中央軸10とは
異なる角度で達し、それにより斜めにビームが入射する
際のフレンネルの式から公知なように、s偏光とp偏光
への分割が得られる。
【0032】
【発明の効果】本発明により、小さな距離変化を、安価
なレーザを使用して十分な精度で検出することができ
る。
なレーザを使用して十分な精度で検出することができ
る。
【図1】レーザから発射されたビームが測定面ないし基
準面にフォーカシングされ、顕微鏡対物レンズとビーム
分割器が光軸に対して回転対称に照射される装置の模式
図。
準面にフォーカシングされ、顕微鏡対物レンズとビーム
分割器が光軸に対して回転対称に照射される装置の模式
図。
【図2】レーザから発射されたビームが小さな距離を置
いて測定面ないし基準面の前方でフォーカシングされる
装置の模式図。
いて測定面ないし基準面の前方でフォーカシングされる
装置の模式図。
【図3】顕微鏡対物レンズおよびビーム分割器が、測定
面ないし基準面に達するビームにより一方の半部分のみ
が照射され、検出装置に達するにより他方の半部分のみ
が照射される装置の模式図。
面ないし基準面に達するビームにより一方の半部分のみ
が照射され、検出装置に達するにより他方の半部分のみ
が照射される装置の模式図。
【図4】遅延素子がプレートに接合され、このプレート
に基準面が反射性層として被着された実施例を示す図。
に基準面が反射性層として被着された実施例を示す図。
【図5】遅延素子が、ビーム分割器の一部反射性層およ
び基準面の反射性層により構成された実施例を示す図。
び基準面の反射性層により構成された実施例を示す図。
11 レーザ 11a ビーム束 12 分割立方体 13 検出器 14 顕微鏡対物レンズ 15 測定面 16s ビーム分割器 11m 測定ビーム 11v 比較ビーム 17r 基準面 18 検出装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G01B 9/00 - 9/08 G01B 11/00 - 11/30 102
Claims (1)
- 【請求項1】 微細で反射性の測定面(15)の距離変
化を測定するための干渉計センサであって、光源(1
1)、例えばレーザと、測定ビーム(11m)および比
較ビーム(11v)へ分割するためのビーム分割器(1
6s)と、基準面(17r)と、顕微鏡対物レンズ(1
4)と、検出装置(18)とからなる、例えば原子行顕
微鏡に対する干渉計センサにおいて、 ビーム分割器(16s)と基準面(17r)が顕微鏡対
物レンズ(14)と測定面(15)との間に配置されて
おり、 遅延素子(16v)が基準面(17r)と測定面(1
5)との間に配置されており、 前記遅延素子は次のように構成されている、すなわち、
相互に垂直に偏光し、約λ/4の光路差(2回の通過の
ために)を有する2つの成分波が発生し、それにより2
つの偏光方向において測定ビーム(11m)と比較ビー
ム(11v)との間で約λ/4の光路差の差異が生じる
ように構成されており、 検出装置(18)として、偏光に依存するビーム分割器
(18s)と2つの検出器(18d,18e)とが設け
られていることを特徴とする干渉計センサ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3942896.6 | 1989-12-23 | ||
DE3942896A DE3942896A1 (de) | 1989-12-23 | 1989-12-23 | Interferometrischer sensor zur messung von abstandsaenderungen einer kleinen flaeche |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04151501A JPH04151501A (ja) | 1992-05-25 |
JP2865880B2 true JP2865880B2 (ja) | 1999-03-08 |
Family
ID=6396395
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2404913A Expired - Fee Related JP2865880B2 (ja) | 1989-12-23 | 1990-12-21 | 干渉計センサ |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5166751A (ja) |
EP (1) | EP0438675B1 (ja) |
JP (1) | JP2865880B2 (ja) |
DE (2) | DE3942896A1 (ja) |
Families Citing this family (45)
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1989
- 1989-12-23 DE DE3942896A patent/DE3942896A1/de not_active Withdrawn
-
1990
- 1990-12-05 EP EP90123268A patent/EP0438675B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-12-05 DE DE59006145T patent/DE59006145D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-12-21 JP JP2404913A patent/JP2865880B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1990-12-24 US US07/632,916 patent/US5166751A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5166751A (en) | 1992-11-24 |
DE59006145D1 (de) | 1994-07-21 |
EP0438675A2 (de) | 1991-07-31 |
DE3942896A1 (de) | 1991-06-27 |
JPH04151501A (ja) | 1992-05-25 |
EP0438675A3 (en) | 1991-09-11 |
EP0438675B1 (de) | 1994-06-15 |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |