JP2865880B2 - 干渉計センサ - Google Patents

干渉計センサ

Info

Publication number
JP2865880B2
JP2865880B2 JP2404913A JP40491390A JP2865880B2 JP 2865880 B2 JP2865880 B2 JP 2865880B2 JP 2404913 A JP2404913 A JP 2404913A JP 40491390 A JP40491390 A JP 40491390A JP 2865880 B2 JP2865880 B2 JP 2865880B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
measurement
delay element
beam splitter
microscope objective
reference plane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2404913A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH04151501A (ja
Inventor
ハインツ マシッヒ ユールゲン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KAARU TSUAISU SUCHIFUTSUNGU
Original Assignee
KAARU TSUAISU SUCHIFUTSUNGU
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by KAARU TSUAISU SUCHIFUTSUNGU filed Critical KAARU TSUAISU SUCHIFUTSUNGU
Publication of JPH04151501A publication Critical patent/JPH04151501A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2865880B2 publication Critical patent/JP2865880B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q20/00Monitoring the movement or position of the probe
    • G01Q20/02Monitoring the movement or position of the probe by optical means
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y15/00Nanotechnology for interacting, sensing or actuating, e.g. quantum dots as markers in protein assays or molecular motors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y35/00Methods or apparatus for measurement or analysis of nanostructures
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02055Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
    • G01B9/02056Passive reduction of errors
    • G01B9/02057Passive reduction of errors by using common path configuration, i.e. reference and object path almost entirely overlapping
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02055Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
    • G01B9/02075Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration of particular errors
    • G01B9/02078Caused by ambiguity
    • G01B9/02079Quadrature detection, i.e. detecting relatively phase-shifted signals
    • G01B9/02081Quadrature detection, i.e. detecting relatively phase-shifted signals simultaneous quadrature detection, e.g. by spatial phase shifting
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01DMEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01D5/00Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
    • G01D5/26Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
    • G01D5/266Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light by interferometric means

Landscapes

  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Radiology & Medical Imaging (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、請求項1の上位概念に
よる、有利には原子力顕微鏡に対する干渉計センサに関
する。
【0002】
【従来の技術】原子力顕微鏡では、その表面が探査され
るべき試料がx−y−zスキャナにセットされ、微細な
先端に対して軽く押圧される。この先端は板ばねに取付
固定されている。この板ばねのふれは種々の手段で測定
することができる。
【0003】EP−A−0290648号明細書から、
板ばねとその支持体を、電気量、例えばキャパシタンス
がふれによって変化するように構成することが公知であ
る。R.Erlandson著の刊行物(J.Vac.
Sci.Technol.A6(2),266(198
8))には干渉計的方法が記載されている。そのために
板ばねは測定先端の近傍で反射性に構成され、この測定
面にFizeau型干渉計の測定ビームが顕微鏡対物レ
ンズによってフォーカシングされる。顕微鏡対物レンズ
の反対側には、限界面を基準面として用いるプレートが
存在する。この基準面に対して垂直に到達する、近似的
に平行なレーザビームは分割立方体から到来する。分割
立方体は、測定面および基準面から反射された光を検出
器へ透過し、レーザから到来するビームを顕微鏡対物レ
ンズの方向へ方向転換する。分割立方体はそのために偏
光に依存して構成されており、分割立方体とプレートの
間にはλ/4プレートが配置されている。このプレート
は、ビームがレーザへ逆反射されるのを阻止する。検出
器により検出されたビーム出力は、測定ビームと比較ビ
ームとの干渉のため、他の干渉計からの測定面の距離に
依存する。従って測定面の距離変化の際に検出器信号の
変化が得られる。
【0004】この公知の干渉計センサの欠点は、測定面
の小さな距離変化を、最大または最小ビーム出力が検出
器に達すると、十分に正確に測定できないことである。
その他、測定面および基準面により反射される光の大き
な波長差、高い波長安定性および大きなコヒーレンス長
が必要あり、従い高価なレーザが必要である。さらに、
大きな波長差は装置の大きな温度鋭敏性を生じさせる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、小さ
な距離変化を常に十分な精度で測定することができ、安
価で設計上小さなレーザしか必要とせず、温度の影響に
対しては可能な限り不感である干渉計センサを提供する
ことである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題は本発明により
次のように構成して解決される。すなわちビーム分割器
と基準面が顕微鏡対物レンズと測定面との間に配置され
ており、遅延素子が基準面と測定面との間に配置されて
おり、前記遅延素子は次のように構成されている、すな
わち、相互に垂直に偏光し、約λ/4の光路差を有する
2つの成分波が発生し、それにより2つの偏光方向にお
いて測定ビームと比較ビームとの間で約λ/4の光路差
の差異が生じるように構成されており、検出装置とし
て、偏光に依存するビーム分割器と2つの検出器とが設
けられているように構成して解決される。
【0007】ビーム分割器および基準面を顕微鏡対物レ
ンズと測定面との間に配置する装置は、いわゆるMir
au型装置構成から公知である。これは例えばDE−P
S965 607号明細書に記載されている。しかしこ
のMirau型干渉装置は、顕微鏡プレパレートの(二
次元)インターフェログラムを形成するためだけのもの
として公知である。この装置では、プレパレートの表面
形状の探査が干渉縞を用いて行われ、干渉縞の経過から
表面のトポグラフが検出され得る。ここでは表面の探査
が取扱われる。
【0008】しかし本発明では、実質的に点状の測定個
所に対して、距離変化を時間の関数として検出すること
を課題とする。トポグラフの時間的変化を画像評価を介
して検出することにより、前記課題に対してMirau
型装置構成を採用しようとすれば、過度に大きく一部は
過剰のコストが生じる。というのは、トポグラフ自体は
この場合変化しないからである。過度に大きなコストを
回避しようとして、表面の実質的にへ点のみを取出せ
ば、上に述べた別の問題が生じる。すなわち、小さな変
化とその方向を十分な精度で確実に検出することが常に
はできない。このことは公知のMirau型装置構成の
利用に際して点周囲の情報により一部補償できる。
【0009】本発明では、遅延素子によって一方のビー
ムの偏光方向に対して垂直の偏光方向を有するビームを
遅延し、2つの検出器によって当該偏光方向においてビ
ームを別個に検出する。このことにより比較的僅かなコ
ストで課題が解決される。
【0010】基準面を顕微鏡対物レンズと測定面との間
に配置し、それにより測定面と基準面との間の距離が小
さくなることによって、光源として、小さな波長および
小さなコヒーレンス長を有するレーザ、例えばレーザダ
イオードを使用することができる。
【0011】本発明の有利な第1実施例によれば、レー
ザから発射されたビームは測定面ないし基準面にフォー
カシングされ、顕微鏡対物レンズおよびビーム分割器は
光軸に対して回転対称に照射される。
【0012】第2実施例では、レーザから発したビーム
は小さな距離を置いて測定面ないし基準面の前方でフォ
ーカシングされ、それにより測定面および基準面から反
射されたビームが光軸上にフォーカシングされ、そこか
ら小面積のミラーにより検出装置へ方向変換される。
【0013】第3の実施例では、顕微鏡対物レンズとビ
ーム分割器は、測定面ないし基準面へ向うビームによっ
て最大でも半分だけ照射され、検出装置へ向うビームに
よって最大で他方の半分が照射される。それにより往復
するビームが空間的に相互に分離される。
【0014】遅延素子はビーム分割器と測定面との間、
またはビーム分割器と基準面との間に配置することがで
きる。またビーム分割器の部分反射層を支持するプレー
トまたは基準面の反射層を支持するプレートへ接着する
か、またはその自由表面に接合することができる。
【0015】上に引用したErlandson著の刊行
物におけるλ/4プレートはまったく異なる課題を有す
ることを述べておく。そこでは単に、レーザビームがレ
ーザへ逆反射されるのを、偏光ビーム分割器と共働して
阻止するのに用いられるだけである。本発明における遅
延素子の使用法はむしろ、いわゆる直角位相信号を形成
するための公知の手段に相応する。これについては実施
例で詳細に説明する。
【0016】勿論(2重通過に対する)遅延素子の光路
差は、λ/4のみならずλ/4+nλ/2とすることも
できる。
【0017】本発明の利点は、−Erlandsonの
装置構成とは反対に−顕微鏡対物レンズに対して非常に
僅かな要求しか課せられないことである。というのは、
レンズ誤差は測定ビームおよび比較ビームの波頭を同じ
ように変形するからである。そのため干渉性は侵害を受
けない。本発明での顕微鏡対物レンズは公知のMira
u型装置構成とは反対に−像を形成しないから、単一レ
ンズから構成することができ、それどころかプラスチッ
ク製とすることもできる。
【0018】
【実施例】図1には11によりレーザ、例えばコリメー
タを有するレーザダイオードが示されている。近似的に
平行なビーム束11aは一部が分割立方体(キューブ)
12により検出器13へ反射される。この検出器の唯1
つの役割りは、レーザから発射される出力を制御するこ
とである。この制御は、出力安定性が十分である場合、
または精度要求が低い場合は省略することができる。分
割立方体を通過する光束は、顕微鏡対物レンズにより反
射性の測定面15にフォーカシングされる。収れんした
光束はビーム分割器16sにより測定ビーム11mと比
較ビーム11vに分割される。比較ビームは基準面17
rにより反射される。基準面は顕微鏡対物レンズから直
接出入するビームのほんの小さな一部のみをカットす
る。測定ビームと比較ビームは、ビーム分割器16sに
よる反射の後、再び1つにされ、近似的に平行なビーム
として分割立方体12へ戻る。この分割立方体により、
ビームは共に検出装置18の方向へ反射される。
【0019】ビーム分割器16sは部分反射性の層を有
し、この層はガラス板16に被着されている。有利な実
施例では、このガラス板へ遅延素子16v、例えば複屈
折性のポリビニールアルコール膜(Polyvinyl
−alkoholfoile)がはめ込まれる。遅延素
子はその複屈折によって、相互に垂直な偏光を有する成
分波を生ぜしめる。この成分波には、2回通過する際に
約λ/4の光路差が生じる。この測定ビーム11mの分
解により、2つの偏光方向に対して測定ビームと比較ビ
ームとの間に異なる光路差が生じる。この差異は約λ/
4である。図に示された実施例においては、偏光装置が
図平面中および図平面に垂直になるよう遅延素子を取付
けると有利である。
【0020】検出装置18では、偏光に依存するビーム
分割器18sによって、一方の偏光方向を有するビーム
が一方の検出器18dに、他方の偏光方向を有するビー
ムが他方の検出器18eに導かれる。2つの偏光方向に
対する遅延素子により、約λ/4の光路差の差異が測定
ビーム11mと比較ビーム11vとの間に生じれば、検
出器18d,18eは異なる信号を受信し、この信号に
より測定面15の距離変化の方向と量について信頼度が
高く高精度の検出がされる。そのためには光源11のビ
ームはビーム分割器16sへ当る際、2つの偏光方向の
片方でのみ線形に偏光されてはならない。光源が均等に
線形に偏光されれば、この偏光方向は、遅延素子の偏光
方向へ近似的に同じビーム強度が及ぶように配置され
る。
【0021】光源として、例えばSony社のSLD2
02Uを使用することができる。これのビームはほとん
ど完全に線形に偏光される。検出器としては、例えばS
iemens社のケイ素フォトダイオードBPW34B
が適している。
【0022】遅延素子、例えばλ/4プレートによるビ
ームの2つの成分への分解、および偏光に依存するビー
ム分解器による2つの成分の分離は干渉計において、
M.Ross著のLaser Application
s,Vol./1,84頁(Academic Pre
ss,New York 1971年から公知である。
直角位相信号としても公知のこの方法は以下の実施例で
詳細に説明する。
【0023】測定面15の光軸10方向への距離変化
は、例えば検出器18dにおいて測定ビームと比較ビー
ムの干渉により交流電圧信号を生ぜしめる。この信号は
直流電圧信号に重畳されており、以下の経過を有する。
【0024】 U(d)=U1 sin(4πd/λ+ψo) ここで、dは距離、λは使用するビームの波長、U1は
交流電圧信号の最大振幅そしてψoは一定の位相角であ
る。このような信号によって、最大および最小距離変化
の近傍では正確に、またその方向を確実に検出すること
ができない。この欠点は、第2の検出器の交流電圧信号
の位相が約π/2ずれていれば第2の検出器により回避
される。というのは、この信号は第1の信号が極大値を
通過する個所で、経過において常に大きく明確な変化を
有しているからである。このように位相にずれた2つの
信号は遅延素子16vにより次のようにして形成され
る。すなわち、遅延素子にて測定ビームの2つの偏光方
向に対して、λ/4の波長差ないしπ/2の位相差が2
度の通過の際に生じるようにして形成される。
【0025】既述の装置ではビームの一部が光源へ逆反
射される。これは多くのレーザで阻止しなければならな
い。これはレーザ11と分割立方体12との間のFar
aday型アイソレータにより達成される。実質的によ
り安価なのは図2および図3に示した装置である。この
装置では往路と復路の幾何学的分離によりビームが光源
に逆反射されることがない。
【0026】図2では、測定面15から顕微鏡対物レン
ズ14の距離が比較的にやや大きなことにより測定面が
対物レンズの焦点に入ることがない。これにより反射さ
れたビーム束が収斂され、従いビーム束の焦点では、ガ
ラス板上の小さなミラー32sにより照射ビーム路から
方向変換される。方向変換された収斂されたビーム束
は、偏光に依存する分割立方体18sの距離が大きい場
合、レンズ33により標準化される。その他の構成は図
1に相応する。
【0027】図3では、測定面15ないし基準面17r
に向かうビーム束により、顕微鏡対物レンズ14および
ビーム分割器16sの最大で半分が照射され、測定面1
5ないし基準面17rにより反射されるビーム束は顕微
鏡対物レンズ14およびビーム分割器16sの他方の半
分を通過する。その他の構成は方向変換ミラー21まで
図1に相応する。
【0028】遅延素子は−図1から図3に示すように−
ビーム分割器16sと測定面15との間に配置すること
ができる。この場合、λ/8小片をガラス板16の裏面
に、またはλ/8膜をガラス板16の2つの半部分の間
に結合することにより、ガラス板16へ集積化すると有
利である。勿論、遅延素子を自立構成素子としてビーム
分割器16sと測定面15との間に配置することもでき
る。
【0029】遅延素子はλ/8小片または膜として、ビ
ーム分割器と基準面の間に配置することができる。この
場合、遅延素子は測定ビームと比較ビームの分割前並び
にそれらの統合後で2つのビームに同じように作用し、
そのためビーム光路の当該部分で光路差の差違を生ぜし
めない。
【0030】有利な実施例が図4に示されている。この
実施例ではλ/8分の1膜16vがガラス板47の2つ
の半部分の間に接合されている。これらの半部分ではビ
ーム分割器16sとは反対側で、基準面17rが反射層
の形で被着されている。この場合も勿論、遅延素子は自
立構成素子としてビーム分割器16sと基準面17rと
の間に配置することができる。
【0031】遅延素子はまた、層56sの形で構成する
こともできる。この層は同時に部分反射性であり、従い
ビーム分割器として使用される。基準面もまた反射性層
57rとして構成される。この層は同時に遅延素子とし
て作用する。図5にはこのことが、遅延素子が2種の層
により構成された場合に対して示してある。しかしこの
ように遅延素子を構成することは、顕微鏡対物レンズ1
4と基準面15まで続く素子(図3に示されているよう
に)が非回転対称に照射される場合のみ可能である。こ
れにより、ビームは上記の層に、光学的中央軸10とは
異なる角度で達し、それにより斜めにビームが入射する
際のフレンネルの式から公知なように、s偏光とp偏光
への分割が得られる。
【0032】
【発明の効果】本発明により、小さな距離変化を、安価
なレーザを使用して十分な精度で検出することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】レーザから発射されたビームが測定面ないし基
準面にフォーカシングされ、顕微鏡対物レンズとビーム
分割器が光軸に対して回転対称に照射される装置の模式
図。
【図2】レーザから発射されたビームが小さな距離を置
いて測定面ないし基準面の前方でフォーカシングされる
装置の模式図。
【図3】顕微鏡対物レンズおよびビーム分割器が、測定
面ないし基準面に達するビームにより一方の半部分のみ
が照射され、検出装置に達するにより他方の半部分のみ
が照射される装置の模式図。
【図4】遅延素子がプレートに接合され、このプレート
に基準面が反射性層として被着された実施例を示す図。
【図5】遅延素子が、ビーム分割器の一部反射性層およ
び基準面の反射性層により構成された実施例を示す図。
【符号の説明】
11 レーザ 11a ビーム束 12 分割立方体 13 検出器 14 顕微鏡対物レンズ 15 測定面 16s ビーム分割器 11m 測定ビーム 11v 比較ビーム 17r 基準面 18 検出装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G01B 9/00 - 9/08 G01B 11/00 - 11/30 102

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 微細で反射性の測定面(15)の距離変
    化を測定するための干渉計センサであって、光源(1
    1)、例えばレーザと、測定ビーム(11m)および比
    較ビーム(11v)へ分割するためのビーム分割器(1
    6s)と、基準面(17r)と、顕微鏡対物レンズ(1
    4)と、検出装置(18)とからなる、例えば原子行顕
    微鏡に対する干渉計センサにおいて、 ビーム分割器(16s)と基準面(17r)が顕微鏡対
    物レンズ(14)と測定面(15)との間に配置されて
    おり、 遅延素子(16v)が基準面(17r)と測定面(1
    5)との間に配置されており、 前記遅延素子は次のように構成されている、すなわち、
    相互に垂直に偏光し、約λ/4の光路差(2回の通過の
    ために)を有する2つの成分波が発生し、それにより2
    つの偏光方向において測定ビーム(11m)と比較ビー
    ム(11v)との間で約λ/4の光路差の差異が生じる
    ように構成されており、 検出装置(18)として、偏光に依存するビーム分割器
    (18s)と2つの検出器(18d,18e)とが設け
    られていることを特徴とする干渉計センサ。
JP2404913A 1989-12-23 1990-12-21 干渉計センサ Expired - Fee Related JP2865880B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3942896.6 1989-12-23
DE3942896A DE3942896A1 (de) 1989-12-23 1989-12-23 Interferometrischer sensor zur messung von abstandsaenderungen einer kleinen flaeche

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04151501A JPH04151501A (ja) 1992-05-25
JP2865880B2 true JP2865880B2 (ja) 1999-03-08

Family

ID=6396395

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2404913A Expired - Fee Related JP2865880B2 (ja) 1989-12-23 1990-12-21 干渉計センサ

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5166751A (ja)
EP (1) EP0438675B1 (ja)
JP (1) JP2865880B2 (ja)
DE (2) DE3942896A1 (ja)

Families Citing this family (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5585913A (en) * 1994-04-01 1996-12-17 Imra America Inc. Ultrashort pulsewidth laser ranging system employing a time gate producing an autocorrelation and method therefore
US5778016A (en) 1994-04-01 1998-07-07 Imra America, Inc. Scanning temporal ultrafast delay methods and apparatuses therefor
US5489984A (en) * 1994-04-01 1996-02-06 Imra America, Inc. Differential ranging measurement system and method utilizing ultrashort pulses
DE19504189C2 (de) * 1995-02-09 1998-03-19 Leitz Messtechnik Gmbh Interferometervorrichtung
DE19626261A1 (de) * 1995-06-30 1997-01-02 Nikon Corp Beobachtungsvorrichtung
JPH0961442A (ja) * 1995-08-23 1997-03-07 Mitsubishi Electric Corp 原子間力顕微鏡及びその測定ヘッド
GB9702388D0 (en) * 1997-02-06 1997-03-26 Bio Rad Micromeasurements Ltd Selective interferometry
US5951891A (en) * 1997-03-24 1999-09-14 International Business Machines Corporation Optical apparatus for monitoring profiles of textured spots during a disk texturing process
AU7467798A (en) 1997-04-22 1998-11-13 James W. Early Laser detection of material thickness
AUPO810997A0 (en) * 1997-07-18 1997-08-14 Lions Eye Institute Of Western Australia Incorporated, The Method and apparatus for calibration of ablation lasers
US6831742B1 (en) 2000-10-23 2004-12-14 Applied Materials, Inc Monitoring substrate processing using reflected radiation
WO2003091661A1 (en) * 2002-04-26 2003-11-06 Massachussetts Institute Of Technology Adjustable focusing composite for use in an optical profilometer system and method
US6937343B2 (en) * 2002-08-29 2005-08-30 Applied Materials, Israel, Ltd. Laser scanner with amplitude and phase detection
US7869057B2 (en) 2002-09-09 2011-01-11 Zygo Corporation Multiple-angle multiple-wavelength interferometer using high-NA imaging and spectral analysis
US7139081B2 (en) 2002-09-09 2006-11-21 Zygo Corporation Interferometry method for ellipsometry, reflectometry, and scatterometry measurements, including characterization of thin film structures
EP1411321B1 (en) * 2002-10-15 2017-04-19 Mitutoyo Corporation Interferometer using an integrated imaging array, a high-density polarizer and a phase-shifting array
US6842254B2 (en) * 2002-10-16 2005-01-11 Fiso Technologies Inc. System and method for measuring an optical path difference in a sensing interferometer
DE10260256B9 (de) * 2002-12-20 2007-03-01 Carl Zeiss Interferometersystem und Meß-/Bearbeitungswerkzeug
US7324214B2 (en) 2003-03-06 2008-01-29 Zygo Corporation Interferometer and method for measuring characteristics of optically unresolved surface features
US7106454B2 (en) 2003-03-06 2006-09-12 Zygo Corporation Profiling complex surface structures using scanning interferometry
US8351048B2 (en) * 2003-08-28 2013-01-08 4D Technology Corporation Linear-carrier phase-mask interferometer
JP5340539B2 (ja) 2003-09-15 2013-11-13 ザイゴ コーポレーション 表面の干渉分析のための方法およびシステムならびに関連する応用例
WO2005114096A2 (en) * 2004-05-18 2005-12-01 Zygo Corporation Methods and systems for determining optical properties using low-coherence interference signals
US7054071B2 (en) * 2004-07-08 2006-05-30 Spectel Research Corporation Mireau interference objective lens
US7446882B2 (en) * 2005-01-20 2008-11-04 Zygo Corporation Interferometer for determining characteristics of an object surface
US7884947B2 (en) 2005-01-20 2011-02-08 Zygo Corporation Interferometry for determining characteristics of an object surface, with spatially coherent illumination
JP4939765B2 (ja) * 2005-03-28 2012-05-30 株式会社日立製作所 変位計測方法とその装置
WO2007044786A2 (en) 2005-10-11 2007-04-19 Zygo Corporation Interferometry method and system including spectral decomposition
WO2008011510A2 (en) 2006-07-21 2008-01-24 Zygo Corporation Compensation of systematic effects in low coherence interferometry
WO2008080127A2 (en) 2006-12-22 2008-07-03 Zygo Corporation Apparatus and method for measuring characteristics of surface features
US7889355B2 (en) 2007-01-31 2011-02-15 Zygo Corporation Interferometry for lateral metrology
US7619746B2 (en) 2007-07-19 2009-11-17 Zygo Corporation Generating model signals for interferometry
US7920269B2 (en) * 2007-08-03 2011-04-05 Chung Yuan Christian University System and method for measuring interferences
US8072611B2 (en) 2007-10-12 2011-12-06 Zygo Corporation Interferometric analysis of under-resolved features
US7978337B2 (en) 2007-11-13 2011-07-12 Zygo Corporation Interferometer utilizing polarization scanning
WO2009079334A2 (en) * 2007-12-14 2009-06-25 Zygo Corporation Analyzing surface structure using scanning interferometry
US8319971B2 (en) * 2008-05-06 2012-11-27 Industrial Technology Research Institute Scatterfield microscopical measuring method and apparatus
US8120781B2 (en) 2008-11-26 2012-02-21 Zygo Corporation Interferometric systems and methods featuring spectral analysis of unevenly sampled data
TWI447351B (zh) * 2009-02-24 2014-08-01 Univ Nat Taipei Technology 正交偏極式Mirau干涉術以及其分光模組與干涉系統
JP5607392B2 (ja) * 2010-03-12 2014-10-15 株式会社ミツトヨ 光干渉測定装置
TWI490542B (zh) 2013-05-07 2015-07-01 Univ Nat Taiwan A scanning lens and an interference measuring device using the scanning lens
US9405254B2 (en) * 2013-11-26 2016-08-02 Xerox Corporation Device for uniform light intensity generation
DE102015118483B3 (de) * 2015-10-29 2017-05-04 Leica Microsystems Cms Gmbh Interferenzobjektiv nach Mirau
US11262191B1 (en) * 2018-07-12 2022-03-01 Onto Innovation Inc. On-axis dynamic interferometer and optical imaging systems employing the same
US11029146B2 (en) 2018-10-18 2021-06-08 Cyberoptics Corporation Three-dimensional sensor with counterposed channels

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE300086C (ja) *
US2612074A (en) * 1949-03-30 1952-09-30 Prec Mecanique Paris Soc Interferometer
DE965607C (de) * 1949-03-30 1957-06-13 Prec Mecanique Interferenzmikroskop
US4576479A (en) * 1982-05-17 1986-03-18 Downs Michael J Apparatus and method for investigation of a surface
DE3322710C2 (de) * 1983-06-24 1986-05-28 Daimler-Benz Ag, 7000 Stuttgart Optische Abstandsmeßvorrichtung
US4639139A (en) * 1985-09-27 1987-01-27 Wyko Corporation Optical profiler using improved phase shifting interferometry
EP0440268B1 (en) * 1987-05-12 1994-08-17 International Business Machines Corporation Atomic force sensor head with interferometric measurement of the properties of a data store
US4869593A (en) * 1988-04-22 1989-09-26 Zygo Corporation Interferometric surface profiler

Also Published As

Publication number Publication date
US5166751A (en) 1992-11-24
DE59006145D1 (de) 1994-07-21
EP0438675A2 (de) 1991-07-31
DE3942896A1 (de) 1991-06-27
JPH04151501A (ja) 1992-05-25
EP0438675A3 (en) 1991-09-11
EP0438675B1 (de) 1994-06-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2865880B2 (ja) 干渉計センサ
US5491552A (en) Optical interferometer employing mutually coherent light source and an array detector for imaging in strongly scattered media
US4576479A (en) Apparatus and method for investigation of a surface
Knüttel et al. Stationary depth-profiling reflectometer based on low-coherence interferometry
US7492469B2 (en) Interferometry systems and methods using spatial carrier fringes
US4046477A (en) Interferometric method and apparatus for sensing surface deformation of a workpiece subjected to acoustic energy
US6741357B2 (en) Quadrature phase shift interferometer with unwrapping of phase
US5684592A (en) System and method for detecting ultrasound using time-delay interferometry
US4534649A (en) Surface profile interferometer
US3768910A (en) Detecting the position of a surface by focus modulating the illuminating beam
US3847485A (en) Optical noncontacting surface sensor for measuring distance and angle of a test surface
US4968144A (en) Single beam AC interferometer
JPH0552540A (ja) 干渉計レーザ表面粗さ計
US20100067019A1 (en) Differential-Phase Polarization-Sensitive Optical Coherence Tomography System
CA1264959A (en) Static interferometric ellipsometer
US4436419A (en) Optical strain gauge
TW201248120A (en) Interferometer system for simultaneous measurement of linear displacement and tilt angle
JP4223349B2 (ja) 耐振動型干渉計装置
JPH0339605A (ja) 光学式表面形状測定装置
LU101150B1 (en) A device, use of the device and a method for high-contrast imaging
GB2109545A (en) Surface profile interferometer
US4105335A (en) Interferometric optical phase discrimination apparatus
JPH03123805A (ja) 原子間力顕微鏡
JP3003964B2 (ja) 測長用干渉計
JPH0754802Y2 (ja) 接触式表面形状測定器

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees