JPH0339605A - 光学式表面形状測定装置 - Google Patents
光学式表面形状測定装置Info
- Publication number
- JPH0339605A JPH0339605A JP1173743A JP17374389A JPH0339605A JP H0339605 A JPH0339605 A JP H0339605A JP 1173743 A JP1173743 A JP 1173743A JP 17374389 A JP17374389 A JP 17374389A JP H0339605 A JPH0339605 A JP H0339605A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- polarized light
- measured
- frequency
- polarized
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 36
- 230000035559 beat frequency Effects 0.000 claims abstract description 14
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 13
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 9
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000004441 surface measurement Methods 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02001—Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties
- G01B9/02007—Two or more frequencies or sources used for interferometric measurement
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
- G01B11/306—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces for measuring evenness
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02001—Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties
- G01B9/02002—Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties using two or more frequencies
- G01B9/02003—Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties using two or more frequencies using beat frequencies
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02015—Interferometers characterised by the beam path configuration
- G01B9/02022—Interferometers characterised by the beam path configuration contacting one object by grazing incidence
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02055—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
- G01B9/02062—Active error reduction, i.e. varying with time
- G01B9/02067—Active error reduction, i.e. varying with time by electronic control systems, i.e. using feedback acting on optics or light
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B2290/00—Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
- G01B2290/70—Using polarization in the interferometer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、被測定物の表面形状を光学的に測定する光学
式表面形状測定装置に関するものである。
式表面形状測定装置に関するものである。
［従来技術］
第４図は従来一般に知られる光ヘテロダイン干渉方式の
表面形状測定装置を示したものであるが、この図では光
源であるゼーマン・レーザトＯＯから放射された直交２
周波の光が無偏光ビームスプリッタ１０１で分配され、
一方の光は偏光子１０２を介して検出器１０３で２周波
のうなり（ビート）周波数として検出される。他方の光
は、偏光ビームスプリッタ１０４でＰ偏光とＳ偏光の光
として分配される。Ｓ偏光の光は１／４波長板１０５を
介して鏡１０６で反射され再び１／４波長板１０５を通
過して偏光ビームスプリッタ１０４に入射する。Ｐ偏光
の光は１／４波長板１０７を介して対物レンズ１０８で
集光され被測定物１０９に照射される。照射された光は
被測定物１０９で反射され、対物レンズ１０８．１／４
波長板１０７を通過して偏光ビームスプリッタ１０４に
入射する。再び偏光ビームスプリッタ１０４に入射した
２つの光は偏光子１１０を介して検出器１１１でビート
周波数として検出される。検出器１０３で検出された信
号と検出器１１１で検出された信号との間には位相差が
存在する。この位相差は被測定物１０９の表面形状に応
じて変化するので、位相差の変化から被測定物１０９の
表面形状が測定されるものである。
表面形状測定装置を示したものであるが、この図では光
源であるゼーマン・レーザトＯＯから放射された直交２
周波の光が無偏光ビームスプリッタ１０１で分配され、
一方の光は偏光子１０２を介して検出器１０３で２周波
のうなり（ビート）周波数として検出される。他方の光
は、偏光ビームスプリッタ１０４でＰ偏光とＳ偏光の光
として分配される。Ｓ偏光の光は１／４波長板１０５を
介して鏡１０６で反射され再び１／４波長板１０５を通
過して偏光ビームスプリッタ１０４に入射する。Ｐ偏光
の光は１／４波長板１０７を介して対物レンズ１０８で
集光され被測定物１０９に照射される。照射された光は
被測定物１０９で反射され、対物レンズ１０８．１／４
波長板１０７を通過して偏光ビームスプリッタ１０４に
入射する。再び偏光ビームスプリッタ１０４に入射した
２つの光は偏光子１１０を介して検出器１１１でビート
周波数として検出される。検出器１０３で検出された信
号と検出器１１１で検出された信号との間には位相差が
存在する。この位相差は被測定物１０９の表面形状に応
じて変化するので、位相差の変化から被測定物１０９の
表面形状が測定されるものである。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、かかる従来の測定装置においては、被測
定物１０９の表面が粗い場合、被測定物１０９からの反
射光の波面が乱れて、光検出器１１１でのビート周波数
が検出できず、被測定物１０９の形状を正確に測定でき
ないという問題点があった。
定物１０９の表面が粗い場合、被測定物１０９からの反
射光の波面が乱れて、光検出器１１１でのビート周波数
が検出できず、被測定物１０９の形状を正確に測定でき
ないという問題点があった。
一方、表面が粗い被測定物の表面形状を測定できるもの
として三角測量装置もあるが、測定精度の問題があり、
また高分解能を達成しようとすると装置の大型化を招く
などの弊害があった。
として三角測量装置もあるが、測定精度の問題があり、
また高分解能を達成しようとすると装置の大型化を招く
などの弊害があった。
本発明は、上述した問題点を解決するためになされたも
のであり、光ヘテロダイン干渉による光学系と三角測量
による光学系とを融合した光学系とすることにより、被
測定物の表面形状を平滑面から粗面までの広範囲に亘っ
て精度良く測定できる光学式表面形状測定装置を提供す
ることを目的としている。
のであり、光ヘテロダイン干渉による光学系と三角測量
による光学系とを融合した光学系とすることにより、被
測定物の表面形状を平滑面から粗面までの広範囲に亘っ
て精度良く測定できる光学式表面形状測定装置を提供す
ることを目的としている。
［課題を解決するための手段］
この目的を達成するために本発明の光学式表面形状測定
装置は、直交２周波光を放射する放射光源と、直交２周
波光を分配する２周波光分配手段と、該２周波光分配手
段により分配された一方の光のうなり周波数を検出する
第１の光検出手段と、前記２周波光分配手段により分配
された他方の光をＰ偏光とＳ偏光とに分配する偏光分割
手段と、該偏光分割手段により分割されたＰ偏光を被測
定物面に照射する照射光学手段と、該照射光学手段によ
り被測定物面に照射されたＰ偏光の反射光をＰ１偏光と
Ｐ２偏光とに分配するＰ偏光分配手段と、該Ｐ偏光分配
手段により分配されたＰ２偏光と前記Ｓ偏光との合波に
よるうなり周波数を検出する第２の光検出手段と、前記
Ｐ偏光分配手段により分配されたＰ１偏光を受光し、そ
の受光位置の変動により被測定物の表面高さ位置を検出
する高さ位置検出手段とを備える。
装置は、直交２周波光を放射する放射光源と、直交２周
波光を分配する２周波光分配手段と、該２周波光分配手
段により分配された一方の光のうなり周波数を検出する
第１の光検出手段と、前記２周波光分配手段により分配
された他方の光をＰ偏光とＳ偏光とに分配する偏光分割
手段と、該偏光分割手段により分割されたＰ偏光を被測
定物面に照射する照射光学手段と、該照射光学手段によ
り被測定物面に照射されたＰ偏光の反射光をＰ１偏光と
Ｐ２偏光とに分配するＰ偏光分配手段と、該Ｐ偏光分配
手段により分配されたＰ２偏光と前記Ｓ偏光との合波に
よるうなり周波数を検出する第２の光検出手段と、前記
Ｐ偏光分配手段により分配されたＰ１偏光を受光し、そ
の受光位置の変動により被測定物の表面高さ位置を検出
する高さ位置検出手段とを備える。
［作用］
上記の構成を有する本発明の光学測定装置によれば、２
周波光分配手段により分配された直交２周波光のうちの
一方は第１の光検出手段によってそのうなり周波数が検
出され、他方は、偏光分割手段により更にＰ偏光とＳ偏
光とに分配される。
周波光分配手段により分配された直交２周波光のうちの
一方は第１の光検出手段によってそのうなり周波数が検
出され、他方は、偏光分割手段により更にＰ偏光とＳ偏
光とに分配される。
モしてＰ偏光は被測定物面に照射されるが、その反射光
は更にＰ偏光分配手段によってＰ１偏光とＰ２偏光とに
分配される。ここで例えば被測定物の表面が平滑であれ
ば、Ｐ２偏光と前記Ｓ偏光との合波によるうなり周波数
が第２の光検出手段によって検出され、前記した第１の
光検出手段により検出されたうなり周波数との位相差の
ズレから被測定物の表面形状が測定される。
は更にＰ偏光分配手段によってＰ１偏光とＰ２偏光とに
分配される。ここで例えば被測定物の表面が平滑であれ
ば、Ｐ２偏光と前記Ｓ偏光との合波によるうなり周波数
が第２の光検出手段によって検出され、前記した第１の
光検出手段により検出されたうなり周波数との位相差の
ズレから被測定物の表面形状が測定される。
一方被測定物の表面が粗い場合には、被測定物面に照射
されたＰ偏光のうちのＰ、偏光が高さ位置検出手段に受
光され、三角測量の原理によりその被測定物の表面粗さ
状態が測定される。
されたＰ偏光のうちのＰ、偏光が高さ位置検出手段に受
光され、三角測量の原理によりその被測定物の表面粗さ
状態が測定される。
［実施例］
以下、本発明を具体化した一実施例を図面を参照して説
明する。
明する。
第１図は本発明にかかる光学式測定装置の概略構成を示
したもので、Ｈｅ−Ｎｅレーザ光源１から出射された光
は直線偏光であるがこの光は光周波数シフタ２に入射し
、このシフタ２において偏光面が直交し、かつ周波数の
異なる光、すなわち直交２周波の光として出射される。
したもので、Ｈｅ−Ｎｅレーザ光源１から出射された光
は直線偏光であるがこの光は光周波数シフタ２に入射し
、このシフタ２において偏光面が直交し、かつ周波数の
異なる光、すなわち直交２周波の光として出射される。
この直交２周波光は無偏光ビームスプリッタ３で分配さ
れ、−方の光は偏光子４を通ることにより干渉を起こし
、光検出器５で２周波のビート（うなり）周波数の信号
として検出される。一方前記無偏光ビームスプリッタ３
で分配された他方の光は偏光ビームスプリッタ６でＰ偏
光とＳ偏光とに分配され、Ｓ偏光は鏡７で反射されたの
ち偏光ビームスプリッタ８に入射する。またＰ偏光は凸
型対物レンズ９を介して収束され、被測定物１０面に照
射される。
れ、−方の光は偏光子４を通ることにより干渉を起こし
、光検出器５で２周波のビート（うなり）周波数の信号
として検出される。一方前記無偏光ビームスプリッタ３
で分配された他方の光は偏光ビームスプリッタ６でＰ偏
光とＳ偏光とに分配され、Ｓ偏光は鏡７で反射されたの
ち偏光ビームスプリッタ８に入射する。またＰ偏光は凸
型対物レンズ９を介して収束され、被測定物１０面に照
射される。
この被測定物１０面に照射された光は反射され集光レン
ズ１１を介して無偏光ビームスプリッタ１２に入射され
る。□そしてこの無偏光ビームスプリッタ１２により更
に二つの光に分配され、一方の光（Ｐ１偏光）は位置検
出器１３に入射されることにより被測定物１０の表面高
さ位置が検出される。また他方の光（Ｐ２偏光）は光学
レンズ１４で平行光とされ、前記偏光ビームスプリッタ
８に入射される。したがって偏光ビームスプリッタ８に
は前記したＳ偏光と被測定物１０面で反射されてきたＰ
偏光とが入射されることとなり、このＰ２偏光とＳ偏光
とが合波されて次に偏光子１５を通ることにより干渉光
となり、光検出器１６で２周波のビート周波数の信号と
して検出される。
ズ１１を介して無偏光ビームスプリッタ１２に入射され
る。□そしてこの無偏光ビームスプリッタ１２により更
に二つの光に分配され、一方の光（Ｐ１偏光）は位置検
出器１３に入射されることにより被測定物１０の表面高
さ位置が検出される。また他方の光（Ｐ２偏光）は光学
レンズ１４で平行光とされ、前記偏光ビームスプリッタ
８に入射される。したがって偏光ビームスプリッタ８に
は前記したＳ偏光と被測定物１０面で反射されてきたＰ
偏光とが入射されることとなり、このＰ２偏光とＳ偏光
とが合波されて次に偏光子１５を通ることにより干渉光
となり、光検出器１６で２周波のビート周波数の信号と
して検出される。
この場合の光検出器５及び１６の出力は、例えば第２図
に示す如くであるがここで、被測定物１０面に入射する
光の入射角度をθとすると、波形の１周期長は１／２波
長ｘｃｏｓθとなる。２信号の位相差の変化量が被測定
物１０の高さの変化量に相当するので、被測定物１０の
高さの変化分ΔＸａｌｌは、レーザの波長をλ關１位相
差の変化分をΔφ度とすると、幾何学的な関係から次式
（１）％式％ （１） 一方被測定物１０の表面が粗い場合、第３図に示すよう
に、被測定物１０の高さの変化に従って位置検出器１３
に照射される位置が変化する。そしてこの場合の被測定
物１０の高さの変化分ΔＸ關は、レンズ１１の横倍率を
Ｍ１位置検出器１３における位置の変化分をΔｄｍｍと
すると、次式％式％ （２） 本発明は以上に記述された実施例に限定されるものでは
なく、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の偏光を
加えることができる。
に示す如くであるがここで、被測定物１０面に入射する
光の入射角度をθとすると、波形の１周期長は１／２波
長ｘｃｏｓθとなる。２信号の位相差の変化量が被測定
物１０の高さの変化量に相当するので、被測定物１０の
高さの変化分ΔＸａｌｌは、レーザの波長をλ關１位相
差の変化分をΔφ度とすると、幾何学的な関係から次式
（１）％式％ （１） 一方被測定物１０の表面が粗い場合、第３図に示すよう
に、被測定物１０の高さの変化に従って位置検出器１３
に照射される位置が変化する。そしてこの場合の被測定
物１０の高さの変化分ΔＸ關は、レンズ１１の横倍率を
Ｍ１位置検出器１３における位置の変化分をΔｄｍｍと
すると、次式％式％ （２） 本発明は以上に記述された実施例に限定されるものでは
なく、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の偏光を
加えることができる。
例えば、レーザ光源１と光周波数シフタ２の代わりに、
直交２周波の光を出射できるゼーマン・レーザに置き換
えることも可能である。
直交２周波の光を出射できるゼーマン・レーザに置き換
えることも可能である。
［発明の効果］
以上詳述したことから明らかなように、本発明によれば
、光ヘテロダインによる光学系と三角測量による光学系
を融合して構成されているので、簡単な構成で平滑面か
ら粗面までの広範囲に亘って被測定物の表面形状を測定
可能とするものである。
、光ヘテロダインによる光学系と三角測量による光学系
を融合して構成されているので、簡単な構成で平滑面か
ら粗面までの広範囲に亘って被測定物の表面形状を測定
可能とするものである。
【図面の簡単な説明】
第１図から第３図までは本発明を具体化した実施例を示
すもので、第１図は本実施例が適用された光学式測定装
置の光学系を示す図、第２図は上記光学式測定装置の光
検出器からの波形信号を示す図、第３図は上記光学式測
定装置における粗面測定の原理を示す図である。 また、第４図は従来技術が適用された光学式測定装置の
光学系を示す図である。 図中、１はレーザ光源、２は光周波数シック、３は無偏
光ビームスプリッタ（２周波光分配手段）５は第１の光
検出器、６は偏光ビームスプリッタ（偏光分割手段）、
８は偏光ビームスプリッタ、９は対物レンズ（照射光学
手段）、１２は無偏光ビームスプリッタ（Ｐ偏光分割手
段）、１３は高さ位置検出器、１６は第２の光検出器で
ある。
すもので、第１図は本実施例が適用された光学式測定装
置の光学系を示す図、第２図は上記光学式測定装置の光
検出器からの波形信号を示す図、第３図は上記光学式測
定装置における粗面測定の原理を示す図である。 また、第４図は従来技術が適用された光学式測定装置の
光学系を示す図である。 図中、１はレーザ光源、２は光周波数シック、３は無偏
光ビームスプリッタ（２周波光分配手段）５は第１の光
検出器、６は偏光ビームスプリッタ（偏光分割手段）、
８は偏光ビームスプリッタ、９は対物レンズ（照射光学
手段）、１２は無偏光ビームスプリッタ（Ｐ偏光分割手
段）、１３は高さ位置検出器、１６は第２の光検出器で
ある。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、直交２周波光を放射する放射光源と、 直交２周波光を分配する２周波光分配手段と、該２周波
光分配手段により分配された一方の光のうなり周波数を
検出する第１の光検出手段と、前記２周波光分配手段に
より分配された他方の光をＰ偏光とＳ偏光とに分配する
偏光分割手段と、該偏光分割手段により分割されたＰ偏
光を被測定物面に照射する照射光学手段と、該照射光学
手段により被測定物面に照射されたＰ偏光の反射光をＰ
＿１偏光とＰ＿２偏光とに分配するＰ偏光分配手段と、
該Ｐ偏光分配手段により分配されたＰ＿２偏光と前記Ｓ
偏光との合波によるうなり周波数を検出する第２の光検
出手段と、前記Ｐ偏光分配手段により分配されたＰ＿１
偏光を受光し、その受光位置の変動により被測定物の表
面高さ位置を検出する高さ位置検出手段とを備えること
を特徴とする光学式表面形状測定装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1173743A JPH0339605A (ja) | 1989-07-05 | 1989-07-05 | 光学式表面形状測定装置 |
| US07/540,708 US5076693A (en) | 1989-07-05 | 1990-06-20 | Optical contour measuring apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1173743A JPH0339605A (ja) | 1989-07-05 | 1989-07-05 | 光学式表面形状測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0339605A true JPH0339605A (ja) | 1991-02-20 |
Family
ID=15966308
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1173743A Pending JPH0339605A (ja) | 1989-07-05 | 1989-07-05 | 光学式表面形状測定装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5076693A (ja) |
| JP (1) | JPH0339605A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008076336A (ja) * | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Institute Of National Colleges Of Technology Japan | 干渉・三角測量同一光軸複合距離計測装置 |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL9002869A (nl) * | 1990-12-27 | 1992-07-16 | Philips Nv | Inrichting voor het optisch meten van de hoogte van een oppervlak. |
| JP3244769B2 (ja) * | 1991-07-11 | 2002-01-07 | キヤノン株式会社 | 測定方法及び測定装置 |
| US5311288A (en) * | 1992-07-06 | 1994-05-10 | Opal Technologies Ltd. | Method and apparatus for detecting surface deviations from a reference plane |
| US5831736A (en) * | 1996-08-29 | 1998-11-03 | Washington University | Method and apparatus for generating a three-dimensional topographical image of a microscopic specimen |
| JP4566685B2 (ja) * | 2004-10-13 | 2010-10-20 | 株式会社トプコン | 光画像計測装置及び光画像計測方法 |
| US7970199B2 (en) * | 2006-06-05 | 2011-06-28 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method and apparatus for detecting defect on a surface of a specimen |
| US20080117438A1 (en) * | 2006-11-16 | 2008-05-22 | Solvision Inc. | System and method for object inspection using relief determination |
| CN103673891B (zh) * | 2013-11-21 | 2016-05-18 | 清华大学 | 一种光栅外差干涉自准直测量装置 |
| CN103673892B (zh) * | 2013-11-21 | 2016-03-30 | 清华大学 | 一种对称式光栅外差干涉二次衍射测量装置 |
| CN110132550B (zh) * | 2019-05-16 | 2020-08-18 | 清华大学 | 平面光栅标定系统 |
| CN210348084U (zh) * | 2019-07-25 | 2020-04-17 | 深圳市麓邦技术有限公司 | 光学系统 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4708483A (en) * | 1985-06-28 | 1987-11-24 | Rexnord Inc. | Optical measuring apparatus and method |
| LU86194A1 (fr) * | 1985-12-05 | 1987-07-24 | Centre Rech Metallurgique | Procede de mesure en continu de la rugosite de la surface d'un produit lamine a froid |
| JPH01206283A (ja) * | 1988-02-13 | 1989-08-18 | Brother Ind Ltd | 光ヘテロダイン測定装置 |
-
1989
- 1989-07-05 JP JP1173743A patent/JPH0339605A/ja active Pending
-
1990
- 1990-06-20 US US07/540,708 patent/US5076693A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008076336A (ja) * | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Institute Of National Colleges Of Technology Japan | 干渉・三角測量同一光軸複合距離計測装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5076693A (en) | 1991-12-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4815850A (en) | Relative-displacement measurement method | |
| JP2997047B2 (ja) | 光学式計測装置 | |
| JPH01503172A (ja) | 光学的ヘテロダイン処理を有する２波長のインターフェロメトリーのための方法および装置と位置または距離測定のための使用 | |
| US4480916A (en) | Phase-modulated polarizing interferometer | |
| US4583855A (en) | Optical phase measuring apparatus | |
| JPH0339605A (ja) | 光学式表面形状測定装置 | |
| KR101214854B1 (ko) | 이종 모드 광원을 이용한 헤테로다인 간섭계 | |
| JPH06174844A (ja) | レーザ測距装置 | |
| JPS62233704A (ja) | 差動平面鏡干渉計システム | |
| US4346999A (en) | Digital heterodyne wavefront analyzer | |
| US5051575A (en) | Optical surface roughness measuring apparatus using double-focus lens for producing parallel and converged beams for measurement | |
| JP3421309B2 (ja) | 表面形状測定方法及び表面形状測定器 | |
| JP3499044B2 (ja) | 微少変位量測定方法及び装置 | |
| JPS63128211A (ja) | スペ−シング測定方法 | |
| JPS61130887A (ja) | レ−ザ−ドツプラ−速度計 | |
| JP3310022B2 (ja) | 表面形状測定装置 | |
| JPH0742087Y2 (ja) | 光学式表面粗さ測定装置 | |
| JP2517551B2 (ja) | 位相分布測定装置 | |
| JP2775000B2 (ja) | 移動量測定方法及び移動量測定装置 | |
| JP2004093452A (ja) | 三次元形状計測装置及び方法 | |
| JPS62263428A (ja) | 位相変化測定装置 | |
| JPH0712545A (ja) | 光ファイバ・アレイを用いた差動型へテロダイン干渉計による原子間力顕微鏡検出装置 | |
| WO2012079875A1 (en) | Tracking type laser interferometer for objects with rotational degrees of freedom | |
| JPH06221808A (ja) | 測距センサー及びその測定方法 | |
| JPH0478925B2 (ja) |