JP2859573B2 - 相容性ポリマー混合物より成る物体 - Google Patents

相容性ポリマー混合物より成る物体

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Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明はモノマーとしてシク
ロヘキシル(メタ)アクリレートを含有するポリマー成
分及びモノマーとしてスチロールを含有するポリマー成
分よりなる相容性のポリマー混合物(ポリマーブレン
ド)の用途に関する。 【0002】 【従来の技術】通例は異なった種類のポリマーは相互に
非相容性であると認められており、すなわち異なった種
類のポリマーは、一般には1成分の僅少割合まで、成分
の完全な混合可能性によって特徴付けられる均質相を生
成しない。 【0003】この規則の特定の例外について、特にこの
現象の理論的解釈に係わる当業者は次第に強い関心を示
した。ポリマーの完全な相容性の混合は全ての混合割合
で完全な溶解性(混合可能性)を示す。 【0004】混合可能なポリマー系に関する関連記載
は、例えばD.R.ポウル(Paul)等によるポリマ
ー・アンド・エンジニアリング・サイエンス(Poly
mer& Engineering Science)
18、(16)1225〜34(1978);J.マク
ロモレキュール(Macromol)、Sci−Re
v. Macromol.Chem.C.18(1)1
09〜168(1980)に認められる。 【0005】屡々混合可能性の証明のために、ガラス転
移温度Tg又はいわゆる“光学的方法”(ポリマー混合
物の均質溶液から注型成形された薄膜の透明性)が引合
に出された[ブランドルプ−インマーグト(Brand
rup−Immergut)、ポリマー・ハンドブック
(Polymer Handbook)、第2版、II
I−211−213参照]。相互に異なったポリマーの
混合可能性についてのもう1つの試験として、下部臨界
溶解温度[ロウアー・クリティカル・ソルーション・テ
ンペラチャー(Lower Critical Sol
ution Temperature=LCST]の出
現が引合いに出される(西ドイツ国特許公開(DE−
A)第3436476.5号明細書及び西ドイツ国特許
公開(DE−A)第3436477.3号明細書参
照)。このLCSTの出現は、そこまで透明、均質なポ
リマー混合物が加熱の際に相に分離し、かつ視覚的に不
透明にまで濁るという現象に基づく。この挙動は、文献
に依れば最初のポリマー混合物が唯一の、平衡で存在す
る均質相から成っていたということについての明白な証
明である。現存の混合可能性の例は、例えば弗化ポリビ
ニリデンとポリメチルメタクリレート(PMMA)又は
ポリエチルメタクリレートとの系である(米国特許(U
S−PS)第3253060号明細書、米国特許(US
−PS)第3458391号明細書、米国特許(US−
PS)第3459843号明細書)。“ポリマー・ブレ
ンド(Polymer Blends)”及びその可能
な用途に関するより新しい結果は、ロベソン(L.M.
Robeson)により、ポリマー・エンジニアリング
・アンド・サイエンス(Polym.Engineer
ing& Science)24(8)587〜597
(1984)に報告されている。 【0006】スチロールと無水マレイン酸とからの並び
にスチロールとアクリルニトリルとからのコポリマー
は、特定の前提下にポリメチルメタクリレート(PMM
A)と相容性である(ドイツ特許DE−A242494
0号明細書参照)。この型の成形材料の改良された使用
特性は顕著である。同様に、スチロール及び水素架橋結
合可能なヒドロキシル基モノマーからのコポリマーは、
特定の組成の際に例えばスチロールとp−(2−ヒドロ
キシルヘキサフルオロイソプロピル)スチロールとから
のコポリマーはポリメタクリレートと相容性である。
[B.Y.Min及びEli M.Pearce,Or
ganic Coatings and Plasti
cs Chemistry 45、(1981)、58
〜64又はCopolymere aus Styro
l und Allylalkohol(F.Cang
elosi and M.T.Shaw,Polyme
r Preprints(Am.Chem.Soc.,
Div.Polym.Chem.)24、(198
3)、258〜259参照]。 【0007】これに反して、ポリスチロールそのもの並
びに他のスチロール含有ポリマーは、ポリメチルメタク
リレートと非相容性である。例えばShaw.M.T.
及びSomani,R.H.によれば、ポリスチロール
との3.4ppmの混合可能性(分子量160000を
有するPMMA)もしくは7.5ppm(分子量750
00を有するPMMA)の混合可能性が示されている
[Adv.Chem.Ser.1984、206(Po
lym.Blends Compos.Multiph
ase Syst.)33〜42](C.A.101:
73417e)。 【0008】非常に低分子量のポリスチロールですら、
PMMAとは僅かな相容性である。従って、極めて低分
子量のスチロール−オリゴマー(MW:3100)20
%よりなる混合物でももはや澄明な生成物を生じない。
同様に、9600の非常に低い分子量でもPMMA中の
ポリスチロールの5%溶液ではなお透明である[Ray
mond R.Parent and Edward
V.Tompson,Journal of Poly
mer Science:Polymer Physi
cs Edition,Vol.16、1829〜18
47(1978)]。 【0009】他のポリメタクリレート及びポリアクリレ
ートはポリスチロールと混合して透明なプラスチックに
なるのはほとんど不可能である。このことは例えばポリ
エチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポ
リイソブチルメタクリレート、ポリ−ネオペンチルメタ
クリレート、ポリヘキシルメタクリレート等についてあ
てはまる[R.H.Somani及びSchawのMa
cromolecules 14 1549〜1554
(1981)参照]。ポリマーの機械的混合物(ポリブ
レンド)は特定の場合に、かつプラスチック工業の特定
の分野で、特性的に改良されたプラスチック製品をもた
らした[Kirk−Othmer 3rd Ed.Vo
l.18、443〜478、J.Willey 198
2参照]。このような「ポリブレンド」の物理特性は、
通例、結局個々のポリマーの特性に対する改善を意味す
ることのできる妥協(Kmpromiss)である。こ
の際、多相ポリマー混合物は相容性混合物よりも遥かに
大きい商業的重要性を得た(Kirk−Othmerの
前記文献449頁参照)。 【0010】 【発明が解決しようとする課題】従って、多相ポリマー
混合物及び相容性ポリマー混合物は、それらの物理特性
に関しても、それらの使用技術的に重要な特にそれらの
光学特性(透明度、澄明度等)に関しても厳密に区別さ
れるべきである。前記のように、屡々不足性の相容性は
プラスチックの混合物に、改良された総特性スペクトル
を達成する目的で狭い限界を設定する。このことはポリ
スチロール及びポリアルキル(メタ)アクリレートの双
方の群のポリマーにも該当すると思われた[W.A.K
ruse等によるMakromol.Chem. 17
、1145(1976)、並びにR.H.Soman
i及びM.T.ShawによるMacromolecu
les 14、1549〜1554(1981)参
照]。ところで、意外にも、ポリスチロールとポリシク
ロヘキシルメタクリレート又はポリシクロヘキシルアク
リレートとからの相互の混合物は相互に相容性であるこ
とが判明した。 【0011】 【課題を解決するための手段】従って、本発明は次の2
種の異なるポリマー成分からなる相容性ポリマー混合物
PMに関する: A) 少なくとも20重量%がスチロールから構成され
ているポリスチロール(=ポリマーP1)0.1〜9
9.9、有利に1〜99特に有利に2〜98、特異的に
5〜95、全く特異的に20〜80重量%及び B) 少なくとも10重量%がI式: 【0012】 【化2】【0013】[式中R1は水素又はメチルである]のモ
ノマーからなるポリ(メタ)アクリレート(=ポリマー
P2)99.9〜0.1有利に99〜1、特に有利に9
8〜2、特異的に95〜5、全く特異的に80〜20重
量%。 【0014】スチロール単位例えばポリスチロールの主
要分(>50重量%)より成るポリマー混合物PMが特
に重要である。ポリマー成分A)+B)の合計が混合物
PM中の総ポリマーの100%をなすのが有利である
が、この際、更に、事情によっては単位ポリマーの代り
にポリマー混合物を使用し、即ち、他のポリマーと組合
せて加工することができる。本発明により製造すべき
A)によるポリスチロールとB)によるポリ(メタ)ア
クリレートとからの混合物の相容性は、ポリスチロール
が他のポリメタクリレート及びポリアクリレートとは通
例は相容性の混合物を形成しないので意想外のことであ
る。 【0015】本発明の発見によれば、A)及びB)が形
成される混合物の相容性は、むしろ、200℃以上の温
度で解離しない程度に良好である。特に、ポリマー成分
A)としてのポリスチロール及びポリマー成分B)とし
てのポリシクロヘキシルアクリレート又はポロシクロヘ
キシルメタクリレートからのポリマー混合物(=ポリマ
ー混合物PM1)が挙げられる。このポリマー混合物P
M1の優れた相容性は、混合割合に関しても、混合成分
に関しても広範な変更幅を許容する。このことは、殊
に、ポリマーP1としての純粋なポリスチロールに関し
てあてはまる。従って1方では、ポリマー成分B)は、
適当なモノマーとの共重合によって充分に変動すること
ができる。他方、ポリマー成分A)も、一定範囲内で、
適当なモノマーとの共重合によりその相容性を失なうこ
となしに変えることができる。成分B)に関する好適な
コモノマーはアクリル−もしくはメタクリル酸エステル
であり、一般に、炭素原子数1〜12の非脂環式アルコ
ール殊にアルカノールのそれである。更に、環内の炭素
原子数4、5、7、8、9、10、11又は12の置換
されていてよい環状アルコールのアクリル−又はメタク
リル酸エステル並びに置換シクロヘキサノールのアクリ
ル−及びメタクリル酸エステル。 【0016】更に、シクロヘキシル(メタ)アクリレー
トと共重合可能な他のモノマーもコモノマーとして該当
する。コモノマーとして特にメチルメタクリレートも挙
げられる。ポリマー成分Bのシクロヘキシルアクリレー
ト及び/又はシクロヘキシルメタクリレートの含分は、
通例、100〜10重量%、特に有利に90〜20重量
%、まったく特別有利に80〜30重量%である。同様
に、本発明の発見によれば、一方では一般式I他方では
一般式II: 【0017】 【化3】 【0018】[式中Rは水素又はメチルであり、R
はアルキル基C2n+1(n=1〜8)である]の
相互の代替が可能なモノマーに相互に可能である。例え
ば、ポリマーA中のスチロールは、数重量%例えば10
重量%だけp−メチルスチロールで代えられうる。更
に、特定の範囲で、スチロールを他のアルキル置換スチ
ロール例えばm−メチルスチロール、p−t−ブチル−
スチロールにより替えることができる。通例、このモノ
マー分は20重量%より少ない。 【0019】同様に、このスチロールは、アクリル酸又
はメタクリル酸のエステルにより部分的に交換されう
る。更に、このスチロールは、下位量で他のビニル化合
物殊にビニルエステル例えば酢酸ビニル及びプロピオン
酸ビニルで交換されうる。この場合、ポリマー成分Aの
スチロール含分は少なくとも20重量%有利には少なく
とも50重量%特に有利には少なくとも90重量%全く
特別に有利には少なくとも99重量%になるように注意
すべきである。 【0020】ポリマー成分Aは他の疎水性ビニル化合物
で充分に変性されうるが、非常に極性のモノマー例えば
アクリルニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸混合
物、p−(2−ヒドロキシヘキサフルオロイソプロピ
ル)スチロール又はアリルアルコール分は非常に限られ
ている。この極性モノマー分はポリスチロール成分A)
の10重量%以下もしくは5重量%以下であるべきであ
る。特に、これら極性モノマーを0.1重量%より少な
く含有するようなポリマーAが特に有利である。 【0021】同様に、ポリマーB)中でシクロヘキシル
メタクリレートをシクロヘキシルアクリレートと代える
ことができる。この変更は、この際、通例、その都度の
使用分野の要求に依り決まる。例えば純粋ポリスチロー
ルの屈折率を変えるために高重量部で使用すべきポリマ
ーB)のシクロヘキシルアクリレート−及び/又はシク
ロヘキシルメタクリレート含分は高く、通例はポリマー
A)と例えば室温でのみ相容性であるが高めた温度では
再び相分離する(即ち非相容性)ポリマーB)のシクロ
ヘキシル(メタ)アクリレート含分より20重量%より
大きいか又は有利には30重量%より大きい。 【0022】通例ポリマーAとポリマーBとの相容性
は、ポリマーAがシクロヘキシル(メタ)アクリレート
及び/又はポリマーBがスチロールをも含有している際
にも得られる。しかしながら、この場合は、ポリマーA
のスチロール含分がポリマーBのスチロール含分よりも
明らかに高い。通例、スチロール含分の差(ポリマーA
中のスチロール重量%−ポリマーB中のスチロール重量
%)は10重量%より大きく、有利に30重量%より大
きく、特に有利に50重量%より大きく、まったく特別
に有利に90重量%より大きい。同様に、ポリマーBの
シクロヘキシル(メタ)アクリレート含分はポリマーA
のシクロヘキシル(メタ)アクリレート含分より明らか
に高い。例えば、ポリマーAは、通例5重量%より僅か
の、有利に0.1重量%より僅かのシクロヘキシル(メ
タ)アクリレートを含有する。ポリマーAがシクロヘキ
シル(メタ)アクリレートを含有する場合は、その商
(ポリマーB中のシクロヘキシル(メタ)アクリレート
の含分/ポリマー中のシクロヘキシル(メタ)アクリレ
ートの含分)は>2、有利に>5、特に有利に>10で
ある。 【0023】更に、ポリマーP2中のI式のモノマーの
含分及びポリマーP1中のスチロールの含分は、特に、
ポリマーP1及びP2中の他のモノマー成分が化学的に
充分に一致する場合には、少なくて良い。 【0024】相容性混合物としての本発明によるポリマ
ー混合物PMの特徴付けは、周知の基準により行なわれ
る(Kirk−Othmerの前記引用文献、18巻、
457〜460頁参照)。 【0025】a) 光学的方法を適用する際には、本発
明によりポリマー混合物PMにおいて、両ポリマー成分
A)及びB)のそれらの間にある特有の屈折率を観察す
る。 【0026】b) ポリマー混合物PMは特有のガラス
転移温度Tg(ポリマー成分のそれらの間にある)を有
する。 【0027】ポリマーA)及びB)の製造 ポリマーA)及びB)の製造は、重合の公知規則及び公
知方法により行なうことができる。A)型のポリマー
は、例えば、ホウベン−ウェイル著、メトーデン・デル
・オルガニッシェン・ヒエミー、第4版、XIV/1
巻、ゲオルグ・ティーメ−出版(1961年)により製
造することができる。これは適当な形で市販で得ること
もできる。この際、殊にラジカル重合法、しかし同様に
イオン重合法を使用することができる。本発明により使
用されるポリマーA)の分子量Mは、通例3000以
上、有利に5000〜1000000の範囲、特に有利
に20000〜500000の範囲にある(光分散によ
り測定)。それにも拘らず、分子量は非相容性のポリマ
ー混合物PM中の成分としての適性を絶対的には影響し
ないらしいことが強調される。これはA)型及びB)型
のホモ−並びにコポリマーにもあてはまる。ポリマーP
1及びポリマーP2の相容性にとってはポリマーのタク
チシティが確実に重要である。通例、特にアイソタクチ
ック三つ組元素(Triaden)(例えばラジカル重
合により得られるような)の僅少分を有するポリマーP
2は、特別なイオン重合により生成されるような、高い
アイソタクチック分を有するポリマーに比べて有利であ
る。 【0028】ホモ−もしくはコポリマーB)の製造は、
公知方法により行なわれる。原則的に陰イオン重合又は
原子団転移重合(ウェブスター(O.W.Webste
r)等著、ジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカ
ル・ソサエティー(J.Am.Chem.Soc.)1
05巻、5706頁(1983年)参照)による製造も
可能であるが、有利な製造形態はラジカル重合である。 【0029】ポリマーB)の分子量Mは、通例3000
以上、一般に10000〜1000000、殊に200
00〜300000である(光分散)。B)でコモノマ
ーとして使用すべきモノマー成分の選択の際には、得ら
れるポリマーのガラス転移温度Tgが総系PMの工業的
使用可能性を限定的に影響しないことに注意しなければ
ならない。 【0030】ポリマー混合物PMから成形体を製造する
ためには、ポリマーP1及びP2の少なくとも1方がガ
ラス転移温度Tg>70℃を有し、その使用のために、
ポリマー混合物もガラス転移温度Tg>70℃を有する
ことが有利である。この限定は、ポリマー混合物PMか
らの射出注型、圧縮もしくは押出成形した物体の製造に
もあてはまる。しかしながら、他の用途例えばラッカ
ー、エラストマー又は可逆的な熱互変性ガラス化(加熱
時に混濁点を有するポリマー混合物)、西ドイツ特許公
開(DE−A)第3436477.3号明細書による使
用のためには、ガラス転移温度Tg<40℃又は有利に
<20℃を有するポリマー成分P2を有するようなポリ
マー混合物PMが有利である。 【0031】混合物PMの製造 相容性混合物PMは種々の方法により製造することがで
き、例えば押出機等中で溶融状態の成分A)及びB)を
強力に機械的に混合することによって得られるか又はこ
れらを共通の溶剤からいわゆる“ソリューション・キャ
スト・ポリブレンド(solution cast p
olyblends)”として製造することができる
(Kirk−OthmerのEncyclopedia
of Chemical Technology 第
3版、18巻、443〜478頁、ウイリー(J.Wi
ley)1982年参照)。ポリマーAを他のポリマー
Bのモノマー混合物中に溶かし、引続くポリマーBをポ
リマーP1の存在で生成させるように行なうこともでき
る。当然逆にポリマーAをポリマーBの存在で生成させ
ることもできる。同様にポリマー混合物を共通の沈殿剤
から生成させることもできる。混合法は無制限である。 【0032】通例先ず成分A)及びB)の混合物を生成
させ、その際、有利に例えば粒状ポリマー又は顆粒の形
の固体から、徐々に作動する混合装置、例えばドラム
−、レーン車(Roehnrad)、二重室−鋤刃混合
機の使用下で出発する。ゆっくり作動する混合装置は、
相界を保持することなしに、機械的混合をひきおこす
(Ullmann′s Encyklopadie d
er Technischen Chemie)4版、
2巻、282〜311頁参照)。 【0033】引続き熱可塑性仕上げを、加熱可能な混合
装置の使用下で溶融状態での均質混合により、それに適
した温度、例えば150℃〜約300℃で捏和機又は殊
に押出機、例えば単軸又は多軸スクリュー押出機又は場
合により振動スクリュー及びナイフを備えた押出機中で
行なう(例えばブスコ(BUSSCO)−捏和機中
で)。この方法により等粒顆粒(例えばホットペレッ
ト、立法形、丸粒)を製造することができる。この際顆
粒の粒度は、2〜5mmの範囲にある。ポリマー混合物
PMを得るためのもう1つの簡単な方法は、ポリマー成
分A)を含有するポリマー分散液及びポリマー成分Bを
含有するポリマー分散液の十分な混合である。この分散
液混合物を一緒に凝集させ、一緒に噴霧乾燥し又は一緒
に押出機で押出すことができる。他方、この分散混合物
を一緒に乾燥させてフィルムにすることもできる。 【0034】混合物PMの有利な作用 本発明による相容性ポリマー混合物PMは、相応する工
業的使用可能性を示唆する次の利点を有し、この際“ポ
リスチロール”もしくは“ポリシクロヘキシル(メタ)
アクリレート”は、そのつどポリマーA)もしくはB)
に属する可能性に関して代理的に呈示する。 【0035】1) 先ず、ポリマー混合物は(他のポリ
(メタ)アクリレートとポリスチロールとよりなる混合
物に相違して)相容性である。すなわち本発明によるポ
リマー混合物は、非相容性のポリスチロール/ポリ(メ
タ)アクリレート−混合物に相違して非着色状態ではガ
ラス様透明である(これは光散乱を示さず、すなわち通
例曇り度は<10%である)。しかし本発明により、室
温でのみ相容性である混合物も温度上昇では解離を示す
(LCST−挙動)。 【0036】2) ポリスチロール及びポリシクロヘキ
シル(メタ)アクリレートよりなる混合物は、ポリスチ
ロール及びポリシクロヘキシルアクリレートもしくは−
メタクリレート自体のように僅少の水吸収を示す。 【0037】3) ポリシクロヘキシル(メタ)アクリ
レートとの混合によりポリスチロールの複屈折を減少す
ることができる。双方の前記特性は、本発明のポリマー
混合物PMを特にデータ貯蔵材料殊に光学的に読取り可
能な情報担体としての品質を有する[J.Hennig
のKunststoffe 75、425頁(198
5)]。 【0038】4) ポリシクロヘキシル(メタ)アクリ
レートとの混合によりポリスチロールの屈折率を減少す
ることもできる。例えばポリスチロールはポリシクロヘ
キシル(メタ)アクリレートとの混合により、ポリスチ
ロール/ポリシクロヘキシル(メタ)アクリレート混合
物の屈折率を挿入されたゴム相の屈折率に適応させるよ
うに、屈折率において変えることができる。この方法で
透明な、耐衝撃性のプラスチックを得ることができる。 【0039】特に約40〜99重量%有利に70〜95
重量%がポリマー混合物PMから成り、60〜1重量%
有利に30〜5重量%がP1及びP2とは化学的に区別
しうるもう1つのポリマーP3より成るポリマーコンパ
ウンドも特に重要であり、この際、ポリマーP3とポリ
マーP1、P2と、及び混合物PMとは非相容性であ
る。この場合、通例、ポリマー混合物PMの組成を、ポ
リマーP3の屈折率が混合物PMの屈折率と一致するよ
うに、すなわち通例室温で、 【0040】 【外1】 【0041】があてはまるように選択する。 【0042】通例、PMと非相容性のポリマーP3は、
Tg<20℃を有し、ポリマー混合物PMの成分の少な
くとも1つ、すなわちP1又はP2と少なくとも部分的
に共有結合している。更にこのポリマーP3は架橋結合
していてよい。ポリマーP3がポリブタジエン又はポリ
イソプレンである場合が全く特に有利である。 【0043】PM40〜99重量%及びP3 1〜60
重量%から構成されるポリマーコンパウンドは、特にP
3がTg<20℃を有する場合に、純粋なPMに比較し
て改善された耐衝撃性を示す。 【0044】PM40〜99重量%及びP3 60〜1
重量%よりなる殊に認められたポリマーコンパウンド
は、ポリマーP2の簡単な耐衝撃性混合物である。従っ
て、場合によっては脆いP2を市販の耐衝撃性構造のP
1(例えばスチロール−ブタジエン−ブロックコポリマ
ー)との混合により高い耐衝撃性の澄明なPM/P3−
ポリマーコンパウンドにすることができる。 【0045】5) ポリスチロールをポリシクロヘキシ
ル(メタ)アクリレートで被覆することによって光学的
階調繊維(optischen Gradienten
faser)の製造が可能である。 【0046】この場合次のデータが得られる: 核:ポリスチロール 屈折率nD=1.59 被覆:ポリシクロヘキシル(メタ)アクリレート nD
=1.51 通例、被覆として(ポリシクロヘキシルメタクリレート
の高い脆弱性のためだけで)シクロヘキシル(メタ)ア
クリレートを含有するコモノマー(例えばMMAと共
に)が使用され、それによって被覆の屈折率はなお低く
なる。 【0047】経過:連続的 この種の繊維は例えば光誘導ケーブルとして使用するこ
とができる。 【0048】6) ポリシクロヘキシル(メタ)アクリ
レートよりなる、特に、(重合導入された)UV−吸収
剤と共にポリシクロヘキシル(メタ)アクリレートより
なる薄い被覆を有するポリスチロールよりなる物体が得
られる。被覆されていないポリスチロールとは反対に、
このような物体は風化作用に対して安定である。廃物は
良好な相容性に依り再び導入することができるので不均
一に被覆されたプラスチック廃物の再利用のさもなくば
増大する問題はなくなる。通例、ポリスチロールよりな
るもしくはポリマー混合物PMよりなる物体は、射出、
圧縮、押出、ローラーがけ又は注型により製造される。
ポリマーP2よりなる被覆は、通例、ラッカー塗布によ
り又は同時押出により塗布される。 【0049】7) ポリシクロヘキシル(メタ)アクリ
レートよりなる被覆を有するポリスチロールよりなるプ
レートを製造することができる。このような構造を有す
るプレートは未処理のポリスチロールプレートに比べて
約2%程改善された光透過性を有する。通例、ポリシク
ロヘキシル(メタ)アクリレートよりなる被覆を有する
プレートは、より良好な引掻き強度及び変えられた耐蝕
性を示す。特に、温度のガラス化のために使用されるよ
うなポリスチロールから又はポリマー混合物PMから製
造されていて、シクロヘキシル(メタ)アクリレート含
有ポリマー(=ポリマーP2)からなる被覆を有する多
重ブリッジプレートが重要である。更に、ポリスチロー
ルをポリマーP2で又は有利にシクロヘキシルアクリレ
ート含有モノマー/開始剤−混合物での貼合せを実施す
ることができる。ここで、アクリレートの高い重合速度
と良好なポリマー相容性を組合せることができる。 【0050】8) 加工技術的利点は、ポリスチロール
≧90重量%及びポリシクロヘキシル(メタ)アクリレ
ート≦10重量%よりなる混合物PMの使用の際に得ら
れる。この場合には、ポリ(メタ)アクリレートは加工
助剤の機能を受けもつ。 【0051】9) ポリスチロール/ポリシクロヘキシ
ル(メタ)アクリレート混合物から、表面で熱作用例え
ば適当な照射線により、ポリ(メタ)アクリレートが分
解されるがポリスチロールは分解されないように変性さ
れている透明な成形体を得ることができる(反射の低下
された表面を有する成形体、レジスト)。 【0052】 【実施例】次の例につき本発明を説明する。 【0053】ビカー軟化温度の測定はDIN53460
により行なう。 【0054】還元粘度(ηspec/c)はDIN13
42、DIN51562及びDIN7745の指示に依
る。 【0055】光透過率の測定は、特に記載のないかぎり
DIN5036に依り行なう。 【0056】混濁度(曇り度)は「%」で示す(AST
MD 1003)。 【0057】例 1 ポリスチロール(=ポリマーP1)及びポリシクロヘキ
シルメタクリレート(=ポリマーP2)からなる相容性
ポリマー混合物PM。有機溶液から相容性ポリマーフィ
ルムの製造。 【0058】ポリスチロール(ηspec/c=115
ml/g)をトルオール中に20重量%溶かす。同様
に、ポリシクロヘキシルメタクリレート(ηsepd/
c=29ml/g)からトルオール中の20%溶液を製
造する。この溶液を第1表に記載の混合割合で混合す
る。この混合物から、フィルムを注型し、真空中で乾燥
し、引続き肉眼で評価する。全ての混合物は、澄明で無
色のフィルムを生じる(第1表参照)。 【0059】 【表1】【0060】例 2(参考例) ポリスチロール(=ポリマーP1)とポリシクロヘキシ
ルメタクリレート(=ポリマーP2)とからの相容性の
ポリマー混合物 ポリスチロール(ηspec/c=115mg/g)と
ポリシクロヘキシルアクリレート(ηspec/c=2
3mg/g)とを例1と同様に混合する。結果:98/
2〜2/98のすべての混合物PMは完全に相容性であ
る。 【0061】例 3(参考例) 高めた温度での相容性の検査 例1〜4で得られた相容性ポリマー混合物の選択試料
(20/80、50/50、80/20)を加熱板上で
加熱する。結果:ポリマー混合物はT>250℃まで相
容性である。 【0062】250℃までの温度範囲で解離は観察され
ない。 【0063】例 4(比較例) ポリスチロール(ポリマーP1)とポリアリル(メタ)
アクリレート(ポリマー2)とからの非相容性ポリマ
ー混合物 異なるポリ(メタ)アクリレートを例1の記載と同様に
トルオール中に溶かし、トルオール中のポリスチロール
の20%溶液(ηspec/c=115ml/g)と2
0/80、50/50、80/20の割合で混合する。
得られるポリマーフィルムを肉眼で評価する。第2表か
ら明らかなように、ポリシクロヘキシルメタクリレート
及びポリシクロヘキシルアクリレートを例外として試験
したすべてのポリアルキル(メタ)アクリレートはポリ
スチロールとは非相容性である。 【0064】この比較例は、ポリシクロヘキシルメタク
リレート及びポリシクロヘキシルアクリレートとポリス
チロールとの意想外かつ極めて良好な相容性(これは押
出機上での混合時にも明らかである(比較例25))を
示している。 【0065】注:例1〜25のポリマーP2の合成: モノマーをAIBN(=アゾイソ酪酸ニトリル)0.1
5%及びドデシルメルカプタン0.33%の添加のもと
に60℃で低変換率(約20重量%)まで、酸素不含雰
囲気中で重合する。その後、ポリマーをメタノール中で
沈殿させ、引続き塩化メチレン中に溶かし、再度メタノ
ール中で沈殿させる。引続き、真空乾燥器中で乾燥させ
た。 【0066】 【表2】 【0067】PMMA:ポリメチルメタクリレート、 PEMA:ポリエチルメタクリレート、 PiPMA:ポリイソプロピルメタクリレート、 PBMA:ポリ−n−ブチルメタクリレート、 PiBM:ポリ−i−ブチルメタクリレート、 PtBMA:ポリ−t−ブチルメタクリレート、 PNPMA:ポリ−ネオペンチルメタクリレート、 PCHMA:ポリシクロヘキシルメタクリレート、 PCHA:ポリシクロヘキシルアクリレート、 PTMCHMA:ポリ−3,3,5−トリメチルシクロヘ
キシルメタクリレート、 PTMCHA:ポリ−3,3,5−トリメチルシクロヘ
キシルアクリレート、 PiBorMA:ポリ−イソボルニルメタクリレート。 【0068】例14 ポリスチロール/ポリシクロヘキシルメタクリレート混
合物からの成形体の製造 ポリシクロヘキシルメタクリレート(ηspec/c=
29ml/g)20部をポリスチロール(ηspec/
c=115ml/g)80部と押出機上で混合する。ガ
ラス様澄明顆粒が得られ、これから射出成形体(寸法5
0mm×30mm×3mm)が製造される。この射出成
形体はHunter−Lab.色測定器で測定した光透
過度L93.5を示す。曇り度は6.0%である。ビカ
ー軟化温度は101℃である。 【0069】例15 ポリスチロール/ポリシクロヘキシルメタクリレート混
合物からの成形体の製造 例14と同様に行なうが、他の混合割合を選択する:ポ
リスチロール(ηspec/c=115ml/g)50
部、ポリシクロヘキシルメタクリレート50部。 【0070】ガラス様澄明射出成形体が得られる。 【0071】光透過性L:94.82 曇り度:4.4% ビカー軟化温度:101℃ 例16 ポリスチロール/シクロヘキシルメタクリレート/メチ
ルメタクリレート(=55/45)からのコポリマーの
混合物からの成形体の製造 例15と同様に実施するが、混合のために他のポリマー
P2(ポリマーP2=シクロヘキシルメタクリレート5
5重量%とメチルメタクリレート45重量%とからのコ
ポリマー)を選択する。ガラス様澄明な射出成形体が得
られる。 【0072】例17 ポリマーP2でのポリスチロールプレートの被覆 メチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレー
ト、メチルアクリレートよりなるモノマー混合物を40
%より低い変換率まで重合し、生じるポリマーを単離す
る。 【0073】このポリマーの特徴: 組成:メチルメタクリレート 57% シクロヘキシルメタクリレート 33% メチルアクリレート 10% 分子量:約100000 このメチルメタクリレート−シクロヘキシルメタクリレ
ートメチルアクリレート−コポリマーからジアセトンア
ルコール/1−メトキシ−2−プロパノール(=1/
1)中の15%溶液を作り、これにUV吸収剤としての
2−ヒドロキシ−4n−オクトキシベンゾフェノン0.
1重量%を添加する。このラッカーを用いて厚さ3mm
のポリスチロールプレート(寸法20cm×20cm)
を浸漬被覆し(40cm/min)、引続き90℃で2
時間乾燥させる。 【0074】当初プレートに比べて約2%高い光透過性
を有する澄明プレートが生じる。この被覆されたプレー
トは明らかに改良された耐拭き取り性を示す。 【0075】例18 廃物中への再加工 標準ポリスチロール20重量%を、例17により被覆し
たプレート片の粉砕プレート廃物と混合する。この混合
物を押出成形して厚さ3mmの澄明プレートにする。こ
のプレートを例17の記載と同様にUV−吸収剤含有ラ
ッカーの15%溶液(ポリマーP2)で被覆する。こう
して得たプレートの特性は例17で得たプレートのそれ
に相当する。 【0076】例19 混濁点を有するポリマー混合物PMの合成 例17に記載のポリマーP2(組成:メチルメタクリレ
ート57%、シクロヘキシルメタクリレート33%、メ
チルアクリレート10%、分子量:約100000)2
00gをスチロール800g、アゾイソブチロニトリル
0.5g、1,1′−アゾビス(シクロヘキサン−1−
ニトリル)0.5g、t−ドデシルメルカプタン5gか
らの混合物中に溶かし、重合して厚さ3mmのプレート
にする(50℃で96時間及び90℃で10時間)。 【0077】最低150℃までの加熱の際に、澄明のま
ま残るガラス様澄明プレートが生じる。 【0078】>200の温度までの短時間加熱により、
濁り出し、これは急冷により凍結することができる。 【0079】従ってこのポリマー混合物PMを用いて、
光学的データ蓄積のための系が提供され、これは、西ド
イツ特許(DE−A)第3436476.5号の発明で
使用することができる。 【0080】例20 低いガラス転移温度を有するポリマー混合物PMの合成 ブチルアクリレート20部、シクロヘキシルアクリレー
ト80部及びトリメチロールプロパントリアクリレート
0.1部からの混合物90重量%中のポリスチロール
(ηspec/c=22ml/g)10重量%の溶液を
ビス−(4−t−ブチルシクロヘキシル)−ペルオキシ
ジカルボネートの使用下に重合する。ガラス様澄明ゴム
が生じる。 【0081】例21 低いガラス転移温度及び混濁点を有するポリマー混合物
PMの合成 例20におけると同様に行なうが他のモノマー組成: ブチルアクリレート 30部 シクロヘキシルアクリレート 70部 トリメチロールプロパントリアクリレート 0.1部 を選択する。 【0082】加温時に混濁するガラス澄明なゴム状物が
生じる。 【0083】例22 メチルメタクリレート分の多いポリマー混合物PMの合
成 メチルメタクリレート60%及びスチロール(ηspe
c/c=19ml/g)(=ポリマーP1)40%の組
成のコポリマーをトルオール中に20重量%溶かす。 【0084】同様に、メチルメタクリレート60%及び
シクロヘキシルメタクリレート(ηspec/c=18
ml/g)40%の組成のコポリマー(=ポリマー2)
をトルオール中に20重量%溶かす。これらの溶液を1
9:1、3:1、1:1、1:3、1:19の割合で混
合する。これからフィルムを製造する。 【0085】これらのフィルムは、例外なく、無色澄明
である。260℃までの加熱時に解離は現われない。 【0086】例23 ポリスチロール(=ポリマーP1)及びMMA80重量
%とシクロヘキシルメタクリレート20重量%とのコポ
リマー(ポリマーP2)PMMAからのポリマー混合物
PMの相ダイヤグラムは、ポリスチロールと非相容性で
ある。ポリシクロヘキシルメタクリレートはポリスチロ
ールと非常に良好に相容性である。メチルメタクリレー
トとシクロヘキシルメタクリレートとの共重合によりL
CST(Lower Critical Soluti
on Temperetuve下部臨界溶解温度)を有
するポリマー系を得ることができる。従って、低温では
相容性であるが高温では非相容性であるポリマー系が生
じる(前記技術水準参照)。 【0087】ポリスチロール(ηspec/c=19m
l/g)をMMA80重量%とシクロヘキシルメタクリ
レート(ηspec/c=18ml/g)20重量%と
からのコポリマーと例1の記載と同様に混合する。澄明
なフィルムが生じる。これらのフィルムは加熱時に混濁
点を示す(解離)。第3表にポリマー混合物の組成及び
観察された混濁点を挙げる。 【0088】 第 3 表 ポリスチロール/メチルメタクリレート−シクロヘキシルメタクリレート (=80−20−コポリマー)の混濁点 ポリマー混合物PMの組成(重量%) 例番号 ポリスチロール MMAとシクロヘキシル 混濁点 メタクリレートとからの (℃) コポリマー 24a 95 5 113 b 75 25 89 c 50 50 105 d 25 75 117 e 5 95 151 混濁点(=解離点)の位置は、コポリマー組成の僅かな
変化により任意に移動することができる。 【0089】このポリマー混合物は西ドイツ特許(DE
−A)第3436426.5号明細書におけるデータ蓄
積プレートとして好適である。 【0090】例25 僅かな吸水性を有する2成形材料の混合 ポリマーP1 メタクリル酸メチル60%とスチロール40%とからのコポ リマー(ηspec/c=50ml/g) ポリマーP2 メチルメタクリレート 57重量% シクロヘキシルメタクリレート 33重量% メチルメタクリレート 10重量% ポリマーP1とポリマーP2を押出機上で25/75、
50/50、75/25の割合で混合する。 【0091】3種のすべての混合物でガラス澄明の押出
し成形品が得られる。これらポリマー混合物PMは、殊
に、光学的に読み取り可能な情報のデータ蓄積プレート
として好適である。 【0092】結果 これらの例は、ポリシクロヘキシル(メタ)アクリレー
トとポリスチロールとの極めて良好な相容性を示してお
り、これは、脆く、従って経済的に重要性のないポリシ
クロヘキシル(メタ)アクリレートそのものだけでな
く、他のポリマー殊にポリ(メタ)アクリレートもシク
ロヘキシル(メタ)アクリレートでの比較的僅かな変性
によりポリスチロールと相容性にすることを可能とす
る。 【0093】経費の理由から、ポリマーP2のシクロヘ
キシル(メタ)アクリレートをできるだけ僅かに保つ。
このことは、本発明の最重要用途の1つが即ち、例えば
ポリマーP2での塗布によるポリスチロールの表面保護
であることから明らかである。 【0094】ここでは、最少のポリマーP2量例えばポ
リマーP1に対して0.5重量%で充分であり、従って
繰り返し加工の際にポリマーP1中に非常に少量のポリ
マーP2が導入されるはずである。しかしながら、例2
3に示されているように、非常に非対称的な混合割合で
(例えばP1 99重量%中のP2 1重量%)は、相
容性の要求及びこれに伴なうポリマーP2中のシクロヘ
キシル(メタ)アクリレートの必要含分も僅かで例えば
<20重量%である。 【0095】従って、ポリマーP2中のシクロヘキシル
(メタ)アクリレートの含分は僅かに保持されるが、で
きるだけ高いポリスチロール含分のポリマーP1例えば
純粋なポリスチロールもしくは耐衝撃性に変性されたポ
リスチロール(Vieweg−Daumiller、K
unststoff−Handbuch V、Poly
styrol、Carl Hauser,Muench
en 1969)が有利である。 【0096】例26 本発明によるポリマー混合物をベースとするデータ蓄積
体(Datenspeicher) 材料 基材:厚さ3mmの押出成形したポリメチルメタクリレ
ート(PMMA)−プレート(Fa Roehm Gm
bHのプレキシグラス(plexiglas)XT(商
標登録)) ポリマー ポリマー26a: メチルメタクリレート 78% シクロヘキシルメタクリレート 20% シクロヘキシルアクリレート 2% からのコポリマー 還元比粘度 ηspec/c=48.4ml/g 屈折率 nD 20=1.49 ポリマー26b ポリスチロール 還元比粘度 ηspec/c=23.4ml/g 屈折率 nD 20=1.59 構成:PMMA−プレートをトルオール/o−キシロー
ル(=1/1)からの混合物中のポリマー26aの15
%溶液で浸漬被覆し、80℃で乾燥し、トルオール/o
−キシロール(=1/1)混合物中のポリマー26aの
15%溶液で2回被覆する。 【0097】引続き、トルオール/o−キシロール中の ポリマー26a 30部 ポリマー26b 70部 色素マクロールエクスロート 2部 (Makrolexrot)GN(Colour In
dex) の混合物を塗布する。 【0098】この赤色着色されたポリマー混合物の乾燥
の後に、前記のポリマーP26aの溶液を単独でもう1
回塗布する。 【0099】ガラス澄明で強い赤色プレートが生じる。
130℃までの局所加熱により、情報を記入することが
できる。 【0100】第1図は、この被覆されたプレートの断片
を示している。この電子顕微鏡撮影から明らかなよう
に、ポリマー混合物は完全に均質である。 【0101】第2図は、130℃まで加熱したこのプレ
ートの断片を示している。この図から明らかなように、
ここでは双方のポリマーが互に解離している(非相容
性)。 例27 遮光剤含有ポリマーP2での被覆によるポリマーP1の
露候保護 ポリマーP1(BASFのポリスチロール158(商標
登録))製の厚さ3mmの押出成形プレート上に、ポリ
マーP2の20%溶液を塗布する。 【0102】ポリマーP2: メチルメタクリレート 49重量% シクロヘキシルメタクリレート 49 〃 シクロヘキシルアクリレート 2 〃 からのコポリマー(ηspec/c=36) 溶: 2−プロパノール 40% ジアセトンアルコール 40% メチルエチルケトン 20%からの混合物 遮光剤:ポリマーP2に対して10重量% 試料C:遮光剤 2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン 層厚:約10μm 試料D:層厚:約20μm 試料H:遮光剤; 2(2′−ヒドロキシ−5′−t−オクチルフェニル)
−ベンゾトリアゾール層厚:約10μm 層の付着性はすべての場合に非常に良好である(テサフ
ィルムテストで裂けず)。 【0103】試料L:被覆されていない比較試料。 【0104】被覆したポリスチロールプレート並びに被
覆されていない対照プレートを急速露光した。 【0105】条件:キセノテスト、光波長:300mm
(DIN53389による) 時間:1000時間 非保護ポリスチロールプレートはこの時間の後に露光表
面が完全に破壊する(試料L)が、UV−保護剤を有す
るポリマーP2で被覆された試料は、1000hキセノ
テストの後にもまったく変化しない。 【0106】例28 低いガラス転移温度を有する部分相容性のポリマー混合
物 ポリマーP28aの合成 トルオール900g、アクリル酸ブチル240g、シク
ロヘキシルアクリレート60g及びドデシルメルカプタ
ン9gをフラスコ中でアルゴン気下に60℃に加温す
る。 【0107】トルオール17g中のt−ブチルペルネオ
デカノエート3gの溶液を4分して加えて(約20分間
隔で)。4時間の反応時間の後に、ポリマーをメタノー
ル中に沈殿させ、乾燥させる。 【0108】ポリマーP28bの合成 ブチルアクリレート 20.0g スチロール 80.0g t−ドデシルメルカプタン 0.6g AIBN 0.2g 1,1′−アゾビス(シクロヘキサン−1−ニトリル) 0.1g からの混合物を50℃で24時間重合する、その後、メ
タノール中で沈殿させ、乾燥させる。 【0109】ポリマーP28a及び28bをトルオール
中に溶かし、異なる分量で混合する。この混合物から、
フィルムを注型すると、すべてガラス様澄明である。特
定温度(例えば1/1−混合物で約110℃)以上に加
熱する際に濁りが生じ、これは、この解離温度を下まわ
る温度に冷却の際に再び消失する(第3図:混合物PM
28の相曲線参照)。
【図面の簡単な説明】 【図1】図1は例26により被覆されたデータ蓄積プレ
ート片の粒子構造を示す顕微鏡写真。 【図2】図2は例26によるプレートを130℃に加熱
したデータ蓄積プレート片の粒子構造を示す顕微鏡写
真。 【図3】図3は例28のポリマー混合物PMの相曲線
図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G02B 6/00 391 G02B 6/00 391 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08J 7/00 - 7/18 C08L 1/00 - 101/14 G02B 1/00 - 1/12 G02B 6/00 - 6/44

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 1. A)スチロール 少なくとも20重量%及び芳香環のみが アルキル置換されたスチロール、アクリル酸及びメタクリル酸の エステル及びビニルエステルの群から選択された疎水性ビニル化合物 及びアクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド、p−(2−ヒドロ キシヘキサフルオロイソプロピル)スチロール又はアリルアルコールの群から選 択された極性コモノマーの群 から選択された他のコモノマー 80〜0重量% から構成されている(但し、極性モノマー分は10重量%より少ないことを条件 とする)ポリマーP1 0.1〜99.9重量% 及びB)被覆としての、式I: [式中Rは、水素又はメチル基である]のモノマー少なくとも10重量% 及び炭素原子数1〜12を有する非脂環式アルコールとのアクリル酸−又はメタ クリル酸エステルの群、 環中に炭素原子数4、5、7、8、9、10、11又は12を有する置換された 環状アルコールとのアクリル酸−又はメタクリル酸エステルの群、 置換シクロヘキサノールとのアクリル酸−又はメタクリル酸エステルの群 及びスチロール から選択された他のコモノマー 90〜0重量% から構成されているポリマーP2 99.9〜0.1重量% (但し、ポリマーP1のスチロール含量はポリマーP2
    中におけるそれよりも少なくとも10重量%だけ大きい
    ことを条件とする)より成る相容性ポリマー混合物より
    なる物体。 2.ポリマーP2は重合導入されたUV−吸収剤を0.
    1〜20重量%(ポリマーP2に対して)の量で含有す
    る、請求項1に記載の相容性ポリマー混合物よりなる
    候性物体。 3.物体は射出成形体である、請求項1記載の相容性ポ
    リマー混合物よりなる物体。 4.物体は押出成形体である、請求項1記載の相容性ポ
    リマー混合物よりなる物体。 5.物体は光学的に読みとり可能な情報用のデータ蓄積
    プレートである、請求項1に記載の相容性ポリマー混合
    物よりなる物体。 6.2種のポリマー成分: A)スチロール 少なくとも20重量%及び芳香環のみが アルキル置換されたスチロール、アクリル酸及びメタクリル酸の エステル及びビニルエステルの群から選択された疎水性ビニル化合物 及びアクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド、p−(2−ヒドロ キシヘキサフルオロイソプロピル)スチロール又はアリルアルコールの群から選 択された極性コモノマーの群 から選択された他のコモノマー 80〜0重量% から構成されている(但し、極性モノマー分は10重量%より少ないことを条件 とする)ポリマーP1 0.1〜99.9重量%及び B)式I: [式中Rは、水素又はメチル基である]のモノマー 少なくとも10重量% 及び炭素原子数1〜12を有する非脂環式アルコールとのアクリル酸−又はメタ クリル酸エステルの群、 環中に炭素原子数4、5、7、8、9、10、11又は12を有する置換された 環状アルコールとのアクリル酸−又はメタクリル酸エステルの群、 置換シクロヘキサノールとのアクリル酸−又はメタクリル酸エステルの群 及びスチロール から選択された他のコモノマー 90〜0重量% から構成されているポリマーP2 99.9〜0.1重量% (但し、ポリマーP1のスチロール含量はポリマーP2
    中におけるそれよりも少なくとも10重量%だけ大きい
    ことを条件とする)より成る相容性のポリマー混合物の
    上に、ポリマーP2よりなる被覆を有する、相容性ポリ
    マー混合物よりなる物体。 7.ポリマーP2は重合導入されたUV−吸収剤を0.
    1〜20重量%(ポリマーP2に対して)の量で含有す
    る、請求項6記載の相容性ポリマー混合物よりなる
    候性物体。 8.物体は射出成形体である、請求項6記載の相容性ポ
    リマー混合物よりなる物体。 9.物体は押出成形体である、請求項6記載の相容性ポ
    リマー混合物よりなる物体。 10.物体は光学的に読みとり可能な情報用のデータ蓄
    積プレートである、請求項6に記載の相容性ポリマー混
    合物よりなる物体。 11.A)スチロール 少なくとも20重量%及び 芳香環のみがアルキルで置換されたスチロール、アクリル酸及びメタクリル酸の エステル及びビニルエステルの群から選択された疎水性ビニル化合物 及びアクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド、p−(2−ヒドロ キシヘキサフルオロイソプロピル)スチロール又はアリルアルコールの群から選 択された極性コモノマーの群 から選択された他のコモノマー 80〜0重量% から構成されている(但し、極性モノマー分は10重量%より少ないことを条件 とする) ポリマーP1からなる核及びB)式I: [式中R は、水素又はメチル基である]のモノマー少なくとも10重量% 及び炭素原子数1〜12を有する非脂環式アルコールとのアクリル酸−又はメタ クリル酸エステルの群、 環中に炭素原子数4、5、7、8、9、10、11又は12を有する置換された 環状アルコールとのアクリル酸−又はメタクリル酸エステルの群、 置換シクロヘキサノールとのアクリル酸−又はメタクリル酸エステルの群 及びスチロール から選択された他のコモノマー 90〜0重量% から構成されている(但し、ポリマーP1のスチロール含量はポリマーP2中に おけるそれよりも少なくとも10重量%だけ大きいことを条件とする) ポリマー P2からなる殻 及びポリマーP1とP2との相容性ポリマー混合物から
    なる中間層を有する光学的階調繊維。
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