JP2859159B2 - 薄層構造体の表面層の局限区域の形態と厚さを原位置実時間観測する方法と装置 - Google Patents

薄層構造体の表面層の局限区域の形態と厚さを原位置実時間観測する方法と装置

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は薄層構造体の表面層の局
限区域（ｌｏｃａｌｉｚｅｄ ａｒｅａ）の形態を定量
化するとともにその厚さおよび発展を測定するための方
法および装置に関するものである。
【０００２】本発明の多くの適用は半導体、集積回路の
ごときミクロシステムの製造の原位置実時間制御、例え
ば輪郭抽出のための寸法制御、層の厚さおよび層の成長
（析出）または除去（エッチング）率の絶対測定などを
包含する。
【０００３】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】米国
特許出願第９３０２４３号には、真空処理室の内部にお
ける薄層スタックの原位置干渉計測定用の同時的レーザ
干渉計測定および観測のためのコンパクトなシステムが
開示されている。該システムは対物レンズの光学軸が単
色照明ビームと１つまたは２つの干渉計測定レーザビー
ムとに共通である観測カメラを有する。
【０００４】この先行技術に関する文書には、薄層構造
体の表面層の成長または除去率を制御するのに適してい
る強力な方法が開示されている。しかし、それは若干の
欠点を有する。とりわけ、単色照明ビームと干渉計測定
レーザビームとは色消し性を生じさせる正確に同じ波長
を有しておらず、したがって２つの光ビームは対物レン
ズが無色である場合にのみ同時に焦点をあわされ得る。
また、この方法は観測中の区域内の表面層の厚さの絶対
測定を許さない。それは１を法とする期間（modulo one
period ）繰返される差動干渉計測定に基づいているか
らである。
【０００５】コンド（ＫＯＮＤＯ）の米国特許第４９８
４８９４号には多層構造体の表面層の厚さを測定する技
術が開示されている。この技術は反射されたビームの一
部分のスペクトル分析によって構造体表面層の厚さを決
定するため可視スペクトルまたは紫外スペクトルを有す
る光ビームによって構造体を照明することから成ってい
る。しかし、この技術は真空室内における製造の間、パ
ターンを担持している層の厚さを測定するため原位置で
使用され得ない顕微鏡において用いるべく提案されてい
る。測定中の構造体と装置の対物レンズとの間の距離は
比較的大きく（普通、１０ｃｍのオーダー）、そのこと
は顕微鏡が使用され得ないことを意味する。
【０００６】本発明の目的は前述した先行技術の短所を
取り除くとともに薄層構造体の表面層の局限区域の形態
および厚さの原位置実時間観測を可能にする改良された
技術を提案することである。
【０００７】本発明のもう一つの目的はこの技術を用い
る観測装置であって極めて小さく、したがって複雑な薄
層構造体のために真空製造技術を用いる現存装置と一体
化され得るものを提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の方法は薄層構造
体の表面層の局限区域の形態および厚さの原位置実時間
観測のための方法である。薄層構造体は透明なのぞき窓
または観測窓を有する真空処理室内に閉じ込められる。
本発明の方法は、規定スペクトルを有する照明光ビーム
および少なくとも１つのレーザビームを局限区域上に導
く過程であって、両ビームが観測カメラの対物レンズの
光学軸に中心を置かれた共通光路に従って真空処理室の
のぞき窓を通過して前記局限区域に衝突するようにされ
る過程、レーザスポット上にその中心を置かれている前
記局限区域によって反射された光ビームを連続的に、前
記共通光路に従って単色差動干渉計測定法によって前記
局限区域のマップを示すためその固有波長が前記レーザ
ビームの波長に近似する光学フィルタを介して前記観測
カメラのマトリックスセンサへ導き、次いでモノクロメ
ータへ選択器ダイヤフラム、光ファイバケーブルおよび
モノクロメータ入口に在る分析器スリットを介して導く
過程、および前記局限区域内の前記表面層の厚さを測定
するため前記反射光ビームのスペクトル分析のためのモ
ノクロメータを使用し、かつ、または前記局限区域内の
前記表面層の厚さの変動を測定するため規定波長による
差動干渉計測定法を使用する過程を有する。
【０００９】前記レーザビームは照明光ビームを局限区
域上に集中させるために使用され、かつ、その開口がモ
ノクロメータのための光ファイバケーブルの入口におい
てイメージ面（像面）を限定するために所定のまたは可
変である選択器ダイヤフラムを中心に置くために使用さ
れる。また、前記レーザビームは光ビームの光度を測定
することによって光ビームをサンプル上で焦点に集める
ため使用される。前記イメージ面は測定カメラの対物レ
ンズの光学特性、局限区域（関係している層以外の隣接
部分を除外することによって観測中の表面層の代表的部
分を含むにすぎない）の形態、およびモノクロメータか
らの信号の信号対雑音比によって限定される。
【００１０】前記モノクロメータの入口スリットは、モ
ノクロメータの特性、光ファイバの直径および配置およ
び選択器ダイヤフラムの開口によって決定される。
【００１１】反射されたビームのスペクトル分析は、観
測中の区域内の表面層の厚さを示す。実際上は、これは
照明光ビームのスペクトルの最短波長に依存するしきい
値を越えた表面層厚さに対してのみ可能である。その最
短波長が紫外へ移動されている照明ビームスペクトルを
選択することによって、最小スペクトル分析しきい値を
減じることが可能である。
【００１２】しかし、観測カメラの対物レンズは、可視
スペクトルの特性は良好であるが紫外スペクトルの特性
が劣っている光学レンズから作られている。したがっ
て、使用されている対物レンズの特定光学限度を越えて
照明光スペクトルを紫外まで動かすことは許されない。
この場合において、本発明は後述する付加モジュールを
使用して並列光路を構成する。
【００１３】本発明によれば、特定波長が照明光ビーム
のスペクトル内に選択され、かつ、差動干渉計測定法が
この特定波長における光度の発展を検査するために使用
される。これはサンプルの表面層の厚さの時間的変動を
正確に測定する。この技術は、特に表面層のプラズマエ
ッチングまたは化学的気相析出の間、サンプル表面層の
厚さの発展を正確に監視することを可能にする。
【００１４】スペクトル分析と差動干渉計測定法との組
合せによって、サンプルの表面層の絶対厚さおよびこの
厚さの瞬間変動率の実時間測定が可能にされる。
【００１５】前記差動干渉計測定法は、正確な分析を可
能にする高信号対雑音比を保証するその高輝度の故に、
レーザビームの波長をもって実行され得る。したがっ
て、例えば、同一検出器において同時に行われ得るスペ
クトル分析を妨害しないように照明光ビームのスペクト
ルの一端においてレーザビームの波長を選ぶことが好ま
しい。照明光ビームのスペクトルは、サンプルの局限区
域の差動干渉計マップを供給する測定カメラによる良好
な実視観測を可能にするために、可視スペクトル（４０
０ｎｍから８００ｎｍの間の波長）の少なくとも一部分
とオーバラップしている。
【００１６】本発明は制限的でない例として開示されか
つ添付図面に示されている本発明の一実施例の詳細な説
明を検討することによってより明快に理解されるであろ
う。
【００１７】
【実施例】本発明の出願人は、米国特許出願第９３０２
４３号に詳細に記載されている技術によって、特に薄層
構造体に対する、レーザによる同時的な観測および干渉
計測定のための極めてコンパクトなシステムを開発し
た。本発明の実施例によって説明される器械および装置
は、出願人によって前に開発されたそれらと多くの共通
点を有する。この理由によって、本明細書を検討する人
は前記器械および装置のさらなる細部を理解するため
に、前記米国特許出願第９３０２４３号を参照すること
を勧められる。
【００１８】図１に示されているように、真空処理室１
は処理さるべきサンプル２、例えばプラズマエッチング
による製造過程における集積回路ウェーハ、を収容して
おり、その上面にはシリカ窓３を備えている。観測ユニ
ット４が真空処理室１の上方に水平Ｘ−Ｙ変位テーブル
５によって支持されている。観測ユニット４は、制御キ
ーパッド９および表示画面１０と連結された操作・制御
ユニット８に、光ファイバケーブル６および電気ケーブ
ル７によって接続されている。操作・制御ユニット８は
前記テーブル５上における観測ユニット４の水平変位の
ために２つのステッパ電動機（図示されていない）に接
続されている。
【００１９】図２にさらに詳細に示されているように、
観測ユニット４は、その調節式対物レンズ１３が自動焦
点タイプであり得るビデオカメラ１２、照明源１４、レ
ーザ１５および規定光路に沿って光を導くための多数の
光学板を収容しているケーシング１１を有する。
【００２０】ビデオカメラ１２はマトリックスに配置さ
れた複数の電荷転送（ＣＣＤ）セルの形式にされている
ことが好ましいセンサ１６を有する。センサ１６は図示
されていない方式で電気ケーブル７のための電気コネク
タ１７に接続されており、それにより、そこでビデオ信
号が表示画面１０に表示される操作・制御ユニット８に
ビデオ信号を供給し得る。電気コネクタ１７はケーシン
グ１１の側面に取付けられている。
【００２１】ケーシング１１は内部コンパートメント１
１ａを有し、前記コンパートメントには、そのエミッシ
ョンスペクトルが可視スペクトルの少なくとも一部分と
オーバーラップすることが好ましい照明源１４が収容さ
れている。以下の説明を簡単化するため、照明源１４か
ら放射される光は白光と呼ばれる。内部コンパートメン
ト１１ａは光学レンズ１８を嵌めこまれた窓を有し、前
記光学レンズはビデオカメラ１２の対物レンズ１３とセ
ンサ１６との間に配置されたビームスプリッタ板１９の
方へ照明光ビームを導き得る。したがって照明光ビーム
はビデオカメラ１２の光路、すなわち、対物レンズ１３
の光学軸１３ａに従って進む。第１の光トラップ板２０
がビームスプリッタ板１９の後方に配置されており、そ
れにより、ビームスプリッタ板１９を通過する照明光ビ
ームの一部分を吸収して観測ユニット４内における光学
的干渉を減らし得る。
【００２２】レーザ１５は図２に示されているような１
個の半導体レーザまたは２個の別々の半導体レーザ（図
示されていない）であり得る。レーザ１５からのレーザ
ビームはビームスプリッタ板２１を介してビデオカメラ
１２の対物レンズ１３とセンサ１６との間の光路上のも
う１つのビームスプリッタ板２２の上に投射され、した
がってレーザビームもまた対物レンズ１３の光学軸と一
致しているビデオカメラ１２の光路に従って進み得る。
もう１つの光トラップ板２３が、観測ユニット４のケー
シング１１内における迷光を吸収するようにビームスプ
リッタ板２２の後方に配置されている。
【００２３】かくして、観測ユニット４のコンパクトな
ケーシング１１はビデオカメラ１２を照明源１４および
レーザ１５とともに収容しており、照明源１４によって
放射される照明光ビームとレーザ１５によって放射され
るレーザビームとから成る光ビームを、ビデオカメラ１
２の対物レンズ１３の光学軸１３ａと一致している共通
光路に従って放射するようにされている。複合された光
ビームは、薄層構造のサンプル２（図１参照）に対して
衝突するように、観測ユニット４によって対物レンズ１
３および真空処理室１のシリカ窓３を介して観測ユニッ
ト４によって導かれる。サンプル２によって反射された
光ビームは入射光ビームと同じ共通光路に従って進み、
対物レンズ１３を（図１）を通過して、観測ユニット４
のケーシング１１内に入る。ビームスプリッタ板２２は
反射ビームを２つの部分に分割する。透過部分はビーム
スプリッタ板２２および１９を通過してビデオカメラ１
２のセンサ１６に達する。ビームスプリッタ板２２によ
って反射させられた部分はビームスプリッタ板２１を通
過して、観測ユニット４のケーシング１１に取付けられ
た光学コネクタ２４を介して光ファイバケーブル６に達
する。
【００２４】ビデオカメラ１２のセンサ１６の方へ導か
れた反射ビームは、高輝度反射レーザビームを伴う照明
光ビームのスペクトルと一致するスペクトルを有する。
反射レーザビームがセンサ１６（したがって、ビデオカ
メラ１２）を眩しがらせるのを防ぐために、光学フィル
タ２５がセンサ１６のすぐ前においてビデオカメラ１２
の光路上に配置されている。光学フィルタ２５は固有波
長に対しては透過性を有し、一方、その他の波長に対し
ては非透過性を有し、したがって、ビデオカメラ１２の
センサ１６に事実上単色光を伝達する。したがって、セ
ンサ１６の各ＣＣＤセルはビデオカメラ１２のイメージ
面において１つの画素を表す個別干渉計として機能す
る。その結果として、ビデオカメラ１２はマトリックス
配列において複数の干渉計として機能して、サンプル２
の被照明局限区域の表面形態の単色マップとして表示画
面１０上に表示されるビデオ信号を供給する。光学フィ
ルタ２５の固有波長は表示画面１０のためのレーザビー
ムの波長に十分に近似しかつまたビデオカメラ１２を眩
しがらせることなしに被照明局限区域内にレーザスポッ
トを示すことが好ましい。
【００２５】光学コネクタ２４は反射ビームの一部分を
受取ってそれを光ファイバケーブル６を介して操作・制
御ユニット８へ送る。光学コネクタ２４は選択器ダイヤ
フラム２４ａを有し、前記選択器ダイヤフラム２４ａの
開口（アパチャ）２５ａは予め決定されておりまたは分
析の目的に対してサンプル２の被照明局限区域の一部分
のみに一致するイメージ面を決定するため変更可能であ
る。
【００２６】図３から図５までは本発明の方法を表して
いる数個のイメージ（画像）を示す線図である。処理さ
るべきサンプル２はプラズマエッチングまたは析出によ
って集積回路を製造するのに使用される薄層構造体であ
る。サンプル２はシリコン基板２６、該シリコン基板２
６を覆っている下層２７、および爾後そのなかに集積回
路がエッチングによって形成される酸化珪素表面層２８
を有する。この目的のために、表面層２８の複数の部分
はマスク２９によって保護されている。マスク２９によ
って保護されていない表面層２８の露出区域２８ａは、
所定の厚さになるまでプラズマエッチング（周知技術）
を施される。
【００２７】観測ユニット４によって放射される入射光
ビームは、サンプル２の上面に位置する局限区域２ａを
照明する。局限区域２ａは白光照明光ビーム３０によっ
て限界を決定される。レーザビーム３１は照明光ビーム
３０と同心であり、それによって照明光ビーム３０はサ
ンプル２上に正確に位置決めされ得る。
【００２８】既に説明されたように、サンプル２の照明
された局限区域２ａ（ビデオカメラ１２の可使区域によ
って限界を決定される）の単色マップは、ビデオカメラ
１２によって実時間をもって確立される。したがって、
被照明局限区域２ａの形態およびその発展はサンプル２
のプラズマエッチングの前および間に実時間をもって観
測され得る。被照明局限区域２ａにおけるパターンの寸
法の実時間制御は、画素を数えることと、ビデオカメラ
１２の光度しきい値を調整することとによって達成され
得る。サンプル２の表面層２８の露出区域２８ａにおけ
るレーザスポット３１ａ（図４参照）は、ビデオカメラ
１２によって確立される単色マップにおいて確認され得
る。
【００２９】次に、図５を参照して操作・制御ユニット
８におけるモノクロメータ８ａについて説明する。典型
的に、分析のためモノクロメータ８ａに送られる光ビー
ムは、サンプル２を表している特定分析区域３２（図４
参照）に限定されなくてはならない。サンプル２のプラ
ズマエッチングは、表面層２８の露出区域２８ａすなわ
ち非保護部分の厚さ Δｅ［ｓｉｃ］のバリエーション
（変動）である厚さｅの観測を必要とする。次に、特定
分析区域３２はマスク２９によって覆われた部分を除く
露出区域２８ａの内側に存在しなくてはならない。特定
分析区域３２はレーザスポット３１ａ上にその中心を位
置させることが好ましく、該区域は光学コネクタ２４の
入口に配置された選択器ダイヤフラム２４ａによって限
界を決定される。選択器ダイヤフラム２４ａの開口２５
ａは、対物レンズ１３の倍率、サンプル２の表面層２８
の露出区域２８ａと対物レンズ１３との間の距離、およ
びモノクロメータ８ａからの信号の信号対雑音比に基づ
いて決定される。分析スリット３３によって限定される
モノクロメータ８ａのイメージ面は、サンプル２におけ
る特定分析区域３２と一致する。
【００３０】図５はレーザスポット３１ａ、該スポット
上に中心を決められた選択器ダイヤフラム２４ａの開口
２５ａ、およびモノクロメータ８ａの入口における分析
スリット３３を示している。この選択器ダイヤフラム２
４ａと分析スリット３３ａとの間には、サンプル２の特
定分析区域３２から反射された光ビームをモノクロメー
タ８ａまで運ぶ光ファイバケーブル６が配置されてい
る。
【００３１】図６に示されているように、分析スリット
３３を介してモノクロメータ８ａに入る光ビームは、プ
レーンフィールド（ｐｌａｉｎ ｆｉｅｌｄ）回折格子
３４上に投射される。ｎＣＣＤホトダイオード（例え
ば、１０２４ダイオード）のストリップまたはｍ横列と
ｎ縦列とを有するＣＣＤダイオードのマトリックスの形
式にされ得る感光性構成素子３５が配置されている。各
ダイオードが２５μｍ×２５μｍであるＣＣＤダイオー
ドストリップの場合、分析スリット３３は２５μｍ×２
５μｍまたはそれより少し大きくされ得る。
【００３２】感光性構成素子３５は照明光ビームスペク
トルの各波長λに対する光度を提供する。図７に示され
ているように、分析されたスペクトルは最小波長λ1 お
よび最大波長λ2 によって限界を決定される。図７から
のダイヤグラムのスペクトル分析は、サンプル２の表面
層２８の露出区域２８ａの瞬間厚さｅを正確に提供す
る。
【００３３】スペクトル分析と同時にまたその後に、差
動干渉計測定が照明ビームスペクトル（図８）において
規定波長λ1 を使用して実行され得る。規定波長λ
1 （図８）に対する時間の関数としての光度のダイヤグ
ラムの分析は、本質的に既知である方式で、プラズマエ
ッチングの間においてサンプル２の表面層２８の露出区
域２８ａの厚さの変動率を提供する。
【００３４】その高エネルギーの故に、サンプル２によ
って反射されるレーザビームは、モノクロメータ８ａに
よる差動干渉計分析（図８）のために使用され得る。ス
ペクトル分析を妨害するのを避けるために、レーザビー
ムは照明ビームスペクトルの一端における波長をもって
放出されることが好ましい。レーザビームの差動干渉計
分析を可能にするために、特定区域がモノクロメータ８
ａの感光性構成素子３５上に既知の方式で電子的に形成
され得る。この特定区域は光度減衰コーティングを施さ
れることが好ましい。
【００３５】本発明は、例えば、プラズマエッチング間
におけるサンプル２の表面層２８の露出区域２８ａの
（スペクトル分析による）絶対厚さおよび（差動干渉計
分析による）厚さの瞬間変動率の実時間監視と、サンプ
ル２の局限区域２ａの単色マップの同時表示とを可能に
する。
【００３６】本発明は、当然、実時間をもってかつその
場において、処理中のサンプルの表面層の形態および厚
さを監視するため、薄層構造体の真空処理の他形式にも
適用される。
【００３７】図９は特に、使用される波長が構成部品
（ビデオカメラ対物レンズ、ビームスプリッタ板など）
の光学特性と両立できない場合に、または分析される材
料の分析または吸収敏感度が不十分である場合に、標準
型の観測ユニット４がその役割を果たすのに不十分であ
るとき使用される、既に説明された装置の一変形を示す
線図である。これら極端な場合においては、付加モジュ
ール３６が標準型の観測ユニット４のケーシング１１に
取付けられる。
【００３８】前記付加モジュール３６は観測ユニット４
と並列して作動して観測ユニットを補完する。例えば、
紫外スペクトル中に連続体（ｃｏｎｔｉｎｕｕｍ）を放
出する高発光キセノン照明源が使用され得る。これは発
生される熱の故に、かつ、ビデオカメラ１２の対物レン
ズ１３に対する非両立性の故に、標準型の観測ユニット
４と両立できないであろう。付加モジュール３６内のキ
セノン照明源は紫外スペクトル（２００ｎｍから４５０
ｎｍの間の波長）中に付加照明ビームを放出する。付加
照明ビームは特殊の水晶対物レンズ３７を透過して、分
析されるべきサンプルに対してビームスプリッタ板３
８、３９によって導かれる。標準型の観測ユニット４も
また既に説明したように光ビームを放出し、該光ビーム
は分析されるべきサンプルに対して付加照明ビームと同
じ光路に従ってビームスプリッタ板３９を介して衝突す
る。反射された光ビームは、特にサンプルの形態を示す
マップを表示するための標準型の観測ユニット４に対す
る１つの部分と、標準型の観測ユニット４（図２）の光
学コネクタ２４からプラグを抜かれていない光ファイバ
ケーブル６に光学コネクタ（図示されていない）を介し
て接続されている付加モジュール３６に対する他の１つ
の部分とに分割される。次いで、モノクロメータが、既
に説明されたように、紫外スペクトルにおけるスペクト
ル分析とともに差動干渉計分析を実行する。
【００３９】標準型の観測ユニット４の表示光学手段と
両立できないレーザビームを使用することが必要である
場合は、やはり付加モジュールが必要とされる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の方法の１つの特定の適用において使用
される装置の実施例を説明する線図。
【図２】本発明の装置を説明する線図。
【図３】本発明の技術によって観測されているサンプル
の局限区域の線図的詳細図。
【図４】本発明の技術によって観測されているサンプル
の局限区域の線図的詳細図。
【図５】本発明を表すイメージ（画像）の配置を示す線
図。
【図６】モノクロメータの作用原理を示す線図。
【図７】スペクトル分析曲線を示す線図。
【図８】差動干渉計曲線を示す線図。
【図９】本発明の装置の異なる実施例を示す線図。
【符号の説明】
１ 真空処理室 ２ サンプル ４ 観測ユニット ５ 水平Ｘ−Ｙ変位テーブル ６ 光ファイバケーブル ８ 操作・制御ユニット ８ａ モノクロメータ ９ キーパッド １０ 表示画面 １１ ケーシング １２ ビデオカメラ １３ 対物レンズ １４ 照明源 １５ レーザ １６ センサ １８ 光学レンズ １９ ビームスプリッタ板 ２０ 光トラップ板 ２１ ビームスプリッタ板 ２２ ビームスプリッタ板 ２３ 光トラップ板 ２５ 光学フィルタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−361105（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−283615（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−52205（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−104170（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−259125（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G01B 11/06 H01L 21/66

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 上壁に窓を有する真空処理室内に包囲さ
    れた薄層構造体の表面層の局限区域の形態および厚さの
    原位置実時間観測方法において、 規定スペクトル内の照明光ビームおよび少なくとも１つ
    のレーザビームを前記局限区域上に導く過程であって、
    前記両ビームがビデオカメラの対物レンズの光学軸に中
    心を置かれた共通光路に従って前記真空処理室の窓を通
    過して前記局限区域に衝突するようにされる過程、 前記局限区域によって反射された光ビームを、連続的
    に、前記共通光路に従って最初に差動干渉計測定法によ
    って前記局限区域の単色マップを示すためその固有波長
    が前記レーザビームの波長に近似する光学フィルタを介
    して前記ビデオカメラのマトリックスセンサへ導き、次
    いでモノクロメータへ選択器ダイヤフラム、光ファイバ
    ケーブルおよびモノクロメータ入口に在る分析器スリッ
    トを介して導く過程、および 前記局限区域の一体部分である特定分析区域内の前記表
    面層の厚さを測定するため前記反射光ビームのスペクト
    ル分析のためのモノクロメータを使用し、かつ、または
    前記特定分析区域内の前記表面層の厚さの変動率を測定
    するため規定波長による差動干渉計測定法を使用する過
    程を有する観測方法。
  2. 【請求項２】 請求項１に記載の方法を実施するための
    観測装置において、 ビデオカメラ、照明源、レーザおよび光学構成部品を収
    容しているコンパクトなケーシングを有する観測ユニッ
    ト、 モノクロメータを有する操作・制御ユニット、 光ファイバケーブルおよび電気ケーブルを介して前記操
    作・制御ユニットに前記観測ユニットを接続するため前
    記観測ユニットの前記ケーシングに取付けられた光学コ
    ネクタおよび電気コネクタ、 前記操作・制御ユニットに結合された制御キーパッドお
    よび表示画面、および最初に前記局限区域を選択するた
    め２つの軸線に沿って前記観測ユニットを水平方向に変
    位させ次に入射光ビームおよび前記サンプルによって反
    射された光ビームが共通光路に従うように正確に位置を
    決定するため前記真空処理室の上方に配置されたテーブ
    ルを有する観測装置。
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