JP2850738B2 - β−スチリルアクリル酸のシリコーン誘導体及びその製造方法 - Google Patents
β−スチリルアクリル酸のシリコーン誘導体及びその製造方法Info
- Publication number
- JP2850738B2 JP2850738B2 JP34004493A JP34004493A JP2850738B2 JP 2850738 B2 JP2850738 B2 JP 2850738B2 JP 34004493 A JP34004493 A JP 34004493A JP 34004493 A JP34004493 A JP 34004493A JP 2850738 B2 JP2850738 B2 JP 2850738B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- represented
- same
- general formula
- silicone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Cosmetics (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、長波長域における紫外
線吸収能を有し、特に各種油剤との相溶性を有するた
め、化粧品用紫外線吸収剤として好適に使用されるβ−
スチリルアクリル酸のシリコーン誘導体及びその製造方
法に関する。
線吸収能を有し、特に各種油剤との相溶性を有するた
め、化粧品用紫外線吸収剤として好適に使用されるβ−
スチリルアクリル酸のシリコーン誘導体及びその製造方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】紫外線
吸収能を有する化合物、即ち紫外線吸収剤は、皮膚の日
焼け止め防止、老化防止などを目的として化粧品などに
配合されるものであり、従来、紫外線吸収剤としては、
ＰＡＢＡ系、桂皮酸系、サリチル酸系、ベンゾフェノン
系等の化合物が知られているが、いずれも液状化の度合
或いは相溶性を高めるために誘導体化がなされている。
吸収能を有する化合物、即ち紫外線吸収剤は、皮膚の日
焼け止め防止、老化防止などを目的として化粧品などに
配合されるものであり、従来、紫外線吸収剤としては、
ＰＡＢＡ系、桂皮酸系、サリチル酸系、ベンゾフェノン
系等の化合物が知られているが、いずれも液状化の度合
或いは相溶性を高めるために誘導体化がなされている。
【０００３】上記化合物を誘導体化する方法として、シ
リコーン変性する方法が種々提案されており（特公昭４
４−２９８６６号公報、特開昭６０−５８９９１、６０
−１０８４３１号公報、特開平２−１６７２９１、２−
１１７６１３、３−２０４８８７号公報）、シリコーン
による変性は、特に液状化の度合、撥水性の付与、相溶
性の付与などに優れるという利点がある。
リコーン変性する方法が種々提案されており（特公昭４
４−２９８６６号公報、特開昭６０−５８９９１、６０
−１０８４３１号公報、特開平２−１６７２９１、２−
１１７６１３、３−２０４８８７号公報）、シリコーン
による変性は、特に液状化の度合、撥水性の付与、相溶
性の付与などに優れるという利点がある。
【０００４】しかしながら、このシリコーン誘導体は、
一般にヒドロシリル化反応によって製造されるが、シリ
コーンそのものが酸やアルカリに弱いため、このシリコ
ーン誘導体は中性条件下又は温和な反応条件下で製造す
ることが必要とされ、このためα，β−不飽和カルボニ
ル化合物のβ−スチリルアクリル酸をシリコーンによっ
て変性した場合、収率及び純度を満足させるシリコーン
誘導体を得ることができないという問題がある。また、
シリコーン変性して得られる誘導体の純度が十分でない
ため、精製操作或いは単離操作が困難になるという問題
がある。
一般にヒドロシリル化反応によって製造されるが、シリ
コーンそのものが酸やアルカリに弱いため、このシリコ
ーン誘導体は中性条件下又は温和な反応条件下で製造す
ることが必要とされ、このためα，β−不飽和カルボニ
ル化合物のβ−スチリルアクリル酸をシリコーンによっ
て変性した場合、収率及び純度を満足させるシリコーン
誘導体を得ることができないという問題がある。また、
シリコーン変性して得られる誘導体の純度が十分でない
ため、精製操作或いは単離操作が困難になるという問題
がある。
【０００５】なお、紫外線吸収剤を製造する場合、高収
率かつ高純度で目的生成物を与える反応方法を適用する
ことが重要である。なぜなら、目的生成物の収率が著し
く低い場合には製品のコストを高くすることにつなが
り、また、目的生成物の純度が低い場合には、紫外線吸
収能の低下、相溶性の低下、人体（皮膚）に対する刺激
の増加を引き起こすことにつながるからである。
率かつ高純度で目的生成物を与える反応方法を適用する
ことが重要である。なぜなら、目的生成物の収率が著し
く低い場合には製品のコストを高くすることにつなが
り、また、目的生成物の純度が低い場合には、紫外線吸
収能の低下、相溶性の低下、人体（皮膚）に対する刺激
の増加を引き起こすことにつながるからである。
【０００６】本発明は上記事情に鑑みなされたもので、
長波長域における紫外線吸収能を有し、紫外線吸収剤と
して好適な化合物、及びこの化合物を高収率かつ高純度
で製造し得る製造方法を提供することを目的とする。
長波長域における紫外線吸収能を有し、紫外線吸収剤と
して好適な化合物、及びこの化合物を高収率かつ高純度
で製造し得る製造方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は上記
目的を達成するため鋭意検討を行った結果、下記一般式
（４）で表される化合物と下記一般式（５）で表される
化合物とを脱酸剤の存在下で反応させる方法、即ちβ−
スチリルアクリル酸化合物とアルコール変性シリコーン
とのエステル化反応によって、下記一般式（１）で表さ
れるシロキサン化合物を得ることができ、しかも、この
反応は低温で行われるためシリコーン鎖が分解すること
がなく、このため高収率かつ高純度（９０％以上）で式
（１）のシロキサン化合物（β−スチリルアクリル酸の
シリコーン誘導体）を得ることができることを見い出し
た。また、得られたβ−スチリルアクリル酸のシリコー
ン誘導体の紫外線吸収能はλMAX［アルコール］＝３０
５ｎｍ以上であり、従来の無置換基の桂皮酸誘導体（λ
MAX［アルコール］＝２７０ｎｍ付近）よりも長波長域
での紫外線吸収能が向上し、ＵＶＢ波（２９０〜３２０
ｎｍ）のみを吸収する従来の桂皮酸系紫外線吸収剤より
も広い吸収帯（ＵＶＢ波からＵＶＡ波（３２０〜３５０
ｎｍ）まで）を持ち、また、各種油剤に対する相溶性も
炭化水素系油剤からシリコーン系油剤に至る広範囲での
相溶性を有するため、皮膚の日焼け止めや老化防止など
を目的として化粧品などに添加し、紫外線吸収剤として
好適に使用し得ることを知見し、本発明をなすに至った
ものである。
目的を達成するため鋭意検討を行った結果、下記一般式
（４）で表される化合物と下記一般式（５）で表される
化合物とを脱酸剤の存在下で反応させる方法、即ちβ−
スチリルアクリル酸化合物とアルコール変性シリコーン
とのエステル化反応によって、下記一般式（１）で表さ
れるシロキサン化合物を得ることができ、しかも、この
反応は低温で行われるためシリコーン鎖が分解すること
がなく、このため高収率かつ高純度（９０％以上）で式
（１）のシロキサン化合物（β−スチリルアクリル酸の
シリコーン誘導体）を得ることができることを見い出し
た。また、得られたβ−スチリルアクリル酸のシリコー
ン誘導体の紫外線吸収能はλMAX［アルコール］＝３０
５ｎｍ以上であり、従来の無置換基の桂皮酸誘導体（λ
MAX［アルコール］＝２７０ｎｍ付近）よりも長波長域
での紫外線吸収能が向上し、ＵＶＢ波（２９０〜３２０
ｎｍ）のみを吸収する従来の桂皮酸系紫外線吸収剤より
も広い吸収帯（ＵＶＢ波からＵＶＡ波（３２０〜３５０
ｎｍ）まで）を持ち、また、各種油剤に対する相溶性も
炭化水素系油剤からシリコーン系油剤に至る広範囲での
相溶性を有するため、皮膚の日焼け止めや老化防止など
を目的として化粧品などに添加し、紫外線吸収剤として
好適に使用し得ることを知見し、本発明をなすに至った
ものである。
【０００８】
【化５】 （式中、Ｒ１は炭素数１〜１８のアルキル基又はアリー
ル基、Ｒ２は下記式（２）、（３）で表される基及びＲ
１と同様の基から選択される基であるが、Ｒ２のうち少
なくとも一つは下記式（２）又は（３）で表される基で
ある。ｍ及びｎは０〜１００の整数である。）
ル基、Ｒ２は下記式（２）、（３）で表される基及びＲ
１と同様の基から選択される基であるが、Ｒ２のうち少
なくとも一つは下記式（２）又は（３）で表される基で
ある。ｍ及びｎは０〜１００の整数である。）
【０００９】
【化６】 （式中、Ｒ3は炭素数１〜１１のアルキレン基、Ｒ4はＣ
Ｈ3、ＣＨ3Ｏ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩから選択される基
であり、ｋは０〜５の整数である。）
Ｈ3、ＣＨ3Ｏ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩから選択される基
であり、ｋは０〜５の整数である。）
【００１０】
【化７】 （式中、Ｒ4及びｋは上記と同様の意味を示し、ＸはＣ
ｌ、Ｂｒ及びＣＦ3ＣＯから選択される基である。）
ｌ、Ｂｒ及びＣＦ3ＣＯから選択される基である。）
【００１１】
【化８】 （式中、Ｒ1、ｍ及びｎは上記と同様の意味を示し、Ｒ5
は−Ｒ3 ＯＨ、−Ｒ3 ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＨ（Ｒ3は上記と同
様の意味を示す）及びＲ1と同様の基から選択される基
であり、Ｒ5のうち少なくとも一つは−Ｒ3 ＯＨ又は−Ｒ
3 ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＨである。）
は−Ｒ3 ＯＨ、−Ｒ3 ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＨ（Ｒ3は上記と同
様の意味を示す）及びＲ1と同様の基から選択される基
であり、Ｒ5のうち少なくとも一つは−Ｒ3 ＯＨ又は−Ｒ
3 ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＨである。）
【００１２】従って、本発明は、上記一般式（１）で表
されるβ−スチリルアクリル酸のシリコーン誘導体、並
びに、上記一般式（４）で表されるβ−スチリルアクリ
ル酸化合物と下記一般式（５）で表されるアルコール変
性シリコーン化合物とを脱酸剤の存在下で反応させるこ
とを特徴とする上記一般式（１）で表されるβ−スチリ
ルアクリル酸のシリコーン誘導体の製造方法を提供す
る。
されるβ−スチリルアクリル酸のシリコーン誘導体、並
びに、上記一般式（４）で表されるβ−スチリルアクリ
ル酸化合物と下記一般式（５）で表されるアルコール変
性シリコーン化合物とを脱酸剤の存在下で反応させるこ
とを特徴とする上記一般式（１）で表されるβ−スチリ
ルアクリル酸のシリコーン誘導体の製造方法を提供す
る。
【００１３】以下、本発明を更に詳しく説明すると、本
発明のシロキサン化合物は下記一般式（１）で表される
ものである。
発明のシロキサン化合物は下記一般式（１）で表される
ものである。
【００１４】
【化９】
【００１５】ここで、Ｒ1は炭素数１〜１８、好ましく
は１〜８のアルキル基又はアリール基であり、アルキル
基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基などが挙げられ、アリール基としてはフ
ェニル基、トリル基などが挙げられる。Ｒ2は下記式
（２）、（３）で表される基及びＲ1と同様の基から選
択される基であるが、Ｒ2のうち少なくとも一つは下記
式（２）又は（３）で表される基である。
は１〜８のアルキル基又はアリール基であり、アルキル
基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基などが挙げられ、アリール基としてはフ
ェニル基、トリル基などが挙げられる。Ｒ2は下記式
（２）、（３）で表される基及びＲ1と同様の基から選
択される基であるが、Ｒ2のうち少なくとも一つは下記
式（２）又は（３）で表される基である。
【００１６】
【化１０】
【００１７】上記式（２）及び（３）においてＲ3は炭
素数１〜１１、好ましくは炭素数３〜８のアルキレン基
であり、アルキレン基としてはエチレン基、トリメチレ
ン基、プロピレン基などが挙げられる。Ｒ3は少なくと
も一つの不斉炭素を有することが好ましく、この点か
ら、Ｒ3としては特に−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2ＣＨ2
−、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ−が好ましい。
素数１〜１１、好ましくは炭素数３〜８のアルキレン基
であり、アルキレン基としてはエチレン基、トリメチレ
ン基、プロピレン基などが挙げられる。Ｒ3は少なくと
も一つの不斉炭素を有することが好ましく、この点か
ら、Ｒ3としては特に−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2ＣＨ2
−、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ−が好ましい。
【００１８】Ｒ４はＣＨ３、ＣＨ３Ｏ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ
及びＩから選択される基である。また、上記式（１）に
おいてｍ及びｎは０〜１００の整数であり、上記式
（２）及び（３）においてｋは０〜５の整数である。
及びＩから選択される基である。また、上記式（１）に
おいてｍ及びｎは０〜１００の整数であり、上記式
（２）及び（３）においてｋは０〜５の整数である。
【００１９】上記式（１）で表されるβ−スチリルアク
リル酸のシリコーン誘導体を得るための製造方法は、下
記一般式（４）で表されるβ−スチリルアクリル酸化合
物と、下記一般式（５）で表されるアルコール変性シリ
コーン化合物とを脱酸剤の存在下で反応させるものであ
る。
リル酸のシリコーン誘導体を得るための製造方法は、下
記一般式（４）で表されるβ−スチリルアクリル酸化合
物と、下記一般式（５）で表されるアルコール変性シリ
コーン化合物とを脱酸剤の存在下で反応させるものであ
る。
【００２０】
【化１１】 （式中、Ｒ4及びｋは上記と同様の意味を示し、ＸはＣ
ｌ、Ｂｒ及びＣＦ3ＣＯから選択される基である。）
ｌ、Ｂｒ及びＣＦ3ＣＯから選択される基である。）
【００２１】
【化１２】 （式中、Ｒ1、ｍ及びｎは上記と同様の意味を示し、Ｒ5
は−Ｒ3 ＯＨ、−Ｒ3 ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＨ（Ｒ3は上記と同
様の意味を示す）及びＲ1と同様の基から選択される基
であり、Ｒ5のうち少なくとも一つは−Ｒ3 ＯＨ又は−Ｒ
3 ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＨである。）
は−Ｒ3 ＯＨ、−Ｒ3 ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＨ（Ｒ3は上記と同
様の意味を示す）及びＲ1と同様の基から選択される基
であり、Ｒ5のうち少なくとも一つは−Ｒ3 ＯＨ又は−Ｒ
3 ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＨである。）
【００２２】ここで、上記式（４）で表される化合物と
しては下記のものが例示される。
しては下記のものが例示される。
【００２３】
【化１３】
【００２４】また、上記式（５）で表される化合物とし
ては下記のものが例示される。
ては下記のものが例示される。
【００２５】
【化１４】
【００２６】上記式（４）で表される化合物と上記式
（５）で表される化合物の使用割合は、モル比で１：１
〜３とすることが好ましい。
（５）で表される化合物の使用割合は、モル比で１：１
〜３とすることが好ましい。
【００２７】脱酸剤としては、ピリジン、トリエチルア
ミン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ベンジルアミン、酢酸ナトリウム及び酢酸カリウムから
選択される有機塩基を使用することができ、特にピリジ
ンを用いることが好ましい。
ミン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ベンジルアミン、酢酸ナトリウム及び酢酸カリウムから
選択される有機塩基を使用することができ、特にピリジ
ンを用いることが好ましい。
【００２８】この脱酸剤の使用量は式（４）で表される
化合物１モルに対して１〜２モルとすることが好まし
い。
化合物１モルに対して１〜２モルとすることが好まし
い。
【００２９】上記式（４）の化合物と上記式（５）の化
合物の反応は、有機溶媒中で加熱することによって行う
ことができ、この場合、有機溶媒としては脂肪族炭化水
素系溶媒及び芳香族系溶媒のいずれも使用することがで
きるが、特にトルエン、ヘキサンを用いることが好まし
い。
合物の反応は、有機溶媒中で加熱することによって行う
ことができ、この場合、有機溶媒としては脂肪族炭化水
素系溶媒及び芳香族系溶媒のいずれも使用することがで
きるが、特にトルエン、ヘキサンを用いることが好まし
い。
【００３０】この有機溶媒の使用量は全量に対して３０
〜２００重量％とすることが好ましい。また、反応は温
度６０〜１００℃、４〜８時間の条件で行うことができ
る。
〜２００重量％とすることが好ましい。また、反応は温
度６０〜１００℃、４〜８時間の条件で行うことができ
る。
【００３１】
【発明の効果】本発明によれば、広い範囲の長波長域に
おいて紫外線吸収能を有する高純度のβ−スチリルアク
リル酸のシリコーン誘導体を高収率で製造することがで
き、得られたβ−スチリルアクリル酸のシリコーン誘導
体は各種油剤との相溶性に優れるため、化粧品用の紫外
線吸収剤などとして好適に使用される。
おいて紫外線吸収能を有する高純度のβ−スチリルアク
リル酸のシリコーン誘導体を高収率で製造することがで
き、得られたβ−スチリルアクリル酸のシリコーン誘導
体は各種油剤との相溶性に優れるため、化粧品用の紫外
線吸収剤などとして好適に使用される。
【００３２】
【実施例】以下、実施例を示し、本発明を具体的に説明
するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではな
い。
するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではな
い。
【００３３】［実施例］３−メチル−３−ブテン−１−
オール１０６ｇ（１．２モル）、トルエン８６０ｇ、白
金触媒２．９ｇ（白金換算１１ｐｐｍ）の溶液を８０℃
に加熱しながら、下記式（６）で表される化合物３２８
ｇ（１．５モル）を滴下し、５時間かけて付加反応を行
った。反応後、溶液を活性炭処理し、減圧蒸留すること
により下記式（７）で表されるアルコール変性シリコー
ン２９７ｇを得た（収率７８％、沸点９０〜９４℃／２
ｍｍＨｇ）。
オール１０６ｇ（１．２モル）、トルエン８６０ｇ、白
金触媒２．９ｇ（白金換算１１ｐｐｍ）の溶液を８０℃
に加熱しながら、下記式（６）で表される化合物３２８
ｇ（１．５モル）を滴下し、５時間かけて付加反応を行
った。反応後、溶液を活性炭処理し、減圧蒸留すること
により下記式（７）で表されるアルコール変性シリコー
ン２９７ｇを得た（収率７８％、沸点９０〜９４℃／２
ｍｍＨｇ）。
【００３４】
【化１５】
【００３５】次に、β−スチリルアクリル酸２０ｇ
（０．１１モル）をトルエン８０ｇに溶解した溶液を７
０℃に加熱、撹拌しながら、塩化チオニル２０ｇ（０．
１７モル）を滴下し、１時間反応させた後、過剰の塩化
チオニルを留出し、そこに上記式（７）のアルコール変
性シリコーン３９ｇ（０．１３モル）、ピリジン１０ｇ
（０．１３モル）の溶液を滴下し、１時間熟成させた。
熟成後、ピリジン塩酸塩を瀘過により取り除き、瀘液を
減圧蒸留することによって、目的とする生成物２８．９
ｇを得た（収率５４％、沸点１９４〜２０５℃／０．５
ｍｍＨｇ）。
（０．１１モル）をトルエン８０ｇに溶解した溶液を７
０℃に加熱、撹拌しながら、塩化チオニル２０ｇ（０．
１７モル）を滴下し、１時間反応させた後、過剰の塩化
チオニルを留出し、そこに上記式（７）のアルコール変
性シリコーン３９ｇ（０．１３モル）、ピリジン１０ｇ
（０．１３モル）の溶液を滴下し、１時間熟成させた。
熟成後、ピリジン塩酸塩を瀘過により取り除き、瀘液を
減圧蒸留することによって、目的とする生成物２８．９
ｇを得た（収率５４％、沸点１９４〜２０５℃／０．５
ｍｍＨｇ）。
【００３６】この生成物の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測
定したところ、下記式（８）で表されるβ−スチリルア
クリル酸変性シリコーンであることがわかった。
定したところ、下記式（８）で表されるβ−スチリルア
クリル酸変性シリコーンであることがわかった。
【００３７】
【化１６】
【００３８】（1Ｈ−ＮＭＲスペクトル） ＣＣｌ4基準 δ＝０．１ｐｐｍ （２１Ｈ，ｓ，Ｓｉ−Ｃ
Ｈ3） δ＝０．３〜０．７ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ，Ｓｉ−ＣＨ
2） δ＝１．０ｐｐｍ （３Ｈ，ｄ，ＣＨ3） δ＝１．３〜１．９ｐｐｍ （３Ｈ，ｍ，ＣＨ2Ｃ
Ｈ） δ＝４．１ｐｐｍ （２Ｈ，ｔ，ＯＣＨ2） δ＝５．６〜６．９ｐｐｍ （４Ｈ，ｍ，ＣＨ＝Ｃ
Ｈ） δ＝６．９〜７．５０ｐｐｍ （５Ｈ，ｍ，Ｃ6Ｈ5−
Ｈ） 得られたβ−スチリルアクリル酸変性シリコーンは、λ
MAX＝３０５ｎｍ、純度９５％であった。また、このシ
ロキサン化合物は、各種油剤（スクアラン、オレイルア
ルコール、トリ（２−エチルヘキサン酸）グリセリン、
デカメチルシクロペンタシロキサン）に対して優れた相
溶性（５％溶解性）を示した。
Ｈ3） δ＝０．３〜０．７ｐｐｍ （２Ｈ，ｍ，Ｓｉ−ＣＨ
2） δ＝１．０ｐｐｍ （３Ｈ，ｄ，ＣＨ3） δ＝１．３〜１．９ｐｐｍ （３Ｈ，ｍ，ＣＨ2Ｃ
Ｈ） δ＝４．１ｐｐｍ （２Ｈ，ｔ，ＯＣＨ2） δ＝５．６〜６．９ｐｐｍ （４Ｈ，ｍ，ＣＨ＝Ｃ
Ｈ） δ＝６．９〜７．５０ｐｐｍ （５Ｈ，ｍ，Ｃ6Ｈ5−
Ｈ） 得られたβ−スチリルアクリル酸変性シリコーンは、λ
MAX＝３０５ｎｍ、純度９５％であった。また、このシ
ロキサン化合物は、各種油剤（スクアラン、オレイルア
ルコール、トリ（２−エチルヘキサン酸）グリセリン、
デカメチルシクロペンタシロキサン）に対して優れた相
溶性（５％溶解性）を示した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07F 7/08 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (2)
- 【請求項１】 下記一般式（１）で表されるβ−スチリ
ルアクリル酸のシリコーン誘導体。 【化１】 （式中、Ｒ１は炭素数１〜１８のアルキル基又はアリー
ル基、Ｒ２は下記式（２）、（３）で表される基及びＲ
１と同様の基から選択される基であるが、Ｒ２のうち少
なくとも一つは下記式（２）又は（３）で表される基で
ある。ｍ及びｎは０〜１００の整数である。） 【化２】 （式中、Ｒ３は炭素数１〜１１のアルキレン基、Ｒ４は
ＣＨ３、ＣＨ３Ｏ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩから選択され
る基であり、ｋは０〜５の整数である。） - 【請求項２】 下記一般式（４）で表されるβ−スチリ
ルアクリル酸化合物と下記一般式（５）で表されるアル
コール変性シリコーン化合物とを脱酸剤の存在下で反応
させることを特徴とする請求項１記載の一般式（１）で
表されるβ−スチリルアクリル酸のシリコーン誘導体の
製造方法。 【化３】 （式中、Ｒ4及びｋは上記と同様の意味を示し、ＸはＣ
ｌ、Ｂｒ及びＣＦ3ＣＯから選択される基である。） 【化４】 （式中、Ｒ1、ｍ及びｎは上記と同様の意味を示し、Ｒ5
は−Ｒ3 ＯＨ、−Ｒ3 ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＨ（Ｒ3は上記と同
様の意味を示す）及びＲ1と同様の基から選択される基
であり、Ｒ5のうち少なくとも一つは−Ｒ3 ＯＨ又は−Ｒ
3 ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＨである。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34004493A JP2850738B2 (ja) | 1993-12-07 | 1993-12-07 | β−スチリルアクリル酸のシリコーン誘導体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34004493A JP2850738B2 (ja) | 1993-12-07 | 1993-12-07 | β−スチリルアクリル酸のシリコーン誘導体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07157489A JPH07157489A (ja) | 1995-06-20 |
| JP2850738B2 true JP2850738B2 (ja) | 1999-01-27 |
Family
ID=18333198
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34004493A Expired - Fee Related JP2850738B2 (ja) | 1993-12-07 | 1993-12-07 | β−スチリルアクリル酸のシリコーン誘導体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2850738B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7229609B2 (en) | 2003-11-25 | 2007-06-12 | L'oreal | Diarylbutadiene-substituted methyltrialkylsilanes and photoprotective compositions comprised thereof |
| FR2862640B1 (fr) * | 2003-11-25 | 2006-01-06 | Oreal | Methyltrialkylsilanes a fonction 4,4-diarylbutadiene compositions cosmetiques ou dermatologiques photoprotectrices les contenant; utilisations |
| JP5827790B2 (ja) | 2010-04-28 | 2015-12-02 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 高級アルコール変性シリコーンを含有してなる化粧料および皮膚外用剤 |
-
1993
- 1993-12-07 JP JP34004493A patent/JP2850738B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07157489A (ja) | 1995-06-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2010162C (fr) | Utilisation en cosmetique de diorganopolysiloxanes a fonction benzotriazole et nouvelles compositions cosmetiques contenant ces composes, destinees a la protection de la peau et des cheveux | |
| CA2162330C (fr) | Nouveaux filtres solaires, compositions cosmetiques photoprotectrices les contenant et utilisations | |
| US5374759A (en) | Silicone esters of hydroxy acid | |
| EP0392882B1 (fr) | Utilisation et compositions cosmétiques contenant des diorganopolysiloxanes à fonction benzalmalonate pour la protection de la peau et des cheveux | |
| LU87271A1 (fr) | Nouveaux derives insatures liposolubles des benzalmalonates et leur utilisation en tant qu'absorbeurs du rayonnement ultra-violet en cosmetique | |
| CA2160073C (fr) | Filtres solaires, compositions cosmetiques photoprotectrices les conten ant et utilisations | |
| JP2850738B2 (ja) | β−スチリルアクリル酸のシリコーン誘導体及びその製造方法 | |
| JPH08208665A (ja) | 新規なサンスクリーン剤およびそれらを含有する化粧品組成物類とその使用方法 | |
| JP2675611B2 (ja) | ジ有機ポリシロキサンを含有する化粧品組成物 | |
| EP0716089B1 (fr) | Nouveaux filtres solaires, compositions cosmétiques photoprotectrices les contenant et utilisations | |
| ES2200946T3 (es) | Compuestos de silicona derivados de acido ascorbico. | |
| GB2185396A (en) | Cosmetic compositions designed to protect the skin against the adverse effects of ultraviolet radiation | |
| US2974089A (en) | Sun screen compositions | |
| JP2551471B2 (ja) | グリセリルエーテル誘導体及びそれを含有する皮膚外用剤 | |
| JPS5949236B2 (ja) | ２−ヒドロキシエチルホスフイン | |
| JP3155325B2 (ja) | 新規桂皮酸誘導体、その製造方法及び該化合物からなる紫外線吸収剤 | |
| JPH09221407A (ja) | ベンザルマロネート誘導体変性オルガノ（ポリ）シロキサン並びにこれを含有する紫外線吸収剤、皮膚外用剤及び毛髪化粧料 | |
| JP2895715B2 (ja) | 有機ケイ素化合物 | |
| JP2855209B2 (ja) | シリコーン系桂皮酸誘導体、その製造方法及び紫外線吸収剤 | |
| JP3170389B2 (ja) | シリコーン系ヒダントイン誘導体、紫外線吸収剤及び皮膚外用剤 | |
| JP3266312B2 (ja) | 新規カルボキシベタイン及びその製造方法 | |
| JPH01211546A (ja) | 不飽和３―ベンジリデンカンファー誘導体および化粧品組成物 | |
| JP3133506B2 (ja) | 紫外線吸収剤 | |
| JPH03204887A (ja) | シリコーン系桂皮酸誘導体の製造方法 | |
| JPH03287591A (ja) | シリコーン系桂皮酸誘導体の製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |