JP2839115B2 - Ｉｃ検査装置 - Google Patents
Ｉｃ検査装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は例えば電子ビームのよ
うな荷電粒子ビームを被試験ＩＣに照射し、被試験ＩＣ
の回路パターンの存在と、回路パターンに流れる信号を
電位変化としてとらえて画像として表示し、回路が正常
に動作しているか否かを目視により確かめることができ
るＩＣ検査装置に関する。
うな荷電粒子ビームを被試験ＩＣに照射し、被試験ＩＣ
の回路パターンの存在と、回路パターンに流れる信号を
電位変化としてとらえて画像として表示し、回路が正常
に動作しているか否かを目視により確かめることができ
るＩＣ検査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図３に従来のこの種のＩＣ検査装置の概
略の構成を示す。図１は荷電粒子光学鏡筒を示す。この
荷電粒子光学鏡筒１から荷電粒子ビーム２が射出され、
この荷電粒子ビーム２が被試験ＩＣ３に照射される。荷
電粒子ビーム２としては電子ビーム或はその他の荷電粒
子を加速電圧によって加速し、電子レンズ４及び５によ
ってビーム化したものを指す。６は荷電粒子ビーム２を
走査させる偏向コイルを示す。この偏向コイル６によっ
て荷電粒子ビーム２を被試験ＩＣ３の回路パターン上に
おいて線順次に面方向に走査させ、被試験ＩＣ３の微小
領域を走査することができるように構成される。
略の構成を示す。図１は荷電粒子光学鏡筒を示す。この
荷電粒子光学鏡筒１から荷電粒子ビーム２が射出され、
この荷電粒子ビーム２が被試験ＩＣ３に照射される。荷
電粒子ビーム２としては電子ビーム或はその他の荷電粒
子を加速電圧によって加速し、電子レンズ４及び５によ
ってビーム化したものを指す。６は荷電粒子ビーム２を
走査させる偏向コイルを示す。この偏向コイル６によっ
て荷電粒子ビーム２を被試験ＩＣ３の回路パターン上に
おいて線順次に面方向に走査させ、被試験ＩＣ３の微小
領域を走査することができるように構成される。
【０００３】７は電子レンズ４及び５のレンズ電源、８
は走査制御回路を示す。従ってここでは偏向コイル６と
走査制御回路８によって走査手段を構成している。レン
ズ電源７及び走査制御回路８はコンピュータのような制
御器９によって制御される。つまり走査制御回路８は制
御器９からの指令によって被試験ＩＣ３に照射する荷電
粒子ビーム２の線走査方向を変更したり、走査領域の拡
大、縮小等の調整を行なうことができる。
は走査制御回路を示す。従ってここでは偏向コイル６と
走査制御回路８によって走査手段を構成している。レン
ズ電源７及び走査制御回路８はコンピュータのような制
御器９によって制御される。つまり走査制御回路８は制
御器９からの指令によって被試験ＩＣ３に照射する荷電
粒子ビーム２の線走査方向を変更したり、走査領域の拡
大、縮小等の調整を行なうことができる。
【０００４】制御器９には２軸操作器１１と、モニタ１
２及び被試験ＩＣ３の位置を移動させるＸ−Ｙ駆動装置
１３とが接続される。２軸操作器１１は例えばマウス或
はジョイステックのような操作器を利用することができ
る。この２軸操作器１１から入力されるＸ軸方向及びＹ
軸方向の操作入力信号が制御器９を介してＸ−Ｙ駆動装
置１３に出力され、Ｘ−Ｙ駆動装置１３によってＸ−Ｙ
移動台１４を駆動し、被試験ＩＣ３の位置をＸ軸方向又
はＹ軸方向に移動させる。Ｘ−Ｙ駆動装置１３はモータ
駆動器１３Ａと、Ｘ軸モータ１３Ｘ、Ｙ軸モータ１３Ｙ
とによって構成することができ、２軸操作器１１から入
力される操作方向と操作量に従ってＸ軸モータ１３Ｘと
Ｙ軸モータ１３Ｙとが駆動され、被試験ＩＣ３を荷電粒
子ビーム２の位置に対して移動させ、被試験ＩＣ３の任
意の位置の回路パターンに荷電粒子ビーム２を照射でき
る構造とされる。
２及び被試験ＩＣ３の位置を移動させるＸ−Ｙ駆動装置
１３とが接続される。２軸操作器１１は例えばマウス或
はジョイステックのような操作器を利用することができ
る。この２軸操作器１１から入力されるＸ軸方向及びＹ
軸方向の操作入力信号が制御器９を介してＸ−Ｙ駆動装
置１３に出力され、Ｘ−Ｙ駆動装置１３によってＸ−Ｙ
移動台１４を駆動し、被試験ＩＣ３の位置をＸ軸方向又
はＹ軸方向に移動させる。Ｘ−Ｙ駆動装置１３はモータ
駆動器１３Ａと、Ｘ軸モータ１３Ｘ、Ｙ軸モータ１３Ｙ
とによって構成することができ、２軸操作器１１から入
力される操作方向と操作量に従ってＸ軸モータ１３Ｘと
Ｙ軸モータ１３Ｙとが駆動され、被試験ＩＣ３を荷電粒
子ビーム２の位置に対して移動させ、被試験ＩＣ３の任
意の位置の回路パターンに荷電粒子ビーム２を照射でき
る構造とされる。
【０００５】モニタ１２には被試験ＩＣ３の回路パター
ンと、この回路パターンを流れる信号が電位分布として
表示される。つまり荷電粒子光学鏡筒１の下部に２次電
子検出器１５が設けられ、荷電粒子ビーム２の照射位置
から放出される二次電子の量を測定する。荷電粒子ビー
ム２の走査に同期して制御器９は２次電子の放出量を画
像メモリに取込む。２次電子は絶縁基板からは放出量が
少なく、金属部分からは比較的多量に放出される。この
ために半導体基板と配線パターンとは画像上区別されて
表示される。
ンと、この回路パターンを流れる信号が電位分布として
表示される。つまり荷電粒子光学鏡筒１の下部に２次電
子検出器１５が設けられ、荷電粒子ビーム２の照射位置
から放出される二次電子の量を測定する。荷電粒子ビー
ム２の走査に同期して制御器９は２次電子の放出量を画
像メモリに取込む。２次電子は絶縁基板からは放出量が
少なく、金属部分からは比較的多量に放出される。この
ために半導体基板と配線パターンとは画像上区別されて
表示される。
【０００６】図４に被試験ＩＣ３の回路パターンの一部
をモニタ１２に表示した一例を示す。図中１６Ｘはそれ
ぞれ回路を構成する導電パターンを示す。各導電パター
ン１６Ｘに書込まれたハッチング部分１６Ａはパルス信
号が存在する部分である。つまりパルス信号が存在する
部分の電位は他の部分の電位より高いものとすると、そ
の高電位部分では２次電子の放出量が他の部分より大き
くなる。このためにパルスが存在する部分ではハッチン
グ部分１６Ａで示すように他の部分より像が濃く表わさ
れる。尚パルス信号は高速で位置を移動するが、例えば
パルス信号の周期に同期して画像データの取込を実行す
ることによりパルスの存在位置を静止させて表示させる
ことができる。このようにして各導電パターン上のパル
ス信号を像としてとらえて表示することにより、ＩＣ内
の不良個所を検出することができる。また動作の解析を
行なうこともできる。
をモニタ１２に表示した一例を示す。図中１６Ｘはそれ
ぞれ回路を構成する導電パターンを示す。各導電パター
ン１６Ｘに書込まれたハッチング部分１６Ａはパルス信
号が存在する部分である。つまりパルス信号が存在する
部分の電位は他の部分の電位より高いものとすると、そ
の高電位部分では２次電子の放出量が他の部分より大き
くなる。このためにパルスが存在する部分ではハッチン
グ部分１６Ａで示すように他の部分より像が濃く表わさ
れる。尚パルス信号は高速で位置を移動するが、例えば
パルス信号の周期に同期して画像データの取込を実行す
ることによりパルスの存在位置を静止させて表示させる
ことができる。このようにして各導電パターン上のパル
ス信号を像としてとらえて表示することにより、ＩＣ内
の不良個所を検出することができる。また動作の解析を
行なうこともできる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】図４に示したように、
導電パターン１６Ｘ上のパルスの位置を表示することが
できるから、ＩＣの各部の動作を目視によって確認する
ことができ便利である。従って２軸操作器１１を操作し
て被試験ＩＣ３の位置を移動させることにより被試験Ｉ
Ｃの全ての領域を目視によって検査することができる。
導電パターン１６Ｘ上のパルスの位置を表示することが
できるから、ＩＣの各部の動作を目視によって確認する
ことができ便利である。従って２軸操作器１１を操作し
て被試験ＩＣ３の位置を移動させることにより被試験Ｉ
Ｃの全ての領域を目視によって検査することができる。
【０００８】ところでＩＣ内の導電パターン１６ＸがＸ
−Ｙ移動台のＸ軸と平行な姿勢でＸ−Ｙ移動台１４上に
乗せられていたとすると、２軸操作器１１を操作してＸ
−Ｙ移動台１４を導電パターン１６Ｘの延長方向（Ｘ軸
方向）に移動させることにより、現在モニタ１２に写し
出されている導電パターン１６Ｘの部分の両側に延長さ
れる部分を検査することができる。
−Ｙ移動台のＸ軸と平行な姿勢でＸ−Ｙ移動台１４上に
乗せられていたとすると、２軸操作器１１を操作してＸ
−Ｙ移動台１４を導電パターン１６Ｘの延長方向（Ｘ軸
方向）に移動させることにより、現在モニタ１２に写し
出されている導電パターン１６Ｘの部分の両側に延長さ
れる部分を検査することができる。
【０００９】ところでＩＣの内部の導電パターンは図５
に示すように半導体チップ内でＹ軸方向に延長される部
分１６Ｙもある。このＹ軸方向に延長された部分１６Ｙ
のパルス信号の位置を調べる場合、モニタ１２には導電
パターン１６Ｙを水平な姿勢で表示した方が見易い。こ
のためモニタ１２にＹ軸方向に延長された導電パターン
１６Ｙを水平方向に延長された導電パターンとして表示
するには、荷電粒子ビーム２の線走査方向をＹ軸と平行
する方向に転換すればよい。
に示すように半導体チップ内でＹ軸方向に延長される部
分１６Ｙもある。このＹ軸方向に延長された部分１６Ｙ
のパルス信号の位置を調べる場合、モニタ１２には導電
パターン１６Ｙを水平な姿勢で表示した方が見易い。こ
のためモニタ１２にＹ軸方向に延長された導電パターン
１６Ｙを水平方向に延長された導電パターンとして表示
するには、荷電粒子ビーム２の線走査方向をＹ軸と平行
する方向に転換すればよい。
【００１０】このように荷電粒子ビーム２の線走査方向
を９０°転換すればモニタ１２にはＸ−Ｙ移動台１４上
においてＹ軸と平行する姿勢にある導電パターン１６Ｙ
がモニタ１２には図６に示すように水平な姿勢に写し出
される。このように荷電粒子ビーム２の線走査方向を９
０°転換することによりＹ軸方向に延長される導電パタ
ーン１６Ｙを、モニタ１２上では水平な姿勢で写し出す
ことができる。この反面、２軸操作器１１から入力して
操作するＸ−Ｙ移動台１４の移動方向と、モニタ１２上
の像の移動方向とが一致しなくなる不都合が生じる。
を９０°転換すればモニタ１２にはＸ−Ｙ移動台１４上
においてＹ軸と平行する姿勢にある導電パターン１６Ｙ
がモニタ１２には図６に示すように水平な姿勢に写し出
される。このように荷電粒子ビーム２の線走査方向を９
０°転換することによりＹ軸方向に延長される導電パタ
ーン１６Ｙを、モニタ１２上では水平な姿勢で写し出す
ことができる。この反面、２軸操作器１１から入力して
操作するＸ−Ｙ移動台１４の移動方向と、モニタ１２上
の像の移動方向とが一致しなくなる不都合が生じる。
【００１１】つまり図６に示す状態において、モニタ１
２に写し出された導電パターン１６Ｙの延長先を見たい
ために、像を矢印Ｑ方向に移動させようとした場合、２
軸操作器１１からは、本来Ｘ−Ｙ移動台１４を−Ｙ方向
に移動させる入力を行なわなくてはならない。モニタ１
２を見ている感覚からすると−Ｘ方向に入力すればよい
と判断できるが、実際はＸ軸とＹ軸が逆転しているため
モニタ１２上の像を矢印Ｑ方向に移動させるためにはＸ
−Ｙ移動台１４を−Ｙ方向に移動させなくてはならな
い。このことは例えば４５°に傾むいた導電パターンを
モニタ１２上において水平な姿勢に写し出したとき更に
複雑となり、被試験ＩＣ３上の目的とする導電パターン
の部分をモニタ１２に写し出すための操作が極めて面倒
なものとなる欠点がある。
２に写し出された導電パターン１６Ｙの延長先を見たい
ために、像を矢印Ｑ方向に移動させようとした場合、２
軸操作器１１からは、本来Ｘ−Ｙ移動台１４を−Ｙ方向
に移動させる入力を行なわなくてはならない。モニタ１
２を見ている感覚からすると−Ｘ方向に入力すればよい
と判断できるが、実際はＸ軸とＹ軸が逆転しているため
モニタ１２上の像を矢印Ｑ方向に移動させるためにはＸ
−Ｙ移動台１４を−Ｙ方向に移動させなくてはならな
い。このことは例えば４５°に傾むいた導電パターンを
モニタ１２上において水平な姿勢に写し出したとき更に
複雑となり、被試験ＩＣ３上の目的とする導電パターン
の部分をモニタ１２に写し出すための操作が極めて面倒
なものとなる欠点がある。
【００１２】この発明の目的は２軸操作器から入力する
Ｘ−Ｙ移動台に対する入力方向とモニタ上に写し出され
た像の移動方向とを同一方向に合致させることができ、
従って目的とする導電パターンの部分を容易にモニタ上
に写し出すことができるこの種のＩＣ検査装置を提供し
ようとするものである。
Ｘ−Ｙ移動台に対する入力方向とモニタ上に写し出され
た像の移動方向とを同一方向に合致させることができ、
従って目的とする導電パターンの部分を容易にモニタ上
に写し出すことができるこの種のＩＣ検査装置を提供し
ようとするものである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】この発明では被試験ＩＣ
を搭載し、被試験ＩＣをＸ−Ｙ方向に移動させるＸ−Ｙ
移動台と、このＸ−Ｙ移動台にＸ−Ｙ方向に移動させる
操作信号を与える２軸操作器と、Ｘ−Ｙ移動台に搭載さ
れた被試験ＩＣに荷電粒子ビームを照射する荷電粒子ビ
ーム発生手段と、この荷電粒子ビーム発生手段によって
上記被試験ＩＣに照射された荷電粒子ビームを、線走査
と面走査させて被試験ＩＣ上の所望の回路領域に荷電粒
子ビームを照射させると共に走査される荷電粒子ビーム
の線走査方向を検査すべき導電パターンの向に対応させ
て変更し、設定する走査制御回路と、荷電粒子ビームの
照射により被試験ＩＣから放出される２次電子をとら
え、被試験ＩＣの導電パターンの存在と、この導電パタ
ーンを伝播する信号の存在を表わす線順次信号を発生す
る２次電子検出器と、この２次電子検出器から出力され
た線順次信号が与えられ、荷電粒子ビームの線走査方向
と平行する導電パターンを水平な姿勢で表示するモニタ
と、線走査方向設定手段で設定した線走査方向と、Ｘ−
Ｙ移動台の基準軸との角度ずれ量を記憶保持する回転角
度保持部と、２軸操作器から入力されるＸ軸方向及びＹ
軸方向の操作入力に対し、回転角度保持部に記憶保持し
た角度ずれ量に対応した量の角度補正を施し、２軸操作
器のＸ軸方向の入力を荷電粒子ビームの線走査方向に合
致させ、Ｙ軸方向の入力を線走査方向と直交する方向に
合致させる信号に変換してＸ−Ｙ駆動装置に与える角度
演算装置と、によってＩＣ検査装置を構成したものであ
る。
を搭載し、被試験ＩＣをＸ−Ｙ方向に移動させるＸ−Ｙ
移動台と、このＸ−Ｙ移動台にＸ−Ｙ方向に移動させる
操作信号を与える２軸操作器と、Ｘ−Ｙ移動台に搭載さ
れた被試験ＩＣに荷電粒子ビームを照射する荷電粒子ビ
ーム発生手段と、この荷電粒子ビーム発生手段によって
上記被試験ＩＣに照射された荷電粒子ビームを、線走査
と面走査させて被試験ＩＣ上の所望の回路領域に荷電粒
子ビームを照射させると共に走査される荷電粒子ビーム
の線走査方向を検査すべき導電パターンの向に対応させ
て変更し、設定する走査制御回路と、荷電粒子ビームの
照射により被試験ＩＣから放出される２次電子をとら
え、被試験ＩＣの導電パターンの存在と、この導電パタ
ーンを伝播する信号の存在を表わす線順次信号を発生す
る２次電子検出器と、この２次電子検出器から出力され
た線順次信号が与えられ、荷電粒子ビームの線走査方向
と平行する導電パターンを水平な姿勢で表示するモニタ
と、線走査方向設定手段で設定した線走査方向と、Ｘ−
Ｙ移動台の基準軸との角度ずれ量を記憶保持する回転角
度保持部と、２軸操作器から入力されるＸ軸方向及びＹ
軸方向の操作入力に対し、回転角度保持部に記憶保持し
た角度ずれ量に対応した量の角度補正を施し、２軸操作
器のＸ軸方向の入力を荷電粒子ビームの線走査方向に合
致させ、Ｙ軸方向の入力を線走査方向と直交する方向に
合致させる信号に変換してＸ−Ｙ駆動装置に与える角度
演算装置と、によってＩＣ検査装置を構成したものであ
る。
【００１４】この発明によれば回転角度保持部に荷電粒
子ビームの線走査方向とＸ−Ｙ移動台の基準軸との角度
ずれ量が記憶保持される。この角度ずれ量により２軸操
作器から入力されるＸ軸方向及びＹ軸方向の操作入力を
角度補正することにより、２軸操作器から入力されるＸ
軸方向の操作入力を荷電粒子ビームの線走査方向と合致
させ、Ｙ軸方向の操作入力を走査方向と直交する向の入
力信号に変換してＸ−Ｙ駆動装置に与えることができ
る。
子ビームの線走査方向とＸ−Ｙ移動台の基準軸との角度
ずれ量が記憶保持される。この角度ずれ量により２軸操
作器から入力されるＸ軸方向及びＹ軸方向の操作入力を
角度補正することにより、２軸操作器から入力されるＸ
軸方向の操作入力を荷電粒子ビームの線走査方向と合致
させ、Ｙ軸方向の操作入力を走査方向と直交する向の入
力信号に変換してＸ−Ｙ駆動装置に与えることができ
る。
【００１５】従ってこの発明によるＩＣ試験装置によれ
ばモニタに映出された画像のＸ−Ｙ軸と、２軸操作器か
ら入力するＸ−Ｙ軸とを合致させることができる。よっ
てモニタに映出された被試験ＩＣの導電パターンをモニ
タ画面上において任意の方向に移動させる操作を容易に
行なうことができる利点が得られる。
ばモニタに映出された画像のＸ−Ｙ軸と、２軸操作器か
ら入力するＸ−Ｙ軸とを合致させることができる。よっ
てモニタに映出された被試験ＩＣの導電パターンをモニ
タ画面上において任意の方向に移動させる操作を容易に
行なうことができる利点が得られる。
【００１６】
【実施例】図１にこの発明の一実施例を示す。図１にお
いて、図３と対応する部分には同一符号を付して示す。
この発明においてはＸ−Ｙ駆動装置１３と制御器９との
間に、角度補正装置１７を設ける。角度補正装置１７は
回転角度保持部１７Ａと、操作角度保持部１７Ｂと、角
度演算部１７Ｃとによって構成される。回転角度保持部
１７Ａ及び操作角度保持部１７Ｂはそれぞれメモリによ
って構成することができ、制御器９から送られて来る回
転角度θと操作角度δとを記憶し、保持する。
いて、図３と対応する部分には同一符号を付して示す。
この発明においてはＸ−Ｙ駆動装置１３と制御器９との
間に、角度補正装置１７を設ける。角度補正装置１７は
回転角度保持部１７Ａと、操作角度保持部１７Ｂと、角
度演算部１７Ｃとによって構成される。回転角度保持部
１７Ａ及び操作角度保持部１７Ｂはそれぞれメモリによ
って構成することができ、制御器９から送られて来る回
転角度θと操作角度δとを記憶し、保持する。
【００１７】回転角度θは図２に示すようにＸ−Ｙ移動
台１４上の基準軸（例えばＸ軸）と荷電粒子ビーム２の
線走査方向の角度に対応する。荷電粒子ビーム２の線走
査方向の変更は走査制御回路８において行なうことがで
き、その変更による線走査方向の角度ずれ量θは制御器
９に読込まれる。よってＸ−Ｙ移動台１４の基準軸（Ｘ
軸）と線走査方向の角度ずれ量θは制御器９で把握さ
れ、回転角度保持部１７Ａに転送される。
台１４上の基準軸（例えばＸ軸）と荷電粒子ビーム２の
線走査方向の角度に対応する。荷電粒子ビーム２の線走
査方向の変更は走査制御回路８において行なうことがで
き、その変更による線走査方向の角度ずれ量θは制御器
９に読込まれる。よってＸ−Ｙ移動台１４の基準軸（Ｘ
軸）と線走査方向の角度ずれ量θは制御器９で把握さ
れ、回転角度保持部１７Ａに転送される。
【００１８】操作角度保持部１７Ｂには２軸操作器１１
から入力されたＸ−Ｙ移動台１４への移動方向を規定す
る操作角度δと、移動量とが保持される。尚、Ｘ−Ｙ移
動台１４の移動量は２軸操作器１１がマウスの場合は、
マウスの移動量として与えられ、ジョイステイックの場
合はステイックの傾動量で与えられる。角度演算部１７
Ｃは回転角度保持部１７Ａと操作角度保持部１７Ｂに保
持された回転角度θと、操作角度δを取込んで、操作角
度δを回転角度θによって補正し、その補正した結果を
Ｘ−Ｙ駆動装置１３に出力する。角度補正は操作角度δ
に回転角度θを加えることによって行なうことができ
る。つまり補正後の角度βはβ＝δ＋θによって求めら
れる。
から入力されたＸ−Ｙ移動台１４への移動方向を規定す
る操作角度δと、移動量とが保持される。尚、Ｘ−Ｙ移
動台１４の移動量は２軸操作器１１がマウスの場合は、
マウスの移動量として与えられ、ジョイステイックの場
合はステイックの傾動量で与えられる。角度演算部１７
Ｃは回転角度保持部１７Ａと操作角度保持部１７Ｂに保
持された回転角度θと、操作角度δを取込んで、操作角
度δを回転角度θによって補正し、その補正した結果を
Ｘ−Ｙ駆動装置１３に出力する。角度補正は操作角度δ
に回転角度θを加えることによって行なうことができ
る。つまり補正後の角度βはβ＝δ＋θによって求めら
れる。
【００１９】角度補正されたβをＸ−Ｙ駆動装置１３に
与えることにより、２軸操作器１１から入力した操作角
δは荷電粒子ビーム２の線走査方向の回転角度θだけ補
正される。この結果２軸操作器１１のＸ軸方向の入力が
荷電粒子ビーム２の線走査方向に合致され、Ｙ軸方向の
入力が荷電粒子ビーム２の線走査方向と直交する向に合
致する。
与えることにより、２軸操作器１１から入力した操作角
δは荷電粒子ビーム２の線走査方向の回転角度θだけ補
正される。この結果２軸操作器１１のＸ軸方向の入力が
荷電粒子ビーム２の線走査方向に合致され、Ｙ軸方向の
入力が荷電粒子ビーム２の線走査方向と直交する向に合
致する。
【００２０】この様子を図２を用いて説明する。図２の
例ではＸ−Ｙ移動台１４上に、被試験ＩＣ３がＸ−Ｙ移
動台１４の基準軸（Ｘ軸）から角度θだけ傾むいた姿勢
で搭載した場合を示す。この被試験ＩＣ３に形成された
導電パターン１６Ｘをモニタ１２に水平な姿勢で表示す
るには、荷電粒子ビーム２の線走査方向をＸ−Ｙ移動台
１４の基準軸（Ｘ軸）からθだけ傾むいた方向に合致さ
せる必要がある。
例ではＸ−Ｙ移動台１４上に、被試験ＩＣ３がＸ−Ｙ移
動台１４の基準軸（Ｘ軸）から角度θだけ傾むいた姿勢
で搭載した場合を示す。この被試験ＩＣ３に形成された
導電パターン１６Ｘをモニタ１２に水平な姿勢で表示す
るには、荷電粒子ビーム２の線走査方向をＸ−Ｙ移動台
１４の基準軸（Ｘ軸）からθだけ傾むいた方向に合致さ
せる必要がある。
【００２１】このため、走査制御回路８の線走査方向調
整部を調整し、荷電粒子ビーム２の線走査方向をＸ−Ｙ
移動台１４の基準線（Ｘ軸）からθだけ回転させた向に
設定する。この角度の回転量θは制御器９に読込まれ、
回転角度保持部１７Ａに転送され、回転角度保持部１７
Ａに記憶保持される。この状態でモニタ１２には被試験
ＩＣ３の導電パターン１６Ｘはモニタ１２の画面にその
長手方向の極く一部が水平な姿勢で表示される。
整部を調整し、荷電粒子ビーム２の線走査方向をＸ−Ｙ
移動台１４の基準線（Ｘ軸）からθだけ回転させた向に
設定する。この角度の回転量θは制御器９に読込まれ、
回転角度保持部１７Ａに転送され、回転角度保持部１７
Ａに記憶保持される。この状態でモニタ１２には被試験
ＩＣ３の導電パターン１６Ｘはモニタ１２の画面にその
長手方向の極く一部が水平な姿勢で表示される。
【００２２】モニタ１２の画面に水平な姿勢で表示され
ている導電パターン１６Ｘの他の部分を検査するため
に、導電パターン１６Ｘの他の部分を画面に表示させる
には、２軸操作器１１から＋Ｘ方向又は−Ｘ方向の操作
信号を与えればよい。例えば２軸操作器１１から＋Ｘ方
向の操作信号δを与えたとすると、この操作信号δは角
度演算部１７Ｃで回転角度保持部１７Ａに保持された回
転角度θが加算されβ＝δ＋θが演算される。従ってＸ
−Ｙ駆動装置１３には操作入力δに対して回転角度θが
加算された駆動信号β＝δ＋θが与えられる。この結果
Ｘ−Ｙ移動台１４は荷電粒子ビーム２の線走査方向（θ
方向）に移動し、導電パターン１６Ｘの他の部分を画面
に表示する。また２軸操作器１１から−Ｘ方向の操作信
号を入力すると、移動台１４は線操作方向（θ方向）に
逆向に移動する。
ている導電パターン１６Ｘの他の部分を検査するため
に、導電パターン１６Ｘの他の部分を画面に表示させる
には、２軸操作器１１から＋Ｘ方向又は−Ｘ方向の操作
信号を与えればよい。例えば２軸操作器１１から＋Ｘ方
向の操作信号δを与えたとすると、この操作信号δは角
度演算部１７Ｃで回転角度保持部１７Ａに保持された回
転角度θが加算されβ＝δ＋θが演算される。従ってＸ
−Ｙ駆動装置１３には操作入力δに対して回転角度θが
加算された駆動信号β＝δ＋θが与えられる。この結果
Ｘ−Ｙ移動台１４は荷電粒子ビーム２の線走査方向（θ
方向）に移動し、導電パターン１６Ｘの他の部分を画面
に表示する。また２軸操作器１１から−Ｘ方向の操作信
号を入力すると、移動台１４は線操作方向（θ方向）に
逆向に移動する。
【００２３】更に２軸操作器１１からＹ軸方向の操作信
号を入力すると、この操作信号に回転角度θが加えられ
てＸ−Ｙ駆動装置１３に与えられる。よってこの場合、
Ｘ−Ｙ移動台１４は線走査方向θと直交する向に正及び
負方向に移動する。結局２軸操作器１１の操作方向と、
モニタ１２に表示されている像の移動方向を合致させる
ことができる。この結果被試験ＩＣ３がＸ−Ｙ移動台１
４に対して傾むいて搭載されていても、被試験ＩＣの所
望の回路部分を探し出してモニタ１２に写し出す操作を
容易に行なうことができる。
号を入力すると、この操作信号に回転角度θが加えられ
てＸ−Ｙ駆動装置１３に与えられる。よってこの場合、
Ｘ−Ｙ移動台１４は線走査方向θと直交する向に正及び
負方向に移動する。結局２軸操作器１１の操作方向と、
モニタ１２に表示されている像の移動方向を合致させる
ことができる。この結果被試験ＩＣ３がＸ−Ｙ移動台１
４に対して傾むいて搭載されていても、被試験ＩＣの所
望の回路部分を探し出してモニタ１２に写し出す操作を
容易に行なうことができる。
【００２４】尚、２軸操作器１１から入力される操作入
力に対し、制御器９には角度判別手段が設けられる。つ
まりマウスからの入力に対し、Ｘ軸方向の入力、又はＹ
軸方向の入力が或は角度の範囲内でずれがあっても、こ
れをＸ軸方向又はＹ軸方向の入力として判定する手段を
設ける。このようにＸ軸方向の入力、及びＹ軸方向の入
力に対し、或は角度範囲でずれがあっても、これをＸ軸
方向の入力及びＹ軸方向の入力として判定することによ
り、入力操作を正確にＸ軸方向及びＹ軸方向に合致させ
て操作しなくて済むから入力操作を簡素化することがの
できる利点が得られる。
力に対し、制御器９には角度判別手段が設けられる。つ
まりマウスからの入力に対し、Ｘ軸方向の入力、又はＹ
軸方向の入力が或は角度の範囲内でずれがあっても、こ
れをＸ軸方向又はＹ軸方向の入力として判定する手段を
設ける。このようにＸ軸方向の入力、及びＹ軸方向の入
力に対し、或は角度範囲でずれがあっても、これをＸ軸
方向の入力及びＹ軸方向の入力として判定することによ
り、入力操作を正確にＸ軸方向及びＹ軸方向に合致させ
て操作しなくて済むから入力操作を簡素化することがの
できる利点が得られる。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれば
Ｘ−Ｙ移動台１４に被試験ＩＣ３を搭載し、Ｘ−Ｙ移動
台１４によって被試験ＩＣ３を移動させ、その移動によ
ってモニタ画面に映出させる被試験ＩＣ３の回路パター
ンの位置を選択し、各回路部分の動作を検査するＩＣ試
験装置において、モニタに映出される被試験ＩＣ３の像
の向が、Ｘ−Ｙ移動台１４上の基準軸（Ｘ軸）から角度
変換されている場合でも、Ｘ−Ｙ移動台１４を移動させ
る操作信号を入力する２軸操作器の操作方向と、像の移
動方向とを合致させることができる。
Ｘ−Ｙ移動台１４に被試験ＩＣ３を搭載し、Ｘ−Ｙ移動
台１４によって被試験ＩＣ３を移動させ、その移動によ
ってモニタ画面に映出させる被試験ＩＣ３の回路パター
ンの位置を選択し、各回路部分の動作を検査するＩＣ試
験装置において、モニタに映出される被試験ＩＣ３の像
の向が、Ｘ−Ｙ移動台１４上の基準軸（Ｘ軸）から角度
変換されている場合でも、Ｘ−Ｙ移動台１４を移動させ
る操作信号を入力する２軸操作器の操作方向と、像の移
動方向とを合致させることができる。
【００２６】よって被試験ＩＣ３の目的とする回路部分
を探したり、或は曲りくねった導電パターンをモニタ画
面上に順次水平な姿勢となるように写し出して、各導電
パターンを伝播する信号の様子を検査する場合でも、Ｘ
−Ｙ移動台１４の移動方向を常に２軸操作器１１の操作
方向と合致しているから、容易に目的とする像を得る状
態に設定することができる。
を探したり、或は曲りくねった導電パターンをモニタ画
面上に順次水平な姿勢となるように写し出して、各導電
パターンを伝播する信号の様子を検査する場合でも、Ｘ
−Ｙ移動台１４の移動方向を常に２軸操作器１１の操作
方向と合致しているから、容易に目的とする像を得る状
態に設定することができる。
【００２７】よって操作性のよいこの種のＩＣ試験装置
を提供することができ、その効果は実用に供して頗る大
である。
を提供することができ、その効果は実用に供して頗る大
である。
【図１】この発明の一実施例を示すブロック図。
【図２】この発明の動作を説明するための平面図。
【図３】従来の技術を説明するためのブロック図。
【図４】従来の技術の動作を説明するための平面図。
【図５】図４と同様の平面図。
【図６】図４と同様の平面図。
１ 荷電粒子光学鏡筒 ２ 荷電粒子ビーム ３ 被試験ＩＣ ４，５ 電子レンズ ６ 偏向コイル ７ レンズ電源 ８ 走査制御回路 ９ 制御器 １１ ２軸操作器 １２ モニタ １３ Ｘ−Ｙ駆動装置 １４ Ｘ−Ｙ移動台 １５ ２次電子検出器 １６ 導電パターン １７ 角度補正装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−121929（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−133039（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−77334（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−173450（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−181630（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−122042（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 21/66
Claims (1)
- 【請求項１】 被試験ＩＣをＸ−Ｙ方向に移動させるＸ
−Ｙ移動台と、このＸ−Ｙ移動台を移動させるＸ−Ｙ駆
動装置と、このＸ−Ｙ駆動装置に、Ｘ−Ｙ方向に移動さ
せる操作信号を与える２軸操作器と、上記Ｘ−Ｙ移動台
に搭載された被試験ＩＣに荷電粒子ビームを照射する荷
電粒子光学鏡筒と、この荷電粒子光学鏡筒によって上記
被試験ＩＣに照射された荷電粒子ビームを線走査と面走
査させて被試験ＩＣ上の所望の回路領域に荷電粒子ビー
ムを照射させると共に、走査される荷電粒子ビームの線
走査方向を被試験ＩＣの検査すべき導電パターンの向に
対応させて変更し、設定する走査制御回路と、荷電粒子
ビームの照射により被試験ＩＣから放出される２次電子
をとらえ、被試験ＩＣの導電パターンの存在と、この導
電パターンを伝播する信号の存在を表わす線順次信号を
発生する２次電子検出器と、この２次電子検出器から出
力される線順次信号が与えられ、荷電粒子ビームの線走
査方向と平行する導電パターンを水平な姿勢で表示する
モニタと、線走査方向設定手段で設定した線走査方向と
Ｘ−Ｙ移動台の基準軸との角度ずれ量を記憶保持する回
転角度保持部と、上記２軸操作器から入力されるＸ軸方
向及びＹ軸方向の操作入力に対し、上記回転角度保持部
に記憶保持された角度ずれ量に対応した量の角度補正を
施し、２軸操作器のＸ軸方向の入力を上記荷電粒子ビー
ムの線走査方向に合致させ、Ｙ軸方向の入力を線走査方
向と直交する方向に合致させる信号に変換して上記Ｘ−
Ｙ駆動装置に与える角度演算装置と、によって構成した
ＩＣ検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7794291A JP2839115B2 (ja) | 1991-04-10 | 1991-04-10 | Ｉｃ検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7794291A JP2839115B2 (ja) | 1991-04-10 | 1991-04-10 | Ｉｃ検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04313249A JPH04313249A (ja) | 1992-11-05 |
| JP2839115B2 true JP2839115B2 (ja) | 1998-12-16 |
Family
ID=13648109
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7794291A Expired - Lifetime JP2839115B2 (ja) | 1991-04-10 | 1991-04-10 | Ｉｃ検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2839115B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022054014A (ja) * | 2020-09-25 | 2022-04-06 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 金属パターンの検査方法および集束イオンビーム装置 |
-
1991
- 1991-04-10 JP JP7794291A patent/JP2839115B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04313249A (ja) | 1992-11-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19980908 |