JP2836040B2 - 物体を洗浄するための静止型メガソニック洗浄装置 - Google Patents

物体を洗浄するための静止型メガソニック洗浄装置

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JP2836040B2
JP2836040B2 JP7504682A JP50468294A JP2836040B2 JP 2836040 B2 JP2836040 B2 JP 2836040B2 JP 7504682 A JP7504682 A JP 7504682A JP 50468294 A JP50468294 A JP 50468294A JP 2836040 B2 JP2836040 B2 JP 2836040B2
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    • Y10S134/902—Semiconductor wafer

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、高度の清浄度を要する物体を浄化するため
装置に関し、特に、半導体ウエハ（以下、単に「ウエ
ハ」とも称する）等を洗浄するために洗浄液に高周波エ
ネルギーをかける静止型メガソニック（高周波音波又は
超音波による）洗浄装置に関する。
技術背景 半導体ウエハ等を洗浄するためのメガソニック洗浄装
置は、高周波音波発生トランスジューサからのメガソニ
ックエネルギーを用いてある種の洗浄薬剤液（以下、
「洗浄溶液」又は単に「洗浄液」とも称する）中へ振動
エネルギービーム（以下、「振動ビーム」、「エネルギ
ービーム」、又は単に「ビーム」とも称する）を伝播さ
せる。メガソニックトランスジューサ（高周波音波発生
トランスジューサ）は、ウエハのすべての処理工程中、
集束された（焦点合わせされた）ビームを発生してウエ
ハの表面に高剪断力を創生し、半導体ウエハの表面から
異物粒子を除去するのを助成する。このエネルギーのビ
ームは、又、有機表面膜、イオン不純物及びその他の多
くの汚染物をも除去する。
半導体ウエハのための従来の洗浄装置としては、洗浄
液を入れた洗浄容器の底部にメガソニックトランスジュ
ーサを設置するタイプのものがある。このタイプの洗浄
装置では、洗浄容器内に複数の基板ウエハ（回路基板を
構成するウエハ）を互いに平行に間隔を置いてセットホ
ルダーに載せて保持する。メガソニックトランスジュー
サのビームはウエハに作用するにはカセットホルダーを
透過しなければならないので、伝送されたエネルギーが
ホルダーによって散逸される。従って、ウエハの表面に
伝送されるエネルギーの量がカセットホルダーによって
減少される。しかも、このトランスジューサビームは、
ウエハの全表面をカバーせず、ある区域ではウエハ同志
を部分的にオーバーラップした状態でビームを投射する
ので、異物粒子が完全には除去されない。
この種の従来の洗浄装置に類似した装置として、各ウ
エハの表面のメガソニックエネルギーへの露出を増大す
るためにカセットホルダーを洗浄容器内で移動させるよ
うにした装置がある。その場合、ホルダーを洗浄容器内
で移動させるための移動装置と共に、ホルダーの移動速
度及び継続時間を制御するための制御器も必要とされ
る。移動装置も、制御器も、洗浄装置のコストを相当に
増大させることはいうまでもない。更に、洗浄容器は、
ホルダーの移動を受け入れるのに十分な大きさとしなけ
ればならないので、容器のコストが嵩むばかりでなく、
より重要なことは、容器内に入れなければならない洗浄
液の量が増えることである。
更に別の従来技術のメガソニック洗浄装置として、単
一の基板ウエハ（以下、単に「ウエハ」又は「基板」と
も称する）を処理するために特別に設計されたモジュー
ルを用いるタイプのものがある。このモジュールは、基
板ウエハを洗浄溶液に浸漬した状態に維持するために基
板の寸法に合わせたサイズの基板収容チャンバーを有す
る。高周波音波発生トランスジューサが、洗浄液を超音
波周波数で振動させるために基板収容チャンバーの外部
に設置されている。基板収容チャンバーは、使用される
洗浄液に対して不活性のFEPテフロンのような素材で形
成されたメンブレンを備えている。単一のウエハがその
周縁を支持部材によってチャンバー内に支持され、支持
部材とウエハとの表面接触を最小限にし、ウエハの表面
を洗浄液及び音波に露出させるようにする。
しかしながら、このタイプのメガソニック洗浄装置の
第１の欠点は、１回に１つだけの基板ウエハを処理する
ためにモジュールを特別に設計しなければならないこと
である。複数個の基板ウエハを同時に処理するには、複
数の個別モジュールを単一の処理装置内に組み込まなけ
ればならないが、そうすると、装置が複雑になり、コス
ト高となるばかりでなく、処理工程の数も消費時間も増
大する。第２の欠点は、トランスジューサが上記支持部
材を透過させてエネルギービームを伝送しなければなら
ないことである。その結果、伝送されたエネルギーが散
逸され、従って、エネルギービームの洗浄効率を低下さ
せる。
本発明は、複数個の基板ウエハを同時に処理すること
ができるメガソニック洗浄装置を提供することによって
上述した従来の各洗浄装置に随伴する欠点の多くを克服
する。本発明のメガソニック洗浄装置は、カセットを用
いることなく、複数個の基板ウエハと１種類又は複数種
類の標準洗浄溶液を収容するための内部キャビティを画
定する容器を用いる。それらのウエハは、表面接触を最
小限にし、ウエハのすべての表面を洗浄液及び音波にす
る露出させるような態様に取付部材によって容器内に支
持する。幾つかのメガソニック（高周波）音波発生トラ
ンスジューサを容器の外部の周りに設置する。これらの
トランスジューサは、トランスジューサビームが取付部
材を透過して伝送されることがないように容器の両側に
互い違いに配置し、それによって、トランスジューサか
らのエネルギーが間に介入する構造物により散逸される
ことなく、複数のトランスジューサからの伝送ビームが
集合して各ウエハの全表面を包む（カバーする）ように
する。
発明の概要 本発明は、外表面及び主平面を有する複数個の物体を
洗浄するための静止型メガソニック洗浄装置に関する。
（被洗浄物体が例えば円板状であるとすれば、円板の円
の全面を画定する表面を「大表面」と称し、円周側面を
「小表面」と称することができる。ここでいう物体の
「主平面」とは、「大表面」によって画定される表面の
ことである。） 基本的には、本発明のメガソニック洗浄装置は、前記
複数個の物体を受容し、洗浄流体を受容するための内表
面によって画定された内部キャビティを有するカセット
無し容器と、該容器の内表面の外側で該容器に取り付け
られた、各々メガソニックエネルギーの集束ビーム（焦
点合わせされた集中ビーム）を前記キャビティ内へ発出
する複数のメガソニック音波発生トランスジューサの配
列体とで構成し、複数のトランスジューサは、それらか
ら発生されたビームが、前記物体の主平面にほぼ平行に
延長し、集合して各物体の全外表面を包むように配列す
る。
本発明のメガソニック洗浄装置は、又、複数個の物体
と複数種類の異なる流体を受容するための内表面によっ
て画定された内部キャビティを有するカセット無し容器
と、該容器の内表面の外側で該容器に取り付けられた、
各々メガソニックエネルギーの集束ビームを前記キャビ
ティ内へ発出する複数のメガソニック音波発生トランス
ジューサの配列体とで構成することができ、該複数のト
ランスジューサは、それらから発出されたビームが、前
記物体の主平面にほぼ平行に延長し、集合して各物体の
全外表面を包むように配列する。
あるいは又、本発明のメガソニック洗浄装置は、複数
個の物体を受容し、流体を受容するための内表面によっ
て画定された内部キャビティを有し、該物体に係合して
それらの物体をキャビティ内に支持するために該内表面
から内方へ突出した少くとも２つの互いに離隔した取付
部材を有するカセット無し容器と、該容器の内表面の外
側で該容器に取り付けられた、各々メガソニックエネル
ギーの集束ビームを前記キャビティ内へ前記物体の主平
面にほぼ平行に発出する複数のメガソニック音波発生ト
ランスジューサの配列体とで構成することができ、各ト
ランスジューサは、それから発出されたメガソニックエ
ネルギーの集束ビームが、該容器の内表面から前記取付
部材に衝突することなく直接前記物体に向けられるよう
に該容器に取り付ける。
図面の簡単な説明 本発明の上記及びその他の目的並びに特徴、及びそれ
らを達成する態様は、以下に添付図を参照して述べる本
発明の実施形態の説明から一層明かになろう。
図１は、本発明による静止型メガソニック洗浄装置の
一部断面による側面図である。
図２は、図１の線２−２に沿ってみた静止型メガソニ
ック洗浄装置の断面図である。
図３は、図１の静止型メガソニック洗浄装置の正面図
である。
図４は、図１の静止型メガソニック洗浄装置の背面図
である。
好ましい実施形態の説明 添付図１〜４を参照すると、本発明による静止型メガ
ソニック洗浄装置10が示されている。図１を参照して説
明すると、静止型メガソニック洗浄装置10は、慣用の取
付フレーム部材13によって所定位置に支持された洗浄容
器12を有する。取付フレーム部材13の詳細は、本発明に
は関係がなく、当業者には明らかなものであるから、こ
れ以上説明する必要はない。
容器12は、全流れタイプであり、米国特許第4,577,65
0号、4,633,983号、4,778,532号、4,911,761号4,917,12
3号及び4,984,597号に開示されているタイプの湿式処理
洗浄装置に流体連通した入口12aと出口12b（部分的に示
されている）を有する。
図１及び２に示されるように、この実施形態では、容
器12は、カセット無し（ウエハ等の被洗浄物体を保持す
るカセットホルダーを備えていない）とし、複数個の被
洗浄物体24（仮想線で示されている）と、流体（図示せ
ず）を受容するための内部キャビティ22を有するものと
することが好ましい。より具体的にいえば、容器12は、
第１端15と、第２端16と、それらの間に延長した４つの
連結壁18を有し、第１端15と第２端16の間で４つの連結
壁18に囲まれた空間の中心を通る長手軸線17を有する。
各壁18は、内部キャビティ22を画定する内表面20を有す
る。この実施形態では、壁18は、ほぼ平面状であり、キ
ャビティ22は、ほぼ平行六面体である。壁18及びキャビ
ティ22は、洗浄すべき物体24のタイプ及び数に適合する
ように任意の幾何学的形状にすることができることは当
業者には明らかであろう。
この実施形態では、容器12の壁18は、アルミニウムの
ような高強度軽量材で形成するのが好ましいが、メガソ
ニックエネルギーを透過することができ、かつ、剛性の
容器構造を作ることができるスチールや鉄等の他の材料
を用いることもできる。又、各壁18は、個別に製造し、
標準金具を用いて結合することが好ましいが、容器12全
体を一体ユニットとして鋳造又はその他の方法で製造し
てもよい。
図１及び２を参照して説明すると、この実施形態で
は、被洗浄物体24は、半導体ウエハのように、中実でほ
ぼ平面状であることが好ましいが、本発明は、特定の物
体を洗浄することに限定されるものではないことは当業
者には明らかであろう。例えば、物体24は、ガラス基板
又はガラスプレートであってもよい。
この実施形態では、容器12は、その中に入れられたタ
イプの物体24を洗浄するのに特に適する複数の異なる種
類の洗浄流体又は溶液を受容するようにすることが好ま
しい。被洗浄物体24が半導体ウエハである場合は、洗浄
液は、上述した各米国特許に列挙されているような溶液
とすることが好ましいが、使用すべき流体は洗浄すべき
物体のタイプに応じて決められるので、本発明はいかな
る特定の洗浄又はリンス流体にも限定されるものではな
いことは当業者には明らかであろう。
図１及び２に明示されるように、内表面20は、壁18に
実質的に面係合させたライナー25で形成されている。ラ
イナー25は、内部キャビティ22内に用いられるあらゆる
洗浄液に対して化学的に不活性の材料で製造することが
好ましい。この実施形態では、ライナー25は、回転成形
法で成形されたテフゼル（登録商標名）のようなテフロ
ン系材料で形成することが好ましいが、ポリクロロテト
ラフルオロエチレン（KET−Ｆ）のような他の化学的に
不活性な材料を用いることもできることは、当業者には
明らかであろう。
この実施形態では、ライナー25は、当業者には周知の
態様で容器12の壁18に接着剤によって結合するのが好ま
しい。従って、その結合態様のこれ以上の説明は便宜上
省略する。
図１及び２に示されるように、容器12は、物体24に係
合しそれを支持するために壁18の内表面20から内方へ突
出した第１、第２及び第３取付部材26a,26b,26cを有し
ている。図１に明示されているように、各取付部材26a,
26b,26cは、長手軸線17に対してほぼ垂直なキャビティ2
2の幅方向に延長した細長い部材である。取付部材26aと
26bと26cとは、キャビティ22の長手軸線17の方向に互い
に離隔している。第１取付部材26aと第３取付部材26cと
は、互いに対面するように容器12の対向した２つの壁1
8,18に沿って延長している。第２取付部材26bは、第１
及び第３取付部材26a,26cより下に配置されており、物
体24の体部を支持するように容器12の対向した他の２つ
の壁18と18の間に延長している。
図２に示されるように、各取付部材26a,26b,26cは、
その長手に沿って対応する複数の物体24を受容するため
の複数の溝28を有している。取付部材26a,26b,26cの溝2
8は、物体24をそれらの周縁で３つの異なる接触点で支
持するように配置されている。取付部材26a,26b,26cと
物体24との接触面積を最小限にし、容器12内の流体及び
メガソニックエネルギーに対する露出度を増大するため
に物体24は溝28内に弛く嵌められる。キャビティ22内に
配置された取付部材26a,26b,26cは、カセットホルダー
（図示せず）を用いる必要なしに物体24をキャビティ22
内に装填することを可能にするので、容器12をカセット
無しとすることができる。
この実施形態では、第１、第２及び第３取付部材26a,
26b,26cは、キャビティ22内に用いられるあらゆる流体
に対して化学的に不活性の素材で形成することが好まし
く、例えば、テフゼル（登録商標名）のようなテフロン
系材料で形成することが好ましい。第２取付部材26b
は、それに剛性を付与するためにそのほぼ中心に配設さ
れた支持ロッド27を有する。支持ロッド27は、スチール
のような高強度軽量材で形成するのが好ましいが、本発
明の精神及び範囲から逸脱することなく、アルミニウム
等の他の材料で形成することもできる。
この実施形態では、第１、第２及び第３取付部材26a,
26b,26cは、当業者に周知の溶接法によって壁18に固定
することが好ましいが、取付部材26a,26b,26cを容器12
内に固定するのに、本発明の精神及び範囲から逸脱する
ことなく、例えば標準金具又は接着剤を用いることもで
きる。
取付部材26a,26b,26cは、使用される流体を汚染する
ことがなく、かつ、該流体の苛酷な作用に耐えることが
できる限り、上述した材料及び形状以外の材料及び形状
で形成することができることは、当業者には明らかであ
ろう。又、カセットホルダーを用いる必要なしに物体24
を容器12内に支持することができる限り、取付部材26a,
26b,26cの個数を変更することができることも、当業者
には明らかであろう。
図１、３及び４を参照して説明すると、第１配列体の
メガソニック音波発生トランスジューサ30と第２配列体
のメガソニック音波発生トランスジューサ32が、容器12
にその内表面20の外側に取り付けられている。各トラン
スジューサ30,32は、メガソニックエネルギーの集束ビ
ームを容器のキャビティ22内へ発出するようになされて
いる。これらのトランスジューサ30,32は、それらから
発出されたビームが、集合して各物体24の全外表面を包
むように、対向した壁18,18に対向して配列される。
この実施形態では、各トランスジューサは、それから
発出されたメガソニックエネルギーの集束ビームが容器
12の内表面20から取付部材26a,26b,26cに衝突すること
なく直接物体24へ通されるように容器12に取り付けるこ
とが好ましい。即ち、第１配列体のメガソニック音波発
生トランスジューサ30は、そのエネルギーの集束ビーム
が容器の内表面20から第１取付部材26aに衝突すること
なく直接物体24へ通されるように容器12に取り付けら
れ、同様にして、第２配列体のメガソニック音波発生ト
ランスジューサ32は、そのエネルギーの集束ビームが容
器の内表面20から第３取付部材26cに衝突することなく
直接物体24へ通されるように容器12に取り付けられる。
図１に明示されているように、各トランスジューサか
ら発出されるビームが互いに平行になるように、第１配
列体のトランスジューサ30は、第２配列体のトランスジ
ューサ32に対して互い違いに配置されている。このよう
にトランスジューサ30と32を互い違いに配置することに
より、それらのトランスジューサから発出されたビーム
は、取付部材26a,26b,26cを避け、、介在する取付構造
体によって散逸されることなく、集合して物体24を包
む。
各トランスジューサ30,32は、200ワットの出力を有す
る。この実施形態では、容器12の壁18は、ほぼ0.25in
（6.35mm）の厚さを有する。これによって、後述するよ
うに、ライナー25の一体性を危うくすることなく最大限
の洗浄作用を達成するのに理想的な625kHzの周波数を創
生する。当業者には明らかなように、トランスジューサ
の出力は、壁18の厚さに応じて、好ましい周波数を得る
ように変更することができる。本発明のメガソニック音
波発生トランスジューサ30,32は、当業者には周知の既
成製品であるから、便宜上これ以上の説明は省略する。
メガソニックトランスジューサ30,32は、適当な接着
剤で壁18に結合するのが好ましいが、本発明の精神及び
範囲から逸脱することなく、標準金具を用いるなどの任
意の態様で壁18に固定することができる。図３に明示さ
れているように、当業者に周知の態様で第１及び第２配
列体のトランスジューサ30,32を付勢するために適当な
エネルギー源に接続するための慣用のプラグ34が容器12
に固定されている。
作動において、洗浄すべき物体24の周縁を取付部材26
a,26b,26cの溝28内に挿入することによって物体24を容
器12の内部キャビティ20に充填する。適当な流体（図示
せず）をキャビティ22を通してポンプ送りし、上述した
各米国特許に記載された態様で物体24を流体に浸漬させ
る。物体24の洗浄は、トランスジューサ30,32を付勢し
て高周波エネルギーのビームを壁18、ライナー25及び流
体を通して伝送することによって達成される。即ち、流
体と物体24が高周波数で振動せしめられ、物体24の表面
上の不純物及びその他の汚染物が表面から除去される。
ライナー25が融解することがないように、パルスによ
るトランスジューサ30,32のオン時間とオフ時間の長さ
を変える。例えば、各トランスジューサ30,32を２〜３
秒間オンにし、ライナー25に冷却時間を与えるために10
秒間オフにする。各トランスジューサのパルス付勢を食
い違わせる（オーバーラップさせずにずらせる）ために
第１配列体と第２配列体から各々１つのトランスジュー
サ30と32を同時にパルス付勢するさせることが好まし
い。被洗浄物体24は、それらから粒子及び不純物が剥離
されて所望の洗浄が行われるのに十分なメガソニックエ
ネルギーに露呈されるまでキャビティ22内に保持され
る。
叙上のように、この好ましい実施形態は、被洗浄物体
24の表面の、メガソニックエネルギーへの露呈度を増大
させるために物体24を容器12内で移動させる必要なし
に、１種類以上の流体を有するカセット無し容器12内で
複数個の物体24を処理するメガソニック洗浄装置を提供
する。
以上の説明から分かるように、本発明は、改良された
メガソニック洗浄装置を提供する。ここに説明した実施
形態には、本発明の精神及び範囲から逸脱することな
く、いろいろな変更及び改変を加えることができること
は当業者には明らかであろう。従って、本発明は、ここ
に例示した特定の実施形態に限定されるものではなく、
請求の範囲に規定された本発明の精神及び範囲に入るあ
らゆる変型を包含することを理解されたい。
フロントページの続き (72)発明者 エルハルト，ハインリヒ エス. アメリカ合衆国 19335 ペンシルベニ ア，ダウニントン ファイアトーン ド ライブ 106 (72)発明者 マコネル，クリストファー エフ. アメリカ合衆国 19312 ペンシルベニ ア，バーウィン，ファーム ロード 1262 (56)参考文献 特開 昭63−221620（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−7731（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−49619（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−102119（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−261582（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−60777（ＪＰ，Ａ) 実開 昭63−153530（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭53−750（ＪＰ，Ｕ) 特許2696017（ＪＰ，Ｂ１) 特公 平２−26369（ＪＰ，Ｂ２) 特公 平３−49635（ＪＰ，Ｂ２) 特公 平２−13459（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭57−55209（ＪＰ，Ｂ２) 特公 平５−81314（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭46−31938（ＪＰ，Ｂ１) 実公 平３−12376（ＪＰ，Ｙ２) 実公 昭63−22671（ＪＰ，Ｙ２) 実公 昭46−7105（ＪＰ，Ｙ１) 実公 昭48−9566（ＪＰ，Ｙ１) 米国特許5133376（ＵＳ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B08B 3/12 H01L 21/304

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】外表面及び主平面を有する複数個の物体を
    洗浄するための静止型メガソニック洗浄装置であって、 （ａ）前記複数個の物体を受容し、流体を受容するため
    の内表面によって画定された内部キャビティを有するカ
    セット無し容器と、 （ｂ）該容器の内表面の外側で該容器に取り付けられ
    た、各々メガソニックエネルギーの集束ビームを前記キ
    ャビティ内へ発出する複数のメガソニック音波発生トラ
    ンスジューサの配列体とから成り、該複数のトランスジ
    ューサは、それらから発出されたビームが、前記物体の
    主平面にほぼ平行に延長し、集合して各物体の全外表面
    を包むように配列されていることを特徴とする静止型メ
    ガソニック洗浄装置。
  2. 【請求項２】外表面及び主平面を有する複数個の物体を
    洗浄するための静止型メガソニック洗浄装置であって、 （ａ）前記複数個の物体を受容し、複数種類の異なる流
    体を受容するための内表面によって画定された内部キャ
    ビティを有するカセット無し容器と、 （ｂ）該容器の内表面の外側で該容器に取り付けられ
    た、各々メガソニックエネルギーの集束ビームを前記キ
    ャビティ内へ発出する複数のメガソニック音波発生トラ
    ンスジューサの配列体とから成り、該複数のトランスジ
    ューサは、それらから発出されたビームが、前記物体の
    主平面にほぼ平行に延長し、集合して各物体の全外表面
    を包むように配列されていることを特徴とする静止型メ
    ガソニック洗浄装置。
  3. 【請求項３】外表面及び主表面を有する複数個の物体を
    洗浄するための静止型メガソニック洗浄装置であって、 （ａ）前記複数個の物体を受容し、流体を受容するため
    の内表面によって画定された内部キャビティを有し、該
    物体に係合してそれらの物体をキャビティ内に支持する
    ために該内表面に直接取り付けられ該内表面から内方へ
    突出した少くとも２つの互いに離隔した取付部材を有す
    るカセット無し容器と、 （ｂ）該容器の内表面の外側で該容器に取り付けられ
    た、各々メガソニックエネルギーの集束ビームを前記キ
    ャビティ内へ前記物体の主平面にほぼ平行に発出する複
    数のメガソニック音波発生トラスンジューサの配列体と
    から成り、該各トランスジューサは、それから発出され
    たメガソニックエネルギーの集束ビームが、該容器の内
    表面から直接前記物体に向けられるように該容器に取り
    付けられていることを特徴とする静止型メガソニック洗
    浄装置。
  4. 【請求項４】外表面及び主平面を有する複数個の物体を
    洗浄するための静止型メガソニック洗浄装置であって、 （ａ）前記複数個の物体を受容し、流体を受容するため
    の内表面によって画定された内部キャビティを有し、該
    物体に係合してそれらの物体をキャビティ内に支持する
    ために該内表面に直接取り付けられ該内表面から内方へ
    突出した少くとも２つの互いに離隔した取付部材を有す
    るカセット無し容器と、 （ｂ）該容器の内表面の外側で該容器に取り付けられ
    た、各々メガソニックエネルギーの集束ビームを前記キ
    ャビティ内へ前記物体の主平面にほぼ平行に発出する複
    数のメガソニック音波発生トランスジューサの配列体と
    から成り、該各トランスジューサは、それから発出され
    たメガソニックエネルギーの集束ビームが、該容器の内
    表面から該容器の壁にも前記取付部材にも衝突すること
    なく直接前記物体に向けられるように該容器に取り付け
    られていることを特徴とする静止型メガソニック洗浄装
    置。
  5. 【請求項５】主平面を有する複数個の物体を洗浄するた
    めの静止型メガソニック洗浄装置であって、 （ａ）第１端と、第２端と、該第１端と第２端の間に延
    長し相互に連結された４つの壁を有し、前記複数個の物
    体を受容し、洗浄流体を受容するための該４つの壁の内
    表面によって画定された内部キャビティを有するカセッ
    ト無し容器と、 （ｂ）前記物体に係合してそれらの物体を前記キャビテ
    ィ内に支持するために前記壁のうちの１つの壁の内表面
    に直接取り付けられ該内表面から内方へ突出した第１取
    付部材と、 （ｃ）前記物体に係合し前記第１取付部材と協同してそ
    れらの物体を前記キャビティ内に支持するために前記壁
    のうちの他の１つの壁の内表面に直接取り付けられ該内
    表面から内方へ突出した第２取付部材と、 （ｄ）前記１つの壁の内表面の外側で該壁に取り付けら
    れた、各々メガソニックエネルギーの集束ビームを前記
    物体の主平面にほぼ平行に前記キャビティ内へ発出する
    複数のメガソニック音波発生トランスジューサの第１配
    列体と、 （ｅ）前記他の１つの壁の内表面の外側で該壁に取り付
    けられた、各々メガソニックエネルギーの集束ビームを
    前記物体の主平面にほぼ平行に前記キャビティ内へ発出
    する複数のメガソニック音波発生トランスジューサの第
    ２配列体と、 から成り、前記第１配列体のトランスジューサは、それ
    らから発出されたビームが前記１つの壁の内表面から前
    記第１取付部材に衝突することなく直接前記物体に向け
    られるように該１つの壁に取り付けられており、前記第
    ２配列体のトランスジューサは、それらから発出された
    ビームが前記他の１つの壁の内表面から前記第２取付部
    材に衝突することなく直接前記物体に向けられるように
    該他の１つの壁に取り付けられていることを特徴とする
    静止型メガソニック洗浄装置。
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