JP2833537B2 - Integrated circuit test equipment - Google Patents

Integrated circuit test equipment

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JP2833537B2
JP2833537B2 JP7245015A JP24501595A JP2833537B2 JP 2833537 B2 JP2833537 B2 JP 2833537B2 JP 7245015 A JP7245015 A JP 7245015A JP 24501595 A JP24501595 A JP 24501595A JP 2833537 B2 JP2833537 B2 JP 2833537B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は集積回路試験装置に
関し、特に、チップまたはウェハの状態で集積回路の動
作を評価するための集積回路試験装置に関する。
The present invention relates to an integrated circuit test apparatus, and more particularly to an integrated circuit test apparatus for evaluating the operation of an integrated circuit in a state of a chip or a wafer.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体チップやウェハ上の集積回路を評
価するため、従来の集積回路試験装置は、必要とされる
チップ数および入出力数分の電源、クロック信号、アド
レス信号および入力データを被測定チップまたはウェハ
に供給し、そのチップまたはウェハの出力を判定回路に
より判定するLSIテスタが知られている。
2. Description of the Related Art In order to evaluate an integrated circuit on a semiconductor chip or wafer, a conventional integrated circuit test apparatus receives power supplies, clock signals, address signals and input data for the required number of chips and the number of inputs and outputs. 2. Description of the Related Art There is known an LSI tester which supplies a chip or a wafer and determines the output of the chip or the wafer by a determination circuit.

【0003】このLSIテスタに関する公知技術は、例
えば、特開昭62−243335号公報、特開平2−5
6947号公報および特開平2−239641号公報の
それぞれに開示されている。また、このような測定のた
めに、被測定チップまたはウェハに試験用の回路を設け
たものも公知である。
[0003] Known techniques relating to this LSI tester are disclosed, for example, in JP-A-62-243335 and JP-A-2-5.
No. 6947 and JP-A-2-239641. Further, for such a measurement, a device in which a test circuit is provided on a chip or a wafer to be measured is also known.

【0004】以下に、このLSIテスタの一例として記
憶素子を測定するメモリ・テスタを例に説明する。
Hereinafter, a memory tester for measuring a storage element will be described as an example of the LSI tester.

【0005】図5は従来のメモリ・テスタによる被測定
ウェハの測定例を示す。従来のメモリ・テスタは100
MHzで動作するメモリ・テスタ本体51とメモリ・テ
スタ測定ステーション52とを備え、メモリ・テスタ測
定ステーション52にはドライバ・コンパレータ62と
信号ケーブル57が設けられる。被測定ウェハ55はウ
ェハプローバ53上の真空チャク台56に載せられプロ
ーブ・カード54を介して測定される。
FIG. 5 shows an example of measurement of a wafer to be measured by a conventional memory tester. Conventional memory tester is 100
A memory tester main body 51 operating at MHz and a memory tester measurement station 52 are provided. The memory tester measurement station 52 is provided with a driver comparator 62 and a signal cable 57. The wafer to be measured 55 is placed on a vacuum chuck table 56 on a wafer prober 53 and measured via a probe card 54.

【0006】図6はメモリ・テスタの測定系のブロック
構成を示す。メモリ・テスタ本体51は内には中央処理
装置61を備え、メモリ・テスタ測定ステーション52
内にはドライバ・コンパレータ62を備える。被測定メ
モリ63は信号線64、65および66を介してドライ
バ・コンパレータ62に接続される。ドライバ・コンパ
レータ62は、反転RAS信号および反転CAS信号と
して高精度かつ高速のクロックを信号線64、65を介
して被測定メモリ63に供給し、信号線66を介して試
験データを供給する。ドライバ・コンパレータ62はま
た、被測定メモリ63から信号線66に出力されたデー
タを高精度に判定する。
FIG. 6 shows a block configuration of a measurement system of the memory tester. The memory tester main body 51 includes a central processing unit 61 therein, and a memory tester measuring station 52.
A driver / comparator 62 is provided therein. The memory under test 63 is connected to the driver / comparator 62 via signal lines 64, 65 and 66. The driver comparator 62 supplies a high-precision and high-speed clock as the RAS signal and the CAS signal to the memory 63 via the signal lines 64 and 65, and supplies test data via the signal line 66. The driver comparator 62 also determines the data output from the memory under measurement 63 to the signal line 66 with high accuracy.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のLSI
テスタでは、被測定集積回路のチップ数および入出力数
に応じてクロック信号、アドレス信号、データその他を
高精度かつ高速に供給および測定する必要があるため、
装置が複雑になり、その制御が困難になるという課題が
あった。例えば、入出力が8ビットの16M−DRAM
を100MHzで16個並列測定することのできるメモ
リ・テスタの制御は技術的に高度になり、高精度の部品
を使用しなければならず、その価格は非常に高額になっ
てしまう問題もあった。
However, the conventional LSI
The tester needs to supply and measure clock signals, address signals, data, etc. with high accuracy and high speed according to the number of chips and the number of inputs and outputs of the integrated circuit under test.
There is a problem that the device becomes complicated and its control becomes difficult. For example, 16M-DRAM with input / output of 8 bits
The control of a memory tester capable of measuring 16 pieces in parallel at 100 MHz has become technically sophisticated, and high-precision parts have to be used, and the price is very expensive. .

【0008】本発明は、このような課題を解決し、チッ
プまたはウェハ上の集積回路を少ないハードウェア構成
で高精度に測定することのできる集積回路試験装置を提
供することを目的とする。
An object of the present invention is to provide an integrated circuit test apparatus capable of solving such a problem and measuring an integrated circuit on a chip or a wafer with high accuracy with a small hardware configuration.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の集積回路試験装
置は、基板上に形成された被測定集積回路にその回路が
動作するために必要な電源および信号を入力してその出
力を測定する試験手段と、前記被測定集積回路に接触材
を介して電気的に接触可能で前記試験手段の少なくとも
一部が形成された半導体チップまたはウェハを備えた集
積回路試験装置であって、前記半導体チップまたはウェ
ハは、前記試験手段から供給されるクロック信号を受け
るカウンタを具備する集積回路試験装置において、前記
カウンタは前記クロック信号を受けこれに同期して出力
信号を反転する第1のカウンタと、前記クロック信号を
受けこれに同期しておよびアップ/ダウンモードによる
入力クロック信号のそれぞれに同期して出力信号を反転
する第2のカウンタと、前記クロック信号を受けこれに
同期しておよび下位ビットからのキャリー予測信号を受
けて出力信号を反転する第3のカウンタとを備え、前記
カウンタの最下位ビット(LSB)を前記第1のカウン
タで構成しそれ以外のビットを前記第2または第3カウ
ンタで構成される
SUMMARY OF THE INVENTION An integrated circuit test apparatus according to the present invention inputs a power supply and a signal necessary for the operation of an integrated circuit under test formed on a substrate and measures the output. An integrated circuit test apparatus , comprising: a test means, and a semiconductor chip or a wafer on which at least a part of the test means is electrically connected to the integrated circuit to be measured via a contact material , wherein the semiconductor chip Alternatively, the wafer is an integrated circuit test device including a counter receiving a clock signal supplied from the test means ,
The counter receives the clock signal and outputs in synchronization with the clock signal
A first counter for inverting a signal;
In sync with this and in up / down mode
Invert the output signal in synchronization with each of the input clock signals
And a second counter for receiving the clock signal.
Synchronize and receive carry prediction signal from lower bits
And a third counter for inverting the output signal.
Setting the least significant bit (LSB) of the counter to the first count
And the other bits are assigned to the second or third counter.
It is composed of

【0010】[0010]

【0011】さらに、本発明の集積回路試験装置の前記
カウンタは下位ビットから上位ビットに向って数えた場
合前記第3のカウンタ以外で構成されるユニットから前
記第3のカウンタで構成されるユニットまでの段数を等
しい構成にすることもできる。
Further, the counter of the integrated circuit test apparatus of the present invention, when counted from the lower bit to the upper bit, ranges from a unit constituted by other than the third counter to a unit constituted by the third counter. May be configured to have the same number of stages.

【0012】[0012]

【0013】[0013]

【0014】[0014]

【0015】[0015]

【0016】以下の説明では、半導体としてシリコンを
用いた技術を想定し、試験手段の少なくとも一部が形成
された半導体チップまたはウェハを「シリコン・テス
タ」という。
In the following description, a technology using silicon as a semiconductor is assumed, and a semiconductor chip or a wafer on which at least a part of the test means is formed is referred to as a “silicon tester”.

【0017】このシリコン・テスタには、被測定集積回
路の1個のチップに対する1ビット分のデータからmチ
ップ(mは正の整数)のそれぞれに対してnビット(n
は正の整数)のデータを生成する手段、1枚のウェハに
形成された被測定集積回路をa個のブロック(aは正の
整数)に分割し、そのひとつのブロックを選択して測定
する手段、被測定集積回路のひとつのチップを選択して
測定する手段などを設けることができる。
This silicon tester uses n bits (n) for each of m chips (m is a positive integer) from one bit of data for one chip of the integrated circuit under test.
Means for generating data of a positive integer) The integrated circuit under test formed on one wafer is divided into a blocks (a is a positive integer), and one of the blocks is selected for measurement. Means, means for selecting and measuring one chip of the integrated circuit to be measured, and the like.

【0018】LSIテスタの機能の一部または全部を半
導体チップまたはウェハ上に設けてシリコン・テスタと
し、これを接触材を介して被測定集積回路に電気的に接
触させる。これにより、試験のために必要な信号をすべ
てLSIテスタから信号線を介して引き出す必要がなく
なる。特に、多チップ並列で多入出力用の高精度かつ高
速のドライバとコンパレータの機能をシリコン・テスタ
に内蔵することで、LSIテスタのハードウェアを簡略
化できる。シリコン・テスタと被測定集積回路との間を
互いに接触させるので、信号線を引き回す必要はなく、
シリコン・テスタに高価なドライバは不要である。
A part or all of the function of the LSI tester is provided on a semiconductor chip or a wafer to form a silicon tester, which is electrically contacted with the integrated circuit to be measured via a contact material. This eliminates the need to extract all the signals required for the test from the LSI tester via the signal lines. In particular, the hardware of the LSI tester can be simplified by incorporating the functions of a high-precision and high-speed driver and comparator for multiple inputs and outputs in parallel with multiple chips in a silicon tester. Since the silicon tester and the integrated circuit under test are in contact with each other, there is no need to route signal lines,
No expensive drivers are required for silicon testers.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】図1は本発明の第一の実施の形態
の集積回路試験装置を示す図であり、ウェハ・レベルで
の具体例を示す。この場合には、被測定ウェハ14にそ
の回路が動作するために必要な電源および信号を入力し
てその出力を測定するため、25MHzで動作するメモ
リ・テスタ1と、1I/Oのみのドライバー6と、信号
線ケーブル7と、シリコン・テスタ・ウェハ12とを備
える。
FIG. 1 is a view showing an integrated circuit test apparatus according to a first embodiment of the present invention, showing a specific example at a wafer level. In this case, a memory tester 1 operating at 25 MHz and a driver 6 having only one I / O are used to input a power supply and a signal necessary for the circuit to operate to the measured wafer 14 and measure the output. , A signal line cable 7, and a silicon tester wafer 12.

【0020】さらに、メモリ・テスタ1は、パターン・
ジェネレータ2と、16I/O数を有する16個のチッ
プ分の判定結果の入力手段3と、パターン・ジェネレー
タ2とは異なるメモリ・テスタ1以外の外付けパターン
・ジェネレータ(図示してない)をセットまたは制御す
る制御手段4と、シリコン・テスタ・ウェハ12をメモ
リ・テスタ1に連動して動作させる連動手段5とを備え
る。
Further, the memory tester 1 has a pattern
A generator 2, input means 3 for determination results of 16 chips having 16 I / O numbers, and an external pattern generator (not shown) other than the memory tester 1 different from the pattern generator 2 are set. Or, there are provided control means 4 for controlling and interlocking means 5 for operating the silicon tester wafer 12 in conjunction with the memory tester 1.

【0021】シリコン・テスタ・ウェハ12および被測
定ウェハ14はそれぞれ別々の測定治具11に取り付け
られ、接触材としての圧電性導電ゴム13を介して互い
に電気的に接続される。シリコン・テスタ・ウェハ24
には試験のための一部または全部の機能が設けられる。
The silicon tester wafer 12 and the wafer 14 to be measured are mounted on separate measuring jigs 11 and are electrically connected to each other via a piezoelectric conductive rubber 13 as a contact material. Silicon tester wafer 24
Is provided with some or all functions for testing.

【0022】図3はシリコン・テスタの構成例を示す。
ここでは、1入力のみのデータが供給され、被測定メモ
リの個数分の判定結果を出力する例を示す。このシリコ
ン・テスタには、多チップ/ビット化制御回路31、ブ
ロック選択デコーダ32、チップ選択デコーダ33、p
倍速制御回路34、P倍速アルゴリズム回路35、自己
過電流保護回路36、位置合わせ用回路37、チップ内
テスト回路38、フェイルメモリ回路39、電流制御回
路40、コンパレータ回路41、オンチップコンデンサ
42およびパッド43を備える。
FIG. 3 shows an example of the configuration of a silicon tester.
Here, an example is shown in which data of only one input is supplied and determination results for the number of memories to be measured are output. This silicon tester includes a multi-chip / bit control circuit 31, a block selection decoder 32, a chip selection decoder 33, p
Double speed control circuit 34, P double speed algorithm circuit 35, self-overcurrent protection circuit 36, alignment circuit 37, on-chip test circuit 38, fail memory circuit 39, current control circuit 40, comparator circuit 41, on-chip capacitor 42, and pad 43 is provided.

【0023】多チップ/ビット化制御回路31は、メモ
リ・テスタから供給される1チップの1ビット(または
1入出力)分のデータから、デコーダ回路および入出力
とアドレス用の排他的論理和回路を用いて、mチップ
(mは正の整数)、nビット(nは正の整数)のデータ
を生成する。ブロック選択デコーダ32は、そのシリコ
ン・テスタがウェハ・レベルで測定するとき、その被測
定ウェハをa個のブロック(aは正の整数)に分割し、
測定対象としてそのひとつのブロックを選択する。チッ
プ選択デコーダ33は、ウェハ・レベルで測定すると
き、被測定ウェハの任意のチップを選択する。p倍速制
御回路34は、アップ/ダウン・カウンタを具備し、メ
モリ・テスタから供給されるクロック周波数を位相同期
ループを用いてp倍(pは2以上の整数)にする。p倍
速アルゴリズム回路35は、p倍速制御回路34が動作
するとき、アップ/ダウン・カウンタとラッチ回路とに
より、メモリ・テスタからは供給されないp倍速動作の
第2サイクル以降のテスト・パターンを発生する。自己
過電流保護回路36は、定格を超える過電流が流れるチ
ップに対し、リセット機能を有するフリップフロップを
用いて、電流供給を停止する。位置合わせ用回路37
は、シリコン・テスタのパッドと被測定チップのパッド
との位置合わせを行うことができるように、被測定チッ
プの任意のパッドに対して配置されたb個(bは正の整
数)パッドに、信号切替回路を介してメモリ・テスタか
らの直流信号を供給する。チップ内テスト回路38は、
被測定チップの一部の機能に相当するダミー・チップ回
路を内蔵し、そのダミー・チップ回路を測定すること
で、そのメモリ・テスタの動作を自己診断する。フェイ
ルメモリ回路39は、被測定チップの測定結果が不良の
場合に、その不良内容をフリップ・フロップ回路により
保持する。電流制御回路40は、ウェハ・レベルで被測
定ウェハを多チップ並列測定する場合に、メモリ・テス
タからのクロック周波数を分周回路により1/c(cは
2以上の整数)に分周して低速化するか、またはその被
測定ウェハを任意のブロックに分割して順次そのブロッ
クを選択することにより、電流を制御する。コンパレー
タ回路41は、被測定チップの測定結果を判定する。オ
ンチップコンデンサ42は被測定チップとの間のバイパ
スコンデンサとして動作する。
The multi-chip / bit conversion control circuit 31 converts the data of one bit (or one input / output) of one chip supplied from the memory tester into a decoder circuit and an exclusive OR circuit for input / output and address. Is used to generate data of m chips (m is a positive integer) and n bits (n is a positive integer). The block select decoder 32 divides the measured wafer into a blocks (a is a positive integer) when the silicon tester measures at the wafer level,
One block is selected as a measurement target. When measuring at the wafer level, the chip selection decoder 33 selects an arbitrary chip on the wafer to be measured. The p-times control circuit 34 includes an up / down counter, and makes the clock frequency supplied from the memory tester p times (p is an integer of 2 or more) using a phase locked loop. When the p-times control circuit 34 operates, the p-times speed algorithm circuit 35 uses the up / down counter and the latch circuit to generate a test pattern after the second cycle of the p-times speed operation that is not supplied from the memory tester. . The self-overcurrent protection circuit 36 uses a flip-flop having a reset function to stop supplying current to a chip in which an overcurrent exceeding the rating flows. Alignment circuit 37
In order to align the pads of the silicon tester and the pads of the chip under test, b pads (b is a positive integer) arranged for arbitrary pads of the chip under test are A DC signal is supplied from the memory tester via the signal switching circuit. The on-chip test circuit 38
A dummy chip circuit corresponding to a part of the function of the chip under test is built in, and the operation of the memory tester is self-diagnosed by measuring the dummy chip circuit. When the measurement result of the chip to be measured is defective, the fail memory circuit 39 holds the contents of the defect by a flip-flop circuit. The current control circuit 40 divides the clock frequency from the memory tester to 1 / c (c is an integer of 2 or more) by a frequency dividing circuit when performing multi-chip parallel measurement of the wafer to be measured at the wafer level. The current is controlled by reducing the speed or by dividing the wafer to be measured into arbitrary blocks and sequentially selecting the blocks. The comparator circuit 41 determines the measurement result of the chip to be measured. The on-chip capacitor 42 operates as a bypass capacitor with the chip to be measured.

【0024】以上の各回路はすべてシリコン・テスタ上
に備えられる必要はなく、例えばチップ単位で測定する
場合にはそのいくつかの回路は省略可能である。
All of the above circuits need not be provided on a silicon tester. For example, some circuits can be omitted when measurement is performed on a chip basis.

【0025】次に、この実施形態のP倍速制御回路34
のアップ/ダウン・カウンタについて説明する。
Next, the P-times speed control circuit 34 of this embodiment
The up / down counter will be described.

【0026】この実施形態のカウンタは、3種類のユニ
ットで構成される。つまり基本クロックCLKに同期し
て出力信号を反転する単安定マルチバイブレータで構成
される第1のカウンタと、第1のカウンタの構成要素に
アップ/ダウンモードに応じて入力クロック(基本クロ
ックCLKまたは前段ユニットからの出力信号)による
出力の反転機能を追加した第2のカウンタと、さらにこ
の第2のカウンタの構成要素に下位ビットからのキャリ
ー予測信号CYNに応じて出力の反転機能を追加した第
3のカウンタとで構成される。
The counter of this embodiment is composed of three types of units. That is, a first counter composed of a monostable multivibrator that inverts an output signal in synchronization with the basic clock CLK, and a component of the first counter includes an input clock (the basic clock CLK or the preceding stage) according to the up / down mode. A second counter having an output inversion function based on an output signal from a unit) and a third counter having an output inversion function added to the components of the second counter in accordance with the carry prediction signal CYN from the lower bits. And a counter.

【0027】図2を参照すると、この実施形態のカウン
タは、LSBとして第1のカウンタ101、第2ビット
目を第2のカウンタ102,第3ビット目を第3のカウ
ンタ103、それ以降第2のカウンタ、第3のカウンタ
・・・とし、MSBとして第2のカウンタ106を備え
る。
Referring to FIG. 2, the counter of this embodiment includes a first counter 101 as an LSB, a second bit 102 as a second bit, a third counter 103 as a third bit, and a second bit thereafter. , A third counter,..., And a second counter 106 as the MSB.

【0028】次に、このカウンタの動作について説明す
る。第1のカウンタ101には入力クロックとして基本
クロックCLKを受け、出力信号Cnは次段のカウンタ
102の入力クロックとなる。また、2ビット目以降の
カウンタのうち第2のカウンタは入力クロックとして前
段のカウンタ(第3のカウンタ)の出力信号を受け、ア
ップ/ダウンモードの切替のための識別信号UPCによ
り制御を受ける。さらに第3のカウンタは基本クロック
CLKを受け、さらにキャリー予測信号CYNによって
制御されており、キャリー信号が予測される時にのみカ
ウンタユニットとして機能する。
Next, the operation of this counter will be described. The first counter 101 receives the basic clock CLK as an input clock, and the output signal Cn becomes the input clock of the counter 102 at the next stage. The second counter among the counters of the second and subsequent bits receives the output signal of the preceding stage counter (third counter) as an input clock, and is controlled by the identification signal UPC for switching between the up / down mode. Further, the third counter receives the basic clock CLK and is controlled by the carry prediction signal CYN, and functions as a counter unit only when the carry signal is predicted.

【0029】次に、キャリー信号の予測機能について説
明する。
Next, the function of predicting the carry signal will be described.

【0030】所定の第3のカウンタがある時刻でこの注
目の第3のカウンタよりも下位ビットが全て“1”(ア
ップモード時)または全て“0”(ダウンモード時)の
とき、次の入力クロックにより下位ビットからの桁上り
が予測される(アップモード時)または上位ビットから
の桁借りが予測される(ダイモード時)。これを利用し
て、入力クロックにより直接所定の第3のカウンタを独
立して反転することが可能となる。すなわち、前段ユニ
ットのビット反転信号を受けなくても、所定の第3のカ
ウンタをインクリメント/デクリメントできる。その結
果、カウンタとして前段までの状態遷移伝達の信号でな
く直接入力クロックを扱うためカウンタユニット連絡に
よる遅延時間を削減できるので、カウンタ全体の動作時
間は向上する。
When the lower bits of the predetermined third counter are all "1" (at the time of the up mode) or all "0" (at the time of the down mode) at a certain time, the next input is performed. The clock predicts carry from the lower bits (at the time of the up mode) or borrows from the upper bits (at the time of the die mode). By utilizing this, it is possible to directly invert the predetermined third counter directly by the input clock. That is, the predetermined third counter can be incremented / decremented without receiving the bit inversion signal of the preceding unit. As a result, the delay time due to the counter unit communication can be reduced because the input clock is handled directly instead of the signal of the state transition transmission to the previous stage as the counter, so that the operation time of the entire counter is improved.

【0031】キャリー予測信号およびキャリー情報の生
成は、まずアップモードのときは下位に位置する最も近
い第3のカウンタから出力されるキャリー情報が“0”
であり、かつそのキャリー信号を出力する第3のカウン
タと自己との間に配置されたユニットの出力信号が全て
“1”のときキャリー予測信号CYNは有効にされる。
このときキャリー情報を“0”とし、次に現れる第3の
カウンタに出力する。
In the generation of the carry prediction signal and the carry information, first, in the up mode, the carry information output from the nearest third counter located at the lower position is "0".
And the carry prediction signal CYN is validated when all the output signals of the units arranged between the third counter outputting the carry signal and itself are "1".
At this time, the carry information is set to “0” and output to the third counter that appears next.

【0032】次に、ダウンモードのときは、下位に位置
する最も近い第3のカウンタから出力されるキャリー情
報およびキャリー情報を出力する第3のカウンタと自己
との間に配置されたユニットの出力信号が全て“0”の
とき、キャリー予測信号CYNが有効にされる。また、
このときキャリー情報を“0”とし、次に現われる第3
のカウンタへ出力する。
Next, in the down mode, the carry information output from the nearest third counter located at the lower position and the output of the unit disposed between itself and the third counter outputting the carry information. When the signals are all “0”, the carry prediction signal CYN is made valid. Also,
At this time, the carry information is set to “0”, and the third
Output to the counter.

【0033】図4は図3に示したシリコン・テスタの動
作を説明するタイミング図である。メモリ・テスタから
の40ns(時刻t1〜t5)の測定周期のうち時刻t
1〜t2の10nsの間に各信号がセットされると、p
倍速制御回路34およびp倍速アルゴリズム回路35
は、位相同期ループ、アップ/ダウン・カウンタおよび
ラッチ回路により、時刻t1〜t2の各波形をコピー
し、時刻t2〜t3、時刻t3〜t4、時刻t4〜t5
でコピー波形を生成して出力する。時刻t1〜t2はマ
ーキングのインクリメントのリード「H」の部分であ
り、時刻t2〜t3のライト「L」、時刻t3〜t4の
アドレス〔A+1〕番地のリード「H」、および時刻t
4〜t5のライト「L」の各信号の「L」レベルと
「H」レベルとの間の変更およびアドレスの変更はp倍
速アルゴリズム回路35により行われ、各信号の「H」
レベルから「L」レベルまたは「L」レベルから「H」
レベルへの遷移点の時刻の設定はp倍速制御回路34に
より行われる。
FIG. 4 is a timing chart for explaining the operation of the silicon tester shown in FIG. Time t in the measurement cycle of 40 ns (time t1 to t5) from the memory tester
When each signal is set for 10 ns from 1 to t2, p
Double speed control circuit 34 and p double speed algorithm circuit 35
Copies the waveforms at times t1 to t2 by a phase locked loop, an up / down counter and a latch circuit, and copies the waveforms at times t2 to t3, times t3 to t4, and times t4 to t5.
Generates and outputs a copy waveform. The times t1 to t2 are the read “H” portion of the marking increment, the write “L” at the times t2 to t3, the read “H” at the address [A + 1] at the times t3 to t4, and the time t.
The change between the "L" level and the "H" level of each signal of the write "L" from 4 to t5 and the address change are performed by the p-times speed algorithm circuit 35, and the "H" level of each signal is changed.
Level to "L" level or "L" level to "H"
The setting of the time of the transition point to the level is performed by the p-times speed control circuit 34.

【0034】次に、この実施の形態の集積回路試験装置
の動作について説明する。この場合には、測定するチッ
プ数が1個ではなく、被測定ウェハ14の全チップのう
ちの一部、例えば96チップ中の16チップとなる。
Next, the operation of the integrated circuit test apparatus according to this embodiment will be described. In this case, the number of chips to be measured is not one, but a part of all the chips of the wafer 14 to be measured, for example, 16 out of 96 chips.

【0035】この場合、メモリ・テスタ1からシリコン
・テスタ・ウェハ14には、1チップの1入力分の信号
が供給される。シリコン・テスタ・ウェハ14では、多
チップ/ビット化制御回路のラッチ回路の排他的論理和
回路とにより16チップ分の8入力データを生成し、ブ
ロック選択デコーダにより96チップを6ブロックに分
割してその1ブロックの16チップを選択して各信号を
供給する。
In this case, a signal for one input of one chip is supplied from the memory tester 1 to the silicon tester wafer 14. In the silicon tester wafer 14, 8 input data for 16 chips is generated by an exclusive OR circuit of a latch circuit of a multi-chip / bit control circuit, and 96 chips are divided into 6 blocks by a block selection decoder. Each signal is supplied by selecting 16 chips of the one block.

【0036】まず被測定ウェハ14が良品の16M−D
RAMチップの場合を例に説明する。この場合、シリコ
ン・テスタ・チップ12から試験のための信号が圧電性
導電ゴム13を介して被測定ウェハ14に供給される。
被測定チップの出力は圧電性導電ゴム13を介してシリ
コン・テスタ・チップ12に伝達され、コンパレータ回
路により良品判定され、信号線ケーブル7を介してメモ
リ・テスタ1に伝達される。
First, the wafer to be measured 14 is a non-defective 16M-D
The case of a RAM chip will be described as an example. In this case, a signal for the test is supplied from the silicon tester chip 12 to the wafer 14 to be measured via the piezoelectric conductive rubber 13.
The output of the chip to be measured is transmitted to the silicon tester chip 12 via the piezoelectric conductive rubber 13, judged as non-defective by the comparator circuit, and transmitted to the memory tester 1 via the signal line cable 7.

【0037】被測定ウェハ14がマーキング不良の16
M−DRAMチップである場合にも同様に、シリコン・
テスタ・チップ12から試験のための信号が圧電性導電
ゴム13を介して被測定ウェハ14に供給され、被測定
チップの出力が圧電性導電ゴム13を介してシリコン・
テスタ・チップ12に伝達される。このとき、シリコン
・テスタ・チップ12内のコンパレータ回路では、例え
ば期待値が「H」レベルであるところに「L」レベルの
出力が到来するので、その被測定チップが不良品である
と判定し、不良信号が信号線7を介してメモリ・テスタ
1に伝達される。また、その不良結果がフェイル・メモ
リ回路にも保持される。
The measured wafer 14 has a marking defect 16
Similarly, in the case of an M-DRAM chip,
A test signal is supplied from the tester chip 12 to the wafer under test 14 via the piezoelectric conductive rubber 13, and the output of the chip under test is supplied to the silicon wafer via the piezoelectric conductive rubber 13.
It is transmitted to the tester chip 12. At this time, the comparator circuit in the silicon tester chip 12 determines that the chip to be measured is defective because, for example, the output at the “L” level arrives at the place where the expected value is at the “H” level. , A defective signal is transmitted to memory tester 1 via signal line 7. The failure result is also held in the fail memory circuit.

【0038】被測定ウェハ14にスタンバイ時に過電流
が流れる不良がある場合には、そのチップをセットして
電源を印加した時点で、自己過電流保護回路が動作す
る。これにより被測定チップへの電流供給が停止し、ス
タンバイ電流不良品であることがメモリ・テスタに伝達
される。
If the wafer under test 14 has a defect in which an overcurrent flows during standby, the self-overcurrent protection circuit operates when the chip is set and power is applied. As a result, the current supply to the chip to be measured is stopped, and a defective standby current is transmitted to the memory tester.

【0039】図3および図4に示したシリコン・テスタ
はウェハ・レベルでの測定を目的としたものであるが、
チップ単位の測定用に修正することも可能である。
The silicon tester shown in FIGS. 3 and 4 is intended for measurement at the wafer level.
Modifications for chip-by-chip measurements are also possible.

【0040】以上の説明では被測定集積回路がDRAM
チップまたはDRAMチップが形成されたウェハの場合
について説明したが、それ以外の集積回路の測定にも本
発明を同様に実施できる。
In the above description, the integrated circuit to be measured is a DRAM
Although the description has been given of the case of a wafer on which a chip or a DRAM chip is formed, the present invention can be similarly applied to measurement of other integrated circuits.

【0041】[0041]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の集積回路
試験装置は、LSIテスタの機能の少なくとも一部を、
被測定集積回路に接触材を介して電気的に接触可能な半
導体チップまたはウェハからなるシリコン・テスタに設
ける。特に、LSIテスタの多チップ並列かつ多入出力
用の高精度かつ高速のドライバおよびコンパレータの機
能をシリコン・テスタに設けることで、その構成を大幅
に簡略化できる。
As described above, the integrated circuit test apparatus of the present invention has at least a part of the functions of the LSI tester.
It is provided on a silicon tester made of a semiconductor chip or a wafer capable of electrically contacting the integrated circuit to be measured via a contact material. In particular, by providing a silicon tester with a high-precision and high-speed driver and comparator function for multi-chip parallel and multi-input / output of an LSI tester, the configuration can be greatly simplified.

【0042】例えば、8入出力の16M−DRAMを1
00MHzで16個並列測定が可能な従来のメモリ・テ
スタは、ドライバ・ボードのみで138枚を必要とす
る。これに対して本発明では、ドライバおよびコンパレ
ータの機能をシリコン・テスタで行うことで、LSIテ
スタ本体には1個の1入出力ハードウェアを備えればよ
く、しかも25MHz動作で十分である。この場合、必
要のドライバ・ボードは22枚と従来の1/6以下とな
り、基本クロックも低速となることから、機能を簡略化
したメモリ・テスタを用いて従来と同等の測定が可能と
なる。一方、シリコン・テスタについては、16M−D
RAMなみのプロセスで製造可能である。
For example, one 16M-DRAM with 8 inputs / outputs
A conventional memory tester capable of performing 16 parallel measurements at 00 MHz requires 138 devices only with a driver board. On the other hand, in the present invention, the functions of the driver and the comparator are performed by the silicon tester, so that the LSI tester main body only needs to have one piece of I / O hardware, and 25 MHz operation is sufficient. In this case, the required number of driver boards is 22 which is 1/6 or less of the conventional one, and the basic clock is also slow. Therefore, the same measurement as the conventional one can be performed by using a memory tester whose function is simplified. On the other hand, for silicon testers, 16M-D
It can be manufactured by a process similar to a RAM.

【0043】[0043]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態の集積回路試験装置の構
成を示す図。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of an integrated circuit test apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施の形態の集積回路試験装置のカ
ウンタの構成を示す図。
FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a counter of the integrated circuit test apparatus according to one embodiment of the present invention.

【図3】シリコン・テスタの構成例を示す図。FIG. 3 is a diagram showing a configuration example of a silicon tester.

【図4】シリコン・テスタの動作を説明するタイミング
図。
FIG. 4 is a timing chart illustrating the operation of the silicon tester.

【図5】従来のメモリ・テスタによる測定例を示す図。FIG. 5 is a diagram showing a measurement example using a conventional memory tester.

【図6】メモリ・テスタの測定系のブロック構成を示す
図。
FIG. 6 is a diagram showing a block configuration of a measurement system of the memory tester.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,51 メモリ・テスタ 2 パターン・ジェネレータ 3 判定結果の入力手段 4 セットまたは制御する制御手段 5 シリコン・テスタ・ウェハ12をメモリ・テスタ
1に連動して動作させる連動手段 6,62 ドライバ・コンパレータ 7,57 信号線ケーブル 11 固定治具 12 シリコン・テスタ・ウェハ 13 圧電性導電ゴム 14 被測定ウェハ 15 倍速数指定機能 16 パターン名指定機能 17 ライン名指定機能 31 多チップ/ビット化制御回路 32 ブロックン選択デコーダ 33 チップ選択デコーダ 34 p倍速制御回路 35 p倍速アルゴリズム回路 36 自己過電流保護回路 37 位置合わせ用回路 38 チップ内テスト回路 39 フェイルメモリ回路 40 電流制御回路 41 コンパレータ回路 42 オンチップコンデンサ 43 パッド 52 メモリ・テスタ測定ステーション 53 ウェハプローバ 54 プローブ・カード 55 被測定ウェハ 56 真空チャク台56 61 中央処理装置 63 被測定メモリ 64,65,66 信号線 101〜106 カウンタ
Reference Signs List 1,51 Memory tester 2 Pattern generator 3 Input means for judgment result 4 Control means for setting or controlling 5 Interlocking means for operating silicon tester wafer 12 in conjunction with memory tester 1, 6,62 Driver comparator 7 , 57 Signal line cable 11 Fixing jig 12 Silicon tester wafer 13 Piezoelectric conductive rubber 14 Wafer to be measured 15 Double speed specifying function 16 Pattern name specifying function 17 Line name specifying function 31 Multi-chip / bit control circuit 32 Blockon Selection decoder 33 chip selection decoder 34 p-times speed control circuit 35 p-times speed algorithm circuit 36 self-overcurrent protection circuit 37 positioning circuit 38 in-chip test circuit 39 fail memory circuit 40 current control circuit 41 comparator circuit 42 on-chip capacitor 43 Head 52 memory tester measuring station 53 a wafer prober 54 probe card 55 to be measured wafer 56 vacuum Fuchaku base 56 61 central processing unit 63 to be measured memory 64, 65, 66 signal lines 101 to 106 Counter

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01L 27/04 H01L 27/04 T (56)参考文献 特開 平5−275504(JP,A) 特開 昭62−263475(JP,A) 特開 昭54−150051(JP,A) 特開 平5−288808(JP,A) 特開 平4−133443(JP,A) 特開 平3−44949(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G01R 31/28 - 31/3193 H01L 21/66 G01R 31/26 H01L 27/04──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification symbol FI H01L 27/04 H01L 27/04 T (56) References JP-A-5-275504 (JP, A) JP-A-62-263475 ( JP, A) JP-A-54-150051 (JP, A) JP-A-5-288808 (JP, A) JP-A-4-133443 (JP, A) JP-A-3-44949 (JP, A) (58) ) Surveyed field (Int.Cl. 6 , DB name) G01R 31/28-31/3193 H01L 21/66 G01R 31/26 H01L 27/04

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 基板上に形成された被測定集積回路にそ
の回路が動作するために必要な電源および信号を入力し
てその出力を測定する試験手段と、前記被測定集積回路
に接触材を介して電気的に接触可能で前記試験手段の少
なくとも一部が形成された半導体チップまたはウェハを
備えた集積回路試験装置であって、前記半導体チップま
たはウェハは、前記試験手段から供給されるクロック信
号を受けるカウンタを具備する集積回路試験装置におい
て、前記カウンタは前記クロック信号を受けこれに同期
して出力信号を反転する第1のカウンタと、前記クロッ
ク信号を受けこれに同期しておよびアップ/ダウンモー
ドによる入力クロック信号のそれぞれに同期して出力信
号を反転する第2のカウンタと、前記クロック信号を受
けこれに同期しておよび下位ビットからのキャリー予測
信号を受けて出力信号を反転する第3のカウンタとを備
え、前記カウンタの最下位ビット(LSB)を前記第1
のカウンタで構成しそれ以外のビットを前記第2または
第3カウンタで構成することを特徴とする集積回路試験
装置。
1. A test means for inputting a power supply and a signal necessary for the operation of a circuit to be measured formed on a substrate and measuring an output thereof, and contacting the integrated circuit to be measured with a contact material. An integrated circuit test apparatus comprising a semiconductor chip or a wafer on which at least a part of the test means is formed so as to be electrically contactable through the semiconductor chip or the wafer , wherein the semiconductor chip or the wafer includes a clock signal supplied from the test means. Circuit tester equipped with a counter for receiving
The counter receives the clock signal and synchronizes with it.
A first counter for inverting the output signal to
Receive the sync signal and the up / down mode
Output signal in synchronization with each of the input clock signals
A second counter for inverting the clock signal;
Carry prediction synchronously and from the lower bit
And a third counter for receiving the signal and inverting the output signal.
The least significant bit (LSB) of the counter is
And the other bits are stored in the second or
An integrated circuit test device comprising a third counter .
【請求項2】 前記カウンタは下位ビットから上位ビッ
トに向って数えた場合前記第3のカウンタ以外で構成さ
れるユニットから前記第3のカウンタで構成されるユニ
ットまでの段数を等しくしたことを特徴とする請求項1
記載の集積回路試験装置。
2. The system according to claim 1, wherein the counter has a lower bit to an upper bit.
If it is counted toward
From the unit to be configured to the third counter.
2. The number of stages up to the number of cuts is equal.
An integrated circuit test apparatus according to claim 1.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6486686B1 (en) 1999-10-29 2002-11-26 Nec Corporation Apparatus for testing a bare-chip LSI mounting on a printed board

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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