JPH0989991A - Integrated circuit testing device - Google Patents

Integrated circuit testing device

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JPH0989991A
JPH0989991A JP7245016A JP24501695A JPH0989991A JP H0989991 A JPH0989991 A JP H0989991A JP 7245016 A JP7245016 A JP 7245016A JP 24501695 A JP24501695 A JP 24501695A JP H0989991 A JPH0989991 A JP H0989991A
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JP
Japan
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integrated circuit
wafer
chip
test
tester
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Application number
JP7245016A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Nakaizumi
一雄 中泉
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Publication of JPH0989991A publication Critical patent/JPH0989991A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an integrated circuit testing device for precisely measuring an integrated circuit on a chip or wafer with little hardware structure. SOLUTION: A part or all of the function of LSI test 1 is provided on a semiconductor chip or wafer 72, this is electrically brought into contact with an integrated circuit 74 to be measured through a contact member 73. The semiconductor chip or wafer 72 has an electric characteristic matching means for the LSI tester 1 and the integrated circuit 74. Since the drawing of a signal necessary for test from the LSI test 1 is thus dispensed with to simplify the hardware, a highly precise and high speed measurement for multiple chip parallel and multiple input and output of the LSI tester 1 can be performed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は集積回路試験装置に
関し、特に、チップまたはウェハの状態で集積回路の動
作を評価するための集積回路試験装置に関する。
The present invention relates to an integrated circuit test apparatus, and more particularly to an integrated circuit test apparatus for evaluating the operation of an integrated circuit in a state of a chip or a wafer.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体チップやウェハ上の集積回路を評
価するため、従来の集積回路試験装置は、必要とされる
チップ数および入出力数分の電源、クロック信号、アド
レス信号および入力データを被測定チップまたはウェハ
に供給し、そのチップまたはウェハの出力を判定回路に
より判定するLSIテスタが知られている。
2. Description of the Related Art In order to evaluate an integrated circuit on a semiconductor chip or wafer, a conventional integrated circuit test apparatus receives power supplies, clock signals, address signals and input data for the required number of chips and the number of inputs and outputs. 2. Description of the Related Art There is known an LSI tester which supplies a chip or a wafer and determines the output of the chip or the wafer by a determination circuit.

【0003】このLSIテスタに関する公知技術は、例
えば、特開昭62−243335号公報、特開平2−5
6947号公報および特開平2−239641号公報の
それぞれに開示されている。また、このような測定のた
めに、被測定チップまたはウェハに試験用の回路を設け
たものも公知である。
[0003] Known techniques relating to this LSI tester are disclosed, for example, in JP-A-62-243335 and JP-A-2-5.
No. 6947 and JP-A-2-239641. In addition, a chip or a wafer to be measured provided with a test circuit for such measurement is also known.

【0004】以下に、このLSIテスタの一例として記
憶素子を測定するメモリ・テスタを例に説明する。
Hereinafter, a memory tester for measuring a storage element will be described as an example of the LSI tester.

【0005】図5は従来のメモリ・テスタによる被測定
ウェハの測定例を示す。従来のメモリ・テスタは100
MHzで動作するメモリ・テスタ本体51とメモリ・テ
スタ測定ステーション52とを備え、メモリ・テスタ測
定ステーション52にはドライバ・コンパレータ62と
信号ケーブル57が設けられる。被測定ウェハ55はウ
ェハプローバ53上の真空チャク台56に載せられプロ
ーブ・カード54を介して測定される。
FIG. 5 shows an example of measurement of a wafer to be measured by a conventional memory tester. Conventional memory tester is 100
A memory tester main body 51 operating at MHz and a memory tester measurement station 52 are provided. The memory tester measurement station 52 is provided with a driver comparator 62 and a signal cable 57. The wafer to be measured 55 is placed on a vacuum chuck table 56 on a wafer prober 53 and measured via a probe card 54.

【0006】図6はメモリ・テスタの測定系のブロック
構成を示す。メモリ・テスタ本体51は内には中央処理
装置61を備え、メモリ・テスタ測定ステーション52
内にはドライバ・コンパレータ62を備える。被測定メ
モリ63は信号線64、65および66を介してドライ
バ・コンパレータ62に接続される。ドライバ・コンパ
レータ62は、反転RAS信号および反転CAS信号と
して高精度かつ高速のクロックを信号線64、65を介
して被測定メモリ63に供給し、信号線66を介して試
験データを供給する。ドライバ・コンパレータ62はま
た、被測定メモリ63から信号線66に出力されたデー
タを高精度に判定する。
FIG. 6 shows a block configuration of a measurement system of the memory tester. The memory tester main body 51 has a central processing unit 61 therein, and a memory tester measurement station 52
A driver / comparator 62 is provided inside. The memory under test 63 is connected to the driver / comparator 62 via signal lines 64, 65 and 66. The driver comparator 62 supplies a high-precision and high-speed clock as the RAS signal and the CAS signal to the memory 63 via the signal lines 64 and 65, and supplies test data via the signal line 66. The driver / comparator 62 also highly accurately determines the data output from the memory under test 63 to the signal line 66.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従来のLSIテスタで
は、被測定集積回路のチップ数および入出力数に応じて
クロック信号、アドレス信号、データその他を高精度か
つ高速に供給および測定する必要がある。しかし、LS
Iテスタの1個の駆動部で被測定集積回路の複数個を同
時駆動する場合、ボード上の布線インピーダンスのミス
マッチングにより駆動波形がリンギングし正確な測定が
できない課題があった。例えば、入出力が8ビットの1
6M−DRAMを100MHzで16個並列測定するこ
とのできるメモリ・テスタの制御は技術的に高度になっ
てしまう問題があった。
In the conventional LSI tester, it is necessary to supply and measure a clock signal, an address signal, data and the like with high accuracy and high speed in accordance with the number of chips and the number of inputs and outputs of an integrated circuit to be measured. . But LS
When a plurality of integrated circuits to be measured are simultaneously driven by one driving unit of the I tester, there is a problem that the driving waveform is ringed due to the mismatching of the wiring impedances on the board and the accurate measurement cannot be performed. For example, the input / output is 1 with 8 bits
There is a problem that the control of a memory tester capable of measuring 16 6M-DRAMs in parallel at 100 MHz is technically advanced.

【0008】本発明は、このような課題を解決し、チッ
プまたはウェハ上の集積回路を少ないハードウェア構成
で高精度に測定することのできる集積回路試験装置を提
供することを目的とする。
An object of the present invention is to solve the above problems and to provide an integrated circuit test apparatus capable of highly accurately measuring an integrated circuit on a chip or a wafer with a small hardware configuration.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の集積回路試験装
置は、基板(チップまたはウェハ)上に形成された被測
定集積回路にその回路が動作するために必要な電源およ
び信号を入力してその出力を測定する試験手段を備えた
集積回路試験装置において、被測定集積回路に接触材を
介して電気的に接触可能な半導体チップまたはウェハを
備え、前記半導体チップまたはウェハは、前記試験手段
と前記被測定集積回路との波形整形手段および前記試験
手段と前記被測定集積回路とのスキュー調整手段とを有
する構成である。
An integrated circuit test apparatus of the present invention inputs a power supply and a signal necessary for operating the integrated circuit to be measured formed on a substrate (chip or wafer) to the circuit. In an integrated circuit test apparatus having a test means for measuring the output, a semiconductor chip or wafer that can be electrically contacted with a measured integrated circuit via a contact material is provided, and the semiconductor chip or wafer is the test means. The configuration includes a waveform shaping means for the integrated circuit under test and a skew adjusting means for the test means and the integrated circuit under test.

【0010】また、 以下の説明では、半導体としてシ
リコンを用いた技術を想定し、試験手段の少なくとも一
部が形成された半導体チップまたはウェハを「シリコン
・テスタ」という。
Further, in the following description, a technique using silicon as a semiconductor is assumed, and a semiconductor chip or wafer on which at least a part of the test means is formed is referred to as a "silicon tester".

【0011】このシリコン・テスタには、被測定集積回
路の1個のチップに対する1ビット分のデータからmチ
ップ(mは正の整数)のそれぞれに対してnビット(n
は正の整数)のデータを生成する手段、1枚のウェハに
形成された被測定集積回路をa個のブロック(aは正の
整数)に分割し、そのひとつのブロックを選択して測定
する手段、被測定集積回路のひとつのチップを選択して
測定する手段などを設けることができる。
In this silicon tester, 1 bit of data for one chip of the integrated circuit to be measured to n bits (n is a positive integer) of n chips (m is a positive integer) are included.
Means for generating data of a positive integer) The integrated circuit under test formed on one wafer is divided into a blocks (a is a positive integer), and one of the blocks is selected for measurement. Means, means for selecting and measuring one chip of the integrated circuit to be measured, and the like.

【0012】LSIテスタの機能の一部または全部を半
導体チップまたはウェハ上に設けてシリコン・テスタと
し、これを接触材を介して被測定集積回路に電気的に接
触させる。これにより、試験のために必要な信号をすべ
てLSIテスタから信号線を介して引き出す必要がなく
なる。特に、多チップ並列で多入出力用の高精度かつ高
速のドライバとコンパレータの機能をシリコン・テスタ
に内蔵することで、LSIテスタのハードウェアを簡略
化できる。
A part or all of the functions of the LSI tester is provided on a semiconductor chip or a wafer to form a silicon tester, which is electrically contacted to the integrated circuit to be measured through a contact material. This eliminates the need to extract all the signals required for the test from the LSI tester via the signal lines. In particular, the hardware of the LSI tester can be simplified by incorporating the functions of a high-precision and high-speed driver and comparator for multi-chip parallel and multi-input / output in a silicon tester.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】図1は本発明の一実施の形態の集
積回路試験装置のシリコン・テスタの構成を示す図であ
り、ウェハ・レベルでの実施例を示す。
FIG. 1 is a diagram showing the configuration of a silicon tester of an integrated circuit test apparatus according to an embodiment of the present invention, showing an example at a wafer level.

【0014】図1および図3のそれぞれを参照すると、
この実施例のシリコン・テスタ11は、多チップ/ビッ
ト化制御回路31、ブロックン選択デコーダ32、チッ
プ選択デコーダ33、p倍速制御回路34、P倍速アル
ゴリズム回路35、自己過電流保護回路36、位置合わ
せ用回路37、チップ内テスト回路38、フェイルメモ
リ回路39、電流制御回路40、コンパレータ回路41
およびオンチップコンデンサ42のそれぞれからなる測
定回路30ならびにパッド13ならびに測定回路30の
信号を受けてメモリテスタと被測定集積回路との電気的
特性整合手段12を備える。
Referring to each of FIGS. 1 and 3,
The silicon tester 11 of this embodiment includes a multi-chip / bit control circuit 31, a block selection decoder 32, a chip selection decoder 33, a p-speed control circuit 34, a P-speed algorithm circuit 35, a self-overcurrent protection circuit 36, and a position. Matching circuit 37, in-chip test circuit 38, fail memory circuit 39, current control circuit 40, comparator circuit 41
And a pad 13 and a signal from the measuring circuit 30, and an electric characteristic matching means 12 between the memory tester and the integrated circuit to be measured.

【0015】さらに、図2を参照すると、メモリテスタ
と被測定集積回路との電気的特性整合手段12は、メモ
リテスタと被測定集積回路との波形整形回路22と、被
測定集積回路のタイミングのスキューを調整するスキュ
ー調整回路23とをを有する構成である。
Further, referring to FIG. 2, the electrical characteristic matching means 12 between the memory tester and the integrated circuit under test 12 includes a waveform shaping circuit 22 for the memory tester and the integrated circuit under test, and timing of the integrated circuit under test. And a skew adjusting circuit 23 for adjusting the skew.

【0016】図3はシリコン・テスタ11の測定回路3
0の一構成例を示す。ここでは、1入力のみのデータが
供給され、被測定メモリの個数分の判定結果を出力する
例を示す。このシリコン・テスタ11の測定回路30に
は、多チップ/ビット化制御回路31、ブロックン選択
デコーダ32、チップ選択デコーダ33、p倍速制御回
路34、P倍速アルゴリズム回路35、自己過電流保護
回路36、位置合わせ用回路37、チップ内テスト回路
38、フェイルメモリ回路39、電流制御回路40、コ
ンパレータ回路41およびオンチップコンデンサ42の
それぞれを備える。
FIG. 3 shows the measuring circuit 3 of the silicon tester 11.
An example of the configuration of 0 is shown. Here, an example is shown in which data of only one input is supplied and the determination results for the number of memories under measurement are output. The measurement circuit 30 of the silicon tester 11 includes a multi-chip / bit conversion control circuit 31, a block selection decoder 32, a chip selection decoder 33, a p-speed control circuit 34, a P-speed algorithm circuit 35, and a self-overcurrent protection circuit 36. , A positioning circuit 37, an in-chip test circuit 38, a fail memory circuit 39, a current control circuit 40, a comparator circuit 41 and an on-chip capacitor 42.

【0017】多チップ/ビット化制御回路31は、メモ
リ・テスタから供給される1チップの1ビット(または
1入出力)分のデータから、デコーダ回路および入出力
とアドレス用の排他的論理和回路を用いて、mチップ
(mは正の整数)、nビット(nは正の整数)のデータ
を生成する。ブロック選択デコーダ32は、そのシリコ
ン・テスタがウェハ・レベルで測定するとき、その被測
定ウェハをa個のブロック(aは正の整数)に分割し、
測定対象としてそのひとつのブロックを選択する。チッ
プ選択デコーダ33は、ウェハ・レベルで測定すると
き、被測定ウェハの任意のチップを選択する。p倍速制
御回路34は、メモリ・テスタから供給されるクロック
周波数を位相同期ループを用いてp倍(pは2以上の整
数)にする。p倍速アルゴリズム回路35は、p倍速制
御回路34が動作するとき、アップ/ダウン・カウンタ
とラッチ回路とにより、メモリ・テスタからは供給され
ないp倍速動作の第2サイクル以降のテスト・パターン
を発生する。自己過電流保護回路36は、定格を超える
過電流が流れるチップに対し、リセット機能を有するフ
リップフロップを用いて、電流供給を停止する。位置合
わせ用回路37は、シリコン・テスタのパッドと被測定
チップのパッドとの位置合わせを行うことができるよう
に、被測定チップの任意のパッドに対して配置されたb
個(bは正の整数)パッドに、信号切替回路を介してメ
モリ・テスタからの直流信号を供給する。チップ内テス
ト回路38は、上述した被測定チップの一部の機能に相
当するダミー・チップ回路12を測定し、そのメモリ・
テスタの動作を自己診断する。フェイルメモリ回路39
は、被測定チップの測定結果が不良の場合に、その不良
内容をフリップ・フロップ回路により保持する。電流制
御回路40は、ウェハ・レベルで被測定ウェハを多チッ
プ並列測定する場合に、メモリ・テスタからのクロック
周波数を分周回路により1/c(cは2以上の整数)に
分周して低速化するか、またはその被測定ウェハを任意
のブロックに分割して順次そのブロックを選択すること
により、電流を制御する。コンパレータ回路41は、被
測定チップの測定結果を判定する。オンチップコンデン
サ42は被測定チップとの間のバイパスコンデンサとし
て動作する。
The multi-chip / bit conversion control circuit 31 uses a decoder circuit and an exclusive OR circuit for input / output and address from the data of 1 bit (or 1 input / output) of one chip supplied from the memory tester. Is used to generate data of m chips (m is a positive integer) and n bits (n is a positive integer). The block selection decoder 32 divides the measured wafer into a number of blocks (a is a positive integer) when the silicon tester measures at the wafer level,
Select that one block as the measurement target. The chip selection decoder 33 selects an arbitrary chip of the wafer to be measured when measuring at the wafer level. The p-times speed control circuit 34 multiplies the clock frequency supplied from the memory tester by p times (p is an integer of 2 or more) using a phase locked loop. When the p-times control circuit 34 operates, the p-times speed algorithm circuit 35 uses the up / down counter and the latch circuit to generate a test pattern after the second cycle of the p-times speed operation that is not supplied from the memory tester. . The self-overcurrent protection circuit 36 uses a flip-flop having a reset function to stop current supply to a chip in which an overcurrent exceeding the rating flows. The alignment circuit 37 is arranged on any pad of the chip under test so that the pad of the silicon tester and the pad of the chip under test can be aligned.
The direct current signal from the memory tester is supplied to the individual pads (b is a positive integer) via the signal switching circuit. The in-chip test circuit 38 measures the dummy chip circuit 12 corresponding to a part of the functions of the chip under test, and stores the memory
Self-diagnosis of tester operation. Fail memory circuit 39
When the measurement result of the chip under test is defective, the content of the defect is held by the flip-flop circuit. The current control circuit 40 divides the clock frequency from the memory tester to 1 / c (c is an integer of 2 or more) by a frequency dividing circuit when performing multi-chip parallel measurement of the wafer to be measured at the wafer level. The current is controlled by reducing the speed or by dividing the wafer to be measured into arbitrary blocks and sequentially selecting the blocks. The comparator circuit 41 determines the measurement result of the chip to be measured. The on-chip capacitor 42 operates as a bypass capacitor with the chip under measurement.

【0018】以上の各回路はすべてシリコン・テスタ上
に備えられる必要はなく、例えばチップ単位で測定する
場合にはそのいくつかの回路は省略可能である。
All of the above circuits do not have to be provided on a silicon tester, and some circuits can be omitted, for example, when measuring on a chip basis.

【0019】また、波形整形回路22およびスキュー調
整回路23は公知の回路で構成することもできる。
Further, the waveform shaping circuit 22 and the skew adjusting circuit 23 may be composed of known circuits.

【0020】図4は図3に示したシリコン・テスタの動
作を説明するタイミング図である。メモリ・テスタから
の40ns(時刻t1〜t5)の測定周期のうち時刻t
1〜t2の10nsの間に各信号がセットされると、p
倍速制御回路34およびp倍速アルゴリズム回路35
は、位相同期ループ、アップ/ダウン・カウンタおよび
ラッチ回路により、時刻t1〜t2の各波形をコピー
し、時刻t2〜t3、時刻t3〜t4、時刻t4〜t5
でコピー波形を生成して出力する。時刻t1〜t2はマ
ーキングのインクリメントのリード「H」の部分であ
り、時刻t2〜t3のライト「L」、時刻t3〜t4の
アドレス〔A+1〕番地のリード「H」、および時刻t
4〜t5のライト「L」の各信号の「L」レベルと
「H」レベルとの間の変更およびアドレスの変更はp倍
速アルゴリズム回路35により行われ、各信号の「H」
レベルから「L」レベルまたは「L」レベルから「H」
レベルへの遷移点の時刻の設定はp倍速制御回路34に
より行われる。
FIG. 4 is a timing diagram illustrating the operation of the silicon tester shown in FIG. Time t in the measurement cycle of 40 ns (time t1 to t5) from the memory tester
When each signal is set for 10 ns from 1 to t2, p
Double speed control circuit 34 and p double speed algorithm circuit 35
Copies the waveforms at times t1 to t2 by a phase locked loop, an up / down counter and a latch circuit, and copies the waveforms at times t2 to t3, times t3 to t4, and times t4 to t5.
Generates and outputs a copy waveform. Times t1 to t2 are portions of the read "H" of the marking increment, and the write "L" at the time t2 to t3, the read "H" at the address [A + 1] at the time t3 to t4, and the time t.
The change between the "L" level and the "H" level of each signal of the write "L" from 4 to t5 and the address change are performed by the p-times speed algorithm circuit 35, and the "H" level of each signal is changed.
Level to "L" level or "L" level to "H"
The setting of the time of the transition point to the level is performed by the p-times speed control circuit 34.

【0021】また、これらの出力はシリコン・テスタ上
に設けられた波形整形回路22を介して被測定のチップ
に供給されるので、その動作波形はリンギング等のみだ
れは生じない。
Further, since these outputs are supplied to the chip to be measured through the waveform shaping circuit 22 provided on the silicon tester, the operation waveform thereof does not have drooling such as ringing.

【0022】図7は本発明の一実施の形態のシリコン・
テスタを応用した集積回路試験装置を示す図であり、ウ
ェハ・レベルでの具体例を示す。この場合には、被測定
ウェハ74にその回路が動作するために必要な電源およ
び信号を入力してその出力を測定するための25MHz
で動作するメモリ・テスタ1と、1I/Oのみのドライ
バー6と、信号線ケーブル7と、シリコン・テスタ・ウ
ェハ72と、シリコン・テスタ・ウェハ72と被測定ウ
ェハ74との接触材の圧電性導電ゴム73とこれらシリ
コン・テスタ・ウェハ72および被測定ウェハ74およ
び圧電性導電ゴム73のそれぞれを支持する測定治具7
1とを備える。さらに、メモリ・テスタ1は、パターン
・ジェネレータ2と、16I/O数を有する16個のチ
ップ分の判定結果の入力手段3と、パターン・ジェネレ
ータ2とは異なるメモリ・テスタ1以外の外付けパター
ン・ジェネレータ(図示してない)をセットまたは制御
する制御手段4と、シリコン・テスタ・ウェハ72をメ
モリ・テスタ1に連動して動作させる連動手段5とを備
える。
FIG. 7 shows a silicon layer according to an embodiment of the present invention.
It is a figure which shows the integrated circuit test device which applied the tester, and shows the specific example in a wafer level. In this case, 25 MHz for inputting the power supply and signals necessary for the circuit to operate to the wafer under measurement 74 and measuring the output thereof.
Piezoelectricity of the contact material between the memory tester 1 that operates in the above, the driver 6 for only 1 I / O, the signal line cable 7, the silicon tester wafer 72, and the silicon tester wafer 72 and the wafer to be measured 74. Conductive rubber 73 and measuring jig 7 for supporting silicon tester wafer 72, wafer under measurement 74, and piezoelectric conductive rubber 73, respectively.
1 is provided. Further, the memory tester 1 includes a pattern generator 2, input means 3 for inputting determination results for 16 chips having 16 I / O counts, and external patterns other than the memory tester 1 different from the pattern generator 2. A control means 4 for setting or controlling a generator (not shown) and an interlocking means 5 for operating the silicon tester wafer 72 in conjunction with the memory tester 1 are provided.

【0023】シリコン・テスタ・ウェハ72および被測
定ウェハ74はそれぞれ測定治具71に取り付けられ、
接触材としての圧電性導電ゴム73を介して互いに電気
的に接続される。シリコン・テスタ・ウェハ74には試
験のための一部または全部の機能が設けられる。
The silicon tester wafer 72 and the wafer to be measured 74 are attached to the measuring jig 71, respectively.
They are electrically connected to each other via a piezoelectric conductive rubber 73 as a contact material. The silicon tester wafer 74 is provided with some or all functions for testing.

【0024】次に、本発明の一実施形態の動作について
説明する。この場合には、測定するチップ数が1個では
なく、被測定ウェハ14の全チップのうちの一部、例え
ば96チップ中の16チップとなる。
Next, the operation of the embodiment of the present invention will be described. In this case, the number of chips to be measured is not one, but a part of all the chips of the wafer 14 to be measured, for example, 16 out of 96 chips.

【0025】この場合、メモリ・テスタ1からシリコン
・テスタ・ウェハ72には、1チップの1入力分の信号
が供給される。シリコン・テスタ・ウェハ72では、多
チップ/ビット化制御回路のラッチ回路の排他的論理和
回路とにより16チップ分の8入力データを生成し、ブ
ロック選択デコーダにより96チップを6ブロックに分
割してその1ブロックの16チップを選択して各信号を
供給する。
In this case, a signal for one input of one chip is supplied from the memory tester 1 to the silicon tester wafer 72. In the silicon tester wafer 72, 8 input data for 16 chips is generated by the exclusive OR circuit of the latch circuit of the multi-chip / bit conversion control circuit, and 96 chips are divided into 6 blocks by the block selection decoder. The 16 chips in one block are selected and each signal is supplied.

【0026】まず被測定ウェハ74が良品の16M−D
RAMチップの場合を例に説明する。この場合、シリコ
ン・テスタ・チップ72から試験のための信号が圧電性
導電ゴム73を介して被測定ウェハ74に供給される。
被測定チップの出力は圧電性導電ゴム73を介してシリ
コン・テスタ・チップ72に伝達され、コンパレータ回
路により良品判定され、信号線ケーブル7を介してメモ
リ・テスタ1に伝達される。
First, the measured wafer 74 is a non-defective 16M-D.
A case of a RAM chip will be described as an example. In this case, a signal for testing is supplied from the silicon tester chip 72 to the wafer to be measured 74 via the piezoelectric conductive rubber 73.
The output of the chip to be measured is transmitted to the silicon tester chip 72 via the piezoelectric conductive rubber 73, judged to be non-defective by the comparator circuit, and transmitted to the memory tester 1 via the signal line cable 7.

【0027】被測定ウェハ74がマーキング不良の16
M−DRAMチップである場合にも同様に、シリコン・
テスタ・チップ72から試験のための信号が圧電性導電
ゴム73を介して被測定ウェハ74に供給され、被測定
チップの出力が圧電性導電ゴム73を介してシリコン・
テスタ・チップ72に伝達される。このとき、シリコン
・テスタ・チップ72内のコンパレータ回路では、例え
ば期待値が「H」レベルであるところに「L」レベルの
出力が到来するので、その被測定チップが不良品である
と判定し、不良信号が信号線7を介してメモリ・テスタ
1に伝達される。また、その不良結果がフェイル・メモ
リ回路にも保持される。
The wafer to be measured 74 has 16 marking defects.
Similarly, in the case of an M-DRAM chip, silicon
A signal for testing is supplied from the tester chip 72 to the wafer to be measured 74 via the piezoelectric conductive rubber 73, and the output of the chip to be measured is transferred to the silicon wafer via the piezoelectric conductive rubber 73.
It is transmitted to the tester chip 72. At this time, in the comparator circuit in the silicon tester chip 72, since the output of the “L” level arrives at the place where the expected value is the “H” level, it is determined that the measured chip is a defective product. The defective signal is transmitted to the memory tester 1 via the signal line 7. Further, the result of the failure is held in the fail memory circuit.

【0028】被測定ウェハ74にスタンバイ時に過電流
が流れる不良がある場合には、そのチップをセットして
電源を印加した時点で、自己過電流保護回路が動作す
る。これにより被測定チップへの電流供給が停止し、ス
タンバイ電流不良品であることがメモリ・テスタに伝達
される。
If the wafer to be measured 74 has a defect in which an overcurrent flows during standby, the self-overcurrent protection circuit operates when the chip is set and power is applied. As a result, the current supply to the chip to be measured is stopped, and a defective standby current is transmitted to the memory tester.

【0029】図3および図4に示したシリコン・テスタ
はウェハ・レベルでの測定を目的としたものであるが、
チップ単位の測定用に修正することも可能である。
Although the silicon tester shown in FIGS. 3 and 4 is intended for measurement at the wafer level,
It can also be modified for chip-by-chip measurements.

【0030】以上の説明では被測定集積回路がDRAM
チップまたはDRAMチップが形成されたウェハの場合
について説明したが、それ以外の集積回路の測定にも本
発明を同様に実施できる。
In the above description, the integrated circuit under test is the DRAM.
Although the case of a wafer having chips or DRAM chips formed thereon has been described, the present invention can be similarly applied to the measurement of other integrated circuits.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の集積回路
試験装置は、LSIテスタの機能の少なくとも一部を、
被測定集積回路に接触材を介して電気的に接触可能な半
導体チップまたはウェハからなるシリコン・テスタに設
ける。また特に、シリコン・テスタ内にLSIテスタと
の波形整形機能およびスキュー調整機能を備えるので、
LSIテスタの多チップ並列かつ多入出力用の高精度か
つ高速の測定が可能となる。
As described above, the integrated circuit test apparatus of the present invention has at least a part of the function of the LSI tester.
It is provided in a silicon tester composed of a semiconductor chip or a wafer that can be electrically contacted with a measured integrated circuit through a contact material. In particular, since the silicon tester has a waveform shaping function and skew adjustment function with the LSI tester,
High-accuracy and high-speed measurement is possible for multi-chip parallel and multi-input / output of the LSI tester.

【0032】本発明では、ドライバおよびコンパレータ
の機能をシリコン・テスタで行うことで、LSIテスタ
本体には1個の1入出力ハードウェアを備えればよく、
しかも25MHz動作で精度良く、機能を簡略化したメ
モリ・テスタを用いて従来と同等の測定が可能となる。
In the present invention, the functions of the driver and the comparator are performed by the silicon tester, so that the LSI tester main body may be provided with one 1-input / output hardware.
Moreover, it is possible to perform the same measurement as the conventional one by using the memory tester whose operation is 25 MHz with high accuracy and whose function is simplified.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施の形態の集積回路試験装置の構
成を示す図。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of an integrated circuit test apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施の形態の集積回路試験装置のL
SIテスタと被測定集積回路との電気的特性整合手段の
構成を示す図。
FIG. 2 is an L diagram of an integrated circuit test apparatus according to an embodiment of the present invention.
The figure which shows the structure of the electrical characteristic matching means of SI tester and a to-be-measured integrated circuit.

【図3】シリコン・テスタの構成例を示す図。FIG. 3 is a diagram showing a configuration example of a silicon tester.

【図4】シリコン・テスタの動作を説明するタイミング
図。
FIG. 4 is a timing diagram illustrating the operation of the silicon tester.

【図5】従来のメモリ・テスタによる測定例を示す図。FIG. 5 is a diagram showing an example of measurement by a conventional memory tester.

【図6】メモリ・テスタの測定系のブロック構成を示す
図。
FIG. 6 is a diagram showing a block configuration of a measurement system of a memory tester.

【図7】本発明の一実施の形態の集積回路試験装置の応
用の構成を示す図。
FIG. 7 is a diagram showing a configuration of application of an integrated circuit test apparatus according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,51 メモリ・テスタ 2 パターン・ジェネレータ 3 判定結果の入力手段 4 セットまたは制御する制御手段 5 シリコン・テスタ・ウェハ12をメモリ・テスタ
1に連動して動作させ動手段 6,62 ドライバ・コンパレータ 7,57 信号線ケーブル 11 シリコン・テスタ・ウェハ 12 LSIテスタと被測定集積回路との電気的特性
整合手段 13 パッド 22 波形整形回路 23 スキュー調整回路 31 多チップ/ビット化制御回路 32 ブロックン選択デコーダ 33 チップ選択デコーダ 34 p倍速制御回路 35 p倍速アルゴリズム回路 36 自己過電流保護回路 37 位置合わせ用回路 38 チップ内テスト回路 39 フェイルメモリ回路 40 電流制御回路 41 コンパレータ回路 42 オンチップコンデンサ 43 パッド 52 メモリ・テスタ測定ステーション 53 ウェハプローバ 54 プローブ・カード 55 被測定ウェハ 56 真空チャク台56 61 中央処理装置 63 被測定メモリ 64,65,66 信号線 71 固定治具 72 シリコン・テスタ・ウェハ 73 圧電性導電ゴム 74 被測定ウェハ
1,51 Memory tester 2 Pattern generator 3 Input means of judgment result 4 Control means for setting or controlling 5 Silicon silicon tester Wafer 12 is operated in conjunction with memory tester 1 Moving means 6,62 Driver comparator 7 , 57 signal line cable 11 silicon tester wafer 12 electrical characteristic matching means between LSI tester and integrated circuit under test 13 pad 22 waveform shaping circuit 23 skew adjustment circuit 31 multi-chip / bit conversion control circuit 32 block select decoder 33 Chip selection decoder 34 p double speed control circuit 35 p double speed algorithm circuit 36 Self overcurrent protection circuit 37 Positioning circuit 38 In-chip test circuit 39 Fail memory circuit 40 Current control circuit 41 Comparator circuit 42 On-chip capacitor 43 Pad 52 Mem Re-tester measurement station 53 Wafer prober 54 Probe card 55 Measured wafer 56 Vacuum chuck table 56 61 Central processing unit 63 Measured memory 64, 65, 66 Signal line 71 Fixing jig 72 Silicon tester wafer 73 Piezoelectric conductive Rubber 74 Wafer to be measured

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に形成された被測定集積回路にそ
の回路が動作するために必要な電源および信号を入力し
てその出力を測定する試験手段と、前記被測定集積回路
に接触材を介して電気的に接触可能で前記試験手段の少
なくとも一部が形成された半導体チップまたはウェハを
備えた集積回路試験装置において、 前記半導体チップまたはウェハは、前記試験手段の少な
くとも一部の信号を受けて前記試験手段と前記被測定集
積回路との波形整形手段および前記試験手段と前記被測
定集積回路とのスキュー調整手段とを有することを特徴
とする集積回路試験装置。
1. A test means for inputting a power supply and a signal necessary for the circuit to operate to an integrated circuit to be measured formed on a substrate and measuring an output thereof, and a contact material for the integrated circuit to be measured. In an integrated circuit test device including a semiconductor chip or wafer which is electrically contactable via the semiconductor chip or wafer in which at least a part of the test means is formed, the semiconductor chip or wafer receives a signal of at least a part of the test means. An integrated circuit test apparatus comprising: a waveform shaping means for the test means and the integrated circuit under test; and a skew adjusting means for the test means and the integrated circuit under test.
【請求項2】 前記被測定集積回路は1枚のウェハに複
数のチップを含み、前記半導体チップまたはウェハは被
測定集積回路の1個のチップに対する1ビット分のデー
タからmチップ(mは正の整数)のそれぞれに対してn
ビット(nは正の整数)のデータを生成する手段が設け
られ前記波形整形手段および前記スキュー調整手段のそ
れぞれは前記データを生成する手段の信号を受ける請求
項1記載の集積回路試験装置。
2. The integrated circuit under test includes a plurality of chips on one wafer, and the semiconductor chip or the wafer is m chips (where m is a positive number) based on 1-bit data for one chip of the integrated circuit under test. N for each)
2. The integrated circuit testing device according to claim 1, further comprising means for generating bit (n is a positive integer) data, and each of the waveform shaping means and the skew adjusting means receives a signal from the means for generating the data.
【請求項3】 前記半導体チップまたはウェハ1枚のウ
ェハに形成された被測定集積回路をa個のブロック(a
は正の整数)に分割し、そのひとつのブロックを選択し
て測定する手段が設けられ前記波形整形手段および前記
スキュー調整手段のそれぞれは前記ブロックを選択して
測定する手段の信号を受ける請求項1記載の集積回路試
験装置。
3. An integrated circuit to be measured formed on the wafer of the semiconductor chip or one wafer is divided into a blocks (a).
Is a positive integer), and means for selecting and measuring one of the blocks is provided, and each of the waveform shaping means and the skew adjusting means receives a signal from the means for selecting and measuring the block. 1. The integrated circuit test device according to 1.
【請求項4】 前記被測定集積回路は1枚のウェハに複
数のチップを含み、前記半導体チップまたはウェハは被
測定集積回路のひとつのチップを選択して測定する手段
が設けられ前記波形整形手段および前記スキュー調整手
段のそれぞれは前記被測定集積回路のひとつのチップを
選択して測定する手段の信号を受けて請求項1記載の集
積回路試験装置。
4. The integrated circuit under test includes a plurality of chips on one wafer, and the semiconductor chip or wafer is provided with means for selecting and measuring one chip of the integrated circuit under test, and the waveform shaping means. 2. The integrated circuit test apparatus according to claim 1, wherein each of the skew adjusting means receives a signal from a means for selecting and measuring one chip of the integrated circuit under test.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6486686B1 (en) 1999-10-29 2002-11-26 Nec Corporation Apparatus for testing a bare-chip LSI mounting on a printed board
US6845477B2 (en) 2000-05-29 2005-01-18 Renesas Technology Corp. Semiconductor test device for conducting an operation test in parallel on many chips in a wafer test and semiconductor test method

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Effective date: 19980916