JP2828442B2 - 半導体製造装備の廃液自動回収装置 - Google Patents
半導体製造装備の廃液自動回収装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造設備の
廃液自動回収装置に関し、詳しくは、有機溶剤などを含
む化学廃液を、ポンプを用いずに空気圧を利用し、該製
造装置の毎回の工程毎に系外に排出し得るようにした廃
液自動回収装置に関する。
廃液自動回収装置に関し、詳しくは、有機溶剤などを含
む化学廃液を、ポンプを用いずに空気圧を利用し、該製
造装置の毎回の工程毎に系外に排出し得るようにした廃
液自動回収装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の廃液回収装置においては、図４に
示すように、コーティング装置及び現像装置等半導体の
製造に用いる装置１の下部に該装置から、継続して排出
される廃液を一時的に貯蔵する回収タンク２（Drain ba
th）を設置し、回収タンク２の一側に、回収タンク２に
一時的に貯蔵されていた廃液を受け入れて貯蔵する主回
収タンク５（main drain bath)を設置し、これら回収タ
ンク２と主回収タンク５とを廃液を移送する第１の連結
管６、第２の連結管７及び第３の連結管８にて連結し、
ポンプ９により連結管６及び連結管７を経て回収タンク
２に貯蔵された廃液を主回収タンク５に移送するように
していた。
示すように、コーティング装置及び現像装置等半導体の
製造に用いる装置１の下部に該装置から、継続して排出
される廃液を一時的に貯蔵する回収タンク２（Drain ba
th）を設置し、回収タンク２の一側に、回収タンク２に
一時的に貯蔵されていた廃液を受け入れて貯蔵する主回
収タンク５（main drain bath)を設置し、これら回収タ
ンク２と主回収タンク５とを廃液を移送する第１の連結
管６、第２の連結管７及び第３の連結管８にて連結し、
ポンプ９により連結管６及び連結管７を経て回収タンク
２に貯蔵された廃液を主回収タンク５に移送するように
していた。
【０００３】ここで、第１の連結管６及び第３の連結管
８の所定部位には、それぞれ圧縮空気の流入により開放
される第１のエアーバルブ１１及び第２のエアーバルブ
１２が設置され、第１の連結管６の一端はポンプ９のサ
クション側に連結され、ポンプ９と第１のエアーバルブ
１１間の第１の連結管６には第１の分枝管６ａが第３の
エアーバルブ１３を介して連結され、第１の分枝管６ａ
の先端はシンナータンク１７に連結されている。
８の所定部位には、それぞれ圧縮空気の流入により開放
される第１のエアーバルブ１１及び第２のエアーバルブ
１２が設置され、第１の連結管６の一端はポンプ９のサ
クション側に連結され、ポンプ９と第１のエアーバルブ
１１間の第１の連結管６には第１の分枝管６ａが第３の
エアーバルブ１３を介して連結され、第１の分枝管６ａ
の先端はシンナータンク１７に連結されている。
【０００４】また、ポンプ９のデリバリー側には主回収
タンク５に至る第２の連結管７が連結され、第２の連結
管７の途中には仕切弁１４を介して第２の分岐管７ａが
連結され、更に、第１の連結管６の第１のエアーバルブ
１１の後流には主回収タンク５とポンプ９のサクション
側とを連結する第３の連結管８が第２のエアーバルブ１
２を介して装備され、また回収タンク５にはアラームセ
ンサー１５及びフルセンサー１６が、回収タンク２には
ローセンサー３及びフルセンサー４がそれぞれ装備され
ている。
タンク５に至る第２の連結管７が連結され、第２の連結
管７の途中には仕切弁１４を介して第２の分岐管７ａが
連結され、更に、第１の連結管６の第１のエアーバルブ
１１の後流には主回収タンク５とポンプ９のサクション
側とを連結する第３の連結管８が第２のエアーバルブ１
２を介して装備され、また回収タンク５にはアラームセ
ンサー１５及びフルセンサー１６が、回収タンク２には
ローセンサー３及びフルセンサー４がそれぞれ装備され
ている。
【０００５】尚、各エアーバルブ１１、１２、１３に
は、該弁を閉方向に付勢するバルブ支持スプリング１１
ａ、１２ａ、１３ａがそれぞれ装着されている。
は、該弁を閉方向に付勢するバルブ支持スプリング１１
ａ、１２ａ、１３ａがそれぞれ装着されている。
【０００６】以下、このように構成された従来の廃液回
収装置の動作を説明する。
収装置の動作を説明する。
【０００７】半導体製造装置１の動作中、回収タンク２
に廃液が排出されて溜まると、回収タンクの液位が高く
なりフルセンサー４からの信号により、第１のエアーバ
ルブ１１が開位置にされ、そしてポンプ９が起動させら
れる（第２及び第３のエアーバルブ１２、１３及び仕切
弁１４は、全て“開”）。ポンプ９の駆動により、回収
タンク２に一時的に貯蔵されていた廃液は第１の連結管
６及び第２の連結管７を経て主回収タンク５に移送され
る。所定量の廃液が主回収タンク５に移送されて回収タ
ンク２の液位が低くなると、回収タンク２のローセンサ
ー３からの信号により第３のエアーバルブ１３が開位置
にされ（第１のエアーバルブ１１は“閉”）、シンナー
タンク１７に貯蔵されていたシンナーが所定時間（約５
〜１０秒）、ポンプ９の内部に流入してポンプ９の内部
に残存している粘性の高い廃液を洗い流す。その後、フ
ルセンサー１６からの信号により第２のエアーバルブ１
２が開位置にされ（第１及び第３のエアーバルブ１１、
１３は“閉”、仕切弁１４は“開”）、主回収タンク５
内の廃液が装置系外に仕切弁１４を介して排出される。
に廃液が排出されて溜まると、回収タンクの液位が高く
なりフルセンサー４からの信号により、第１のエアーバ
ルブ１１が開位置にされ、そしてポンプ９が起動させら
れる（第２及び第３のエアーバルブ１２、１３及び仕切
弁１４は、全て“開”）。ポンプ９の駆動により、回収
タンク２に一時的に貯蔵されていた廃液は第１の連結管
６及び第２の連結管７を経て主回収タンク５に移送され
る。所定量の廃液が主回収タンク５に移送されて回収タ
ンク２の液位が低くなると、回収タンク２のローセンサ
ー３からの信号により第３のエアーバルブ１３が開位置
にされ（第１のエアーバルブ１１は“閉”）、シンナー
タンク１７に貯蔵されていたシンナーが所定時間（約５
〜１０秒）、ポンプ９の内部に流入してポンプ９の内部
に残存している粘性の高い廃液を洗い流す。その後、フ
ルセンサー１６からの信号により第２のエアーバルブ１
２が開位置にされ（第１及び第３のエアーバルブ１１、
１３は“閉”、仕切弁１４は“開”）、主回収タンク５
内の廃液が装置系外に仕切弁１４を介して排出される。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】然るに、このような従
来の廃液回収装置においては、ポンプ９の故障が頻繁に
発生し、一旦、故障が発生すると、作業者の手作業によ
りいちいち廃液を回収しなければならず、また廃液を回
収する作業時には、半導体製造装置の稼働を停止しなけ
ればならないという不都合な点があった。更に、フルセ
ンサー及びローセンサーの作動不良により回収タンクが
時々溢れれて半導体製造装置の周辺環境が汚染されると
いう不都合な点があった。又、半導体製造装置と廃液回
収装置との設置数比率が１：１又は２：１に設置するよ
うになっているため、廃液回収装置分の設備費が上昇す
るという不都合な点があった。
来の廃液回収装置においては、ポンプ９の故障が頻繁に
発生し、一旦、故障が発生すると、作業者の手作業によ
りいちいち廃液を回収しなければならず、また廃液を回
収する作業時には、半導体製造装置の稼働を停止しなけ
ればならないという不都合な点があった。更に、フルセ
ンサー及びローセンサーの作動不良により回収タンクが
時々溢れれて半導体製造装置の周辺環境が汚染されると
いう不都合な点があった。又、半導体製造装置と廃液回
収装置との設置数比率が１：１又は２：１に設置するよ
うになっているため、廃液回収装置分の設備費が上昇す
るという不都合な点があった。
【０００９】本発明は、故障発生頻度大であるポンプを
しようしない半導体製造装置の廃液自動回収装置を提供
することを目的とする。更に本発明は、設備費を低減し
得る半導体製造装置の廃液自動回収装置を提供すること
を目的とする。
しようしない半導体製造装置の廃液自動回収装置を提供
することを目的とする。更に本発明は、設備費を低減し
得る半導体製造装置の廃液自動回収装置を提供すること
を目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、半導体製造装
置の廃液自動回収装置であって、半導体製造装置から排
出される排出物を一時的に受け入れ貯蔵する回収タン
ク；と、該回収タンクから移送される排出物を受け入れ
貯蔵する主回収タンク；と、該回収タンクと主回収タン
ク間に設置され、第１の条件設定時には、該回収タンク
から移送される排出物を受け入れ、次なる第２条件設定
時には、該受け入れた排出物を該主回収タンクに移送し
て貯蔵させる中間タンク；と、該中間タンクに真空を供
給する真空供給手段；と、該中間タンクに圧縮空気を供
給する空気供給手段；と、該回収タンクと該中間タンク
との連結手段；と、該中間タンクと該主回収タンクとの
連結手段；と、を備えて構成されていることを特徴とす
る。
置の廃液自動回収装置であって、半導体製造装置から排
出される排出物を一時的に受け入れ貯蔵する回収タン
ク；と、該回収タンクから移送される排出物を受け入れ
貯蔵する主回収タンク；と、該回収タンクと主回収タン
ク間に設置され、第１の条件設定時には、該回収タンク
から移送される排出物を受け入れ、次なる第２条件設定
時には、該受け入れた排出物を該主回収タンクに移送し
て貯蔵させる中間タンク；と、該中間タンクに真空を供
給する真空供給手段；と、該中間タンクに圧縮空気を供
給する空気供給手段；と、該回収タンクと該中間タンク
との連結手段；と、該中間タンクと該主回収タンクとの
連結手段；と、を備えて構成されていることを特徴とす
る。
【００１１】ここで、前記の回収タンクと中間タンクと
の連結手段及び前記の中間タンクと主回収タンクとの連
結手段としては、その中に液を通し得る配管でよい。但
し、後述のように液の移送のための原動力として空気の
圧力（真空サイドと加圧サイド）を利用するので該連結
手段の末端の配置には工夫が必要である。前者（第１の
配管）については、該原動力が該中間タンクの気相部に
作用する真空故、空吸い込み防止のためにその一端は排
出物の移送中該回収タンクの液相部に漬かった状態を維
持できる位置に配し、更にその管路の途中に前記の排出
物の該中間タンクから該回収タンク方向への移動を阻止
し得る逆止弁を配する（該中間タンクの気相部の圧力を
加圧サイドにした際の排出物の逆流防止）。尚、その他
端は好ましくは該中間タンクの気相部に配するのがよい
（後述の通り、該中間タンクの気相部に真空雰囲気が提
供された場合、該回収タンクの気相部の圧力＞該中間タ
ンクの圧力となり該回収タンク内の排出物を該中間タン
クに吸引・移送する。その移送の終点、すなわち該真空
雰囲気の提供が遮断された時点において該中間タンクに
該回収タンクから空気が流入し、該中間タンクの気相部
の圧力は大気圧となる）。一方、後者（第２の配管）に
ついては、該原動力が該中間タンクの気相部に作用する
空気圧故圧縮空気の吹き抜け防止のため、その一端は排
出物の移送中該中間タンクの液相部に漬かった状態を維
持できる位置に配し、更にその管路の途中に該排出物の
移動を許容／拒否する（該管路を液が“通過し得る”状
態／“通過し得ない状態”にする）第２の弁を配する。
尚、その他端は好ましくは該主回収タンクの気相部に配
するのがよい（後述の通り、圧縮空気が該中間タンクの
気相部に供給された場合、該中間タンクの気相部の圧力
＞該主回収タンクの圧力となり該中間タンク内の排出物
を該主回収タンクに圧送する。その移送の終点、すなわ
ち該加圧雰囲気の提供が遮断された時点において該主回
収タンクに該中間タンクから余分な空気が流入し、該主
回収タンクの気相部の圧力は大気圧となる）。
の連結手段及び前記の中間タンクと主回収タンクとの連
結手段としては、その中に液を通し得る配管でよい。但
し、後述のように液の移送のための原動力として空気の
圧力（真空サイドと加圧サイド）を利用するので該連結
手段の末端の配置には工夫が必要である。前者（第１の
配管）については、該原動力が該中間タンクの気相部に
作用する真空故、空吸い込み防止のためにその一端は排
出物の移送中該回収タンクの液相部に漬かった状態を維
持できる位置に配し、更にその管路の途中に前記の排出
物の該中間タンクから該回収タンク方向への移動を阻止
し得る逆止弁を配する（該中間タンクの気相部の圧力を
加圧サイドにした際の排出物の逆流防止）。尚、その他
端は好ましくは該中間タンクの気相部に配するのがよい
（後述の通り、該中間タンクの気相部に真空雰囲気が提
供された場合、該回収タンクの気相部の圧力＞該中間タ
ンクの圧力となり該回収タンク内の排出物を該中間タン
クに吸引・移送する。その移送の終点、すなわち該真空
雰囲気の提供が遮断された時点において該中間タンクに
該回収タンクから空気が流入し、該中間タンクの気相部
の圧力は大気圧となる）。一方、後者（第２の配管）に
ついては、該原動力が該中間タンクの気相部に作用する
空気圧故圧縮空気の吹き抜け防止のため、その一端は排
出物の移送中該中間タンクの液相部に漬かった状態を維
持できる位置に配し、更にその管路の途中に該排出物の
移動を許容／拒否する（該管路を液が“通過し得る”状
態／“通過し得ない状態”にする）第２の弁を配する。
尚、その他端は好ましくは該主回収タンクの気相部に配
するのがよい（後述の通り、圧縮空気が該中間タンクの
気相部に供給された場合、該中間タンクの気相部の圧力
＞該主回収タンクの圧力となり該中間タンク内の排出物
を該主回収タンクに圧送する。その移送の終点、すなわ
ち該加圧雰囲気の提供が遮断された時点において該主回
収タンクに該中間タンクから余分な空気が流入し、該主
回収タンクの気相部の圧力は大気圧となる）。
【００１２】また、前記の真空供給手段としては、真空
発生装置（例えば、真空ポンプ）、又はそれに連なる真
空タンク；と、該真空発生装置又はそれに連なる真空タ
ンクと該中間タンクとを連結する配管であって、該中間
タンクの気相部に真空雰囲気を形成するためその一端を
該中間タンクの気相部に配し、その他端を該真空発生装
置又はそれに連なる真空タンクに連結し、その管路の途
中に空気の移動を許容／拒否する（該管路を空気が“通
過し得る”状態／“通過し得ない状態”にする）第１の
弁が配された第４の配管；と、を備えて構成する。一
方、前記の中間タンクに加圧空気を供給する空気供給手
段としては、加圧空気発生手段（例えば、コンプレッサ
ー）又はそれに連なる加圧空気タンク；と、該加圧空気
発生手段又はそれに連なる加圧空気タンクと該中間タン
クとを連結する配管であって、該中間タンクの気相部に
加圧空気の雰囲気を形成するためその一端を該中間タン
クの気相部に配し、その他端を該加圧空気装置又はそれ
に連なる真空タンクに連結し、その管路の途中に加圧空
気の移動量を調整し得る第３の弁が配された第３の配
管；と、を備えて構成する。
発生装置（例えば、真空ポンプ）、又はそれに連なる真
空タンク；と、該真空発生装置又はそれに連なる真空タ
ンクと該中間タンクとを連結する配管であって、該中間
タンクの気相部に真空雰囲気を形成するためその一端を
該中間タンクの気相部に配し、その他端を該真空発生装
置又はそれに連なる真空タンクに連結し、その管路の途
中に空気の移動を許容／拒否する（該管路を空気が“通
過し得る”状態／“通過し得ない状態”にする）第１の
弁が配された第４の配管；と、を備えて構成する。一
方、前記の中間タンクに加圧空気を供給する空気供給手
段としては、加圧空気発生手段（例えば、コンプレッサ
ー）又はそれに連なる加圧空気タンク；と、該加圧空気
発生手段又はそれに連なる加圧空気タンクと該中間タン
クとを連結する配管であって、該中間タンクの気相部に
加圧空気の雰囲気を形成するためその一端を該中間タン
クの気相部に配し、その他端を該加圧空気装置又はそれ
に連なる真空タンクに連結し、その管路の途中に加圧空
気の移動量を調整し得る第３の弁が配された第３の配
管；と、を備えて構成する。
【００１３】尚、前記の各弁の形式であるが、第１の弁
と第２の弁については、その目的（管路の開け閉め）か
らは電動弁であってもよいし空気駆動弁であってもよい
が、排出物の移送の原動力として空気圧を利用している
ので、その空気を利用し得るという点及び半導体製造装
置では引火性の高い化学物質を使う、したがって各補機
としては防爆仕様が要求されるという点において空気駆
動弁（以下、該弁をそれぞれ第１のエアーバルブ、第２
のエアーバルブ、という。尚、これらの弁は空気の供給
時に開動作をするものであり、該空気の供給はそれぞれ
第１ソレノイドバルブ及び第２ソレノイドバルブを介し
て行うのがよい。前記の排出物の移送量を、それぞれ第
１ソレノイドバルブ及び第２ソレノイドバルブのオン／
オフ時間を調節することによって行うことができるから
である）が好ましい。また、第３の弁については、通称
“スピコン”といわれるもの（正式には。スピードコン
トローラ）を使えばよい。
と第２の弁については、その目的（管路の開け閉め）か
らは電動弁であってもよいし空気駆動弁であってもよい
が、排出物の移送の原動力として空気圧を利用している
ので、その空気を利用し得るという点及び半導体製造装
置では引火性の高い化学物質を使う、したがって各補機
としては防爆仕様が要求されるという点において空気駆
動弁（以下、該弁をそれぞれ第１のエアーバルブ、第２
のエアーバルブ、という。尚、これらの弁は空気の供給
時に開動作をするものであり、該空気の供給はそれぞれ
第１ソレノイドバルブ及び第２ソレノイドバルブを介し
て行うのがよい。前記の排出物の移送量を、それぞれ第
１ソレノイドバルブ及び第２ソレノイドバルブのオン／
オフ時間を調節することによって行うことができるから
である）が好ましい。また、第３の弁については、通称
“スピコン”といわれるもの（正式には。スピードコン
トローラ）を使えばよい。
【００１４】一方、本発明の装置の各運転モードにおけ
る各サブシステムの経路であるが、前記の第１条件、す
なわち「前記の回収タンクと前記の中間タンクとの間の
排出物の移送」においては、 移送原動力の提供回路として、前記の第１の弁を開
位置に、そして前記の第３の弁を閉位置にそれぞれおく
ことによって該中間タンクの気相部と前記の真空供給手
段との間に該中間タンクの気相部に存在する空気の吸引
が可能な経路、すなわち第４の配管を連通状態にした経
路を形成し；一方 排出物の移送回路として、前記の第２の弁を閉位置
におき、該回収タンクの液相部と該中間タンクの液相部
とを連結する管路を連通する経路を形成すればよい。
る各サブシステムの経路であるが、前記の第１条件、す
なわち「前記の回収タンクと前記の中間タンクとの間の
排出物の移送」においては、 移送原動力の提供回路として、前記の第１の弁を開
位置に、そして前記の第３の弁を閉位置にそれぞれおく
ことによって該中間タンクの気相部と前記の真空供給手
段との間に該中間タンクの気相部に存在する空気の吸引
が可能な経路、すなわち第４の配管を連通状態にした経
路を形成し；一方 排出物の移送回路として、前記の第２の弁を閉位置
におき、該回収タンクの液相部と該中間タンクの液相部
とを連結する管路を連通する経路を形成すればよい。
【００１５】前記の第２条件、すなわち「前記の中間タ
ンクと前記の主回収タンクとの間にの排出物の移送」に
おいては、 移送原動力の提供回路として、前記の第３の弁を開
き加圧空気の流量制御位置に、そして前記の第１の弁を
閉位置におくことによって該中間タンクの気相部と前記
の加圧空気供給手段との間に該中間タンクの気相部への
加圧空気の供給が可能な経路、すなわち第３の配管を連
通状態にした経路を形成し；一方 排出物の移送回路として、前記の第２の弁を開位置
におき、該中間タンクの液相部と該主回収タンクの液相
部とを連結する管路を連通する経路を形成すればよい
（尚、逆止弁は、該中間タンクの気相部に存在する空気
が加圧状態になることによって該排出物が逆流し自動的
に作動するので操作は不要）。
ンクと前記の主回収タンクとの間にの排出物の移送」に
おいては、 移送原動力の提供回路として、前記の第３の弁を開
き加圧空気の流量制御位置に、そして前記の第１の弁を
閉位置におくことによって該中間タンクの気相部と前記
の加圧空気供給手段との間に該中間タンクの気相部への
加圧空気の供給が可能な経路、すなわち第３の配管を連
通状態にした経路を形成し；一方 排出物の移送回路として、前記の第２の弁を開位置
におき、該中間タンクの液相部と該主回収タンクの液相
部とを連結する管路を連通する経路を形成すればよい
（尚、逆止弁は、該中間タンクの気相部に存在する空気
が加圧状態になることによって該排出物が逆流し自動的
に作動するので操作は不要）。
【００１６】前記の第１の条件及び前記の第２の条件に
おける経路形成は、前記の半導体製造装置の各工程の動
作終了毎に、なされるようにされていることが好まし
い。各タンクの稼働率が上昇し、結果として、各タンク
の容量を最小化し得るからである。
おける経路形成は、前記の半導体製造装置の各工程の動
作終了毎に、なされるようにされていることが好まし
い。各タンクの稼働率が上昇し、結果として、各タンク
の容量を最小化し得るからである。
【００１７】前記の回収タンク、中間タンク及び主回収
タンクには、それぞれそれらの内部に存在する排出物の
液位を感知し警報を発する及び／又は関連機器の起動／
停止用の信号を発するアラームセンサー及び安全センサ
ーが装着されていることが好ましい。該中間タンクに装
備されたアラームセンサーに、第１の弁の動作不良状態
を感知させ、動作不良と判定された場合には、該中間タ
ンクに装備された安全センサーを作動させるように計装
システムを形成し、一方、該主回収タンクに装備された
アラームセンサーに、第２の弁の動作不良状態を感知さ
せ、動作不良と判定された場合には、該主回収タンクに
装備された安全センサーを作動させるようにするよう計
装システムを形成しておけば、安全に装置を停止させる
ことができ、結果として、各タンクからの排出物のオー
バーフローを防止し得るからである。
タンクには、それぞれそれらの内部に存在する排出物の
液位を感知し警報を発する及び／又は関連機器の起動／
停止用の信号を発するアラームセンサー及び安全センサ
ーが装着されていることが好ましい。該中間タンクに装
備されたアラームセンサーに、第１の弁の動作不良状態
を感知させ、動作不良と判定された場合には、該中間タ
ンクに装備された安全センサーを作動させるように計装
システムを形成し、一方、該主回収タンクに装備された
アラームセンサーに、第２の弁の動作不良状態を感知さ
せ、動作不良と判定された場合には、該主回収タンクに
装備された安全センサーを作動させるようにするよう計
装システムを形成しておけば、安全に装置を停止させる
ことができ、結果として、各タンクからの排出物のオー
バーフローを防止し得るからである。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、本発明を実施例として示し
た図面を用いて説明する。尚、本発明はこの態様に限定
されるものではない。
た図面を用いて説明する。尚、本発明はこの態様に限定
されるものではない。
【００１９】本発明に係る半導体製造装置の廃液自動回
収装置は、図１に示すように、半導体製造装置１０１の
下方に、半導体製造装置１０１の毎回の製造動作の度毎
に排出される廃液を一時的に貯蔵する回収タンク１０２
（Drain bath）を設けると共に、回収タンク１０２の側
方に、回収タンク１０２から移送される廃液を貯蔵する
主回収タンク１０５（main drain batch）が設けられて
いる。回収タンク１０２と主回収タンク１０５との間に
は回収タンク１０２内の廃液を一旦受け入れ、そして主
回収タンク１０５に移送する中間タンク１１０が設けら
れ、各タンクは、それぞれ第１及び第２の連結管１０
６、１１２により連結されている。
収装置は、図１に示すように、半導体製造装置１０１の
下方に、半導体製造装置１０１の毎回の製造動作の度毎
に排出される廃液を一時的に貯蔵する回収タンク１０２
（Drain bath）を設けると共に、回収タンク１０２の側
方に、回収タンク１０２から移送される廃液を貯蔵する
主回収タンク１０５（main drain batch）が設けられて
いる。回収タンク１０２と主回収タンク１０５との間に
は回収タンク１０２内の廃液を一旦受け入れ、そして主
回収タンク１０５に移送する中間タンク１１０が設けら
れ、各タンクは、それぞれ第１及び第２の連結管１０
６、１１２により連結されている。
【００２０】一方、中間タンク１１０は、真空供給手段
としての真空発生装置（例えば真空ポンプ。第２図参
照）又は第５の連結管１１５を介してそれに連なる真空
タンク１１１と第４の連結管１１４にて、空気供給手段
としての加圧空気発生手段（例えば、コンプレッサー。
図示せず）又はそれに連なる加圧空気タンク（図示せ
ず）と第３の連結管１１３にて、それぞれ連結されてい
る。尚、図示の通り、連結管１１３に供給される圧縮空
気は、第２のエアーバルブの動作用のそれを共用してい
る。
としての真空発生装置（例えば真空ポンプ。第２図参
照）又は第５の連結管１１５を介してそれに連なる真空
タンク１１１と第４の連結管１１４にて、空気供給手段
としての加圧空気発生手段（例えば、コンプレッサー。
図示せず）又はそれに連なる加圧空気タンク（図示せ
ず）と第３の連結管１１３にて、それぞれ連結されてい
る。尚、図示の通り、連結管１１３に供給される圧縮空
気は、第２のエアーバルブの動作用のそれを共用してい
る。
【００２１】各連結管、すなわち第１の連結管１０６に
は排出物の中間タンク１１０から回収タンク１０２への
逆流防止用の逆止弁１０７が、第２の連結管１１２には
排出物の中間タンク１１０から主回収タンク１０５への
移送を許容／遮断する第２のエアーバルブ１１７（第２
ソレノイドバルブ１１７ａにより開閉される）が、第４
の連結管１１４には中間タンク１１０の気相部からの空
気の排出を許容／遮断する第１のエアーバルブ１１６
（第１ソレノイドバルブ１１６ａにより開閉される）
が、それぞれ配されている。
は排出物の中間タンク１１０から回収タンク１０２への
逆流防止用の逆止弁１０７が、第２の連結管１１２には
排出物の中間タンク１１０から主回収タンク１０５への
移送を許容／遮断する第２のエアーバルブ１１７（第２
ソレノイドバルブ１１７ａにより開閉される）が、第４
の連結管１１４には中間タンク１１０の気相部からの空
気の排出を許容／遮断する第１のエアーバルブ１１６
（第１ソレノイドバルブ１１６ａにより開閉される）
が、それぞれ配されている。
【００２２】尚、各タンクと連結するための各連結管の
両端又は一端の配置は、以下のようになされている。 第１の連結管１０６ ・回収タンク１０２側・・・・・・排出物の移送中、該端部が
該回収タンク内にある排出物の液相部に浸漬し続けるレ
ベル（理想的には、排出物の移送が終了し中間タンク１
１０の気相部の圧力が大気圧になった時点において、該
端部と該回収タンクの液面が同一となるレベル） ・中間タンク１１０側・・・・・・該中間タンクの気相部 第２の連結管１１２ ・中間タンク１１０側・・・・・・排出物の移送中、該端部が
該中間タンク内にある排出物の液相部に浸漬し続けるレ
ベル（理想的には、排出物の移送が終了し該中間タンク
の気相部の圧力が大気圧になった時点において、該端部
と主回収タンク１０５の液面が同一となるレベル） ・主回収タンク１０５側・・・・該主回収タンクの気相部
両端又は一端の配置は、以下のようになされている。 第１の連結管１０６ ・回収タンク１０２側・・・・・・排出物の移送中、該端部が
該回収タンク内にある排出物の液相部に浸漬し続けるレ
ベル（理想的には、排出物の移送が終了し中間タンク１
１０の気相部の圧力が大気圧になった時点において、該
端部と該回収タンクの液面が同一となるレベル） ・中間タンク１１０側・・・・・・該中間タンクの気相部 第２の連結管１１２ ・中間タンク１１０側・・・・・・排出物の移送中、該端部が
該中間タンク内にある排出物の液相部に浸漬し続けるレ
ベル（理想的には、排出物の移送が終了し該中間タンク
の気相部の圧力が大気圧になった時点において、該端部
と主回収タンク１０５の液面が同一となるレベル） ・主回収タンク１０５側・・・・該主回収タンクの気相部
【００２３】更に、回収タンク１０２、中間タンク１１
０及び主回収タンク１０５には、それぞれ、アラームセ
ンサー１０３、１０９、１２０及び安全センサー１０
４、１０８、１１９が装備されている。尚、真空タンク
１１１の下面にはドレン抜き取り用の仕切弁１１８が装
備されている。また、第１及び第２のエアーバルブ１１
６、１１７の下面には該バルブを閉方向に付勢する支持
スプリング１１６ｂ、１１７ｂがそれぞれ装備されてい
る（該エアーバルブは、圧縮空気が供給されると開とな
る）。
０及び主回収タンク１０５には、それぞれ、アラームセ
ンサー１０３、１０９、１２０及び安全センサー１０
４、１０８、１１９が装備されている。尚、真空タンク
１１１の下面にはドレン抜き取り用の仕切弁１１８が装
備されている。また、第１及び第２のエアーバルブ１１
６、１１７の下面には該バルブを閉方向に付勢する支持
スプリング１１６ｂ、１１７ｂがそれぞれ装備されてい
る（該エアーバルブは、圧縮空気が供給されると開とな
る）。
【００２４】以下、このように構成された本発明の廃液
自動回収装置の動作を半導体製造装置のストリップ（St
rip)工程を例として説明する。
自動回収装置の動作を半導体製造装置のストリップ（St
rip)工程を例として説明する。
【００２５】先ず、シンナー（OMR Thinner)溶液をウェ
ーハに塗布するストリップ動作が終了すると、該ウェー
ハのリンス（rinse)が行われ、廃液が回収タンク１０２
（Drain bath）に排出・貯蔵される。このとき、ウェー
ハ１枚当り処理時間は、約４５〜７０秒で、有機溶剤は
該工程の条件に従い０．５cc〜１．５cc程度用いられ、
その内、８０％〜１００％が、廃液として排出される。
ーハに塗布するストリップ動作が終了すると、該ウェー
ハのリンス（rinse)が行われ、廃液が回収タンク１０２
（Drain bath）に排出・貯蔵される。このとき、ウェー
ハ１枚当り処理時間は、約４５〜７０秒で、有機溶剤は
該工程の条件に従い０．５cc〜１．５cc程度用いられ、
その内、８０％〜１００％が、廃液として排出される。
【００２６】ここで、第１ソレノイドバルブ１１６ａが
開とされ第１のエアーバルブ１１６が１０〜１５秒程度
開になると、真空タンク１１１の真空雰囲気が中間タン
ク１１０の気相部に提供されるので回収タンク１０２の
気相部の圧力＞中間タンク１１０の気相部の圧力とな
り、第１の連結管１０６を通って回収タンク１０２内の
廃液が、中間タンク１１０内部に流入する。次に、第１
のエアーバルブ１１６を閉にすると、前記の圧力差にて
回収タンク１０２から空気が中間タンク１１０に流入す
るので中間タンク１１０の気相部の圧力は大気圧状態に
復帰する。
開とされ第１のエアーバルブ１１６が１０〜１５秒程度
開になると、真空タンク１１１の真空雰囲気が中間タン
ク１１０の気相部に提供されるので回収タンク１０２の
気相部の圧力＞中間タンク１１０の気相部の圧力とな
り、第１の連結管１０６を通って回収タンク１０２内の
廃液が、中間タンク１１０内部に流入する。次に、第１
のエアーバルブ１１６を閉にすると、前記の圧力差にて
回収タンク１０２から空気が中間タンク１１０に流入す
るので中間タンク１１０の気相部の圧力は大気圧状態に
復帰する。
【００２７】次いで、バックリンスプログラム（back r
inse program）に進行すると、第２ソレノイドバルブ１
１７ａが開とされ、所定の時間、第２のエアーバルブ１
１７が開になると共に圧縮空気が第３の連結管１１３を
介して中間タンク１１０の気相部に導入されるので、中
間タンク１１０に予め移送された先の廃液が主回収タン
ク１０５に移送される（回収タンク１０２は、バックリ
ンス工程の廃液を受け入れる）。
inse program）に進行すると、第２ソレノイドバルブ１
１７ａが開とされ、所定の時間、第２のエアーバルブ１
１７が開になると共に圧縮空気が第３の連結管１１３を
介して中間タンク１１０の気相部に導入されるので、中
間タンク１１０に予め移送された先の廃液が主回収タン
ク１０５に移送される（回収タンク１０２は、バックリ
ンス工程の廃液を受け入れる）。
【００２８】このような全ての動作は自動で行われ、作
業者は、半導体製造主装置１０１の稼働時間に関係無く
一日に１、２回程、主回収タンク１０５の廃液を処理す
れば良い。
業者は、半導体製造主装置１０１の稼働時間に関係無く
一日に１、２回程、主回収タンク１０５の廃液を処理す
れば良い。
【００２９】尚、廃液の中間タンク１１０への受入量と
それからの排出量は、ソレノイドバルブ１１６ａ、１１
７ａのオン／オフ時間を調整することによって容易に調
節することができる。ここで、もし、第１のエアーバル
ブ１１６及び第２のエアーバルブ１１７の動作不良が生
じたとしても、その異常は、第一にアラームセンサー１
０３及び／又はアラームセンサー１２０ににて検知さ
れ、更に、アラームセンサー１０３、１２０も動作不良
を起こしたとしても、第二に、安全センサー１０４、１
１９が作動して装置の動作が安全に停止される。
それからの排出量は、ソレノイドバルブ１１６ａ、１１
７ａのオン／オフ時間を調整することによって容易に調
節することができる。ここで、もし、第１のエアーバル
ブ１１６及び第２のエアーバルブ１１７の動作不良が生
じたとしても、その異常は、第一にアラームセンサー１
０３及び／又はアラームセンサー１２０ににて検知さ
れ、更に、アラームセンサー１０３、１２０も動作不良
を起こしたとしても、第二に、安全センサー１０４、１
１９が作動して装置の動作が安全に停止される。
【００３０】図２に示したものは、工場内部の真空発生
装置１２１を共用せずに、専用の真空ポンプ２３０を用
いた例である。
装置１２１を共用せずに、専用の真空ポンプ２３０を用
いた例である。
【００３１】また図３は、本発明に係る半導体製造装置
の廃液自動回収装置の動作を説明するための系統図で、
符号３００、３１４及び３２１は、半導体製造装置のス
トリップ工程におけるスプレー動作の制御系統（エアー
バルブ、スピードコントローラ及びソレノイドバルブに
て構成）を示したものであり、符号３０１、３１５及び
３２２は、同じくリンス動作の制御系統（エアーバル
ブ、スピードコントローラ及びソレノイドバルブにて構
成）を、符号３０２、３１６及び３２３は、同じくバッ
クリンス動作の制御系統（エアーバルブ、スピードコン
トローラ及びソレノイドバルブにて構成）を、符号３１
２及び３１３は、廃液自動回収装置に装備される第１の
エアーバルブ１１６及び第２のエアーバルブ１１７の開
閉動作の速度をそれぞれ調整するためのスピードコント
ローラを、それぞれ示したものである。尚、符号３１１
は、中間タンク１１０への圧縮空気の供給量を調整する
ためのスピードコントローラである。
の廃液自動回収装置の動作を説明するための系統図で、
符号３００、３１４及び３２１は、半導体製造装置のス
トリップ工程におけるスプレー動作の制御系統（エアー
バルブ、スピードコントローラ及びソレノイドバルブに
て構成）を示したものであり、符号３０１、３１５及び
３２２は、同じくリンス動作の制御系統（エアーバル
ブ、スピードコントローラ及びソレノイドバルブにて構
成）を、符号３０２、３１６及び３２３は、同じくバッ
クリンス動作の制御系統（エアーバルブ、スピードコン
トローラ及びソレノイドバルブにて構成）を、符号３１
２及び３１３は、廃液自動回収装置に装備される第１の
エアーバルブ１１６及び第２のエアーバルブ１１７の開
閉動作の速度をそれぞれ調整するためのスピードコント
ローラを、それぞれ示したものである。尚、符号３１１
は、中間タンク１１０への圧縮空気の供給量を調整する
ためのスピードコントローラである。
【００３２】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る半導体
製造装置の廃液自動回収装置においては、有機溶剤等を
含む化学廃液を、中間タンクの気相部に形成する真空雰
囲気と加圧空気雰囲気を利用して回収するようになって
いるため、廃液回収装置の補機であるポンプの頻繁な故
障に煩わされることもなく半導体製造装置を運転するこ
とができる。また、半導体製造装置の動作中発生する廃
液を回収タンクに受け入れつつ先の工程の廃液を主回収
タンクに移送し、系外に排出するようにしたため、廃液
回収作業にて半導体製造装置の稼働を中断させることも
ない。そして、半導体装置の工程毎に排出される廃液を
工程ごとに中間タンクを介して主回収タンクに移送する
ので、回収タンクは小容量のもので済み、その分、廃液
回収装置に割くべき面積が減少するので、スペースの効
率的利用を図り得るし、１セットの廃液回収装置で複数
の半導体製造装置の廃液回収に対応し得るので、全体の
設備費を低減し得る。更に、ポンプを省いたため、該機
器運転の結果生ずる騒音が低減されると共にバルブの開
閉操作故、廃液の移送量の調整も容易である。また更
に、密閉系での操作故、有機溶剤から発生する化学臭気
が作業者に直接に触れることを大いに減らし得る。
製造装置の廃液自動回収装置においては、有機溶剤等を
含む化学廃液を、中間タンクの気相部に形成する真空雰
囲気と加圧空気雰囲気を利用して回収するようになって
いるため、廃液回収装置の補機であるポンプの頻繁な故
障に煩わされることもなく半導体製造装置を運転するこ
とができる。また、半導体製造装置の動作中発生する廃
液を回収タンクに受け入れつつ先の工程の廃液を主回収
タンクに移送し、系外に排出するようにしたため、廃液
回収作業にて半導体製造装置の稼働を中断させることも
ない。そして、半導体装置の工程毎に排出される廃液を
工程ごとに中間タンクを介して主回収タンクに移送する
ので、回収タンクは小容量のもので済み、その分、廃液
回収装置に割くべき面積が減少するので、スペースの効
率的利用を図り得るし、１セットの廃液回収装置で複数
の半導体製造装置の廃液回収に対応し得るので、全体の
設備費を低減し得る。更に、ポンプを省いたため、該機
器運転の結果生ずる騒音が低減されると共にバルブの開
閉操作故、廃液の移送量の調整も容易である。また更
に、密閉系での操作故、有機溶剤から発生する化学臭気
が作業者に直接に触れることを大いに減らし得る。
【図１】本発明に係る廃液自動回収装置の１実施例の構
成を示した概略系統図である。
成を示した概略系統図である。
【図２】本発明に係る廃液自動回収装置の補機の一部を
変更した構成を示した概略系統図である。
変更した構成を示した概略系統図である。
【図３】本発明に係る廃液自動回収装置の制御系統を半
導体製造装置の一部制御系統と共に示した概略系統図で
ある。
導体製造装置の一部制御系統と共に示した概略系統図で
ある。
【図４】従来の廃液自動回収装置の構成を示した概略系
統図である。
統図である。
１０２ 回収タンク １０５ 主回収タンク １０６ 第１の連結管 １０７ 逆止弁 １１０ 中間タンク １１１ 真空タンク １１２ 第２の連結管 １１３ 第３の連結管 １１４ 第４の連結管 １１５ 第５の連結管 １１６ 第１のエアーバルブ １１７ 第２のエアーバルブ １２１ 真空発生装置 ３１２、３１３、３１４、３１５、３１６ スピードコ
ントローラ １１６ａ 第１ソレノイドバルブ １１７ａ 第２ソレノイドバルブ ２３０ 真空ポンプ
ントローラ １１６ａ 第１ソレノイドバルブ １１７ａ 第２ソレノイドバルブ ２３０ 真空ポンプ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C02F 1/00 H01L 21/027 H01L 21/304 341
Claims (11)
- 【請求項１】 半導体製造装置から排出される排出物を
一時的に受け入れ貯蔵する回収タンク；と、 該回収タンクから移送される排出物を受け入れ貯蔵する
主回収タンク；と、 該回収タンクと主回収タンク間に設置され、第１の条件
設定時には、該回収タンクから移送される排出物物質を
受け入れ、次なる第２条件設定時には、該受け入れた排
出物を該主回収タンクに移送して貯蔵させる中間タン
ク；と、 該中間タンクに真空を供給する真空供給手段；と、 該中間タンクに加圧空気を供給する空気供給手段；と、 該回収タンクと該中間タンクとの連結手段；と、 該中間タンクと該主回収タンクとの連結手段；と、を備
えて構成されていることを特徴とする半導体製造装置の
廃液自動回収装置。 - 【請求項２】 前記の回収タンクと中間タンクとの連結
手段が、配管であってその一端を該回収タンクの少なく
とも液相部に配し、その管路の途中に前記の排出物の該
中間タンクから該回収タンク方向への移動を阻止し得る
逆止弁が配された第１の配管であり、前記の中間タンク
と主回収タンクとの連結手段が、配管であって、その一
端を該中間タンクの少なくとも液相部に配し、その管路
の途中に該排出物の移動を許容／拒否する第２の弁が配
された第２の配管であり、前記の真空供給手段が、真空
発生装置、又はそれに連なる真空タンク；と、該真空発
生装置又はそれに連なる真空タンクと該中間タンクとを
連結する配管であって、その一端を該中間タンクの気相
部に配し、その他端を該真空発生装置又はそれに連なる
真空タンクに連結し、その管路の途中に空気の移動を許
容／拒否する第１の弁が配された第４の配管；と、を備
えて構成されており、前記の中間タンクに加圧空気を供
給する空気供給手段が、加圧空気発生手段又はそれに連
なる加圧空気タンク；と、該加圧空気発生手段又はそれ
に連なる加圧空気タンクと該中間タンクとを連結する配
管であって、その一端を該中間タンクの気相部に配し、
その他端を該加圧空気装置又はそれに連なる真空タンク
に連結し、その管路の途中に加圧空気の移動を遮断／移
動量を調整する第３の弁が配された第３の配管；と、を
備えて構成されている請求項１記載の廃液自動回収装
置。 - 【請求項３】 前記の第１条件において、前記の第１の
弁が開位置に、前記の第２の弁が閉位置に、前記の第３
の弁が閉位置に、それぞれおかれ、前記の中間タンクの
気相部と前記の真空供給手段との間に該中間タンクの気
相部に存在する空気の吸引が可能な経路が形成され、一
方、前記の回収タンクの液相部と該中間タンクの液相部
との間に前記の排出物が移送可能な経路が形成されるよ
うになっている請求項１又は２に記載の廃液自動回収装
置。 - 【請求項４】 前記の第２条件において、前記の第１の
弁が閉位置に、前記の第２の弁が開位置に、前記の第３
の弁が開位置であって且つ加圧空気の流量制御位置に、
それぞれおかれ、前記の中間タンクの気相部と前記の加
圧空気供給手段との間に該中間タンクの気相部への加圧
空気の供給が可能な経路が形成され、一方、前記の該中
間タンクの液相部と前記の主回収タンクの液相部との間
に該排出物が移送可能な経路が形成されるようになって
いる請求項１又は２に記載の廃液自動回収装置。 - 【請求項５】 前記の第１の条件及び前記の第２の条件
における経路形成は、前記の半導体製造装置の各工程の
動作終了毎に、なされるようにされている請求項３又は
４に記載の廃液自動回収装置。 - 【請求項６】 前記の回収タンク、中間タンク及び主回
収タンクに、それぞれそれらの内部に存在する排出物の
液位を感知し警報を発する及び／又は関連機器の起動／
停止用の信号を発するアラームセンサー及び安全センサ
ーが装着されている請求項１乃至５のいずれか一に記載
の廃液自動回収装置。 - 【請求項７】 前記の第１の弁及び第２の弁は、空気の
供給時に開動作をする空気駆動弁であり、該空気の供給
がそれぞれ第１ソレノイドバルブ及び第２ソレノイドバ
ルブを介してなされる請求項１〜５のいずれか一に記載
の廃液自動回収装置。 - 【請求項８】 前記の真空発生装置が、真空ポンプであ
る請求項１〜５のいずれか一に記載の廃液自動回収装
置。 - 【請求項９】 前記の中間タンクに装備されたアラーム
センサーが、第１の弁の動作不良状態を感知するもので
あり、動作不良と判定された場合に、該中間タンクに装
備された安全センサーが作動するようにされている請求
項６記載の廃液自動回収装置。 - 【請求項１０】 前記の主回収タンクに装備されたアラ
ームセンサーが、第２の弁の動作不良状態を感知するも
のであり、動作不良と判定された場合に、該主回収タン
クに装備された安全センサーが作動するようにされてい
る請求項６記載の廃液自動回収装置。 - 【請求項１１】 前記の排出物の移送量が、それぞれ第
１ソレノイドバルブ及び第２ソレノイドバルブのオン／
オフ時間を調節してなされるようにされている請求項７
に記載の廃液自動回収装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019970011422A KR100253281B1 (ko) | 1997-03-29 | 1997-03-29 | 반도체장비의폐액자동회수장치 |
| KR11422/1997 | 1997-03-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10272452A JPH10272452A (ja) | 1998-10-13 |
| JP2828442B2 true JP2828442B2 (ja) | 1998-11-25 |
Family
ID=19501313
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10059318A Expired - Fee Related JP2828442B2 (ja) | 1997-03-29 | 1998-03-11 | 半導体製造装備の廃液自動回収装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5975108A (ja) |
| JP (1) | JP2828442B2 (ja) |
| KR (1) | KR100253281B1 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7172689B2 (en) * | 2004-02-20 | 2007-02-06 | Bratten Jack R | Arrangement and method for maintaining a minimum flow velocity in the coolant return of a machine tool coolant filtration system |
| US20050210620A1 (en) * | 2004-03-29 | 2005-09-29 | Vanorden Scott T | Integrated cleaning apparatus and methods |
| KR100673395B1 (ko) * | 2005-03-10 | 2007-01-24 | 세메스 주식회사 | 폐액 처리 시스템 및 그 방법 |
| US7410569B1 (en) * | 2005-11-18 | 2008-08-12 | Turhan A. Tilev | Filtration system for metalworking fluids |
| KR100854981B1 (ko) * | 2007-10-10 | 2008-08-28 | 홍경표 | 인쇄회로기판 제조공정상의 습식공정 처리장치 |
| KR101180651B1 (ko) * | 2010-08-17 | 2012-09-07 | 한일이화주식회사 | 자동차 시트 조절용 에어 밸브 |
| JP5902019B2 (ja) * | 2012-03-30 | 2016-04-13 | 株式会社荏原製作所 | 温度制御機能を具備する真空吸引による排水収集装置及び排水収集方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SE411021B (sv) * | 1977-10-10 | 1979-11-26 | Alfa Laval Ab | Sett och anordning for rening av skervetska |
| DE8910186U1 (ja) * | 1989-08-12 | 1989-12-07 | Scheible Versorgungsanlagen | |
| US5148945B1 (en) * | 1990-09-17 | 1996-07-02 | Applied Chemical Solutions | Apparatus and method for the transfer and delivery of high purity chemicals |
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-
1997
- 1997-03-29 KR KR1019970011422A patent/KR100253281B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1998
- 1998-03-11 JP JP10059318A patent/JP2828442B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-03-26 US US09/048,257 patent/US5975108A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5975108A (en) | 1999-11-02 |
| KR100253281B1 (ko) | 2000-04-15 |
| JPH10272452A (ja) | 1998-10-13 |
| KR19980075251A (ko) | 1998-11-16 |
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