JP2826756B2 - ステージエア供給・回収装置 - Google Patents
ステージエア供給・回収装置Info
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- F16C29/00—Bearings for parts moving only linearly
- F16C29/02—Sliding-contact bearings
- F16C29/025—Hydrostatic or aerostatic
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C32/00—Bearings not otherwise provided for
- F16C32/06—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings
- F16C32/0603—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings supported by a gas cushion, e.g. an air cushion
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- F16C33/00—Parts of bearings; Special methods for making bearings or parts thereof
- F16C33/72—Sealings
- F16C33/74—Sealings of sliding-contact bearings
- F16C33/741—Sealings of sliding-contact bearings by means of a fluid
- F16C33/748—Sealings of sliding-contact bearings by means of a fluid flowing to or from the sealing gap, e.g. vacuum seals with differential exhaust
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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- G—PHYSICS
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- F16C2300/40—Application independent of particular apparatuses related to environment, i.e. operating conditions
- F16C2300/62—Application independent of particular apparatuses related to environment, i.e. operating conditions low pressure, e.g. elements operating under vacuum conditions
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、減圧容器中で移動するステージの移動案
内用静圧軸受に対して気体を供給および回収するステー
ジエア供給・回収装置に関する。
内用静圧軸受に対して気体を供給および回収するステー
ジエア供給・回収装置に関する。
［従来技術］ 半導体集積回路は、近年、ますます高集積化が進めら
れており、それを製造するための露光装置（アライナ）
も転写精度のより高いものが要求されている。例えば、
256メガビットDRAMクラスの集積回路では、線幅0.25ミ
クロン程度のパターンの焼付を可能にする露光装置が必
要となる。
れており、それを製造するための露光装置（アライナ）
も転写精度のより高いものが要求されている。例えば、
256メガビットDRAMクラスの集積回路では、線幅0.25ミ
クロン程度のパターンの焼付を可能にする露光装置が必
要となる。
このような超微細パターン焼付用の露光装置として軌
道放射光（SOR−Ｘ線）を利用していわゆるプロキシミ
ティ露光を行なうものが提案されている。
道放射光（SOR−Ｘ線）を利用していわゆるプロキシミ
ティ露光を行なうものが提案されている。
このようなＸ線露光装置においては、マスクおよびウ
エハは減圧雰囲気中でＸ線露光される。したがって、マ
スクとウエハとを上記転写精度に見合った精度に位置合
わせするため、ウエハを保持し移動案内に沿って移動す
るステージおよびその移動案内も減圧雰囲気中に配置さ
れることになる。また、この移動案内とステージとの軸
受部には塵の発生を極力避けるため、摺動部の無い気体
静圧軸受が用いられる。気体静圧軸受用エアパッドとし
ては、金属または焼結金属製のエアパッドやセラミック
製のエアパッドが実現しているが、セラミックエアパッ
ドは、均一な微細孔を有し、金属等のパッドに比してよ
り均一な流量および圧力が得られるという長所を有す
る。しかし、その反面、セラミックエアパッドは、もろ
く、停電等によりエアが抜けて移動案内に当ると欠けや
ひび等の損傷を生じ易いという欠点を有している。勿
論、金属または焼結金属製のエアパッドや移動案内側に
おいても、程度の差こそあれ、同様に停電等による損傷
の問題はある。
エハは減圧雰囲気中でＸ線露光される。したがって、マ
スクとウエハとを上記転写精度に見合った精度に位置合
わせするため、ウエハを保持し移動案内に沿って移動す
るステージおよびその移動案内も減圧雰囲気中に配置さ
れることになる。また、この移動案内とステージとの軸
受部には塵の発生を極力避けるため、摺動部の無い気体
静圧軸受が用いられる。気体静圧軸受用エアパッドとし
ては、金属または焼結金属製のエアパッドやセラミック
製のエアパッドが実現しているが、セラミックエアパッ
ドは、均一な微細孔を有し、金属等のパッドに比してよ
り均一な流量および圧力が得られるという長所を有す
る。しかし、その反面、セラミックエアパッドは、もろ
く、停電等によりエアが抜けて移動案内に当ると欠けや
ひび等の損傷を生じ易いという欠点を有している。勿
論、金属または焼結金属製のエアパッドや移動案内側に
おいても、程度の差こそあれ、同様に停電等による損傷
の問題はある。
［発明が解決しようとする課題］ この発明は、上述の従来例における問題点に鑑みてな
されたもので、停電等によるエア抜けを防止し、これに
より、エアパッドや移動案内の損傷を防止したステージ
エア供給・回収装置を提供することを目的とする。
されたもので、停電等によるエア抜けを防止し、これに
より、エアパッドや移動案内の損傷を防止したステージ
エア供給・回収装置を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］ 上記目的を達成するためこの発明のステージエア供給
・回収装置は、減圧容器中で移動するステージの移動案
内用の静圧軸受の気体供給口に気体を供給する主気体供
給手段と、前記静圧軸受の気体回収口を減圧するポンプ
手段と、前記主気体の供給停止を検出する主気体供給停
止検出手段と、前記ポンプ手段の動作停止を検出する気
体回収停止検出手段と、バックアップ用気体供給手段
と、前記主気体供給停止時、気体供給源を前記主気体供
給手段から前記バックアップ用気体供給手段へ切り換え
る切換手段と、気体回収停止時、前記気体回収口を大気
開放する開放手段とを具備することを特徴としている。
・回収装置は、減圧容器中で移動するステージの移動案
内用の静圧軸受の気体供給口に気体を供給する主気体供
給手段と、前記静圧軸受の気体回収口を減圧するポンプ
手段と、前記主気体の供給停止を検出する主気体供給停
止検出手段と、前記ポンプ手段の動作停止を検出する気
体回収停止検出手段と、バックアップ用気体供給手段
と、前記主気体供給停止時、気体供給源を前記主気体供
給手段から前記バックアップ用気体供給手段へ切り換え
る切換手段と、気体回収停止時、前記気体回収口を大気
開放する開放手段とを具備することを特徴としている。
前記主気体供給手段は、例えば空気を供給するもので
あり、前記バックアップ用気体供給手段は、例えば窒素
ガスを供給するものである。
あり、前記バックアップ用気体供給手段は、例えば窒素
ガスを供給するものである。
前記主気体供給停止検出手段としては、静圧軸受入口
に供給される空気の圧力を検出する圧力検出手段を用い
ることができ、また、前記切換手段としては、前記圧力
検出手段からの信号に基づき前記主気体供給手段とバッ
クアップ用気体供給手段との切換を行なうバルブを用い
ることができる。あるいは、これらの主気体供給停止検
出手段および切換手段の双方の機能を有するものとし
て、主供給の空気とバックアップの窒素ガスとの差圧で
動作するバルブを用いることもできる。
に供給される空気の圧力を検出する圧力検出手段を用い
ることができ、また、前記切換手段としては、前記圧力
検出手段からの信号に基づき前記主気体供給手段とバッ
クアップ用気体供給手段との切換を行なうバルブを用い
ることができる。あるいは、これらの主気体供給停止検
出手段および切換手段の双方の機能を有するものとし
て、主供給の空気とバックアップの窒素ガスとの差圧で
動作するバルブを用いることもできる。
さらに、前記移動案内は、多くの場合、リニアエアー
ベアリングである。
ベアリングである。
［作用］ 上記構成によれば、正常動作時は、切換手段が静圧軸
受入口を主気体供給手段側に接続し、かつ開放手段が閉
じて静圧軸受回収口をポンプ手段に接続している。この
接続状態においては、従来のものと同様に動作する。
受入口を主気体供給手段側に接続し、かつ開放手段が閉
じて静圧軸受回収口をポンプ手段に接続している。この
接続状態においては、従来のものと同様に動作する。
主気体供給停止時は、主気体供給停止手段の出力によ
り切換手段が静圧軸受口をバックアップ用供給手段側に
接続する。したがって、静圧軸受への気体供給はバック
アップ用供給手段により継続して行なわれ、静圧軸受は
正常動作を持続する。これにより、ステージ（特に、エ
アパッド）と静圧軸受との接触が回避され、ステージや
エアパッドや静圧軸受の損傷が防止される。
り切換手段が静圧軸受口をバックアップ用供給手段側に
接続する。したがって、静圧軸受への気体供給はバック
アップ用供給手段により継続して行なわれ、静圧軸受は
正常動作を持続する。これにより、ステージ（特に、エ
アパッド）と静圧軸受との接触が回避され、ステージや
エアパッドや静圧軸受の損傷が防止される。
停電時は、主気体供給停止と気体回収停止とが検出さ
れる。この主気体供給停止が検出されることにより、上
述のバッグアップ用気体供給が行なわれる。また、気体
回収停止が検出されることによって、開放手段が動作
し、静圧軸受回収口が大気に開放される。これにより、
エア回収用のポンプが停止し、かつバックアップ用気体
を供給することによる減圧チャンバ内の空気圧の上昇が
防止される。
れる。この主気体供給停止が検出されることにより、上
述のバッグアップ用気体供給が行なわれる。また、気体
回収停止が検出されることによって、開放手段が動作
し、静圧軸受回収口が大気に開放される。これにより、
エア回収用のポンプが停止し、かつバックアップ用気体
を供給することによる減圧チャンバ内の空気圧の上昇が
防止される。
なお、前記切換手段としてノーマル側にバックアップ
用気体供給手段を接続した電動バルブを用い、正常時は
この電動バルブを付勢して主気体供給手段側に切り換え
ておき、停電時はこの電動バルブの付勢電力が遮断して
ノーマル側に復帰することによりバックアップ用気体供
給手段側に切り換わるようにしてもよい。
用気体供給手段を接続した電動バルブを用い、正常時は
この電動バルブを付勢して主気体供給手段側に切り換え
ておき、停電時はこの電動バルブの付勢電力が遮断して
ノーマル側に復帰することによりバックアップ用気体供
給手段側に切り換わるようにしてもよい。
［効果］ 以上のように、この発明によると、主気体の供給断時
は、直ちにバックアップ用供給手段より継続して気体供
給を行なうようにしたため、静圧軸受のエア抜けが防止
され、エア抜けによるステージ（特に、エアパッド）と
静圧軸受との接触およびステージやエアパッドや静圧軸
受の損傷を防止することができる。
は、直ちにバックアップ用供給手段より継続して気体供
給を行なうようにしたため、静圧軸受のエア抜けが防止
され、エア抜けによるステージ（特に、エアパッド）と
静圧軸受との接触およびステージやエアパッドや静圧軸
受の損傷を防止することができる。
また、停電等により、主気体の供給断に加えて気体回
収用ポンプ手段の停止が同時に起きた場合には、さらに
静圧軸受の気体回収口を大気に開放するようにしたた
め、バックアップ気体による減圧チャンバ内の空気圧の
極端な上昇が防止され、減圧チャンバに設けられたＸ線
導入用ベリリウム窓等の損傷を防止することができる。
収用ポンプ手段の停止が同時に起きた場合には、さらに
静圧軸受の気体回収口を大気に開放するようにしたた
め、バックアップ気体による減圧チャンバ内の空気圧の
極端な上昇が防止され、減圧チャンバに設けられたＸ線
導入用ベリリウム窓等の損傷を防止することができる。
［実施例］ 第１図は、この発明の一実施例に係るＸ線アライナの
構成を示す。同図において、11はSOR装置で、SOR装置台
12上に載置されており、発光点13よりＸ線14を放射す
る。21はＸ（水平）方向に細長いシートビーム状のSOR
−Ｘ線14をＹ（鉛直）方向に拡大するためその反射面を
凸状に加工された第１ミラー、22は第１ミラー21で発散
されたＸ線束15をその中心軸が水平となるように反射す
る第２ミラーである。第２ミラー22で反射されたＸ線束
は露光用の照明光16としてアライナ本体40に入射され
る。23は第１ミラー21および第２ミラー22の周囲を所望
の真空雰囲気とするためのミラーチャンバ、24は第１ミ
ラー21の姿勢を調節するために用いられる第１ミラー駆
動装置、25は第２ミラー22の姿勢を調節するために用い
られる第２ミラー駆動装置、26はミラー架台である。
構成を示す。同図において、11はSOR装置で、SOR装置台
12上に載置されており、発光点13よりＸ線14を放射す
る。21はＸ（水平）方向に細長いシートビーム状のSOR
−Ｘ線14をＹ（鉛直）方向に拡大するためその反射面を
凸状に加工された第１ミラー、22は第１ミラー21で発散
されたＸ線束15をその中心軸が水平となるように反射す
る第２ミラーである。第２ミラー22で反射されたＸ線束
は露光用の照明光16としてアライナ本体40に入射され
る。23は第１ミラー21および第２ミラー22の周囲を所望
の真空雰囲気とするためのミラーチャンバ、24は第１ミ
ラー21の姿勢を調節するために用いられる第１ミラー駆
動装置、25は第２ミラー22の姿勢を調節するために用い
られる第２ミラー駆動装置、26はミラー架台である。
30はシャッタユニットで、シャッタステー31、シャッ
タステー31に取付けられたシャッタ軸32および33ならび
に各シャッタ軸32,32間および33,33間に張架されたシャ
ッタ膜34および35により構成されている。シャッタ膜34
および35はそれぞれ各辺が露光領域の寸法より長い長方
形の開口（不図示）を有するエンドレススチールベルト
により構成されている。
タステー31に取付けられたシャッタ軸32および33ならび
に各シャッタ軸32,32間および33,33間に張架されたシャ
ッタ膜34および35により構成されている。シャッタ膜34
および35はそれぞれ各辺が露光領域の寸法より長い長方
形の開口（不図示）を有するエンドレススチールベルト
により構成されている。
41は金等のＸ線不透過材料により転写パターンが形成
されたマスク、42はマスク41を搭載して移動可能なマス
クステージ、43はマスク41をマスクステージ42上に固定
するためのマスクチャック、44はマスク41の像を転写し
ようとするウエハ、45はウエハ44を搭載して移動可能な
ウエハステージ、46はウエハ44をウエハステージ45上に
固定するためのウエハチャック、47はマスクステージ42
およびウエハステージ45等を取付けるためのメインフレ
ーム、48はメインフレーム47が載置されるアライナベー
ス、49はアライナベース48を床１上に支持するためのエ
アバネである。アライナベース48は少なくとも３つのエ
アバネ49により３箇所で支持されている。
されたマスク、42はマスク41を搭載して移動可能なマス
クステージ、43はマスク41をマスクステージ42上に固定
するためのマスクチャック、44はマスク41の像を転写し
ようとするウエハ、45はウエハ44を搭載して移動可能な
ウエハステージ、46はウエハ44をウエハステージ45上に
固定するためのウエハチャック、47はマスクステージ42
およびウエハステージ45等を取付けるためのメインフレ
ーム、48はメインフレーム47が載置されるアライナベー
ス、49はアライナベース48を床１上に支持するためのエ
アバネである。アライナベース48は少なくとも３つのエ
アバネ49により３箇所で支持されている。
50はシャッタユニット30、マスクステージ42上のマス
ク41およびウエハステージ45上のウエハ44の周囲を所望
のヘリウム雰囲気とするためのヘリウムチャンバであ
る。また、51,52はミラーチャンバ23とヘリウムチャン
バ50、すなわちアライナ本体40とをそれぞれの雰囲気を
保って接続するための配管スプール、53はミラーチャン
バ23とアライナ本体40とを柔軟に接続するためのベロー
ズ、54は照明光16を透過してかつミラーチャンバ23内の
真空雰囲気とヘリウムチャンバ50内のヘリウム雰囲気と
を絶縁するベリリウム窓である。
ク41およびウエハステージ45上のウエハ44の周囲を所望
のヘリウム雰囲気とするためのヘリウムチャンバであ
る。また、51,52はミラーチャンバ23とヘリウムチャン
バ50、すなわちアライナ本体40とをそれぞれの雰囲気を
保って接続するための配管スプール、53はミラーチャン
バ23とアライナ本体40とを柔軟に接続するためのベロー
ズ、54は照明光16を透過してかつミラーチャンバ23内の
真空雰囲気とヘリウムチャンバ50内のヘリウム雰囲気と
を絶縁するベリリウム窓である。
第２図は、第１図におけるステージ装置のステージユ
ニット部分、すなわちマスクステージ42、マスクチャッ
ク43、ウエハステージ45およびウエハチャック46等から
なる部分の詳細を示す。
ニット部分、すなわちマスクステージ42、マスクチャッ
ク43、ウエハステージ45およびウエハチャック46等から
なる部分の詳細を示す。
第２図のステージユニットは、アライナ本体40のメイ
ンフレーム47を基台として全体が組立てられている。ス
テージ装置を含むアライナ本体40の全体は、メインチャ
ンバ201内に配置されている。
ンフレーム47を基台として全体が組立てられている。ス
テージ装置を含むアライナ本体40の全体は、メインチャ
ンバ201内に配置されている。
同図において、202はＹ粗動ステージで、メインフレ
ーム47に取り付けられた一対のＹ粗動ガイドバー203に
静圧案内されて上下に可動となっている。このＹ粗動ス
テージ202は、自重を相殺する目的で、一対のバランス
ベルト204を介してメインチャンバ201に取り付けられた
バランサシリンダ205と連結されており、前記メインフ
レーム47に取り付けられたＹ駆動用電動シリンダ206に
より駆動、位置決めされる。
ーム47に取り付けられた一対のＹ粗動ガイドバー203に
静圧案内されて上下に可動となっている。このＹ粗動ス
テージ202は、自重を相殺する目的で、一対のバランス
ベルト204を介してメインチャンバ201に取り付けられた
バランサシリンダ205と連結されており、前記メインフ
レーム47に取り付けられたＹ駆動用電動シリンダ206に
より駆動、位置決めされる。
さらに、Ｙ粗動ステージ202上に取り付けられた一対
のＸ粗動ガイドバー207に、粗動ステージ208が静圧案内
されて左右に可動となっている。このＸ粗動ステージ20
8は、Ｙ粗動ステージ202に取り付けられたＸ駆動用電動
シリンダ209により駆動、位置決めされる。Ｘ粗動ステ
ージ208上には、ウエハ44の微細位置決めをするウエハ
微動ステージ210と、レーザ測長用ミラー211が載置され
ている。
のＸ粗動ガイドバー207に、粗動ステージ208が静圧案内
されて左右に可動となっている。このＸ粗動ステージ20
8は、Ｙ粗動ステージ202に取り付けられたＸ駆動用電動
シリンダ209により駆動、位置決めされる。Ｘ粗動ステ
ージ208上には、ウエハ44の微細位置決めをするウエハ
微動ステージ210と、レーザ測長用ミラー211が載置され
ている。
前記メインフレーム47に取り付けられたAAフレーム21
2には、マスクθステージ213が載置されている。メイン
フレーム47は、フレームコネクタ214を介して前記メイ
ンチャンバ201に接続され、ステージ全体は、メインチ
ャンバ201内に収まる。
2には、マスクθステージ213が載置されている。メイン
フレーム47は、フレームコネクタ214を介して前記メイ
ンチャンバ201に接続され、ステージ全体は、メインチ
ャンバ201内に収まる。
第３図は、第２図のステージ装置用のステージエア供
給・回収装置の構成を示す。同図において、301はステ
ージで、第２図のＹ粗動ステージ202およびＸ粗動ステ
ージ208に相当する。302はステージ301を案内する直線
ガイドで、第２図のＹ粗動ガイドバー203およびＸ粗動
ガイドバー207に相当する。直線ガイド302と対向するス
テージ301の面にはセラミック製のパッド（商品名セラ
パッド）303が取り付けられ、このセラミックパッド303
から直線ガイド302側へ空気を噴出することにより直線
ガイド302とステージ301との間にリニアエアーベアリン
グ（LAB）が形成されるようになっている。310は、セラ
ミックパッド303へ空気を供給するエア供給装置であ
る。また、前記のステージ301および直線ガイド302等は
減圧雰囲気中に配置される。この減圧雰囲気を保持する
ため、すなわち、前記セラミックパッド303からの噴出
空気が減圧雰囲気中へ漏れないように、セラミックパッ
ド303の周囲には、溝304,305およびこれらの溝304,305
へ流れ込んだ空気を回収するためのエア回収装置330が
設けられている。
給・回収装置の構成を示す。同図において、301はステ
ージで、第２図のＹ粗動ステージ202およびＸ粗動ステ
ージ208に相当する。302はステージ301を案内する直線
ガイドで、第２図のＹ粗動ガイドバー203およびＸ粗動
ガイドバー207に相当する。直線ガイド302と対向するス
テージ301の面にはセラミック製のパッド（商品名セラ
パッド）303が取り付けられ、このセラミックパッド303
から直線ガイド302側へ空気を噴出することにより直線
ガイド302とステージ301との間にリニアエアーベアリン
グ（LAB）が形成されるようになっている。310は、セラ
ミックパッド303へ空気を供給するエア供給装置であ
る。また、前記のステージ301および直線ガイド302等は
減圧雰囲気中に配置される。この減圧雰囲気を保持する
ため、すなわち、前記セラミックパッド303からの噴出
空気が減圧雰囲気中へ漏れないように、セラミックパッ
ド303の周囲には、溝304,305およびこれらの溝304,305
へ流れ込んだ空気を回収するためのエア回収装置330が
設けられている。
次に、このステージエア供給・回収装置の動作を説明
する。
する。
第３図において、電力供給時、空気は、主空気源（ポ
ンプ）311からクリーンエアユニット312に供給され、こ
こで清浄にされた後、手動バルブ313、電動バルブ314お
よびレギュレータ315を介して、前記セラミックパッド3
03に供給される。これにより、セラミックパッド303の
直線ガイド302側の面の多数の微細孔からクリーンエア
が噴出され、ステージ301は、直線ガイド302との間にLA
Bが形成されて極く低摩擦で直線ガイド302に沿って移動
することが可能となる。
ンプ）311からクリーンエアユニット312に供給され、こ
こで清浄にされた後、手動バルブ313、電動バルブ314お
よびレギュレータ315を介して、前記セラミックパッド3
03に供給される。これにより、セラミックパッド303の
直線ガイド302側の面の多数の微細孔からクリーンエア
が噴出され、ステージ301は、直線ガイド302との間にLA
Bが形成されて極く低摩擦で直線ガイド302に沿って移動
することが可能となる。
セラミックパッド303から噴出されたエアは、溝304へ
流れ込むが、そのうち大部分は電動バルブ331および332
を介してロータリポンプ333により回収される。また、
溝304で回収されず溝305まで達したものは、電動バルブ
334を介してロータリポンプ335により回収される。この
ようにセラミックパッド303から噴出された空気を、２
系統の回収系で回収することによって、噴出空気が減圧
雰囲気内に漏れるのを防止している。336および337はピ
ラニゲージである。
流れ込むが、そのうち大部分は電動バルブ331および332
を介してロータリポンプ333により回収される。また、
溝304で回収されず溝305まで達したものは、電動バルブ
334を介してロータリポンプ335により回収される。この
ようにセラミックパッド303から噴出された空気を、２
系統の回収系で回収することによって、噴出空気が減圧
雰囲気内に漏れるのを防止している。336および337はピ
ラニゲージである。
停電時、主空気源311が空気供給を停止し、クリーン
エアユニット312からの供給空気圧が所定値以下に低下
すると、圧力スイッチ316がこれを検知し、電動バルブ3
14を補助空気源320側へ切り換える。これにより、補助
空気源の窒素ボンベ321からレギュレータ322および電動
バルブ314、さらにレギュレータ315を介してセラミック
パッド303へ窒素ガスが供給され、ステージ310は直線ガ
イド302との間の空気パッドが保持される。すなわち、
この窒素ガスによるバックアップによって、ステージ30
1と直線ガイド302の間隔が維持されてステージ301が直
線ガイド302に当ることが防止され、停電によりセラミ
ックパッド303が損傷することが防止される。また、主
空気あるいはバックアップの窒素ガスのいずれにおいて
も最終的にステージ301に所定の圧力で供給されること
を確認するために圧力スイッチ317により、圧力を検出
し、圧力が所定値以下になった時は、ステージの動作を
緊急停止させることで同様の防止を行う。
エアユニット312からの供給空気圧が所定値以下に低下
すると、圧力スイッチ316がこれを検知し、電動バルブ3
14を補助空気源320側へ切り換える。これにより、補助
空気源の窒素ボンベ321からレギュレータ322および電動
バルブ314、さらにレギュレータ315を介してセラミック
パッド303へ窒素ガスが供給され、ステージ310は直線ガ
イド302との間の空気パッドが保持される。すなわち、
この窒素ガスによるバックアップによって、ステージ30
1と直線ガイド302の間隔が維持されてステージ301が直
線ガイド302に当ることが防止され、停電によりセラミ
ックパッド303が損傷することが防止される。また、主
空気あるいはバックアップの窒素ガスのいずれにおいて
も最終的にステージ301に所定の圧力で供給されること
を確認するために圧力スイッチ317により、圧力を検出
し、圧力が所定値以下になった時は、ステージの動作を
緊急停止させることで同様の防止を行う。
この停電時には、ロータリポンプ333および335ならび
にメインチャンバ201用の排気ポンプ（不図示）も停止
している。このため、前記補助空気源320から供給され
る窒素ガスによってメインチャンバ201内の圧力が上昇
し、メインチャンバ201等に少なからず悪影響を及ぼす
おそれがある。停電時には電動バルブ332、334は図示の
閉側にたおれまた電動バルブ331は大気側へ切り換わ
る。これにより、エア回収系330が大気開放され、メイ
ンチャンバ201内の圧力が大気圧より極端に高くなるこ
とを防ぐことができる。電動バルブ332と334はそれぞれ
ピラニゲージ336と337と接続されており何らかの原因
で、ロータソポンプ333、335が停止して回収等の圧力が
上昇した場合にも有効である。323は窒素ボンベ321内の
窒素ガス量検出用の圧力センサである。
にメインチャンバ201用の排気ポンプ（不図示）も停止
している。このため、前記補助空気源320から供給され
る窒素ガスによってメインチャンバ201内の圧力が上昇
し、メインチャンバ201等に少なからず悪影響を及ぼす
おそれがある。停電時には電動バルブ332、334は図示の
閉側にたおれまた電動バルブ331は大気側へ切り換わ
る。これにより、エア回収系330が大気開放され、メイ
ンチャンバ201内の圧力が大気圧より極端に高くなるこ
とを防ぐことができる。電動バルブ332と334はそれぞれ
ピラニゲージ336と337と接続されており何らかの原因
で、ロータソポンプ333、335が停止して回収等の圧力が
上昇した場合にも有効である。323は窒素ボンベ321内の
窒素ガス量検出用の圧力センサである。
なお、上述においては、切換バルブとして圧力スイッ
チとこのスイッチの出力によって切り換わる電動バルブ
とを用いた例を説明したが、特に供給側切換バルブは、
これらの圧力スイッチと電動バルブに代えて、主供給側
の空気とバックアップ用窒素との差圧で動作するバルブ
を用いるようにすることも可能である。また、補助空気
源を電動バルブのノーマル側に接続し、停電時は、電動
バルブの付勢力断により空気源をバックアップ側に切り
換わるようにしてもよい。
チとこのスイッチの出力によって切り換わる電動バルブ
とを用いた例を説明したが、特に供給側切換バルブは、
これらの圧力スイッチと電動バルブに代えて、主供給側
の空気とバックアップ用窒素との差圧で動作するバルブ
を用いるようにすることも可能である。また、補助空気
源を電動バルブのノーマル側に接続し、停電時は、電動
バルブの付勢力断により空気源をバックアップ側に切り
換わるようにしてもよい。
第１図は、この発明の一実施例に係るＸ線アライナの側
面構成図、 第２図は、第１図のアライナにおけるステージ装置部分
をより詳細に示す斜視図、そして 第３図は、第２図のステージ装置のエア供給・回収装置
の構成を示すブロック図である。 301:ステージ 302:直線ガイド 303:パッド 310:エア供給系 311:主空気源 314,331,332,334:電動バルブ 316,317:圧力スイッチ 320:補助空気源 330:エア回収系
面構成図、 第２図は、第１図のアライナにおけるステージ装置部分
をより詳細に示す斜視図、そして 第３図は、第２図のステージ装置のエア供給・回収装置
の構成を示すブロック図である。 301:ステージ 302:直線ガイド 303:パッド 310:エア供給系 311:主空気源 314,331,332,334:電動バルブ 316,317:圧力スイッチ 320:補助空気源 330:エア回収系
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小澤 邦貴 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キ ヤノン株式会社内 (56)参考文献 特開 平３−73513（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−302692（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−221246（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−85678（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 21/027 B23Q 1/26 F16C 32/06
Claims (5)
- 【請求項１】減圧容器中で移動するステージの移動案内
用静圧軸受に対して気体を供給および回収する装置であ
って、 前記静圧軸受の気体供給口に気体を供給する主気体供給
手段と、 前記静圧軸受の気体回収口を減圧するポンプ手段と、 前記主気体の供給停止を検出する主気体供給停止検出手
段と、 前記ポンプ手段の動作停止を検出する気体回収停止検出
手段と、 バックアップ用気体供給手段と、 前記主気体供給停止時、気体供給源を前記主気体供給手
段から前記バックアップ用気体供給手段へ切り換える切
換手段と、 前記気体回収停止時、前記気体回収口を大気開放する開
放手段と を具備することを特徴とするステージエア供給・回収装
置。 - 【請求項２】前記主気体供給停止検出手段は、静圧軸受
入口に供給される空気の圧力を検出する圧力検出手段で
あり、前記切換手段は、該圧力検出手段からの信号に基
づき前記主気体供給手段とバックアップ用気体供給手段
との切換を行なうバルブである請求項１のステージエア
供給・回収装置。 - 【請求項３】前記主気体供給手段は空気を供給するもの
であり、前記バックアップ用気体供給手段は窒素ガスを
供給するものである請求項２のステージエア供給・回収
装置。 - 【請求項４】前記主気体供給停止検出手段および切換手
段が、主供給の空気とバックアップの窒素ガスとの差圧
で動作するバルブである請求項３のステージエア供給・
回収装置。 - 【請求項５】前記移動案内は、リニアエアーベアリング
である請求項１のステージ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006278A JP2826756B2 (ja) | 1990-01-17 | 1990-01-17 | ステージエア供給・回収装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006278A JP2826756B2 (ja) | 1990-01-17 | 1990-01-17 | ステージエア供給・回収装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03211816A JPH03211816A (ja) | 1991-09-17 |
| JP2826756B2 true JP2826756B2 (ja) | 1998-11-18 |
Family
ID=11633937
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006278A Expired - Fee Related JP2826756B2 (ja) | 1990-01-17 | 1990-01-17 | ステージエア供給・回収装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2826756B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4031252B2 (ja) * | 2002-01-31 | 2008-01-09 | キヤノン株式会社 | 排気装置及びその制御方法並びに真空内静圧軸受 |
| JP4350429B2 (ja) | 2003-06-05 | 2009-10-21 | キヤノン株式会社 | 露光装置、およびデバイスの製造方法 |
| CN115076235B (zh) * | 2022-06-07 | 2024-04-16 | 郑州轻工业大学 | 一种静压气体轴承装置 |
-
1990
- 1990-01-17 JP JP2006278A patent/JP2826756B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03211816A (ja) | 1991-09-17 |
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