JP2825884B2 - ピストンリング及びその製造方法 - Google Patents
ピストンリング及びその製造方法Info
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- JP2825884B2 JP2825884B2 JP1310397A JP31039789A JP2825884B2 JP 2825884 B2 JP2825884 B2 JP 2825884B2 JP 1310397 A JP1310397 A JP 1310397A JP 31039789 A JP31039789 A JP 31039789A JP 2825884 B2 JP2825884 B2 JP 2825884B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は内燃機関や圧縮機等に用いられるピストンリ
ング及びその製造方法に関し、更に詳しくは少なくとも
外周摺動面に溶射被膜を形成したピストンリング及びそ
の製造方法に関する。
ング及びその製造方法に関し、更に詳しくは少なくとも
外周摺動面に溶射被膜を形成したピストンリング及びそ
の製造方法に関する。
内燃機関や圧縮機において用いられるピストンリン
グ、特に内燃機関用のピストンリングは、耐摩耗性を高
めるために摺動面に硬質Crめっきを施したものが、一般
に使用されている。
グ、特に内燃機関用のピストンリングは、耐摩耗性を高
めるために摺動面に硬質Crめっきを施したものが、一般
に使用されている。
しかし、Crめっきピストンリングは、高負荷のエンジ
ンに使用した場合、摺動する相手材であるシリンダライ
ナ鋳鉄材との耐焼付性が悪く、性能上満足し得ないもの
となりつつある。
ンに使用した場合、摺動する相手材であるシリンダライ
ナ鋳鉄材との耐焼付性が悪く、性能上満足し得ないもの
となりつつある。
それに対して、一部の機関で使用されている溶射ピス
トンリング、特にMoやNi−Cr合金等を含有する被膜をプ
ラズマ溶射によって形成したピストンリング（例えば、
特開昭54−1244号、特開昭60−125362号）は、耐焼付性
は良好であるが、相手材に対する攻撃性が高く、剥離も
しやすい。
トンリング、特にMoやNi−Cr合金等を含有する被膜をプ
ラズマ溶射によって形成したピストンリング（例えば、
特開昭54−1244号、特開昭60−125362号）は、耐焼付性
は良好であるが、相手材に対する攻撃性が高く、剥離も
しやすい。
また、従来のプラズマ溶射は大気圧下で行われていた
ため、大気の巻き込みにより、被膜中に空孔が形成され
やすかった。そのため、被膜自体や被膜と母材の境界が
酸化あるいは腐食され、運転中に剥離しやすい。また、
相手材の硬度が比較的低い場合、表面に露出した空孔の
エッジ部分により、相手材を摩耗させる。あるいは、溶
射中に溶融粉末が酸化し、各粉末粒子間の結合力が弱く
なり、従って被膜自体の機械的強度や耐摩耗性も低かっ
た。
ため、大気の巻き込みにより、被膜中に空孔が形成され
やすかった。そのため、被膜自体や被膜と母材の境界が
酸化あるいは腐食され、運転中に剥離しやすい。また、
相手材の硬度が比較的低い場合、表面に露出した空孔の
エッジ部分により、相手材を摩耗させる。あるいは、溶
射中に溶融粉末が酸化し、各粉末粒子間の結合力が弱く
なり、従って被膜自体の機械的強度や耐摩耗性も低かっ
た。
さらに、Moは溶射材の中では比較的に酸化されにくい
が、高価なため、ピストンリング製品が高価になってい
た。硬質で耐摩耗材としてMo以上に有効な物質として、
Cr3C2サーメットが知られているが、やはり酸化が激し
く、プラズマ溶射による適用が難しかった。
が、高価なため、ピストンリング製品が高価になってい
た。硬質で耐摩耗材としてMo以上に有効な物質として、
Cr3C2サーメットが知られているが、やはり酸化が激し
く、プラズマ溶射による適用が難しかった。
従って本発明の目的は、従来のプラズマ溶射による被
膜の欠点を解消し、耐摩耗性と密着性に優れ、相手材を
も摩耗させにくい溶射被膜を形成したピストンリング、
及びその製造方法を提供することである。
膜の欠点を解消し、耐摩耗性と密着性に優れ、相手材を
も摩耗させにくい溶射被膜を形成したピストンリング、
及びその製造方法を提供することである。
上記課題に鑑み鋭意研究の結果、本発明者は、Ni−Cr
合金粉末とCr3C2粉末を所定の割合で混合した粉末をピ
ストンリングの摺動面に溶射することによって、耐摩耗
性と密着性のよい被膜が得られ、また、摺動する相手材
に対する攻撃性を低減することができることを発見し、
本発明を完成させた。
合金粉末とCr3C2粉末を所定の割合で混合した粉末をピ
ストンリングの摺動面に溶射することによって、耐摩耗
性と密着性のよい被膜が得られ、また、摺動する相手材
に対する攻撃性を低減することができることを発見し、
本発明を完成させた。
すなわち本発明のピストンリングは、少なくとも外周
摺動面に溶射被膜が形成されており、前記溶射被膜は20
〜40重量％のNiと60〜80重量％のCrからなる組成を有す
るNi−Cr合金20〜40重量％と、Cr3C260〜80重量％とか
らなり、空孔率が３体積％以下であることを特徴とす
る。
摺動面に溶射被膜が形成されており、前記溶射被膜は20
〜40重量％のNiと60〜80重量％のCrからなる組成を有す
るNi−Cr合金20〜40重量％と、Cr3C260〜80重量％とか
らなり、空孔率が３体積％以下であることを特徴とす
る。
また本発明のピストンリングの製造方法は、150Torr
以下の不活性ガス雰囲気中で、ピストンリング母材に対
して、20〜40重量％のNiと60〜80重量％のCrからなる組
成を有するNi−Cr合金粉末20〜40重量％とCr3C2粉末60
〜80重量％とからなる混合粉末を用いて、プラズマ溶射
を行うことにより、溶射被膜を形成することを特徴とす
る。
以下の不活性ガス雰囲気中で、ピストンリング母材に対
して、20〜40重量％のNiと60〜80重量％のCrからなる組
成を有するNi−Cr合金粉末20〜40重量％とCr3C2粉末60
〜80重量％とからなる混合粉末を用いて、プラズマ溶射
を行うことにより、溶射被膜を形成することを特徴とす
る。
以下、本発明を図面を参照して説明する。
第１図に本発明の一実施例によるピストンリングを示
す。ピストンリング１は縦断面を示してあって、鋳鉄材
や鋼材等の母材２の外周摺動面に、50〜500μｍの厚さ
で、空孔が５体積％以下の溶射被膜３が設けられてい
る。図示しているように、母材２の外周に溝４を削設し
て、そこに溶射材を埋設してもよいし、あるいは第２図
に示すように、溝は設けずに、フラットな外周面上に溶
射材３を盛り金してもよい。
す。ピストンリング１は縦断面を示してあって、鋳鉄材
や鋼材等の母材２の外周摺動面に、50〜500μｍの厚さ
で、空孔が５体積％以下の溶射被膜３が設けられてい
る。図示しているように、母材２の外周に溝４を削設し
て、そこに溶射材を埋設してもよいし、あるいは第２図
に示すように、溝は設けずに、フラットな外周面上に溶
射材３を盛り金してもよい。
被膜３は、Ni−Cr合金粉末20〜40重量％とCr3C2粉末6
0〜80重量％からなる混合粉末を、プラズマ溶射して形
成したものである。
0〜80重量％からなる混合粉末を、プラズマ溶射して形
成したものである。
Ni−Cr合金粉末は母材及びCr3C2粉末との結合性が良
好なため、被膜の密着性すなわち耐剥離性を向上させ
る。また耐酸化性と耐食性の向上にも寄与する。一方、
Cr3C2粉末は摺動材として適度な硬度を有するため、耐
摩耗性、耐スカッフィング性を向上させ、相手攻撃性は
低く、しかも安価な材料である。特に、Cr3C2粉末は減
圧プラズマ溶射に適用すれば、溶射工程での酸化、分解
が少なく、被膜の密着性を向上させる。
好なため、被膜の密着性すなわち耐剥離性を向上させ
る。また耐酸化性と耐食性の向上にも寄与する。一方、
Cr3C2粉末は摺動材として適度な硬度を有するため、耐
摩耗性、耐スカッフィング性を向上させ、相手攻撃性は
低く、しかも安価な材料である。特に、Cr3C2粉末は減
圧プラズマ溶射に適用すれば、溶射工程での酸化、分解
が少なく、被膜の密着性を向上させる。
Ni−Cr合金粉末が20重量％未満、すなわちCr3C2粉末
が80重量％超では、Ni−Cr合金粉末の上述の効果が得ら
れず、溶射被膜の密着性が低下し、脆化してしまう。
が80重量％超では、Ni−Cr合金粉末の上述の効果が得ら
れず、溶射被膜の密着性が低下し、脆化してしまう。
一方、Ni−Cr合金粉末が40重量％超、すなわちCr3C2
粉末が60重量％未満では、Cr3C2粉末の上述の効果が得
られず、耐摩耗性、耐スカッフィング性が低下してしま
う。これらの粉末のより好ましい混合割合は、Ni−Cr合
金粉末20〜30重量％、及びCr3C2粉末70〜80重量％であ
り、この範囲で上述の効果がさらに向上する。
粉末が60重量％未満では、Cr3C2粉末の上述の効果が得
られず、耐摩耗性、耐スカッフィング性が低下してしま
う。これらの粉末のより好ましい混合割合は、Ni−Cr合
金粉末20〜30重量％、及びCr3C2粉末70〜80重量％であ
り、この範囲で上述の効果がさらに向上する。
またNi−Cr合金粉末の組成を20〜40重量％のNi及び60
〜80重量％のCrとすることにより、溶射被膜の高温での
耐酸化性が向上する。
〜80重量％のCrとすることにより、溶射被膜の高温での
耐酸化性が向上する。
上述のNi−Cr合金粉末とCr3C2粉末の混合粉末を用い
て大気プラズマ溶射を行えば、従来の溶射材を用いた被
膜よりも優れた特性を備えたピストンリングが得られる
が、いわゆる減圧プラズマ溶射を適用すれば、さらに優
れた被膜が得られる。
て大気プラズマ溶射を行えば、従来の溶射材を用いた被
膜よりも優れた特性を備えたピストンリングが得られる
が、いわゆる減圧プラズマ溶射を適用すれば、さらに優
れた被膜が得られる。
減圧プラズマ溶射法によって本発明のピストンリング
を製造する工程を、以下に説明する。
を製造する工程を、以下に説明する。
第３図に示すように、プラズマガン５とピストンリン
グ母材２とをチャンバ（図示せず）内に置く。プラズマ
ガン５は、プラズマガス噴出のためのノズルを兼ねて、
銅などからなる環状の陽極６と、この陽極６の上部に位
置してタングステンなどからなる陰極７、及び電源８と
で構成されている。陽極、陰極とも中にキャビティ（図
示せず）が形成され、十分に水冷を施す構造となってい
る。陽極すなわちノズル６の先端と母材２の間の距離は
20〜100mmとする。
グ母材２とをチャンバ（図示せず）内に置く。プラズマ
ガン５は、プラズマガス噴出のためのノズルを兼ねて、
銅などからなる環状の陽極６と、この陽極６の上部に位
置してタングステンなどからなる陰極７、及び電源８と
で構成されている。陽極、陰極とも中にキャビティ（図
示せず）が形成され、十分に水冷を施す構造となってい
る。陽極すなわちノズル６の先端と母材２の間の距離は
20〜100mmとする。
チャンバ内の空気をポンプ等で吸引して、10-1〜10-2
Torr程度の真空にするとともに、酸素等の有害ガスを除
去する。次にAr等の不活性ガスをチャンバ内に導入し
て、約20〜150Torrの低圧に調整する。
Torr程度の真空にするとともに、酸素等の有害ガスを除
去する。次にAr等の不活性ガスをチャンバ内に導入し
て、約20〜150Torrの低圧に調整する。
この状態で陽極６と陰極７間に高電圧を印加すると、
アーク放電９により不活性ガスが加熱され、プラズマ化
する。その際に膨張によりガスは高温かつ高速でノズル
６から噴出し、プラズマジェット流10をつくる。
アーク放電９により不活性ガスが加熱され、プラズマ化
する。その際に膨張によりガスは高温かつ高速でノズル
６から噴出し、プラズマジェット流10をつくる。
このプラズマジェット流中に原料粉末11を投入する。
粉末の供給口は、図示のようにノズル６内か、あるいは
ノズル６の直下に設ける。粉末11はプラズマジェット流
中で溶融、加速されて母材２に衝突する。それによっ
て、瞬時に偏平化して、母材温度まで急冷凝固し、被膜
３が形成される。
粉末の供給口は、図示のようにノズル６内か、あるいは
ノズル６の直下に設ける。粉末11はプラズマジェット流
中で溶融、加速されて母材２に衝突する。それによっ
て、瞬時に偏平化して、母材温度まで急冷凝固し、被膜
３が形成される。
母材２の表面には予めショットブラスト等で10〜20μ
ｍ程度の粗さを持たせるのがよい。それによって、溶融
粒子が母材の凸部に衝突した際に、凸部が局部溶融を起
こして合金化しやすく、機械的にも溶融粒子の凝固収縮
応力によるアンカー効果が生じて、接着力が強固とな
る。
ｍ程度の粗さを持たせるのがよい。それによって、溶融
粒子が母材の凸部に衝突した際に、凸部が局部溶融を起
こして合金化しやすく、機械的にも溶融粒子の凝固収縮
応力によるアンカー効果が生じて、接着力が強固とな
る。
また、溶射直前に母材２を予熱して400〜550℃の高温
にし、移行アークにより表面をクリーニングすると表面
が活性化し、溶射後、母材２と被膜３の間に相互拡散層
が形成され、強固な接合を形成できる。
にし、移行アークにより表面をクリーニングすると表面
が活性化し、溶射後、母材２と被膜３の間に相互拡散層
が形成され、強固な接合を形成できる。
減圧下においてはプラズマジェット中のガス速度が高
速になる。従って、粉末粒子は大気プラズマ溶射の場合
よりも高速に加速されて母材に衝突する。その結果、溶
射層は空孔の体積が３％以下の緻密な組織となる。その
ため、被膜自体や被膜と母材の境界は酸化や腐食がされ
にくく、運転中に被膜が剥離しにくくなる。また、組織
が緻密なことにより、摺動する相手材に対する攻撃性が
低い。
速になる。従って、粉末粒子は大気プラズマ溶射の場合
よりも高速に加速されて母材に衝突する。その結果、溶
射層は空孔の体積が３％以下の緻密な組織となる。その
ため、被膜自体や被膜と母材の境界は酸化や腐食がされ
にくく、運転中に被膜が剥離しにくくなる。また、組織
が緻密なことにより、摺動する相手材に対する攻撃性が
低い。
さらにまた、大気プラズマ溶射に比べて、溶融から凝
固に至る過程において雰囲気による粉末の酸化がない。
従って被膜中に酸化物が混在せず、被膜粒子間の結合力
が強く、機械的強度と耐摩耗性が高い。
固に至る過程において雰囲気による粉末の酸化がない。
従って被膜中に酸化物が混在せず、被膜粒子間の結合力
が強く、機械的強度と耐摩耗性が高い。
本発明を以下の具体的実施例によりさらに詳細に説明
する。
する。
実施例１、２、３ ピストンリング用球状黒鉛鋳鉄材（FCD60）を、縦100
mm、横50mm、厚さ10mmの角柱状に加工し、さらにその一
端面を湾曲面に研削加工した。
mm、横50mm、厚さ10mmの角柱状に加工し、さらにその一
端面を湾曲面に研削加工した。
次に、第１表の実施例１、２、３で示す組成を有する
325メッシュのNi−Cr合金粉末（Ni:25重量％、Cr:75重
量％）と325メッシュのCr3C2粉末からなる混合粉末を用
いて、上記湾曲面に約200μｍの厚さの被膜を減圧プラ
ズマ溶射によって形成した。溶射条件は以下の通りとし
た。
325メッシュのNi−Cr合金粉末（Ni:25重量％、Cr:75重
量％）と325メッシュのCr3C2粉末からなる混合粉末を用
いて、上記湾曲面に約200μｍの厚さの被膜を減圧プラ
ズマ溶射によって形成した。溶射条件は以下の通りとし
た。
使用ガン：メテコ社製LPC−9MBプラズマ溶射ガン 電圧:70V 電流:500A 雰囲気ガス:Ar チャンバ内圧力:30Torr 母材予熱温度:400℃ なお、形成された被膜中の空孔率は、平均で３体積％
であった。
であった。
また、実施例２で得られたピストンリングの外周部分
における、金属組織の顕微鏡写真（×100）を第４図に
示す。溶射被膜３と母材２の接合部は合金化して拡散結
合している。被膜３中には空孔が極めて少ない。
における、金属組織の顕微鏡写真（×100）を第４図に
示す。溶射被膜３と母材２の接合部は合金化して拡散結
合している。被膜３中には空孔が極めて少ない。
比較例１ 実施例１〜３と同形状、同材質のピストンリング用鋳
鉄材の湾曲面に、第１表で示す組成を有する200メッシ
ュのNi−Cr合金粉末（Ni:25重量％、Cr:75重量％）と20
0メッシュのCr3C2粉末を用いて、約200μｍの厚さの被
膜を大気圧下でプラズマ溶射によって形成した。溶射条
件は以下の通りとした。
鉄材の湾曲面に、第１表で示す組成を有する200メッシ
ュのNi−Cr合金粉末（Ni:25重量％、Cr:75重量％）と20
0メッシュのCr3C2粉末を用いて、約200μｍの厚さの被
膜を大気圧下でプラズマ溶射によって形成した。溶射条
件は以下の通りとした。
使用ガン：メテコ社製7Mプラズマ溶射ガン 電圧:70V 電流:500A 雰囲気ガス:Ar チャンバ内圧力:760Torr なお、形成された被膜中の空孔率は、平均で16体積％
であった。
であった。
比較例２、３ 実施例１〜３と同形状、同材質のピストンリング用鋳
鉄材の湾曲面に、第１表で示す組成を有する325メッシ
ュのNi−Cr合金粉末（Ni:25重量％、Cr:75重量％）と32
5メッシュのCr3C2粉末を用いて、約200μｍの厚さの被
膜を減圧プラズマ溶射によって形成した。なお、溶射条
件は実施例１〜３と同じにした。その結果、形成された
被膜中の空孔率は、平均で３体積％であった。
鉄材の湾曲面に、第１表で示す組成を有する325メッシ
ュのNi−Cr合金粉末（Ni:25重量％、Cr:75重量％）と32
5メッシュのCr3C2粉末を用いて、約200μｍの厚さの被
膜を減圧プラズマ溶射によって形成した。なお、溶射条
件は実施例１〜３と同じにした。その結果、形成された
被膜中の空孔率は、平均で３体積％であった。
比較例４ 実施例１〜３と同形状、同材質のピストンリング用鋳
鉄材の湾曲面に、200メッシュのMo粉末50重量％、200メ
ッシュのNi−Cr合金粉末10重量％、200メッシュのCr3C2
粉末10重量％、及び200メッシュの純鉄粉末30重量％か
らなる混合粉末を用いて、約200μｍの厚さの被膜を大
気圧下でプラズマ溶射によって形成した。なお、溶射条
件は実施例４と同じにした。その結果、形成された被膜
中の空孔率は、平均で16体積％であった。
鉄材の湾曲面に、200メッシュのMo粉末50重量％、200メ
ッシュのNi−Cr合金粉末10重量％、200メッシュのCr3C2
粉末10重量％、及び200メッシュの純鉄粉末30重量％か
らなる混合粉末を用いて、約200μｍの厚さの被膜を大
気圧下でプラズマ溶射によって形成した。なお、溶射条
件は実施例４と同じにした。その結果、形成された被膜
中の空孔率は、平均で16体積％であった。
摩耗試験 上記実施例１〜３及び比較例１〜４のピストンリング
材を供試材として、摩耗試験を行った。
材を供試材として、摩耗試験を行った。
第５図に概略して示す科研式摩耗試験機で高温湿式摩
耗試験を行った。支点12を挟んでアーム13の一方の端に
50kgの重り14を吊るすとともに、支点12と重り14の間に
各供試材15を、溶射ピストンリングを形成した湾曲面を
下向きにして固定した。アーム13の他方の端には、アー
ム13が水平になるようにバランサー16を吊るした。ヒー
タ17を内蔵して180℃に保ったドラム形シリンダライナ
材（FC25製）18を周速0.5m/秒で回転して、供試材15と
摺接させた。シリンダライナ材18の摺接面に低粘度オイ
ル19を３滴／分の量で滴下しながら240分間の試験を行
った。
耗試験を行った。支点12を挟んでアーム13の一方の端に
50kgの重り14を吊るすとともに、支点12と重り14の間に
各供試材15を、溶射ピストンリングを形成した湾曲面を
下向きにして固定した。アーム13の他方の端には、アー
ム13が水平になるようにバランサー16を吊るした。ヒー
タ17を内蔵して180℃に保ったドラム形シリンダライナ
材（FC25製）18を周速0.5m/秒で回転して、供試材15と
摺接させた。シリンダライナ材18の摺接面に低粘度オイ
ル19を３滴／分の量で滴下しながら240分間の試験を行
った。
試験後、供試材15とライナ材18の摩耗量を測定した結
果を第１表に示す。各摩耗量は、比較例３の摩耗量を10
0として、その相対値として表示している。第１表に示
されたように、Ni−Cr合金粉末とCr3C2粉末を適当量混
合して溶射したものにおいて、リング材とライナ材とも
に摩耗量が少ない。特に、減圧プラズマ溶射を行うこと
によって摩耗量が少なくなった。
果を第１表に示す。各摩耗量は、比較例３の摩耗量を10
0として、その相対値として表示している。第１表に示
されたように、Ni−Cr合金粉末とCr3C2粉末を適当量混
合して溶射したものにおいて、リング材とライナ材とも
に摩耗量が少ない。特に、減圧プラズマ溶射を行うこと
によって摩耗量が少なくなった。
また、同じく上記試験後に、各々のピストンリング材
の溶射被膜の剥離の有無を調べた。その結果を第１表に
あわせて示す。Ni−Cr合金粉末を20重量％以上配合し、
かつ減圧プラズマ溶射を行ったものにおいて、剥離が起
こらなかった。
の溶射被膜の剥離の有無を調べた。その結果を第１表に
あわせて示す。Ni−Cr合金粉末を20重量％以上配合し、
かつ減圧プラズマ溶射を行ったものにおいて、剥離が起
こらなかった。
〔発明の効果〕 以上説明した通り、本発明のピストンリングにおいて
は、Ni−Cr合金粉末とCr3C2粉末を各々所定量混合して
プラズマ溶射した被膜が、外周摺動面に形成されてい
る。従って、それら原料粉末の特性により、被膜は母材
との密着性と耐摩耗性に優れている。また、摺動する相
手材に対する攻撃性が低いので、相手材をも摩耗させな
い。
は、Ni−Cr合金粉末とCr3C2粉末を各々所定量混合して
プラズマ溶射した被膜が、外周摺動面に形成されてい
る。従って、それら原料粉末の特性により、被膜は母材
との密着性と耐摩耗性に優れている。また、摺動する相
手材に対する攻撃性が低いので、相手材をも摩耗させな
い。
さらに、上記原料粉末を用いて減圧プラズマ溶射すれ
ば、被膜中の空孔が少なくなり、耐酸化性も向上するの
で、密着性と摩耗特性がより一層向上する。
ば、被膜中の空孔が少なくなり、耐酸化性も向上するの
で、密着性と摩耗特性がより一層向上する。
第１図は本発明の一実施例によるピストンリングを示す
縦断面図であり、 第２図は本発明の別の実施例によるピストンリングを示
す縦断面図であり、 第３図は本発明のピストンリングを製造するための溶射
装置を示す概略縦断面図であり、 第４図は本発明のピストンリングの外周部分における断
面の金属組織を示す顕微鏡写真（×100）であり、 第５図は摩耗試験機の概略図である。 １……ピストンリング ２……母材 ３……溶射被膜 ４……溝 ５……プラズマガン ６……陽極 ７……陰極 ８……電源 ９……アーク放電 10……プラズマジェット流 11……原料粉末
縦断面図であり、 第２図は本発明の別の実施例によるピストンリングを示
す縦断面図であり、 第３図は本発明のピストンリングを製造するための溶射
装置を示す概略縦断面図であり、 第４図は本発明のピストンリングの外周部分における断
面の金属組織を示す顕微鏡写真（×100）であり、 第５図は摩耗試験機の概略図である。 １……ピストンリング ２……母材 ３……溶射被膜 ４……溝 ５……プラズマガン ６……陽極 ７……陰極 ８……電源 ９……アーク放電 10……プラズマジェット流 11……原料粉末
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−230760（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−182265（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−182266（ＪＰ，Ａ) 特公 昭52−1376（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭51−40859（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) F16J 1/00 - 10/04 C23C 4/00 - 6/00
Claims (2)
- 【請求項１】少なくとも外周摺動面に溶射被膜が形成さ
れているピストンリングであって、前記溶射被膜は20〜
40重量％のNiと60〜80重量％のCrからなる組成を有する
Ni−Cr合金20〜40重量％と、Cr3C260〜80重量％とから
なり、空孔率が３体積％以下であることを特徴とするピ
ストンリング。 - 【請求項２】請求項１に記載のピストンリングを製造す
る方法であって、150Torr以下の不活性ガス雰囲気中
で、ピストンリング母材に対して、20〜40重量％のNiと
60〜80重量％のCrからなる組成を有するNi−Cr合金粉末
20〜40重量％とCr3C2粉末60〜80重量％とからなる混合
粉末を用いて、プラズマ溶射を行うことにより、溶射被
膜を形成することを特徴とする方法。
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|---|---|---|---|
| JP1310397A JP2825884B2 (ja) | 1989-11-29 | 1989-11-29 | ピストンリング及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1310397A JP2825884B2 (ja) | 1989-11-29 | 1989-11-29 | ピストンリング及びその製造方法 |
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| JPH03172681A JPH03172681A (ja) | 1991-07-26 |
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| JP1310397A Expired - Fee Related JP2825884B2 (ja) | 1989-11-29 | 1989-11-29 | ピストンリング及びその製造方法 |
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-
1989
- 1989-11-29 JP JP1310397A patent/JP2825884B2/ja not_active Expired - Fee Related
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