JP2810420B2 - フラットディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents
フラットディスプレイパネルの製造方法Info
- Publication number
- JP2810420B2 JP2810420B2 JP16924489A JP16924489A JP2810420B2 JP 2810420 B2 JP2810420 B2 JP 2810420B2 JP 16924489 A JP16924489 A JP 16924489A JP 16924489 A JP16924489 A JP 16924489A JP 2810420 B2 JP2810420 B2 JP 2810420B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- inclined surface
- resist
- application roller
- roller
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 プラズマディスプレイパネルなどの製造方法に関し、 表示用電極の形成時のレジスト欠陥の発生による歩留
りの低下を防止することを目的とし、 上面に電極用の導電性薄膜を設けたガラス基板を搬送
し、弾性を有した塗布ローラに接触させることによっ
て、導電性薄膜のパターンエッチングのためのレジスト
塗布を行うフラットディスプレイパネルの製造方法であ
って、ガラス基板の搬送方向の前方側の上端縁部に、高
低差が塗布ローラの設定圧縮量以上である傾斜面を予め
設けておき、ガラス基板の全表面の内で傾斜面を最初に
塗布ローラと接触させることを特徴として構成される。
りの低下を防止することを目的とし、 上面に電極用の導電性薄膜を設けたガラス基板を搬送
し、弾性を有した塗布ローラに接触させることによっ
て、導電性薄膜のパターンエッチングのためのレジスト
塗布を行うフラットディスプレイパネルの製造方法であ
って、ガラス基板の搬送方向の前方側の上端縁部に、高
低差が塗布ローラの設定圧縮量以上である傾斜面を予め
設けておき、ガラス基板の全表面の内で傾斜面を最初に
塗布ローラと接触させることを特徴として構成される。
本発明は、PDPやELなどのフラットディスプレイパネ
ルの製造方法に関し、特に、表示用の電極を形成するた
めのフォトリソグラフィー工程でのレジスト塗布方法に
特徴を有する。
ルの製造方法に関し、特に、表示用の電極を形成するた
めのフォトリソグラフィー工程でのレジスト塗布方法に
特徴を有する。
PDPなどのフラットディスプレイパネルは、薄い奥行
きで大型の表示画面を実現できるため、CRTディスプレ
イに代わる表示装置として広く利用されつつある。それ
故、表示ドットの高密度化、表示画面の高品質化ととも
に、低価格化が進められており、製造段階での歩留りの
向上が要望されている。
きで大型の表示画面を実現できるため、CRTディスプレ
イに代わる表示装置として広く利用されつつある。それ
故、表示ドットの高密度化、表示画面の高品質化ととも
に、低価格化が進められており、製造段階での歩留りの
向上が要望されている。
第４図はPDP100の構造を示す要部断面図である。
PDP100は、表示側のガラス板10、背面側のガラス板2
0、各ガラス板10,20の内面にそれぞれ形成されたＸ電極
30及びＹ電極40、誘電体層5,6、保護層7,8、周囲を密封
する封止ガラス９などから構成され、内部の放電空間Ga
には、例えば、ネオン及びキセノンの混合ガスが封入さ
れている。Ｘ電極30及びＹ電極40が交差した各交点に画
定される表示セル（放電セルともいう）において放電に
よる発光が生じ、発光させる各表示セルの組み合わせに
より、表示面となるガラス板10の上面に文字や図形が表
示される。
0、各ガラス板10,20の内面にそれぞれ形成されたＸ電極
30及びＹ電極40、誘電体層5,6、保護層7,8、周囲を密封
する封止ガラス９などから構成され、内部の放電空間Ga
には、例えば、ネオン及びキセノンの混合ガスが封入さ
れている。Ｘ電極30及びＹ電極40が交差した各交点に画
定される表示セル（放電セルともいう）において放電に
よる発光が生じ、発光させる各表示セルの組み合わせに
より、表示面となるガラス板10の上面に文字や図形が表
示される。
Ｘ電極30は、ガラス板10の表面に、例えばクロム−銅
−クロムの三層構造の金属薄膜（膜厚は5000〜10000
Å）を形成するスパッタリング蒸着工程と、レジスト塗
布、パターン露光、レジスト現像、及び金属薄膜のパタ
ーンエッチングからなるフォトリソグラフィー工程とに
よって形成されている。
−クロムの三層構造の金属薄膜（膜厚は5000〜10000
Å）を形成するスパッタリング蒸着工程と、レジスト塗
布、パターン露光、レジスト現像、及び金属薄膜のパタ
ーンエッチングからなるフォトリソグラフィー工程とに
よって形成されている。
第５図は従来方法によるレジスト塗布の様子を示す図
である。
である。
同図において、レジスト塗布装置Ｒは、弾性部材（例
えば、硬質ゴム）からなる円柱状の塗布ローラ2,塗布ロ
ーラ２の表面を覆うレジスト膜の膜厚を調整するための
ドクターローラ21、搬送ローラ22、及び搬送平面TPを規
定する図外の搬送系などから構成されている。
えば、硬質ゴム）からなる円柱状の塗布ローラ2,塗布ロ
ーラ２の表面を覆うレジスト膜の膜厚を調整するための
ドクターローラ21、搬送ローラ22、及び搬送平面TPを規
定する図外の搬送系などから構成されている。
塗布ローラ２の表面には、レジスト25の濡れ（付着）
を良好にするため、深さ及び幅が数十μｍの周回溝が約
300μｍのピッチをもって軸方向に多数設けられてい
る。
を良好にするため、深さ及び幅が数十μｍの周回溝が約
300μｍのピッチをもって軸方向に多数設けられてい
る。
レジスト25は、適当位置のノズル24から吐出して塗布
ローラ２とドクターローラ21との接触部の上方に溜めら
れ、塗布ローラ２の矢印M2方向の回転に伴い、その接触
部の下方にて所定の膜厚のレジスト膜となって塗布ロー
ラ２の表面を覆う。
ローラ２とドクターローラ21との接触部の上方に溜めら
れ、塗布ローラ２の矢印M2方向の回転に伴い、その接触
部の下方にて所定の膜厚のレジスト膜となって塗布ロー
ラ２の表面を覆う。
塗布ローラ２は、ガラス基板1Bの板厚Ｄ（一般に2mm
又は3mm）に応じて矢印M4方向（上下方向）に位置調整
可能であり、軸方向を搬送平面TPと平行に且つ搬送平面
TPに対してガラス基板1Bの板厚Ｄよりも設定圧縮量（押
し込み量）ｐだけ小さい間隙をもって対向するように配
置される。設定圧縮量ｐを適宜選定することにより、塗
布ローラ２を、ガラス基板1Bの上面に所望の圧力で押し
付けることができる。
又は3mm）に応じて矢印M4方向（上下方向）に位置調整
可能であり、軸方向を搬送平面TPと平行に且つ搬送平面
TPに対してガラス基板1Bの板厚Ｄよりも設定圧縮量（押
し込み量）ｐだけ小さい間隙をもって対向するように配
置される。設定圧縮量ｐを適宜選定することにより、塗
布ローラ２を、ガラス基板1Bの上面に所望の圧力で押し
付けることができる。
このようなレジスト塗布装置Ｒによって行うレジスト
塗布では、前工程で上面に金属薄膜３を設けたガラス基
板1Bを、その底面を搬送平面TPと一致させた状態で、例
えば秒速５〜10cmで矢印M1方向に搬送し、塗布ローラ２
に接触させる。
塗布では、前工程で上面に金属薄膜３を設けたガラス基
板1Bを、その底面を搬送平面TPと一致させた状態で、例
えば秒速５〜10cmで矢印M1方向に搬送し、塗布ローラ２
に接触させる。
なお、ガラス基板1Bには、搬送時及び各工程間の運搬
時における欠けや割れを防止するために、各端縁部につ
いて0.1mm程度の面取り加工が施され、ガラス基板1Bの
上端縁部においても傾斜角度が45度の傾斜面1Bsが形成
されている。但し、傾斜面1Bsの上端と下端との高低差
（0.1mm）は、通常の設定圧縮量（0.3mm）の３分の１程
度である。
時における欠けや割れを防止するために、各端縁部につ
いて0.1mm程度の面取り加工が施され、ガラス基板1Bの
上端縁部においても傾斜角度が45度の傾斜面1Bsが形成
されている。但し、傾斜面1Bsの上端と下端との高低差
（0.1mm）は、通常の設定圧縮量（0.3mm）の３分の１程
度である。
塗布ローラ２との接触により、ガラス基板1Bの上面に
は、塗布ローラ２からレジスト25が塗布される。レジス
ト25が塗布されたガラス基板1Bは、矢印M3方向に回転す
る搬送ローラ22によってレジスト塗布装置Ｒから送り出
される。
は、塗布ローラ２からレジスト25が塗布される。レジス
ト25が塗布されたガラス基板1Bは、矢印M3方向に回転す
る搬送ローラ22によってレジスト塗布装置Ｒから送り出
される。
第６図は従来方法において塗布ローラ２に発生する圧
力変化を示す図である。
力変化を示す図である。
同図に示すように、従来では、ガラス基板1Bが最初に
塗布ローラ２と接触した時点t1において、塗布ローラ２
がガラス基板1Bの上端縁部によって急激に圧縮されるた
め、塗布ローラ２には波高値の高い衝撃圧力Psが発生す
る。
塗布ローラ２と接触した時点t1において、塗布ローラ２
がガラス基板1Bの上端縁部によって急激に圧縮されるた
め、塗布ローラ２には波高値の高い衝撃圧力Psが発生す
る。
したがって、従来においては、衝撃圧力Psの発生によ
って気泡が発生するなどして、レジスト25の膜に点状又
は帯状の空隙や膜厚の薄い部分が生じるといった、いわ
ゆるレジスト欠陥がしばしば発生するという問題があっ
た。
って気泡が発生するなどして、レジスト25の膜に点状又
は帯状の空隙や膜厚の薄い部分が生じるといった、いわ
ゆるレジスト欠陥がしばしば発生するという問題があっ
た。
レジスト欠陥が発生すると、後工程のパターンエッチ
ングにおいて、金属薄膜３が所定外のパターンにエッチ
ングされ、Ｘ電極30の断線や他の電極との短絡が生じる
可能性があり、それらが不良品となって歩留りが低下し
ていた。
ングにおいて、金属薄膜３が所定外のパターンにエッチ
ングされ、Ｘ電極30の断線や他の電極との短絡が生じる
可能性があり、それらが不良品となって歩留りが低下し
ていた。
本発明は、上述の問題に鑑み、放電用電極の形成時の
レジスト欠陥の発生による歩留りの低下を防止すること
を目的としている。
レジスト欠陥の発生による歩留りの低下を防止すること
を目的としている。
本発明は、上述の課題を解決するため、第１図に示す
ように、上面に電極用の導電性薄膜３を設けたガラス基
板１を搬送し、弾性を有した塗布ローラ２に接触させる
ことによって、導電性薄膜３のパターンエッチングのた
めのレジスト塗布を行うフラットディスプレイパネルの
製造方法であって、ガラス基板１の搬送方向M1の前方側
の上端縁部に、高低差が塗布ローラの設定圧縮量以上で
ある傾斜面1Sを予め設けておき、ガラス基板１の全表面
の内で傾斜面1Sを最初に塗布ローラ２と接触させること
を特徴として構成される。
ように、上面に電極用の導電性薄膜３を設けたガラス基
板１を搬送し、弾性を有した塗布ローラ２に接触させる
ことによって、導電性薄膜３のパターンエッチングのた
めのレジスト塗布を行うフラットディスプレイパネルの
製造方法であって、ガラス基板１の搬送方向M1の前方側
の上端縁部に、高低差が塗布ローラの設定圧縮量以上で
ある傾斜面1Sを予め設けておき、ガラス基板１の全表面
の内で傾斜面1Sを最初に塗布ローラ２と接触させること
を特徴として構成される。
弾性を有した塗布ローラ２は、径方向において設定圧
縮量ｐをもってガラス基板１の上面と接触するように配
置される。
縮量ｐをもってガラス基板１の上面と接触するように配
置される。
上面に電極用の導電性薄膜３を設けたガラス基板１
は、搬送平面TPに沿って塗布ローラ２へ向かって搬送さ
れる。
は、搬送平面TPに沿って塗布ローラ２へ向かって搬送さ
れる。
塗布ローラ２は、最初に傾斜面1Sにてガラス基板１と
接触する。その後、塗布ローラ２の圧縮量は、ガラス基
板１の移動に伴って徐々に増大し、傾斜面1Sの上端が軸
心の直下に達するに至って設定圧縮量ｐとなる。この圧
縮量の増大速度は、傾斜面1Sの傾斜角度の選定により調
整される。
接触する。その後、塗布ローラ２の圧縮量は、ガラス基
板１の移動に伴って徐々に増大し、傾斜面1Sの上端が軸
心の直下に達するに至って設定圧縮量ｐとなる。この圧
縮量の増大速度は、傾斜面1Sの傾斜角度の選定により調
整される。
以下、PDPに適用した本発明の実施例を図面を参照し
つつ説明する。
つつ説明する。
第１図は本発明方法に係るレジスト塗布の様子を示す
図である。
図である。
同図において、第５図と同一機能を有する構成要素に
は同一の符号を付してある。
は同一の符号を付してある。
第１図において、ガラス基板１は、その広さが第４図
のガラス板10の複数枚分に相当し、Ｘ電極30の形成後に
分割される。ガラス基板１の上面には、周縁部に最終的
に不要となる適当な作業しろ領域を残して、Ｘ電極30を
形成するための上述の三層構造の金属薄膜３が被着され
ている。
のガラス板10の複数枚分に相当し、Ｘ電極30の形成後に
分割される。ガラス基板１の上面には、周縁部に最終的
に不要となる適当な作業しろ領域を残して、Ｘ電極30を
形成するための上述の三層構造の金属薄膜３が被着され
ている。
ガラス基板１の搬送方向M1の前方側の上端縁部には、
下端と上端との高低差が塗布ローラ２の設定圧縮量ｐと
等しい傾斜面１を設けてある。
下端と上端との高低差が塗布ローラ２の設定圧縮量ｐと
等しい傾斜面１を設けてある。
このようなガラス基板１を、その底面を搬送平面TPと
一致させて搬送することにより、ガラス基板１と塗布ロ
ーラ２とが、最初に傾斜面1Sに接触し、その後に接触領
域が傾斜面1Sからガラス基板１の上面へと移り、ガラス
基板１の上面にレジスト25が塗布される。
一致させて搬送することにより、ガラス基板１と塗布ロ
ーラ２とが、最初に傾斜面1Sに接触し、その後に接触領
域が傾斜面1Sからガラス基板１の上面へと移り、ガラス
基板１の上面にレジスト25が塗布される。
第２図は本発明方法において塗布ローラ２に発生する
圧力変化を示す図である。
圧力変化を示す図である。
つまり、塗布ローラ２は、最初に傾斜面1Sにおいてガ
ラス基板１と接触した後、接触部が傾斜面1Sの上方部に
移っていくにしたがって徐々に圧縮されるので、塗布ロ
ーラ２に発生する圧力は徐々に増大して定常値に達し、
従来のような衝撃圧力Psは発生しない。この圧力の増大
速度は、傾斜面1Sの勾配、すなわち傾斜角度の選定によ
って調整可能である。
ラス基板１と接触した後、接触部が傾斜面1Sの上方部に
移っていくにしたがって徐々に圧縮されるので、塗布ロ
ーラ２に発生する圧力は徐々に増大して定常値に達し、
従来のような衝撃圧力Psは発生しない。この圧力の増大
速度は、傾斜面1Sの勾配、すなわち傾斜角度の選定によ
って調整可能である。
第３図は傾斜面1Sの傾斜角度θと塗布ローラ２との関
係を示す図である。
係を示す図である。
同図は、搬送方向M1と平行で塗布ローラ２の軸心と直
交する一平面を示している。また、同図においては、次
のように各点を定義する。
交する一平面を示している。また、同図においては、次
のように各点を定義する。
傾斜面1Sの上端を点Ｈ、下端を点Ｌ、点Ｈから下ろし
た垂線と点Ｌを通り搬送平面TPに平行な平面LPとの交点
を点Ｋ、塗布ローラ２の径の中心を点Ｏ、塗布ローラ２
の最下点を点Ｐ、ガラス基板１の上面と一致する平面HP
と塗布ローラ２の周面2aとの交点を点Ｓとする。
た垂線と点Ｌを通り搬送平面TPに平行な平面LPとの交点
を点Ｋ、塗布ローラ２の径の中心を点Ｏ、塗布ローラ２
の最下点を点Ｐ、ガラス基板１の上面と一致する平面HP
と塗布ローラ２の周面2aとの交点を点Ｓとする。
さて、ガラス基板１と塗布ローラ２とを最初に傾斜面
1Sにて接触させるための条件を求める。
1Sにて接触させるための条件を求める。
点Ｓにおける塗布ローラ２の周面2aの接線ｕと平面LP
との交差角度をψとし、傾斜面1Sの傾斜角度（∠HLK）
をθとすれば、上述の条件は、次式（１）で表されるこ
とになる。
との交差角度をψとし、傾斜面1Sの傾斜角度（∠HLK）
をθとすれば、上述の条件は、次式（１）で表されるこ
とになる。
０＜θ＜ψ …（１） 交差角度ψは∠SOPと等しいので、塗布ローラ２の半
径をｒとして、式（１）は次式（２）に置き換えられ
る。
径をｒとして、式（１）は次式（２）に置き換えられ
る。
つまり、式（２）を満足するように、傾斜角度θ、又
は塗布ローラ２の半径ｒを選定すれば、塗布ローラ２の
小円弧SP上の点とガラス基板１とを最初に傾斜面1Sにて
接触させることができる。
は塗布ローラ２の半径ｒを選定すれば、塗布ローラ２の
小円弧SP上の点とガラス基板１とを最初に傾斜面1Sにて
接触させることができる。
なお、実用上は、レジスト欠陥を防止する上で、傾斜
面1Sの勾配の水平距離ｌ（線分LKの長さ）と高低差ｄと
の比l/dが「５〜10」、すなわち、傾斜角度θが５〜11
度程度となるような緩やかな傾斜面1Sを設けることが望
ましい。また、塗布ローラ２の損傷を防止する上で、傾
斜面1Sの表面の粗さを10μｍ以下とするのがよい。
面1Sの勾配の水平距離ｌ（線分LKの長さ）と高低差ｄと
の比l/dが「５〜10」、すなわち、傾斜角度θが５〜11
度程度となるような緩やかな傾斜面1Sを設けることが望
ましい。また、塗布ローラ２の損傷を防止する上で、傾
斜面1Sの表面の粗さを10μｍ以下とするのがよい。
また、ガラス基板１にレジスト25を塗布した後は、傾
斜面1Sを設けた部分を切断により除去してもよい。
斜面1Sを設けた部分を切断により除去してもよい。
なお、上述の実施例においては、PDPに適用した例を
示したが、本発明は、ELなどの他のフラットディスプレ
イパネルにも適用可能であることは言うまでもない。
示したが、本発明は、ELなどの他のフラットディスプレ
イパネルにも適用可能であることは言うまでもない。
〔発明の効果〕 本発明によると、表示用電極の形成時のレジスト欠陥
の発生による歩留りの低下を防止することができ、PDP
などのフラットディスプレイパネルのコストダウンが可
能となる。
の発生による歩留りの低下を防止することができ、PDP
などのフラットディスプレイパネルのコストダウンが可
能となる。
第１図は本発明方法に係るレジスト塗布の様子を示す
図、 第２図は本発明方法において塗布ローラに発生する圧力
変化を示す図、 第３図は傾斜面の傾斜角度と塗布ローラとの関係を示す
図、 第４図はPDPの構造を示す要部断面図、 第５図は従来方法によるレジスト塗布の様子を示す図、 第６図は従来方法において塗布ローラに発生する圧力変
化を示す図である。 図において、 １はガラス基板、 1Sは傾斜面、 ２は塗布ローラ、 ３は金属薄膜（導電性薄膜）、 25はレジスト、 ｐは設定圧縮量、 M1は搬送方向、 TPは搬送平面である。
図、 第２図は本発明方法において塗布ローラに発生する圧力
変化を示す図、 第３図は傾斜面の傾斜角度と塗布ローラとの関係を示す
図、 第４図はPDPの構造を示す要部断面図、 第５図は従来方法によるレジスト塗布の様子を示す図、 第６図は従来方法において塗布ローラに発生する圧力変
化を示す図である。 図において、 １はガラス基板、 1Sは傾斜面、 ２は塗布ローラ、 ３は金属薄膜（導電性薄膜）、 25はレジスト、 ｐは設定圧縮量、 M1は搬送方向、 TPは搬送平面である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01J 9/02,11/00,17/49 B05C 1/02 102 G03F 7/16 501
Claims (1)
- 【請求項１】上面に電極用の導電性薄膜を設けたガラス
基板を搬送し、弾性を有した塗布ローラに接触させるこ
とによって、導電性薄膜のパターンエッチングのための
レジスト塗布を行うフラットディスプレイパネルの製造
方法であって、 ガラス基板の搬送方向の前方側の上端縁部に、高低差が
塗布ローラの設定圧縮量以上である傾斜面を予めを設け
ておき、ガラス基板の全表面の内で傾斜面を最初に塗布
ローラと接触させる ことを特徴とするフラットディスプレイパネルの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16924489A JP2810420B2 (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | フラットディスプレイパネルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16924489A JP2810420B2 (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | フラットディスプレイパネルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0334235A JPH0334235A (ja) | 1991-02-14 |
| JP2810420B2 true JP2810420B2 (ja) | 1998-10-15 |
Family
ID=15882916
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16924489A Expired - Lifetime JP2810420B2 (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | フラットディスプレイパネルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2810420B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109663703B (zh) * | 2017-10-13 | 2021-02-19 | 航天科工惯性技术有限公司 | 线圈涂漆装置及用于其的线圈涂漆方法 |
-
1989
- 1989-06-29 JP JP16924489A patent/JP2810420B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0334235A (ja) | 1991-02-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6632116B2 (en) | Plasma display panel, manufacturing method and manufacturing apparatus of the same | |
| US6482575B2 (en) | Method of preparing barrier rib master pattern for barrier rib transfer and method of forming barrier ribs | |
| JP4181806B2 (ja) | 印刷版、印刷機および印刷方法ならびに液晶機器の製造装置および製造方法 | |
| US5876542A (en) | Gas discharge display panel and its fabrication method | |
| JP2004179147A (ja) | 騷音を低減させた封着構造を有するプラズマディスプレイパネル | |
| JP2810420B2 (ja) | フラットディスプレイパネルの製造方法 | |
| CN1095184C (zh) | 等离子显示板及其制造方法 | |
| JP2814557B2 (ja) | ガス放電パネルの製造方法 | |
| US5930590A (en) | Fabrication of volcano-shaped field emitters by chemical-mechanical polishing (CMP) | |
| JPH06251714A (ja) | 表示パネル及びその製造方法 | |
| JP2968416B2 (ja) | 透明タッチパネルとその製造方法 | |
| EP1786018A1 (en) | Image display device and method for manufacturing the same | |
| JP2953985B2 (ja) | サンドブラスト装置及び気体放電型表示装置の製造方法 | |
| KR100647864B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널 | |
| JP2001185038A (ja) | プラズマ表示装置用基板 | |
| KR100447126B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법 | |
| US7108575B2 (en) | Method for fabricating mesh of tetraode field-emission display | |
| JP2634895B2 (ja) | プラズマディスプレイおよびその製造方法 | |
| KR100370252B1 (ko) | 전계 방출형 표시 소자의 스페이서 전극 형성 방법 | |
| JPH07254355A (ja) | 電界放出型冷陰極アレイ | |
| JPH08293245A (ja) | 気体放電型表示装置とその製造方法 | |
| KR20010107409A (ko) | 구조적 안정성이 우수한 플라스마 디스플레이 격벽 형상 | |
| JPH08328485A (ja) | 画像表示装置の製造方法及びこれを用いて製造された画像表示装置 | |
| JPH10321127A (ja) | ガス放電パネルおよびその製造方法 | |
| US20070170837A1 (en) | FED including gate-supporting device with gate mask having reflection layer |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
| R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| S131 | Request for trust registration of transfer of right |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313131 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 10 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080731 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 10 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080731 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090731 Year of fee payment: 11 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |