JP2799120B2 - カラーフィルタおよびその製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、いわゆる電子写真方式
（静電写真方式）を応用してカラーのトナーを所望する
パターン状に付着させることを複数回繰り返すことによ
り製造されるカラーフィルタおよびその製造方法に関す
るものであり、前記カラーフィルタの用途としては、固
体撮像素子あるいは各種表示装置（ＬＣＤやＰＤＰ等）
に搭載して、色分解、色再生あるいは反射率低減等に適
用されるものである。

【０００２】

【従来の技術】例えば、液晶表示装置に用いるカラーフ
ィルタの製造方法としては、数多くのものが提案され、
いくつかの方法は既に一応の実用化も成されている。

【０００３】例えば、透明支持体上に感光性樹脂を塗布
し常法に従って所望のパターンを形成し、前記パターン
を例えばレッド（Ｒ）に染色し、以下同様に、グリーン
（Ｇ）そしてブルー（Ｂ）を形成してカラーフィルタを
製造する方法がある（いわゆる染色法）。この他にも、
予め顔料等の色素を分散した感光性樹脂を使用して、常
法に従って所望のパターンを形成し、グリーン、レッド
そしてブルーの着色パターンを順次形成する方法（いわ
ゆる顔料分散法）。また、透明支持体上に透明導電層か
らなる所望のパターンを形成したのち、着色すべきパタ
ーンにのみ通電しながら電着して着色パターンを形成す
る方法（いわゆる電着法）。そして、オフセット印刷等
によってカラーフィルタを製造する方法（いわゆる印刷
法）等が提案されている。

【０００４】従来から実用化されているカラーフィルタ
のこれらの製造方法のうち、前記染色法および顔料分散
法は、感光液の塗布、ソフトベーク、露光、現像、染色
（顔料分散法では染色工程を含まない）そしてハードベ
ークからなる工程を３回（乃至４回）繰り返してレッ
ド、グリーンそしてブルー（４回の場合、ブラックもあ
る）からなるカラーフィルタを製造する。ここで、感光
液の塗布およびそのソフトベーク、ハードベークは比較
的長時間を要し工程が長くなる。また、大型の基板に順
次感光液を均一に塗布していくことは困難である。

【０００５】また、前記電着法では透明支持体上に透明
導電層として、いわゆるＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ
−Ｏｘｉｄｅ）が一般に多用される。前記ＩＴＯを成膜
して各色パターンにあわせて微細加工したのち、各色ご
とに前記ＩＴＯに通電して色材を電着する。従って、Ｉ
ＴＯは端子部で導通をとるために同色の画素同士が接続
していなければならず、画素形状や画素配列に制約が生
じる。又、異なる色間ではＩＴＯは導通してはならず、
ＩＴＯのパターン化には高度な微細加工技術が必要であ
る。印刷法は、感光液の塗布、露光、現像といった所謂
フォトリソグラフィーの必要がなく製造工程は比較的短
い。しかし、パターンの形状や位置精度を高度に維持し
なければならず、特殊な印刷技術が必要である。

【０００６】そこで、より簡便で短時間での製造が可能
なカラーフィルタの製造方法として、電子写真方式を用
いた製造方法が、例えば特開昭４８−１６５２９号公
報、特開昭５６−６９６０４号公報、特開昭５６−１１
７２１０号公報そして特開昭６３−２３４２０３号公報
に示されている。

【０００７】これらの特許公開公報に示された製造方法
においては、透明支持体上に透明導電層と透明光導電層
とを設け、透明光導電層表面に帯電を行う工程と、露光
により非画素部分の電荷を除去して電荷からなる静電潜
像パターンを描く工程と、画素部分に当たる静電潜像に
トナーを付着させ画素を形成する現像工程とが少なくと
も必要であり、これら一連の工程をブラック、レッド、
グリーンおよびブルーの各トナーに対して順次繰り返す
ことにより、電子写真感光体基板上に画素を直接に形成
させてカラーフィルタを作製している。また、カラーと
しては、前記レッド、グリーンおよびブルー以外のもの
でも差し支えが無く、使用目的や要求仕様によりイェロ
ー、マゼンタあるいはシアン等々で適宜対応してよい。
ここで、「透明光導電層」とは、「透明性と光導電性と
を兼ね備えた層」の意味である。また、前記二層が設け
られた基板のことは、特に「電子写真感光体基板」とも
称したりしている。

【０００８】尚、前記現像の方法には、透明光導電層の
表面の帯電電荷に対して逆極性の電荷を持つトナーを付
着させる正規現像法（前記の場合）の他に、帯電電荷に
対して同極性の電荷を持つトナーを付着させる反転現像
法もある。反転現像法は、入色すべき画素部分に該当す
る部位のみの電荷を除去し、この部位に帯電電荷と同極
性の電荷を持つトナーを付着させる方法である。

【０００９】一般に、カラーフィルタの画素となるトナ
ーの材料としては、白色ラテックス等に有機顔料等の着
色用色材を分散させたものを使用するため、着色色材が
固有に持つ電気抵抗により、画像形成したトナーからな
る画素の絶縁性が決定されてしまう。各工程を複数回繰
り返して電子写真感光体基板上にカラーの画像を直接に
形成し得るためには、次のことが必要となる。画素を形
成した後、次の画像形成の為には前記画素に十分な帯電
電位が保持出来るように、形成した画素には高い絶縁性
を有することが必要になる。従って、着色色材の通常の
選択としては、固有の電気抵抗が１０乃至１０¹⁰Ω・ｃ
ｍの範囲にあるものが選択され、形成した画素が高い電
気抵抗を有するようにしている。

【００１０】このように、高い電気抵抗を有した画素を
電子写真感光体基板上に形成していくことによって繰り
返しの帯電が可能となり、選択的な露光によって入色す
べき部位の電荷を除去し、前記反転現像方法で電子写真
感光体基板上に直接に複数色の画素を形成することがで
きる。

【００１１】電子写真方式により製造するカラーフィル
タにおいては、一般には、ガラス等の透明支持体上に透
明導電層と透明光導電層とを形成したものを電子写真感
光体基板に用い、この電子写真感光体基板の上にレッ
ド、グリーン、ブルー（尚、これら以外の色でも差し支
えない）の画素を形成してカラーフィルタを得る。従っ
て、透明光導電層は各画素の分光透過率を変化させない
ために可視光域（波長：４００乃至７００ｎｍ）におい
て吸収のないものでなければならない。

【００１２】これらの要求を満足でき且つ透明光導電層
として形成できるものとしては、ポリビニルカルバゾー
ルやポリビニルアントラセン等のように紫外線域に感度
をもつ有機光導電材料が挙げられる。尚、必ずしも透明
性を要しない基板上に導電層と光導電層とを形成したも
のを電子写真方式用の感光体基板に用い、この感光体基
板の上に形成した（少なくとも）レッド、グリーンそし
てブルーの各画素を、別の透明支持体上に各画素を転写
するという応用も可能である。

【００１３】ところで、通常のカラーフィルタでは高い
コントラストを得る目的から、レッド、グリーンそして
ブルーの各画素間に、いわゆる金属材等からなる遮光パ
ターンを形成し、不必要に漏れてしまう光を出来うる限
り完全に近く遮光することが重要になっていることは公
知の通りである。このためには、遮光パターンには高い
遮光性が必要であり、また遮光パターンとカラーの各画
素との境界部からも、前記のような不必要な光の漏れが
あってはならない。尚、ここで「遮光パターン」とは、
いわゆる「ブラックマトリクス」とか「ブラックストラ
イプ」等に相当するものであり、場合によっては反射を
抑制する機能も課せられる部分である。また、ＬＣＤの
場合であれば、例えば液晶パネル背面からのバックライ
トの光を遮光することになる。

【００１４】ところが、電子写真方式で画素同士を重ね
ようとする場合、重ねられる画素の下方にある透明光導
電層の電荷を除去するためには、その部位の透明光導電
層に露光々を到達させることが必要である。このこと
は、もし通常の露光方法を行う場合には、重ねられる画
素を露光々が透過出来れば問題は無い。画素下の領域を
照射し光減衰させることで、トナーが付着した画素上に
でも、静電潜像が描けるからである。

【００１５】しかしながら、カラーフィルタに使われる
透明光導電層の感度領域は紫外光域であり、遮光パター
ンやカラーの各画素に対して、露光の為に照射した紫外
光はこれらを透過できず、その結果、遮光パターンとカ
ラー画素との境界部を重ねて形成することは困難を極
め、画素同士を重ねることが出来ていなかった。また、
遮光パターン上に帯電している電荷が作る電界の影響も
あって、前記境界部では大きな隙間を隔ててパターンが
隣接するように形成されてしまう現象も生じていた。
（図８、図９）

【００１６】これらの結果から、各カラーの画素と遮光
パターンとの境界部の隙間から不必要な光が漏れ、顕微
鏡観察によるとその箇所が白く見えてしまう不良が発生
していた。これがいわゆる「白ヌケ」と称されている不
良である。このため、例えば液晶パネルへ組み込んで動
作させた際には、この隙間からバックライト光が漏れて
しまうことから、分光特性が変化してしまったり、ある
いは高いコントラスト性能が得られない等の問題が生じ
ていた。このことから、前記電子写真方式の製造方法に
よる場合、カラーフィルタとして実用化されるまでには
至っていなかった。

【００１７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は前記問題点に
鑑みなされたものであり、その目的とするところとは、
カラーフィルタと、特には電子写真方式を用いたその製
造方法とに関して、前記「白ヌケ」に起因する問題を容
易に且つ効果的に防止することにある。

【００１８】つまり、従来よりも製造が簡便になり製造
時間も短くカラーフィルタを製造することが出来、大画
面への対応も好適であるという電子写真方式が有する特
徴を維持出来ているカラーフィルタとその製造方法を提
供すること。さらには、遮光パターンと画素との間の隙
間からの不必要な光の漏れによって生じていた問題点、
すなわち、カラーフィルタの分光特性が悪影響を受けて
所定の性能の範囲から逸脱（劣化）してしまうこと、あ
るいは良好なコントラスト（高コントラスト）のカラー
フィルタを得られないこと、等を効果的に且つ容易に防
止することが出来るカラーフィルタとその製造方法を提
供することである。

【００１９】

【課題を解決するための手段】前記問題点を解決するた
めに本発明が提供する手段とは、すなわち、少なくとも
透明支持体上に、第一の透明光導電層、遮光パターン、
第二の透明光導電層、そしてカラーフィルタ用着色画素
が順次設けられてあることを特徴とするカラーフィルタ
である。

【００２０】あるいは、少なくとも透明支持体上に、第
一の透明光導電層、カラーフィルタ用着色画素、第二の
透明光導電層、そして遮光パターンが順次設けられてあ
ることを特徴とするカラーフィルタである。

【００２１】そして好ましくは、前記透明支持体と第一
の透明光導電層との間に、透明導電層が設けられてある
ことを特徴とする前記のカラーフィルタである。

【００２２】さらに好ましくは、前記カラーフィルタ用
着色画素もしくは前記遮光パターンの電気抵抗が１０¹⁰
Ω・ｃｍ以下であることを特徴とする前記のカラーフィ
ルタである。

【００２３】また好ましくは、前記カラーフィルタ用着
色画素が、特にＲＧＢからなることを特徴とする前記の
カラーフィルタである。

【００２４】あるいは、透明支持体上に少なくとも透明
光導電層が設けられたカラーフィルタ用電子写真感光体
基板の前記透明光導電層を帯電させ、次いでこの面に選
択的な露光を施すことにより静電潜像パターンを形成し
た後、前記静電潜像パターンに応じてカラーのトナーを
付着させて現像する工程を少なくとも経ることによりカ
ラーフィルタ用着色画素を形成するカラーフィルタの製
造方法において、少なくとも、（イ）前記透明支持体上
に設けられた第一の透明光導電層上に遮光パターンを形
成する工程、（ロ）次いで、前記遮光パターン上に第二
の透明光導電層を形成する工程、（ハ）しかる後に、前
記第二の透明光導電層を形成した面にカラーフィルタ用
着色画素を形成する工程、以上（イ）乃至（ハ）の各工
程を具備することを特徴とするカラーフィルタの製造方
法である。

【００２５】または、透明支持体上に少なくとも透明光
導電層が設けられたカラーフィルタ用電子写真感光体基
板の前記透明光導電層を帯電させ、この面に選択的な露
光を施すことにより静電潜像パターンを形成した後、前
記静電潜像パターンに応じてカラーのトナーを付着させ
て現像する工程を少なくとも経ることによりカラーフィ
ルタ用着色画素を形成するカラーフィルタの製造方法に
おいて、少なくとも、（ニ）前記透明支持体上に設けら
れた第一の透明光導電層上にカラーフィルタ用着色画素
を形成する工程、（ホ）次いで、前記カラーフィルタ用
着色画素上に第二の透明光導電層を形成する工程、
（ヘ）しかる後に、前記第二の透明光導電層を形成した
面に遮光パターンを形成する工程、以上（ニ）乃至
（ヘ）の各工程を具備することを特徴とするカラーフィ
ルタの製造方法である。

【００２６】尚、前記の好ましい実施態様、すなわち、
前記第二の透明光導電層に覆われるところの、遮光パタ
ーンもしくはカラーの画素の電気抵抗が１０¹⁰Ω・ｃｍ
以下であることについては、電気抵抗が１０¹⁰Ω・ｃｍ
を越えると、前記第二の透明光導電層における露光領域
の電荷除去効率が低下し、遮光パターンもしくはカラー
の画素の上部へ静電潜像パターンが描けなくなり、それ
に伴いトナーの付着量が減少し前記（投影像を想定し
た）重ねが出来なくなることに起因したものである。

【００２７】また、第二の透明光導電層の膜厚に関して
は、まず薄過ぎる場合は、帯電した電荷の保持能力や光
導電性に能力不足が生じてしまい、良好な静電潜像を描
き維持することが困難になる。一方で、厚過ぎる場合に
は、透明性が損なわれてしまいカラーフィルタとしての
性能を低下させることになる。従って、使用する材料、
設備、コーティングの能力そしてカラーフィルタの要求
品質に応じて、前記膜厚を適正値に設定する必要がある
（図６または図１１）。

【００２８】そして、透明導電層に関しては、透明光導
電層を帯電させた後に露光して静電潜像パターンを形成
する際に、余分な電荷を除去するための電荷の通路とし
ての機能がある。このことから、基本的に透明導電層が
存在した方がコントラストの良好な静電潜像パターンを
形成し易く、つまりは良好な遮光パターンもしくはカラ
ーフィルタ用着色画素を形成し易いことになる。

【００２９】後述する実施例の場合では、好ましくは膜
厚が０．１乃至１０μｍであり、特に好ましくは１乃至
５μｍであった。このとき膜厚が０．１μｍを下回る薄
さのときは、画素上部の領域で感光体として機能しなく
なり、逆に膜厚が１０μｍを越える厚さのときには、透
明性が損なわれてカラーの画素のピーク透過率低下の原
因ともなった。

【００３０】以下には、本発明に係わるカラーフィルタ
およびその製造方法について、図面を参照しつつ説明す
る。尚、図面には負帯電のトナーを用いて反転現像を用
いた２色目以降の画像形成の様子を示している。但し、
本発明はこの図面によって限定されるものではなく、例
えば、正帯電トナーを用いて電子写真感光体基板に正帯
電を行うことによるという前記の反転現像でもよく、あ
るいは一色目の画素を正規現像で形成する、等の各様な
工程で適用が可能である。

【００３１】透明支持体１上に透明導電層２、透明光導
電層３を積層して設けたカラーフィルタ用電子写真感光
体基板４に反転現像若しくは通常の正現像により、１色
目の画素５を形成した（図１）。

【００３２】次に、再び（第二の）透明光導電層３’を
塗工形成し積層させ、コロナ放電用電源６に接続した帯
電器７を用いて負帯電を行った。なお、その際には電子
写真感光体基板の透明導電層２はアース８に繋がれてい
る（図２）。

【００３３】マスク９を用いて、２色目の画素部分に紫
外光１０を照射し（図３）、画素部分の電荷を除去した
後、負帯電のトナー１１を用いて現像を行った（図
４）。電荷の除去された部分にトナーが付着して、２色
目の画素１２が形成された（図５）。

【００３４】以下同様にして、３色目の画素１３と４色
目の画素１４を形成することによりカラーフィルタを作
製した（図６）。

【００３５】

【作用】本発明の電子写真方式によるカラーフィルタお
よびその製造方法によると、トナーからなる遮光パター
ン（もしくは、請求項２に係わるような場合にはカラー
フィルタ用着色画素）の上を覆うように新たな透明光導
電層（すなわち、前記第二の透明光導電層）が形成され
ることから、トナーにより形成された前記遮光パターン
（もしくは、前記同様にカラーフィルタ用着色画素）を
露光光が透過出来ていなくとも、前記第二の透明光導電
層が感光機能を発揮出来てしまうことにより、遮光パタ
ーン（もしくは、前記同様にカラーフィルタ用着色画
素）の上部の領域からも静電潜像を描くことが可能にな
る。

【００３６】これによって、遮光パターンとカラーの画
素との（投影像を想定した）重ねが可能になり、遮光パ
ターンとカラーの画素との境界部に隙間が生じないよう
にすることが出来るようになる。

【００３７】また、このことは発明者が実験を踏まえつ
つ鋭意研究を積み重ねた結果判明したことであるが、特
に第二の透明光導電層下の遮光パターン（もしくは、前
記同様にカラーフィルタ用着色画素）の電気抵抗を最大
でも１０¹⁰Ω・ｃｍという比較的には導電性があるよう
にすることによって、通常の透明光導電層下に透明導電
層を設けた層構成に近似でき、第二の透明光導電層の量
子効率が上がり、よりいっそう明瞭な静電潜像を得るこ
とができるようになる。

【００３８】

【実施例】

＜実施例１＞透明支持体として１ｍｍ厚の石英ガラスを
用い、片面にＩＴＯをスパッタリング法により成膜し透
明導電層とした。透明支持体の材質としては、特に限定
するものではなく、透明なガラス基板、透明な樹脂の基
板もしくはフィルム、等が適用可能である。尚、一般の
カラーフィルタには低膨張ガラスが頻繁に用いられるこ
とは公知の通りである。また、透明導電層にはＩＴＯを
使用したが、特にこれに限定されず、公知のもので差し
支えない。例えば、無機金属導電膜（Ｔａ、等の金属薄
膜）、無機金属酸化物導電膜（ＳｎＯ₂ 、ＭｇＯ、Ａｌ
₂ Ｏ₃ 等の薄膜）、四級アンモニウム塩等の有機導電膜
等でも適用可能である。このような透明導電層の形成方
法としては、透明支持体上に蒸着法、スパッタリング
法、ＣＶＤ法、コーティング、めっき法、ディッピング
法あるいは電解重合法等を適宜適用してよい。

【００３９】この、ＩＴＯを成膜したガラス基板上に第
一の透明光導電層となるポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール
（アナン製、商品名：ツビコール２１０）を上記ＩＴＯ
付きガラス基板上へポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール２０
０重量部をシクロヘキサノン８００重量部に溶解してス
ピンコーターにて３μｍの厚さに塗布した。続いてオー
ブンを用いて、温度６０℃、３０分間の乾燥を行い、次
いで温度１５０℃で３０分間の硬化を行って電子写真方
式用のカラーフィルタ用感光体とした。

【００４０】次に、コロナ帯電器を用いて−６ｋＶを印
加し、電子写真感光体基板に負のコロナ放電を施し帯電
を行った。帯電の終了した電子写真感光体基板の上か
ら、遮光パターン用マスクを介して紫外光を照射し遮光
パターン状に電荷を除去し、静電潜像を描いた。

【００４１】続いて特開昭６２−２６９１０１号公報記
載の環化ゴムとハロゲン含有メタクリレートの反応によ
り得られた白色ラテックスに黒色着色剤（三菱マテリア
ル製、商品名：チタンブラック／品番１３Ｒ）を分散さ
せて、イソパラフィン系溶媒（エッソ化学製、商品名：
アイソパーＧ）を加え作成した負帯電のブラックトナー
液中に上記光導電体を浸漬して反転現像を行うことによ
り、１色目に電気抵抗１０⁵ Ω・ｃｍの遮光パターンを
形成した。

【００４２】次に、遮光パターンが形成された電子写真
感光体基板へさらに、前記ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾー
ルを２μｍの膜厚になるよう、前記と同様にスピンコー
ターを使用して成膜し、第二の透明光導電層を形成し
た。

【００４３】続いて、前記と同様の帯電を行ったうえ
で、２色目画素用マスクの位置を先に形成した遮光パタ
ーンと境界部で重なるように位置をあわせて露光を行
い、２色目に該当する画素部分の電荷を除去し、前記公
報記載の環化ゴムとハロゲン含有メタクリレートの反応
により得られた白色ラテックスに赤色着色材（保土ヶ谷
化学工業製、商品名：Ｓｐｉｌｏｎ Ｒｅｄ ＧＲＬ
Ｈ）を分散させてイソパラフィン系溶媒（エッソ化学
製、商品名：アイソパーＧ）を加えて作成した負帯電の
レッドトナー液中に、前記電子感光体基板を浸漬するこ
とにより反転現像を行いレッド画素を形成した。

【００４４】この後、前記電子感光体基板に再度負帯電
を行い、レッド画素に隣接し且つ周囲を遮光パターンの
境界部と重なるようにマスクの位置を合わせた上で露光
し、次の画素部位の電荷を除去しておき、前記同様に負
帯電のグリーントナーを用いて反転現像を行いグリーン
画素を形成した。さらに、同様の工程を負帯電のブルー
トナー液について行い最終画素となるブルー画素を形成
した。

【００４５】このようにして、作成したカラーフィルタ
の外観を光学顕微鏡で観察したところ、遮光パターンと
レッド、グリーンそしてブルーの画素とが境界部で完全
に重なっており、コントラストの高い良好なカラーフィ
ルタを得ることができた。

【００４６】＜実施例２＞前記＜実施例１＞と同じカラ
ーフィルタ用電子写真感光体基板へコロナ帯電器を使っ
て−６Ｋｖを印加し負のコロナ帯電を行って、画素用マ
スクの上から露光をおこない画素状に電荷を除去し、１
色目に＜実施例１＞と同様の負帯電レッドトナー液中に
浸漬現像しレッド画素を形成した。

【００４７】この後、再度負帯電を行いレッド画素に隣
接するよう位置合わせをを行い、次の画素部位の電荷を
除去しておき、負帯電のグリーントナーおよびブルート
ナーを用いて反転現像を繰り返し行い、グリーン画素お
よびブルー画素を形成した。

【００４８】次に、レッド、グリーン、ブルーの３色画
素が形成された感光体基板へさらに、前記ポリ−Ｎ−ビ
ニルカルバゾールを２μｍの膜厚になるよう成膜し、第
二の透明光導電層を形成した。

【００４９】この後、再度負帯電を行い、各画素の周囲
とブララックマトリックスパターン用マスクとが境界部
で重なるように位置合わせて露光を行い３色画素間の電
荷を除去しておき、＜実施例１＞と同じ負帯電のブラッ
クトナーを用いて反転現像を行い付着させ最終画素とな
る遮光パターンを形成した。

【００５０】このようにして、作成したカラーフィルタ
の外観を光学顕微鏡で観察したところ、遮光パターンと
レッド、グリーン、ブルーの画素とが境界部で完全に重
なっており、コントラストの高い良好なカラーフィルタ
を得ることができた。

【００５１】＜実施例３＞前記＜実施例１＞と同様にカ
ラーフィルタ用電子写真感光体基板に帯電、露光を行い
遮光パターン状の静電潜像を描き、特開昭６２−２６９
１０１号公報記載の環化ゴムとハロゲン含有メタクリレ
ートの反応により得られた白色ラテックスに黒色着色剤
（東京色材製、商品名：Ｎｏ２ Ｓｕｐｅｒ Ｂｌａｃ
ｋ）を分散させて、イソパラフィン系溶媒（エッソ化学
製、商品名アイソパーＧ）を加え作成した負帯電のブラ
ックトナー液中に前記電子写真感光体基板を浸漬して反
転現像を行うことにより、１色目に電気抵抗が１Ω・ｃ
ｍの遮光パターンを形成した。

【００５２】次に、遮光パターンが形成された電子写真
感光体基板へさらに、前記ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾー
ルを４μｍの膜厚になるようスピンコーターを用いて成
膜し、第二の透明光導電層を形成した。その後に、前記
と同様に、負帯電、位置合わせ、露光そして現像を繰り
返してカラー画素を形成した。

【００５３】このとき、画素境界部の電荷は充分に除去
することが出来た。そして、外観を観察したところさら
に良好なレッド、グリーン、ブルーの画素を遮光パター
ン境界上に形成することが出来た。これは、第二の透明
光導電層下の遮光パターンの電気抵抗を小さくしておい
たことから、光量子効率の向上が図られたためである。

【００５４】＜比較例＞前記＜実施例１＞乃至＜実施例
３＞と同様のカラーフィルタ用電子写真感光体基板を用
い、コロナ帯電器を使って−６ｋＶを印加して負のコロ
ナ放電を行い、前記カラーフィルタ用電子写真感光体基
板を帯電させた。帯電が終了した前記カラーフィルタ用
電子写真感光体基板の上から遮光パターン用のマスクを
介して露光を行い、画素部分の電荷を除去し、続いて＜
実施例１＞と同様な負帯電のブラックトナー液中に前記
カラーフィルタ用電子写真感光体基板を浸漬することに
より反転現像を行い、遮光パターンを形成した。

【００５５】次に、このままの状態で再度負帯電を行
い、遮光パターン中のレッド入色部に境界部で重なるよ
う画素用マスクの位置を合わせて露光を行い電荷を除去
した。続いて、＜実施例１＞乃至＜実施例３＞と同様な
負帯電のレッドトナー液中に浸漬して反転現像を行っ
た。

【００５６】画素形成後、光学顕微鏡を透過光にして外
観を観測したところ、レッド画素が遮光パターン境界部
から隙間を隔てて形成されており、レッド画素と遮光パ
ターンとの境界部から光の漏れが観測された。

【００５７】さらに、負帯電のグリーントナー液とブル
ートナー液とに関しても、前記と同様の工程を経て、全
ての画素を形成した。

【００５８】以上の工程の後、光学顕微鏡を透過光にし
て観測したところレッド、グリーンそしてブルーの全て
の画素が遮光パターンから隙間を隔てて形成されてしま
っており、その境界部からはやはり光の漏れが観測され
た。尚、ＳＥＭを用いてこれらの隙間を観察・測定した
ところ幅が３乃至５μｍもあり、カラーフィルタの要求
品質からは、到底無視できないほどに大きな隙間である
ことが判明した。（図７）に製造されたカラーフィルタ
の断面を概略して示した。

【００５９】

【発明の効果】本発明によると、カラーフィルタそして
カラーフィルタを特には電子写真方式を用いて製造する
方法に関して、前記「白ヌケ」に起因する問題を容易に
且つ効果的に防止することが出来た。つまり、製造がよ
り簡便になり製造時間も短い方法でカラーフィルタを製
造することが出来、大画面への対応も好適であるという
電子写真方式が有する特徴を維持しており、且つ遮光パ
ターンと画素との間の隙間からの不必要な光の漏れによ
り、カラーフィルタの分光特性が悪影響を受けて所定の
性能から変化（劣化）してしまうこと、あるいは良好な
コントラスト（高コントラスト）のカラーフィルタを得
られないこと、等を容易で効果的に防止することが出来
るカラーフィルタとその製造方法を提供することが出来
たのである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のカラーフィルタの製造方法に係わる一
実施例について、断面図を用いて概略の工程を示す説明
図である。

【図２】本発明のカラーフィルタの製造方法に係わる一
実施例について、断面図を用いて概略の工程を示す説明
図である。

【図３】本発明のカラーフィルタの製造方法に係わる一
実施例について、断面図を用いて概略の工程を示す説明
図である。

【図４】本発明のカラーフィルタの製造方法に係わる一
実施例について、断面図を用いて概略の工程を示す説明
図である。

【図５】本発明のカラーフィルタの製造方法に係わる一
実施例について、断面図を用いて概略の工程を示す説明
図である。

【図６】本発明のカラーフィルタの製造方法に係わる一
実施例について、断面図を用いて概略の工程を示す説明
図である。（完成品であり、本発明に係わるカラーフィ
ルタの一実施例でもある）

【図７】従来のカラーフィルタの製造方法に係わる一例
について断面図を用いて概略を示す説明図である。

【図８】従来の技術に係わり、露光によっても遮光パタ
ーンには電荷が残ってしまう様子を示す概念図である。

【図９】従来の技術に係わり、遮光パターンに残った電
荷により前記「白ヌケ」が生じてしまう様子を示す概念
図である。

【図１０】本発明のカラーフィルタの製造方法に係わる
他の一実施例について、断面図を用いて概略の工程を示
す説明図である。

【図１１】本発明のカラーフィルタの製造方法に係わる
他の一実施例について、断面図を用いて概略の工程を示
す説明図である。（完成品であり、本発明に係わるカラ
ーフィルタの他の一実施例でもある）

【符号の説明】

１・・・透明支持体 ２・・・透明導電層 ３・・・透明光導電層 ３’・・（第二の）透明光導電層 ４・・・カラーフィルタ用電子写真感光体 ５・・・１色目の画素 ６・・・コロナ放電用電源 ７・・・帯電器 ８・・・アース ９・・・マスク １０・・・紫外光 １１・・・トナー １２・・・２色目の画素 １３・・・３色目の画素 １４・・・４色目の画素

フロントページの続き (72)発明者 藤田 健一 東京都中央区京橋二丁目３番13号 東洋 インキ製造株式会社内 審査官 森内 正明 (56)参考文献 特開 平４−240602（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G02B 5/20 - 5/28

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】少なくとも透明支持体上に、第一の透明光
   導電層、遮光パターン、第二の透明光導電層、そしてカ
   ラーフィルタ用着色画素が順次設けられてあることを特
   徴とするカラーフィルタ。
2. 【請求項２】少なくとも透明支持体上に、第一の透明光
   導電層、カラーフィルタ用着色画素、第二の透明光導電
   層、そして遮光パターンが順次設けられてあることを特
   徴とするカラーフィルタ。
3. 【請求項３】前記透明支持体と第一の透明光導電層との
   間に、透明導電層が設けられてあることを特徴とする請
   求項１乃至２記載のカラーフィルタ。
4. 【請求項４】前記カラーフィルタ用着色画素もしくは前
   記遮光パターンの電気抵抗が１０¹⁰Ω・ｃｍ以下である
   ことを特徴とする請求項１乃至３記載のカラーフィル
   タ。
5. 【請求項５】前記カラーフィルタ用着色画素が、特にＲ
   ＧＢからなることを特徴とする請求項１乃至４記載のカ
   ラーフィルタ。
6. 【請求項６】透明支持体上に少なくとも透明光導電層が
   設けられたカラーフィルタ用電子写真感光体基板の該透
   明光導電層を帯電させ、次いでこの面に選択的な露光を
   施すことにより静電潜像パターンを形成した後、該静電
   潜像パターンに応じてカラーのトナーを付着させて現像
   する工程を少なくとも経ることによりカラーフィルタ用
   着色画素を形成するカラーフィルタの製造方法におい
   て、少なくとも、（イ）該透明支持体上に設けられた第
   一の透明光導電層上に遮光パターンを形成する工程、
   （ロ）次いで、該遮光パターン上に第二の透明光導電層
   を形成する工程、（ハ）しかる後に、該第二の透明光導
   電層を形成した面にカラーフィルタ用着色画素を形成す
   る工程、以上（イ）乃至（ハ）の各工程を具備すること
   を特徴とするカラーフィルタの製造方法。
7. 【請求項７】透明支持体上に少なくとも透明光導電層が
   設けられたカラーフィルタ用電子写真感光体基板の該透
   明光導電層を帯電させ、この面に選択的な露光を施すこ
   とにより静電潜像パターンを形成した後、該静電潜像パ
   ターンに応じてカラーのトナーを付着させて現像する工
   程を少なくとも経ることによりカラーフィルタ用着色画
   素を形成するカラーフィルタの製造方法において、少な
   くとも、（ニ）該透明支持体上に設けられた第一の透明
   光導電層上にカラーフィルタ用着色画素を形成する工
   程、（ホ）次いで、該カラーフィルタ用着色画素上に第
   二の透明光導電層を形成する工程、（ヘ）しかる後に、
   該第二の透明光導電層を形成した面に遮光パターンを形
   成する工程、以上（ニ）乃至（ヘ）の各工程を具備する
   ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。