JP3243855B2 - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents

カラーフィルタの製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】電子写真方式によってカラートナ
ーをパターン状に付着させることを複数回繰り返して固
体撮像素子、液晶表示装置等に登載されるカラーフィル
タを製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示装置に用いるカラーフィルタの
製造方法は数多く提案されいくつかの方法が実用化され
ている。
【0003】例えば、透明基板上に感光性樹脂を塗布し
常法に従って所望のパターンを形成し、該パターンを例
えばレッドに染色、以下同様にしてグリーン、ブルーを
形成してカラーフィルタを製造する方法(これを染色法
という)がある。このほかには、予め顔料や染料等の色
素を分散した感光性樹脂を使用して、常法に従って所望
のパターンを形成し、グリーン、レッド、ブルーの着色
パターンを順次形成する方法(これを着色樹脂法とい
う)、透明基板上に透明導電体層からなる所望パターン
を形成したのち、着色すべきパターンにのみ通電しなが
ら電着して着色パターンを形成する方法(これを電着法
という)、オフセット印刷等によってカラーフィルタを
製造する方法(これを印刷法という)などが提案されて
いる。
【0004】従来から実用化されているカラーフィルタ
の製造方法のうち、染色法及び着色樹脂法は感光液の塗
布、ソフトベーク、露光、現像、染色(着色樹脂法では
染色工程を含まない)ハードベークを3回乃至4回繰り
返してレッド、グリーン、ブルー(ブラック)からなる
カラーフィルタを製造する。ここで、感光液の塗布及び
そのソフトベーク、ハードベークは比較的長時間を要し
工程が長くなる。また、大型の基板に順次感光液を均一
に塗布していくことは困難である。
【0005】電着法では、透明基板上に透明導電体層と
してIndium−Tin−Oxide(以下ITOと
いう)が一般に多用される。前記ITOを成膜して色パ
ターンにあわせて微細加工したのち、各色ごとに前記I
TOに通電して色材を電着する。したがって、ITOは
端子部で導通をとるために同色の画素同士が接続してい
なければならず、画素形状や画素配列に制約が生じる。
又、異なる色間ではITOは導通してはならず、ITO
のパターン化には高度な微細加工技術が必要である。印
刷法は、感光液の塗布、露光、現像といった所謂フォト
リソグラフィーの必要がなく製造工程は比較的短い。し
かし、パターンの形状や位置精度を高度に維持しなけれ
ばならず、特殊な印刷技術が必要である。
【0006】そこで、より簡便なカラーフィルタ製造方
法として、電子写真方式によるカラーフィルタの製造に
関する方法が、特開昭48−16529号公報、特開昭
56−69604号公報、特開昭56−117210号
公報、特開昭63−234203号公報に示されてい
る。
【0007】これらの方法に於いては、透明基板上に導
電体層と感光体層を設け(以後これを光導電体とい
う)、光導電体表面に帯電を行う工程と、露光により非
画素部分の電荷を除去し(反転現像法の場合は画素部の
電荷を除去する)潜像パターンを形成する工程と、画素
部分の潜像にトナーを付着させる現像工程を、レッド、
グリーン、ブルーのトナーを用い3回もしくは、ブラッ
クを加えて4回繰り返してカラーフィルタを作製してい
る。
【0008】さらに詳述すると、所定のマスクを介して
露光を行い電荷による画素潜像パターンを形成する。そ
の後、カラーフィルタの画素となる液体着色トナーを適
当量付着させること、及び非画素部への地汚れを抑える
ために潜像電位から演算して現像槽対極に設けられた電
極にバイアス電位を印加する。画素潜像電位に対して現
像バイアスを可変させることにより、画素濃度の調整を
行うことを目的としている。この後に、該光導電体を前
記現像槽へ浸漬し、レッド、グリーン、ブルーの液体ト
ナーを用い3回、もしくはブラックを加えて4回繰り返
し、画素部分の潜像電荷(反転現像の場合は電荷を除去
した部位)に液体トナーを付着させてカラーフィルタを
作製している。ここで、現像方法には上述のように感光
体層上の潜像に対し逆極性の電荷を持つトナーを使用す
る正現像法と同極性の電荷を持つトナーを使用する反転
現像法がある。入色すべき画素部分に該当する部位の電
荷を除去し、この除去された部位に同極性のトナーを付
着させる反転現像方法が、画素入色が進行し感光体層上
に占めるトナー層の割合が増えても、所望の画素潜像パ
ターンが得られ易く有利である。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】電子写真方式によるカ
ラーフィルタの製造方法においては、光導電体表面を帯
電させた後に、所定のマスクを介して露光を行い、画素
部分の電荷を除去する工程がある。この工程に続いて、
帯電電位と同極性の電荷を持つ所定の液体トナーによっ
て現像を行う。2色目以降の画素形成については、既に
形成されている画素パターンを含めて、光導電体表面を
帯電し、次色として形成されるべき画素に該当する部位
の電荷を露光によって除去し同極性トナーを付着させ現
像を行う。この工程を繰り返して3色乃至ブラックを含
めた4色のカラーフィルタを作製する。しかし、この繰
り返し工程が進行するにしたがって、感光体層上に占め
るトナー層(カラーフィルタ画素パターン)の割合が増
えると、次色形成のために施すコロナ帯電電位が色別で
異なるという現象が生じる。特に3色目、4色目入色時
はこの現象が大きく、露光によって画素部の電荷を除去
し潜像形成すると、隣接するトナー層別で電位勾配が異
なる結果となる。この状態で現像後工程を施すと、画素
パターン形状の歪み、画素パターン断面形状の凹凸、濃
度の不均一、濃度不足となって現れ、カラーフィルタに
望まれる色分光、高精細パターンが得られなくなるとい
う問題が生じていた。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明では、本発明で
は、透明基板上に透明導電体層と透明感光体層が設けら
れた光導電体の表面へ帯電を行う工程と、露光で電荷に
よる静電潜像パターンを形成する工程と、静電潜像パタ
ーンへ着色トナーを付着させる現像工程とを含む電子写
真カラーフィルタの製造方法であって、第一色目に体積
抵抗値が102 Ωcm以上の高絶縁性のブラックマトリ
ックスパターンを形成するか、画素間に透明な高絶縁性
材料を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造
方法である。
【0011】
【作用】本発明に係わるカラーフィルタの製造方法は、
第1色目に遮光用のブラックマトリックスパターンを形
成するもしくは、画素間に別な高絶縁性材料を形成する
ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。本
方法によれば、画素入色が進行するに従って感光体上に
占めるトナー層の割合が増えて、次色形成のために施す
帯電電位が色別に異なる現象が生じても、露光によって
電荷を除去した部位に隣接するパターンは、常にブラッ
クマトリックスパターン等の高絶縁性材料となる。
【0012】すなわち、最終画素を入色する場合にも、
露光によって電荷を除去した部位は周囲を帯電したブラ
ックマトリックスパターン等の高絶縁性材料に囲まれて
いることになる。このため一連の画素入色を一様な潜像
電位状態で現像できることになる。この結果、入色順の
影響によって生じる、画素パターン形状の歪み、画素パ
ターン断面形状の凹凸、濃度の不均一、濃度不足という
問題が表れず、カラーフィルタに望まれる色分光、高精
細パターンを容易に得ることが可能になる。
【0013】
【実施例】
(実施例1)本発明のカラーフィルタの製造方法を図面
を用いて詳細に説明する。なお、図面には負帯電のトナ
ーを用いた場合の反転現像を用いた画像形成方法を示し
ているが、本発明は、この図面によって限定されるもの
ではなく、正帯電トナーを用いて光導電体に正帯電を行
うことによる反転現像でも良い。
【0014】本発明に用いる光導電体4の一例を図1に
示す。光導電体4とは、透明基板1表面に透明導電体層
2と、さらに上層に透明な感光体層3を形成した3層構
造のものをいう。透明基板1の材質としては、特に限定
するものではないが一般には低膨張ガラスが用いられ、
本製造では石英ガラスを用いた。
【0015】透明基板1上に形成される透明導電体層2
にはITOを使用したが、特にこれに限定されることは
なく、無機金属導電膜、無機金属酸化物導電膜、四級ア
ンモニウム塩等の有機導電膜等が使用可能である。この
ような透明導電体層2は、透明基板1上に蒸着法、スパ
ッタリング法、CVD法、コーティング、めっき、ディ
ッピング、電解重合法等により形成される。
【0016】透明な感光体層3は可視光域に吸収を持た
ないものであれば特に限定されるものではないが、有機
系感光体が塗工性などから好ましく、ここではポリ−N
−ビニルカルバゾール(亜南香料(株)アナン 製商品
名ツビコール210)を使用した。上記ITO付きガラ
ス基板上へポリ−N−ビニルカルバゾール200重量部
をシクロヘキサノン800重量部に溶解してワイヤーコ
ータにて3μmの厚さに塗布した。続いて60℃のオー
ブンにて30分間乾燥したのち150℃のオーブンにて
30分間硬化を行って光導電体4とした。
【0017】次いで図2に示す様に、コロナ放電用電源
5に接続した帯電器6へ−6kVを印加し、光導電体4
に負のコロナ放電を行い、全面に負帯電を行った。な
お、その際には光導電体4中間に位置する導電体層2は
アース7へと接続されている。帯電の終了した光導電体
上の上から、図3に示す様にブラックマトリックスパタ
ーンのクロムマスク8を介して紫外光9で露光を行い、
画素部分の電荷を除去した。結果、電位は図4に示す様
になる。
【0018】続いて特開昭62−269101号公報記
載の環化ゴムとハロゲン含有メタクリレートの反応によ
り得られた白色ラテックスに黒色着色剤(東京色材社製
商品名No2 Super Black)を分散させ
て、イソパラフィン系溶媒(エッソ化学社製 商品名ア
イソパーG)を加え作成した負帯電のブラックトナー液
中に上記光導電体を浸漬して反転現像を行う事で、図5
に示す様に第一色目にブラックマトリックスパターン1
0を形成した。ここで、形成されたブラックマトリック
スパターンの体積抵抗値を測定したところ、102 Ωc
3 以上であった。
【0019】次にブラックマトリックスパターン画素が
形成された光導電体を再度負帯電して、例えば、2色目
としてレッドを入色できるように画素用マスク11の位
置合をあわせて、図6の様に露光を行い、2色目に該当
する画素部分の電荷を除去した。この隣接するブラック
マトリックス上の帯電電位と、露光によって電荷の除去
された画素部を電位0としたときの未露光部の電位ポテ
ンシャルV(A)を図7に示した。この後、負帯電のレ
ッドトナー液へ浸漬現像し、図8の様にレッド画素14
を形成した。
【0020】続いて同様に帯電を行い図9の様に露光
し、図10に示すような電位V(A)を形成して、現像
工程を行い、図11の様に負帯電グリーントナーを付着
させグリーン画素15を形成した。さらに、最終画素と
なるブルーについてブラックマトリックス、レッド、グ
リーン形成済み光導電体4を帯電し、図12の様に画素
用マスク11を介して露光し、ブルー画素部の電荷を除
去した。
【0021】この時の、光導電体上の帯電電位状態を図
13に示した。露光によって除去したブルーとなるべき
画素部は、周囲を帯電したブラックマトリックスパター
ンに囲まれていることになるため、第2色目のレッド、
第3色目のグリーン画素上で帯電電位が異なっていて
も、ブラックマトリックスパターン上の帯電電位とで電
位V(A)を司ることが可能になる。この後、ブルート
ナー液へ浸漬してブルー画素16を形成した。
【0022】すべての工程が終了し、製造されたカラー
フイルタを図14に示した。パターン形状状態、濃度に
ついて観察したところ、形状の歪み、画素パターン断面
形状の凹凸、濃度の不均一、濃度不足という問題は見ら
れず、カラーフィルタに望まれる色分光特性、高精細パ
ターンを得ることができた。
【0023】(比較例1)実施例と同様の光導電体4を
用い、コロナ帯電器を使って−6kVを印加し、光導電
体上に負のコロナ放電を行い帯電を行った。帯電の終了
した光導電体上の上から図15の様にマスクを介して露
光を行い、図16の様に画素部分の電荷を除去し、続い
て実施例と同様な負帯電のレッドトナー液中に上記光導
電体を浸漬して図17の様に第一色目としてレッド画素
14の形成を行った。
【0024】次に、再度負帯電を行い、図18の様にレ
ッド画素に隣接する第2色目が形成されるべき部位にマ
スクの位置を合わせて露光を行い、図19の様に電荷を
除去して、負帯電のグリーントナー液を用いて現像を行
い第2色目として図20の様にグリーン画素15を形成
した。図19に示したようにレッド画素14上での電位
は感光体層上の電位より高電位に帯電していることがわ
かり、感光体側での電位V(P)とレッド側での電位V
(R)とに差が生じている。続いて、レッド、グリーン
形成済みの光導電体に、さらに負帯電を行い、第3色目
としてブルー画素が形成されるべき部位を図21の様に
露光し電荷を除去した。
【0025】この時の電位ポテンシャルの状態を図22
に示したが、グリーン画素15とレッド画素14に囲ま
れた、ブルー画素の電位ポテンシャルは、レッド画素側
で低い電位V(R)で、グリーン画素側で高い電位V
(G)となっており、不均一な電位分布になっている。
ここでごくわずかに感光体部の電位V(P)が介在して
いるが、画素上の電位よりも低いために画素形成のため
の電位としてほとんど関与していなかった。この電位ポ
テンシャル状態の光導電体を、実施令と同様にブルート
ナー液へ浸漬してブルー画素16を形成した。レッド、
グリーン、ブルーの3色が形成されたカラーフィルタを
図23に示したが、ブルー画素は電位差の高いレッド隣
接側で画素膜厚が厚く、電位差の低いグリーン隣接側で
画素膜厚が薄くなっており、外観形状は歪み、パターン
断面は凹凸状となっていた。分光透過率測定結果から
も、濃度の不均一、濃度不足という問題が生じており、
カラーフィルタに望まれる色分光特性、高精細パターン
を得ることはできなかった。
【0026】加えて、帯電、露光、現像工程を行いカラ
ー画素間にブラックマトリックスを形成したが、ブラッ
クマトリックスパターンも形状の歪んだ、濃度の不均一
な画素となっていた。
【0027】
【発明の効果】本発明のカラーフィルタの製造方法によ
り、画素入色が進行するに従っても、帯電、露光工程に
よって形成される静電潜像電位ポテンシャルを一様に確
保できるために、色分光特性、高精細パターンの良好な
カラーフィルタを電子写真方式によって容易に製造する
ことができる。
【0028】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のカラーフィルタ用光導電体に係る一実
施例の断面図である。
【図2】図1の光導電体に帯電させる工程の断面図であ
る。
【図3】図2に露光する工程の断面図である。
【図4】図3の露光による表面電位分布図である。
【図5】図3のブラックマトリックスパターン完成後の
断面図ある。
【図6】図5に露光する工程の断面図である。
【図7】図6の露光による表面電位分布図である。
【図8】図6のレッド画素完成後の断面図ある。
【図9】図8に露光する工程の断面図である。
【図10】図9の露光による表面電位分布図である。
【図11】図10のグリーン画素完成後の断面図ある。
【図12】図11に露光する工程の断面図である。
【図13】図12の露光による表面電位分布図である。
【図14】図13のカラーフィルタ完成後の断面図あ
る。
【図15】従来の光導電体に露光する工程の断面図であ
る。
【図16】図15の露光による表面電位分布図である。
【図17】図16のレッド画素完成後の断面図ある。
【図18】図17に露光する工程の断面図である。
【図19】図18の露光による表面電位分布図である。
【図20】図19のグリーン画素完成後の断面図ある。
【図21】図20に露光する工程の断面図である。
【図22】図21の露光による表面電位分布図である。
【図23】図22のカラーフィルタ完成後の断面図あ
る。
【符号の説明】
1 透明基板 2 透明導電体層 3 電子写真感光体層 4 光導電体 5 コロナ放電用電源 6 帯電器 7 アース 8 クロムマスク 9 紫外光 10 ブラックマトリックスパターン 11 画素用クロムマスク 14 レッド画素 15 グリーン画素 16 ブルー画素 V(A) 未露光部の電位ポテンシャル V(P) 感光体上の電位ポテンシャル V(R) レッド画素の電位ポテンシャル V(G) グリーン画素の電位ポテンシャル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02B 5/20 - 5/28

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】透明基板上に透明導電体層と透明感光体層
    が設けられた光導電体の表面へ、帯電を行う工程と、露
    光により静電潜像パターンを形成する工程と、静電潜像
    パターンへ着色トナーを付着させる現像工程とを含む工
    程により一色の画素を形成する工程を複数回繰り返すカ
    ラーフィルタの製造方法において、画素を形成する前に
    予め、前記一色の画素を形成する工程と同様の工程によ
    り画素間に体積抵抗値が102 Ωcm以上の高絶縁性パ
    ターンを形成することを特徴とするカラーフィルタの製
    造方法。
  2. 【請求項2】高絶縁性パターンが高絶縁性ブラックマト
    リックスパターンであることを特徴とする請求項1記載
    のカラーフィルタの製造方法。
  3. 【請求項3】高絶縁性パターンが透明な高絶縁性パター
    ンであることを特徴とする請求項1記載のカラーフィル
    タの製造方法。
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