JP2787745B2 - 車輌用前照灯の反射鏡 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、反射面が複数の反射領
域から構成された配光制御機構を有する車輌用前照灯の
反射鏡であって、各反射領域は細分化された多数の反射
要素の集合体として形成されると共に、これらの反射要
素が楕円的放物面、双曲的放物面、二葉双曲面という３
種類の基本形状を有し、反射要素を基準面に割り付ける
ことによって反射面全体を構成するものであり、反射鏡
の前方に配置されるアウターレンズの配光制御上の負担
を軽減すると共に、各反射要素による投影パターンの配
置を制御し得るようにした新規な車輌用前照灯の反射鏡
を提供しようとするものである。

【０００２】

【従来の技術】自動車用前照灯において、すれ違いビー
ムを得るための基本的な構成は、回転放物面状をした反
射鏡の焦点近傍にコイル状フィラメントをその中心軸が
反射鏡の光軸に沿うように配置（所謂Ｃ８タイプのフィ
ラメント配置）し、該フィラメントの下方に配光パター
ンにおけるカットライン（あるいはカットオフライン）
を形成するためのシェードを配置するものである。

【０００３】即ち、フィラメントから出た光のうち、一
部はシェードによって遮られるため、反射面のうち略下
半面には光が到達せずに無効となる。

【０００４】そして、反射鏡によって得られるパターン
像は反射鏡の前方に配置されるアウターレンズに形成さ
れた拡散及び屈折レンズステップによって配光制御がな
され、その結果、水平方向への拡がりをもった規格に適
合する配光パターンが得られるようになっている。

【０００５】このように、従来の構成ではすれ違いビー
ムに特有のカットラインをもつ配光パターンの形成にあ
っては、アウターレンズのレンズステップによる配光制
御機能が重要な役割を果たしている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、自動車のス
タイリングに関する空力学的特性やデザイン上の要請等
を受けて車体の流線形化が求められるようになると、車
体の前部を窄まった形状とする、所謂スラントノーズ化
に対応した前照灯の設計が必要とされる。

【０００７】その結果、前照灯は上下方向の幅を小さく
すること、そしてアウターレンズが鉛直軸に対してなす
角（所謂スラント角）を大きくすることを余儀なくされ
る。

【０００８】従って、反射鏡の上下幅も狭まり、しか
も、アウターレンズの傾斜が著しくなってくるため、従
来のようにアウターレンズのレンズステップによる配光
制御に関して多くを依存する訳にはいかないという問題
がある。

【０００９】というのは、アウターレンズの傾斜角が大
きいとレンズによる減光作用や、配光パターンの左右両
端寄りの部分が垂れてしまう（所謂、光垂れ現象）等の
不都合が生じるからである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】そこで、本発明は、上記
した課題を解決するために、反射面を構成する各反射領
域を、多数の反射要素の集合体として形成すると共に、
反射要素の形状としては３種の基本形状、即ち、双曲的
放物面、楕円的放物面、二葉双曲面とし、これらを反射
領域毎に基準面に割り付けることによって反射面全体を
形成したものであり、各反射要素に対して光軸方向、上
下方向、左右方向の変位を付与することによって投影パ
ターンの配置に変更を加えるための自由度が得られるよ
うにしたものである。

【００１１】

【作用】本発明では、双曲的放物面状の反射要素によっ
て構成される反射領域によるパターンは水平方向に広い
拡散性を有し、楕円的放物面状の反射要素によって構成
される反射領域によるパターンは拡散性をそれ程有して
おらず、主として配光パターンの中心部分の形成に寄与
する。

【００１２】そして、二葉双曲面状の反射要素によって
構成される反射領域は、すれ違いビームの配光パターン
に関して傾斜したカットラインの形成に寄与する。

【００１３】従って、本発明によれば、これらの反射領
域によって得られるパターンの合成として得られる投影
パターンを、最終的な配光パターンに近いものにするこ
とができ、さらに反射要素に対する変位を加味するする
ことで投影パターンの配置に微調整を施すことができる
ため、アウターレンズのレンズステップの配光制御機能
に頼ることなく規格に適合した配光パターンを形成する
ことができる。

【００１４】

【実施例】以下に、本発明車輌用前照灯の反射鏡を図示
した実施例に従って説明する。

【００１５】図１は本発明に係る反射鏡１の配光制御区
分を示すものであり、反射面２は全部で１０個の反射領
域（これらを２（ｉ）で表わす。但し、「ｉ」は各領域
を区別するための識別符号であり、１から１０までの整
数値をとる。）から構成されている。

【００１６】尚、上記反射鏡１に関する座標系について
は反射面２の中心を通り紙面に垂直な方向に延びる軸を
ｘ軸とし、これに直交し、かつ、水平方向に延びる軸を
ｙ軸とし、上下方向に延びる軸をｚ軸に選んでおり、反
射面２の中央には上記直交座標系の原点Ｏを中心とする
円形の電球取付孔３が形成されている。

【００１７】図２に示すように各領域２（ｉ）（ｉ＝１
〜１０）はいずれも複数の小領域（以下、「セグメン
ト」と言う。）からなっており、これらは領域毎に異な
る基本曲面形状（双曲的放物面、楕円的放物面や二葉双
曲面）を有しており、回転放物面状をしたベース面に多
数のセグメントを部分的に割り付けて行くことによって
反射面２が形成されている。

【００１８】そして、配光パターンに関して水平方向に
大きな拡散作用を必要とする反射領域を構成する各セグ
メントの形状は正面から見て凸面状とされ、拡散作用が
小さい反射領域を構成する各セグメントの形状は、正面
から見て凹面状をなしている。

【００１９】反射領域２（１）、２（２）、２（４）は
上半面（つまり、ｚ＞０の領域）の上端寄りの部分を占
めている。即ち、領域２（１）はｙ−ｚ平面に関する第
１象限（ｙ＞０、ｚ＞０）と第２象限（ｙ＜０、ｚ＞
０）とに跨がって上半面の中央部上側を占めており、そ
の左右両側には２つの部分領域からなる領域２（２）が
位置している。尚、ここで正面から見て左側（ｙ＜０）
の部分領域を２（２Ｌ）とし、右側（ｙ＞０）の部分領
域を２（２Ｒ）とする。

【００２０】図示するように領域２（１）の外郭は正面
から見たときに、電球取付孔３にかかる部分を除くと水
平方向に長い長方形状をなしている。また、部分領域２
（２Ｌ）、２（２Ｒ）はいずれも正面から見て鍵括弧状
をしているが、同形状ではなく非対称となっている。

【００２１】そして、これらの領域２（２Ｌ）、２（２
Ｒ）のさらに両側には領域２（４）が位置されており、
該領域２（４）は左側の部分領域２（４Ｌ）と右側の部
分領域２（４Ｒ）とから構成されている。

【００２２】部分領域２（４Ｌ）は正面から見て長方形
状をなし、部分領域２（４Ｒ）は部分領域２（２Ｒ）の
凹凸と補完し合う鍵括弧状をなしている。

【００２３】次に、反射面２の中段部に移ると、左の方
から領域２（６）、その直下の領域２（７）、そして、
右の方に向って領域２（３）、２（５）がこの順番で配
置されている。

【００２４】即ち、領域２（６）はｙ−ｚ平面の第２象
限においてｙ軸に近い部分を占める鍵括弧状の領域とさ
れ、その直下には第３象限に属する領域２（７）が位置
しており、ｘ−ｙ平面での断面が領域２（６）と２
（７）との境界をなしている。尚、後述するようにこの
領域２（７）が、水平線に対して所定の傾斜角をなすカ
ットラインの形成に寄与している。

【００２５】領域２（３）は電球取付孔３の直ぐ右側に
位置し、第１象限と第４象限（ｚ＜０、ｙ＞０）とに跨
がっている。さらにその右側には領域２（５）が位置し
ており、ちょうど部分領域２（２）及び２（４）の下方
で、かつ、第１象限と第４象限とに跨がった領域とされ
ている。

【００２６】反射面２の下寄りの部分を占める領域は２
（８）、２（９）、２（１０）である。

【００２７】図示するように、領域２（１０）は、ｙ−
ｚ平面の第３象限と第４象限とに跨がっており、その両
側に位置する領域２（８）は、第３象限に属する左側の
部分領域２（８Ｌ）と、第４象限に属する右側の部分領
域２（８Ｒ）とからなっている。

【００２８】そして、該領域２（８）のさらに両側には
２つの部分領域からなる領域２（９）が位置しており、
第３象限に属する左側の部分領域２（９Ｌ）は正面から
見て横倒した台形状をなし、第４象限に属する右側の部
分領域２（９Ｒ）は鍵括弧状をしている。

【００２９】尚、領域２（７）と領域２（８Ｌ）及び２
（９Ｌ）との境界は、ｘ軸を含みｘ−ｙ平面に対して所
定の角度（カットライン角に相当する。）をなす平面に
よって反射面２を切断したときの断面曲線とされてい
る。また、領域２（３）及び２（５）と領域２（８Ｒ）
及び２（９Ｒ）との境界は、ｘ−ｙ平面に平行な面（ｚ
＝一定（＜０）の面）で反射面２を切断したときの断面
曲線とされている。

【００３０】上記した各領域２（ｉ）（ｉ＝１、２Ｌ、
２Ｒ、３、４Ｌ、４Ｒ、５、６、７、８Ｌ、８Ｒ、９
Ｌ、９Ｒ、１０）を構成するセグメント（これらをＳＥ
Ｇ（ｊ）と記す。但しｊはｉと同様に領域を指定する識
別符号である。）は、前述したように領域毎に相違して
いる。

【００３１】領域２（１）、２（２）、２（３）、２
（９）、２（１０）を構成するセグメントはいずれも双
曲的放物面状をしており、これらのセグメントは正面か
ら見たときに格子状に区分けされている。

【００３２】図３はセグメントの基本形状としての双曲
的放物面４の形状を示しており、その座標系について
は、原点での法線方向に延びる軸がＸ軸、水平方向に延
びる軸がＹ軸、鉛直方向に延びる軸がＺ軸に選ばれてい
る。

【００３３】双曲的放物面４は水平断面や垂直断面がと
もに放物線状をしているが、水平断面での放物線はＸ軸
の正方向に凸とされているに対し、垂直断面での放物線
はＸ軸の正方向に凹とされているため、水平方向への積
極的な拡散作用を有する。

【００３４】尚、双曲的放物面４は下式［数１］で表さ
れる。

【００３５】

【数１】

【００３６】図６はセグメントの形成の仕方を概念的に
示す図であり、ここでの基本的な考え方は、ベースとな
る回転放物面上に、セグメントを部分的に貼り付けて行
くことにある。即ち、各セグメントの中央部における法
線が、割り付けようとする回転放物面上の点での光軸に
平行な方向のベクトルに沿うように配置して行く。

【００３７】図６（ａ）は双曲的放物面状のセグメント
をベース面に割り付ける場合を示すものである。

【００３８】仮想放物線５は、ベース面（回転放物面）
の水平断面形状を表わしており、ベクトルｎは、仮想放
物線５上の任意の点Ｐにおいて光軸（Ｘ軸）に平行な方
向ベクトルを表わしている。

【００３９】そして、図示した曲線６は双曲的的放物面
を代表する放物線を示しており、放物線の中心点を点Ｐ
に一致させるに際して、その法線（Ｘ軸）方向が点Ｐで
の方向ベクトルｎの方向に一致するように設定される。

【００４０】そして、セグメントは隣接するセグメント
との連続性が保証されるという条件の下で、その始端位
置と終端位置とを指定することで順番にベース面にセグ
メントが割り付けられる。

【００４１】ところで、［数１］式において制御し得る
パラメーターは、係数ａ、ｂのように形状を規定するも
のであるため、セグメントによる投影パターンの配置を
自由に制御することが困難である。

【００４２】図７は領域２（２）のあるセグメントとそ
の投影パターンとの関係を概略的に示すものであり、図
８に実線で示すパターン７は光軸に沿ってフィラメント
を配置した場合にセグメントによって遠方のスクリーン
に投影される投影パターンを示している。尚、「Ｈ−
Ｈ」は水平線、「Ｖ−Ｖ」は鉛直線をそれぞれ示し、点
「ＨＶ」は両者の交点を示す。

【００４３】今、このパターンを上下、左右方向にシフ
トさせたい場合に、［数１］式を基本にしたのでは光線
制御上の自由度がないため、これが配光規格への適合や
視認性の向上にとって支障を来すことになる。

【００４４】例えば、あるセグメントの投影パターンの
影響によって配光規格からのずれが生じた場合等におい
て、投影パターンを配光規格に適合させるためにセグメ
ントの分割の仕方に大幅な修正を余儀なくされるといっ
たことが起り得る。

【００４５】そこで、パターンを上下左右方向にずらす
ために新たな自由度を付加し、例えば、図８のパターン
７を斜め右上にシフトさせて同図に破線で示すパターン
８に重なるまで移動させることができるように、［数
１］を拡張した下式［数２］を用いることにする。

【００４６】

【数２】

【００４７】上式中、変位量ΔＹ、ΔＺは、パターンの
左右方向、上下方向へのシフト操作を規定するパラメー
ターである。

【００４８】尚、［数２］式ではさらにＸ軸方向のシフ
ト操作を含むように一般化されており、変位量ΔＸによ
ってセグメントの焦点距離に関する光線制御が可能とな
っている。

【００４９】このように、各セグメントに対して３つの
変位量パラメーターΔＸ、ΔＹ、ΔＺの値を可変するこ
とでスクリーン上におけるパターンの配置について微調
整を行うことができる。尚、３パラメーターのうちの一
又は二つだけを可変してもよいことは勿論である。

【００５０】領域２（４）、２（５）、２（６）、２
（８）を構成するセグメントは楕円的放物面状をなして
いる。

【００５１】図４は、図３と同様に定義されたＸ−Ｙ−
Ｚ直交座標系での楕円的放物面９の形状を示したもので
あり、水平、垂直断面での形状はいずれも放物線状をな
している。この場合、水平、垂直断面における放物線は
いずれもＸ軸の正方向に凹の形状を有しているため、水
平方向の拡散作用は双曲的放物面に比べると低い。

【００５２】尚、楕円的放物面９は下式［数３］で表さ
れる。

【００５３】

【数３】

【００５４】図６（ｂ）は楕円的放物面状のセグメント
をベース面に割り付ける場合を示しすものであり、曲線
１０は楕円的放物面を代表する放物線を示しており、放
物線の中心点を点Ｐに一致させるに際して、その法線
（Ｘ軸）方向が点Ｐでの方向ベクトルｎの方向に一致す
るように設定される。

【００５５】そして、セグメントは隣接するセグメント
との連続性が保証されるという条件の下で、その始端位
置と終端位置とを指定することで順番にベース面にセグ
メントが割り付けられる。

【００５６】このセグメントに対しても投影パターンの
微調整を行うことができるように、３つのパラメーター
ΔＸ、ΔＹ、ΔＺを導入して［数３］式を下式［数４］
に拡張する。

【００５７】

【数４】

【００５８】これによってスクリーン上におけるパター
ンの配置について微調整を行うことができるようにな
る。

【００５９】領域２（７）を構成するセグメントは二葉
双曲面状をなしており、各セグメントの境界は図２に示
すように原点Ｏを中心とした同心の円弧状とされてい
る。

【００６０】二葉双曲面１１は図５に示すようにＸ軸に
関する回転対称性を有する回転二葉双曲面とされてお
り、Ｘ＝一定の面で切った断面形状が円形とされ、Ｘ−
Ｙ平面、Ｘ−Ｚ平面で切ったときの断面形状が双曲線状
をしている。

【００６１】尚、領域２（７）を構成するセグメントの
形状としてこのような二葉双曲面を用いる理由は、領域
２（７）についてはそれ程積極的に拡散作用を付与する
必要がないためであり、また、Ｘ軸についての回転体と
したのは、前述したようにベース面が回転放物面状をな
しているので該ベース面のセグメントの割り付けが容易
であること等の理由に依る。

【００６２】尚、二葉双曲物面１１は下式［数５］で表
される。

【００６３】

【数５】

【００６４】図６（ｃ）は二葉双曲面状のセグメントを
ベース面に割り付ける場合を示すものである。

【００６５】双曲線１２は二葉双曲面状のセグメントを
代表しており、双曲線１２の中心点を点Ｐに一致させる
に際して、その法線（Ｘ軸）方向が点Ｐでの方向ベクト
ルｎの方向に一致するように設定され、セグメントは隣
接するセグメントとの連続性が保証されるという条件の
下で、その始端位置と終端位置とを指定することで順番
にベース面にセグメントが割り付けられる。

【００６６】図９は、領域２（７）に属するセグメント
（図では簡略化のために４つのみを示す。）とそれらの
投影パターンとの関係を概略的に示すものであり、同図
に示すパターンは光軸に沿ってフィラメントを配置した
場合に各セグメントによって遠方のスクリーンに投影さ
れるパターン１３、１３、・・・をそれぞれ示してい
る。

【００６７】これらの合成パターン１４は、フィラメン
ト像が水平線Ｈ−Ｈと鉛直線Ｖ−Ｖとの交点ＨＶを頂点
として放射状に配置される結果略扇型のパターンとな
り、その上縁が水平線Ｈ−Ｈに対して傾斜したカットラ
インの形成に寄与することになるが、点ＨＶの近傍領域
（水平カットラインと傾斜カットラインとが出会う場
所）において光度の不足が生じることがある。

【００６８】そこで、図１０に示すようにスクリーンを
正面から見たときにパターン１４を右斜め下方にシフト
させ、パターンの頂点寄りの部分が鉛直線Ｖ−Ｖを越え
て水平線Ｈ−Ｈの下方に位置するように光線制御を可能
にするための自由度を導入する。

【００６９】そのためには、パターンを上下左右方向に
ずらすためにパラメーターΔＹ、ΔＺを導入し、［数
５］を拡張した下式［数６］を用いることにする。

【００７０】

【数６】

【００７１】これによって、領域２（７）に属する各セ
グメントに対してパラメーターΔＹ、ΔＺの値を可変す
ることでスクリーン上におけるパターンの配置について
微調整を行うことができ、図１０に示すようなパターン
のシフト操作によって点ＨＶ近辺の光度を上げることが
できる。

【００７２】図１１は、反射面２においてパラメーター
ΔＸ、ΔＹ、ΔＺがどのような傾向をもって操作されて
いるかを一例として示すものである。

【００７３】同図では、ΔＹに係るパラメーター操作を
行っている範囲を右下がりの斜線で表し、ΔＺに係るパ
ラメーター操作を行っている範囲を右上がりの斜線で表
し、ΔＸに係るパラメーター操作を行っている範囲をド
ットで表わしている。

【００７４】尚、図示するようにパラメーターΔＸ、Δ
Ｙ、ΔＺの操作区分と配光制御区分とは一般には一致し
ない。

【００７５】反射面２の上段部における左右の端部寄り
の範囲ではΔＸ、ΔＺの操作を行っており、上下方向に
おけるパターン像のシフト操作を主眼としている。

【００７６】また、反射面２の中段部における左右の端
部寄りの範囲ではΔＸ、ΔＹの操作により主として水平
方向におけるパターン像のシフト操作を行っており、ｘ
−ｙ平面に近接した範囲ではΔＹだけを操作している。

【００７７】二葉双曲面状の基本形状を有する領域２
（７）においては、前述したようにΔＹ、ΔＺについて
の操作を行っており、図１０に示すようなパターン像の
移動により点ＨＶ近辺の光度アップを図っている。

【００７８】反射面２の下段部における左右の端部寄り
の範囲では、３つのパラメーターの全てについて操作を
行っており、また、電球取付孔３の上下にはΔＸのみが
操作される範囲が存在する。

【００７９】尚、パラメーターの操作が行われない範囲
が電球取付孔３の近辺等に散在することは図示の通りで
ある。

【００８０】以上のように、反射面２は３種類の基本形
状に対してシフト操作のパラメーターを導入した式に基
づいてベース面に割り付けられたセグメントの集合体と
して形成される。

【００８１】尚、反射面において隣接するセグメントの
境界には段差が生じるが、特に上下方向において隣接す
るセグメントの焦点距離が等しくかつ焦点位置が等しい
と水平方向に延びる境界の段差での反射光が図１２
（ａ）に示すように上向きの光ｕとなり、グレアが目立
つようになるため、図１２（ｂ）に示すように下側に位
置するセグメントの焦点距離を上側に位置するセグメン
トの焦点距離より大きくすることによって、段差での反
射光が下向きの光ｄとなるように制御している。

【００８２】図１３はフィラメントの配置を反射鏡１と
共に示す概略図であり、コイル状フィラメントＦＭ、Ｆ
Ｓは、その中心軸が光軸（ｘ軸）に沿って配置されてい
る。

【００８３】即ち、ＦＳがサブフィラメントとされ、そ
の下方にカットライン形成用のシェード１５が設けられ
ており、サブフィラメントＦＳの後方にメインフィラメ
ントＦＭが位置している。

【００８４】しかして、上記した反射鏡１により得られ
るすれ違いビームの投影パターンを概略的に示すと、図
１４及び図１５に示すようになる。

【００８５】図１４（ａ）は領域２（１）、２（３）に
よるパターンを各々示している。

【００８６】領域２（１）によるパターン１６（１）が
水平方向に最も拡がったパターンであり、領域２（３）
によるパターン１６（３）がパターン１６（１）に比し
て水平方向の幅が少し狭く、鉛直線Ｖ−Ｖに関してほぼ
対称なパターンとなる。

【００８７】図１４（ｂ）は領域２（２）、２（４）に
よるパターンを示している。

【００８８】領域２（２）によるパターン１６（２）は
点ＨＶ付近の水平線Ｈ−Ｈ、鉛直線Ｖ−Ｖをともに含ん
でおり、その中心が鉛直線Ｖ−Ｖに関してやや右寄りに
位置している。

【００８９】また、領域２（４）によるパターン１６
（４）は左右方向に細長い形状となり、鉛直線Ｖ−Ｖに
関してほぼ対称なパターンとなる。

【００９０】図１５は領域２（５）、２（６）、２
（７）によるパターンを示している。

【００９１】図示するように領域２（５）によるパター
ン１６（５）は水平線Ｈ−Ｈに沿って延び、鉛直線Ｖ−
Ｖに関してやや右側に位置し、領域２（６）によるパタ
ーン１６（６）は水平線Ｈ−Ｈに沿って延び、鉛直線Ｖ
−Ｖの稍左側に位置し、上下方向の幅はパターン１６
（５）の幅よりも大きくなっている。

【００９２】そして、領域２（７）によるパターン１６
（７）は略扇型をしており、その上縁が傾斜したカット
ラインの形成に寄与し、前述したようにその頂角部が水
平カットライン側に侵入した配置となっている。

【００９３】尚、図１４、図１５における各パターン内
に描かれた細線はフィラメント像の配列状態を示してい
る。また、すれ違いビームに関しては領域２（８）、２
（９）、２（１０）による配光上の寄与はないが、これ
は、サブフィラメントＦＳから当該領域へ発せられるは
ずの光がシェード１５によってマスクされるためであ
る。

【００９４】しかして、すれ違いビームについての全体
的な配光パターン１７は、図１６に示すような形状とな
り、反射面のもつ配光制御機能によってパターンの大半
が形成されるため、アウターレンズの配光制御上の負担
が軽減される。

【００９５】図１４乃至図１６から判るようにセグメン
トが双曲的放物面状をした領域によって得られるパター
ンが、配光に関して水平方向への拡散に寄与し、セグメ
ントが楕円的放物面状をした領域が配光パターンの中心
部の形成に主として寄与しており、さらに、セグメント
が二葉双曲面状をした領域２（７）は水平線に対して傾
斜したカットラインの形成に寄与することになる。

【００９６】

【発明の効果】以上に記載したところから明らかなよう
に、本発明によれば、水平方向の広拡散作用を要する反
射領域については反射要素の形状を双曲的放物面状と
し、配光パターンの中心部分の形成に寄与する反射領域
については、反射要素の形状を楕円的放物面状にするこ
とによって、配光パターンにおける水平方向の拡散性
と、規定の明るさをもつ中心部の形成との調和を図ると
ともに、二葉双曲面状の反射要素から構成される反射領
域によって得られるパターンの寄与によって水平方向に
対して傾斜したカットラインを形成することができる。

【００９７】そして、これらの反射領域によって得られ
るパターンの合成として得られる投影パターンを、最終
的な配光パターンに近づけることができ、さらに反射要
素に対する変位を加味するすることで投影パターンの配
置に微調整を施すことができるため、反射面に配光制御
機能を転嫁することによって、アウターレンズの配光制
御上の負担を軽減することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る反射鏡の配光制御区分を説明する
ための概略的な正面図である。

【図２】本発明に係る反射鏡の正面図である。

【図３】双曲的放物面の形状を示す斜視図である。

【図４】楕円的放物面の形状を示す斜視図である。

【図５】二葉双曲面の形状を示す斜視図である。

【図６】ベース面へのセグメントの割り付けについて説
明するための概略図であり、（ａ）は双曲的放物面状を
したセグメントの場合、（ｂ）は楕円的放物面状をした
セグメントの場合、（ｃ）は二葉双曲面状をしたセグメ
ントの場合の割り付け方をそれぞれ示す。

【図７】双曲的放物面状のセグメントとその投影パター
ンとの関係を示す図である。

【図８】図７の投影パターンの移動についての説明図で
ある。

【図９】二葉双曲面状のセグメントとその投影パターン
との関係を示す図である。

【図１０】図９の投影パターンの移動についての説明図
である。

【図１１】反射面におけるパラメーター操作の有無を示
す分布図である。

【図１２】（ａ）は上下に隣接するセグメントの境界で
の反射光が上向き光となることの説明図、（ｂ）は上下
に隣接するセグメントの境界での反射光が下向き光とな
ることの説明図である。

【図１３】フィラメントの配置と反射鏡との位置関係を
示す斜視図である。

【図１４】（ａ）は領域２（１）、２（３）によるパタ
ーンを示す図であり、（ｂ）は領域２（２）、２（４）
によるパターンを示す図である。

【図１５】領域２（５）乃至２（７）によるパターンを
示す図である。

【図１６】すれ違いビームに関する全体的な配光パター
ンを示す図である。

【符号の説明】 １ 車輌用前照灯の反射鏡 ２ 反射面 ２（１）、２（２）、２（３）、２（９）、２（１０）
反射領域（双曲的放物面状の反射要素） ２（４）、２（５）、２（６）、２（８） 反射領域
（楕円的放物面状の反射要素） ２（７） 反射領域（二葉双曲面状の反射要素） ＳＥＧ 反射要素 ４ 双曲的放物面 ９ 楕円的放物面 １１ 二葉双曲面 ＦＳ 光源体（すれ違いビーム用） ΔＸ、ΔＹ、ΔＺ 変位

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) F21M 3/08

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 反射面が複数の反射領域に区分けされて
   おり、すれ違いビーム用の光源体はその中心軸が反射面
   の光軸に沿うように配置される車輌用前照灯の反射鏡で
   あって、（イ）各反射領域は反射要素の集合体として形
   成されていること、（ロ）反射要素は各反射領域に応じ
   て３種類の基本形状、即ち、双曲的放物面、楕円的放物
   面、二葉双曲面をなし、これらの反射要素が基準面に割
   り付けられることによって反射面全体が形成されるこ
   と、（ハ）配光パターンに関して水平方向への高い拡散
   性を要する反射領域は双曲的放物面状の反射要素によっ
   て構成され、光軸方向、上下方向、左右方向への変位が
   反射要素ごとに付与されていること、（ニ）配光パター
   ンの中心部の形成に寄与する反射領域は楕円的放物面状
   の反射要素によって構成され、光軸方向、上下方向、左
   右方向への変位が反射要素ごとに付与されていること、
   （ホ）すれ違いビームの配光パターンにおいて水平線に
   関して傾斜したカットラインの形成に寄与する反射領域
   は二葉双曲面状の反射要素によって構成され、上下方
   向、左右方向への変位が反射要素ごとに付与されている
   こと、を特徴とする車輌用前照灯の反射鏡。