JP2769983B2 - ラクタムの製造法 - Google Patents
ラクタムの製造法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D201/00—Preparation, separation, purification or stabilisation of unsubstituted lactams
- C07D201/02—Preparation of lactams
- C07D201/08—Preparation of lactams from carboxylic acids or derivatives thereof, e.g. hydroxy carboxylic acids, lactones or nitriles
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Description
【０００１】
【発明の分野】本発明は、対応するアミノニトリルの閉
環加水分解によるラクタムの製造法に関する。
環加水分解によるラクタムの製造法に関する。
【０００２】
【発明の背景】脂肪族ラクタム特にイプシロンカプロラ
クタムは、ポリアミド（カプロラクタムからのポリアミ
ド６）を製造するための基本化合物である。これらのラ
クタムを製造するための公知手段のうちの１つは、対応
するアミノニトリル特に非分岐脂肪族アミノニトリルを
気相で水と共に固体触媒上に通すことによってそれらの
閉環加水分解を実施することよりなる。
クタムは、ポリアミド（カプロラクタムからのポリアミ
ド６）を製造するための基本化合物である。これらのラ
クタムを製造するための公知手段のうちの１つは、対応
するアミノニトリル特に非分岐脂肪族アミノニトリルを
気相で水と共に固体触媒上に通すことによってそれらの
閉環加水分解を実施することよりなる。
【０００３】かくして、米国特許第２３５７４８４号に
は、水とアミノニトリルとの混合物を活性アルミナ、シ
リカゲル及び酸化チタン又は硼燐酸の如き脱水触媒上に
通すことよりなるラクタムの気相製造法が記載されてい
る。米国特許第４６２８０８５号には、２５０ｍ2 ／ｇ
よりも大きいＢＥＴ表面積及び２０ｎｍよりも小さい平
均孔径を有する球状粒子の形態にあるシリカ基材触媒に
脂肪族又は芳香族アミノニトリル及び水を一般には水素
及びアンモニアの存在下に接触させることよりなるラク
タムの気相製造法が提案されている。
は、水とアミノニトリルとの混合物を活性アルミナ、シ
リカゲル及び酸化チタン又は硼燐酸の如き脱水触媒上に
通すことよりなるラクタムの気相製造法が記載されてい
る。米国特許第４６２８０８５号には、２５０ｍ2 ／ｇ
よりも大きいＢＥＴ表面積及び２０ｎｍよりも小さい平
均孔径を有する球状粒子の形態にあるシリカ基材触媒に
脂肪族又は芳香族アミノニトリル及び水を一般には水素
及びアンモニアの存在下に接触させることよりなるラク
タムの気相製造法が提案されている。
【０００４】一般には、従来技術の方法で使用される触
媒は、ラクタムに対する良好な選択性を得ることを可能
にする。他方、それらは急速に失活することがしばしば
判明し、このことは、かかる方法の工業的応用に対する
極めて大きな障害になっている。その上、米国特許第４
６２８０８５号に従った方法では、反応が終了したとき
に分離及び再循環操作を必要とする極めて複雑な反応混
合物が使用されており、これらの操作はかかる方法を極
めて複雑にしている。
媒は、ラクタムに対する良好な選択性を得ることを可能
にする。他方、それらは急速に失活することがしばしば
判明し、このことは、かかる方法の工業的応用に対する
極めて大きな障害になっている。その上、米国特許第４
６２８０８５号に従った方法では、反応が終了したとき
に分離及び再循環操作を必要とする極めて複雑な反応混
合物が使用されており、これらの操作はかかる方法を極
めて複雑にしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ラクタムへ
のアミノニトリルの転化反応の良好な選択性をもたら
し、しかも長い寿命を有しそれ故に頻繁な再生が少なく
て済む新規な触媒を提供するものである。
のアミノニトリルの転化反応の良好な選択性をもたら
し、しかも長い寿命を有しそれ故に頻繁な再生が少なく
て済む新規な触媒を提供するものである。
【０００６】
より具体的に言えば、本発明は、一般式（Ｉ） Ｎ≡Ｃ−Ｒ−ＮＨ２ （Ｉ） ［式中、Ｒは３〜１２個の炭素原子を含有するアルキレ
ン基を表わす］の脂肪族アミノニトリルを固体触媒の存
在下に水と共に気相反応させることによるラクタムの製
造法において、触媒が、一般式（ＩＩ） ＭＨｈ（ＰＯ４）ｎ（Ｉｍｐ）ｐ （ＩＩ） ［式中、 ・Ｍはランタン、セリウム、サマリウム、アルミニウ
ム、ニオブ、ジルコニウム、又はこれらの元素の幾つか
の混合物を表わし、又はこれらの元素と酸素との結合を
表わし、 ・Ｉｍｐは電気的中性を確保するために対陰イオンと組
み合わせて使用されるセシウム、ルビジウム、カリウム
又はこれらの金属の幾つかの混合物よりなる塩基性含浸
用化合物を表わし、 ・ｎは１、２又は３を表わし、 ・ｈは０、１又は２を表わし、 ・ｐは０〜１／３の数を表わしそして含浸用化合物Ｉｍ
ｐと被含浸化合物ＭＨｈ（ＰＯ４）ｎとのモル比に相当
する］の金属ホスフェートであることを特徴とするラク
タムの製造法よりなる。
ン基を表わす］の脂肪族アミノニトリルを固体触媒の存
在下に水と共に気相反応させることによるラクタムの製
造法において、触媒が、一般式（ＩＩ） ＭＨｈ（ＰＯ４）ｎ（Ｉｍｐ）ｐ （ＩＩ） ［式中、 ・Ｍはランタン、セリウム、サマリウム、アルミニウ
ム、ニオブ、ジルコニウム、又はこれらの元素の幾つか
の混合物を表わし、又はこれらの元素と酸素との結合を
表わし、 ・Ｉｍｐは電気的中性を確保するために対陰イオンと組
み合わせて使用されるセシウム、ルビジウム、カリウム
又はこれらの金属の幾つかの混合物よりなる塩基性含浸
用化合物を表わし、 ・ｎは１、２又は３を表わし、 ・ｈは０、１又は２を表わし、 ・ｐは０〜１／３の数を表わしそして含浸用化合物Ｉｍ
ｐと被含浸化合物ＭＨｈ（ＰＯ４）ｎとのモル比に相当
する］の金属ホスフェートであることを特徴とするラク
タムの製造法よりなる。
【０００７】
【発明の具体的な説明】式（Ｉ）の最も重要なアミノニ
トリルとしては、ポリアミド４、５、６及び１０の製造
の原料として使用されるラクタムを生じるもの、即ち、
上記の式において記号Ｒが３、４、５又は９個の炭素原
子を有する線状アルキレン基を表わすようなものが挙げ
られる。式（Ｉ）の中で好ましい化合物は、カプロラク
タムを生成する６−アミノカプロラクタム（又はイプシ
ロンカプロラクタム）であり、この重合はポリアミド６
を生成する。
トリルとしては、ポリアミド４、５、６及び１０の製造
の原料として使用されるラクタムを生じるもの、即ち、
上記の式において記号Ｒが３、４、５又は９個の炭素原
子を有する線状アルキレン基を表わすようなものが挙げ
られる。式（Ｉ）の中で好ましい化合物は、カプロラク
タムを生成する６−アミノカプロラクタム（又はイプシ
ロンカプロラクタム）であり、この重合はポリアミド６
を生成する。
【０００８】元素周期律表の第２ａ、３ｂ、４ｂ、５
ｂ、６ｂ、７ｂ、８、２ｂ、３ａ、４ａ及び５ａ族の金
属としては、特に、ベリリウム、マグネシウム、カルシ
ウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、硼
素、ガリウム、インジウム、イットリウム、ランタン、
セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユー
ロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウ
ム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウ
ム及びルテチウムの如きランタニド、ジルコニウム、チ
タン、バナジウム、ニオブ、鉄、ゲルマニウム、錫及び
ビスマスを挙げることができる。
ｂ、６ｂ、７ｂ、８、２ｂ、３ａ、４ａ及び５ａ族の金
属としては、特に、ベリリウム、マグネシウム、カルシ
ウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、硼
素、ガリウム、インジウム、イットリウム、ランタン、
セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユー
ロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウ
ム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウ
ム及びルテチウムの如きランタニド、ジルコニウム、チ
タン、バナジウム、ニオブ、鉄、ゲルマニウム、錫及び
ビスマスを挙げることができる。
【０００９】ランタニドホスフェートの中では、ランタ
ン、セリウム及びサマリウムを含めた軽希土類（セリウ
ム族希土類とも称される）のオルトホスフェートを包含
する第一群を区別することができる。これらのオルトホ
スフェートは二形型である。それらは六角形構造を有
し、そして６００〜８００℃の温度に加熱したときに単
斜晶構造に変化する。
ン、セリウム及びサマリウムを含めた軽希土類（セリウ
ム族希土類とも称される）のオルトホスフェートを包含
する第一群を区別することができる。これらのオルトホ
スフェートは二形型である。それらは六角形構造を有
し、そして６００〜８００℃の温度に加熱したときに単
斜晶構造に変化する。
【００１０】
【００１１】
【００１２】希土類オルトホスフェートの異なる群の中
では、好ましく使用されるものはセリウム族希土類オル
トホスフェートである。
では、好ましく使用されるものはセリウム族希土類オル
トホスフェートである。
【００１３】上記金属の幾つかの燐酸塩の混合物、又は
上記金属の幾つかの混成燐酸塩、又は上記金属の１種若
しくは幾つか及びアルカリ金属若しくはアルカリ土類金
属の如き１種若しくは幾つかの他の金属を含有する混成
燐酸塩である式（II）の金属ホスフェートを使用するこ
とが可能である。
上記金属の幾つかの混成燐酸塩、又は上記金属の１種若
しくは幾つか及びアルカリ金属若しくはアルカリ土類金
属の如き１種若しくは幾つかの他の金属を含有する混成
燐酸塩である式（II）の金属ホスフェートを使用するこ
とが可能である。
【００１４】含浸用化合物Ｉｍｐの式の一部分を構成す
る対陰イオンは塩基性である。具体的には、水酸化、燐
酸、一水素燐酸、二水素燐酸、塩化物、弗化物、硝酸、
安息香酸及び蓚酸イオンを使用することができるが、こ
れらの例によって限定されるものではない。
る対陰イオンは塩基性である。具体的には、水酸化、燐
酸、一水素燐酸、二水素燐酸、塩化物、弗化物、硝酸、
安息香酸及び蓚酸イオンを使用することができるが、こ
れらの例によって限定されるものではない。
【００１５】モル比ｐは、好ましくは、０．０２〜０．
２の間である。
２の間である。
【００１６】ホスフェートの一般的な製造技術（特に、
ピー・パスカル氏の“Nouveau traite de chimie miner
ale ”，vol.x(1956),pages 821-823 及び“Gmelins Ha
ndbuch der anorganischen Chemie ”( 8th edition
）, vol.16(c),pages 202-206(1956)に記載される如
き）を参照するならば、ホスフェートの主な２つの製造
経路を識別することができる。一方において、それは、
一水素燐酸アンモニウム又は燐酸を使用して金属の可溶
性塩（塩化物、硝酸塩）を沈殿させることである。他方
において、それは、燐酸を使用して金属酸化物又は炭酸
塩（これらは不溶性である）を一般には加熱下に溶解さ
せ次いで再沈殿を行うことである。
ピー・パスカル氏の“Nouveau traite de chimie miner
ale ”，vol.x(1956),pages 821-823 及び“Gmelins Ha
ndbuch der anorganischen Chemie ”( 8th edition
）, vol.16(c),pages 202-206(1956)に記載される如
き）を参照するならば、ホスフェートの主な２つの製造
経路を識別することができる。一方において、それは、
一水素燐酸アンモニウム又は燐酸を使用して金属の可溶
性塩（塩化物、硝酸塩）を沈殿させることである。他方
において、それは、燐酸を使用して金属酸化物又は炭酸
塩（これらは不溶性である）を一般には加熱下に溶解さ
せ次いで再沈殿を行うことである。
【００１７】上記の経路の１つに従って得られた沈殿ホ
スフェートは、乾燥し、有機塩基（水性アンモニアのよ
うな）又は無機塩基（水酸化アルカリ金属のような）で
処理しそして焼成を施こすことができるが、これらの３
つの操作は、上記の順序で又は異なる順序で実施される
ことが可能である。
スフェートは、乾燥し、有機塩基（水性アンモニアのよ
うな）又は無機塩基（水酸化アルカリ金属のような）で
処理しそして焼成を施こすことができるが、これらの３
つの操作は、上記の順序で又は異なる順序で実施される
ことが可能である。
【００１８】式（II）において記号ｐが０よりも大きい
場合の金属ホスフェートは、上記の技術のうちの１つに
従って製造された化合物ＭＨh （ＰＯ4 ）n に揮発性溶
剤中に例えば好ましくは水中に溶解させたＩｍｐの溶液
又は懸濁液を含浸させることによって製造することがで
きる。
場合の金属ホスフェートは、上記の技術のうちの１つに
従って製造された化合物ＭＨh （ＰＯ4 ）n に揮発性溶
剤中に例えば好ましくは水中に溶解させたＩｍｐの溶液
又は懸濁液を含浸させることによって製造することがで
きる。
【００１９】それに対応して、Ｉｍｐが可溶性でありそ
して化合物ＭＨh （ＰＯ4 ）n が新鮮に製造される程、
結果は良好である。
して化合物ＭＨh （ＰＯ4 ）n が新鮮に製造される程、
結果は良好である。
【００２０】かくして、式（II）のホスフェートの有益
な製造法は、（ａ）化合物ＭＨh （ＰＯ4 ）n の合成を
実施し、このときに好ましくは反応混合物からＭＨh
（ＰＯ4 ）n を分離しないものとし、（ｂ）反応混合物
中に含浸用化合物Ｉｍｐを導入し、（ｃ）反応固体から
すべての残留液体を分離し、そして（ｄ）乾燥させ、そ
して任意に焼成する、ことよりなる。
な製造法は、（ａ）化合物ＭＨh （ＰＯ4 ）n の合成を
実施し、このときに好ましくは反応混合物からＭＨh
（ＰＯ4 ）n を分離しないものとし、（ｂ）反応混合物
中に含浸用化合物Ｉｍｐを導入し、（ｃ）反応固体から
すべての残留液体を分離し、そして（ｄ）乾燥させ、そ
して任意に焼成する、ことよりなる。
【００２１】式（II）の触媒の性能特にその失活抵抗性
は、焼成によって更に向上させることができる。焼成温
度は、有益には３００〜１０００℃の間そして好ましく
は４００〜９００℃の間である。焼成期間は、広い範囲
内で変動することができる。１つの指針として、それは
一般には１〜２４時間である。
は、焼成によって更に向上させることができる。焼成温
度は、有益には３００〜１０００℃の間そして好ましく
は４００〜９００℃の間である。焼成期間は、広い範囲
内で変動することができる。１つの指針として、それは
一般には１〜２４時間である。
【００２２】本発明の方法で好ましい式（II）の触媒と
しては、より具体的には、燐酸ランタン、焼成燐酸ラン
タン、セシウム、ルビジウム又はカリウム化合物と併用
した燐酸ランタン、焼成燐酸セリウム、セシウム、ルビ
ジウム又はカリウム化合物と併用した燐酸セリウム、セ
シウム、ルビジウム又はカリウム化合物と併用した燐酸
サマリウム、燐酸アルミニウム、セシウム、ルビジウム
又はカリウム化合物と併用した燐酸アルミニウム、焼成
燐酸ニオブ、セシウム、ルビジウム又はカリウム化合物
と併用した燐酸ニオブ、焼成一水素燐酸ジルコニウム、
及びセシウム、ルビジウム又はカリウム誘導体と併用し
た一水素燐酸ジルコニウムを挙げることができる。
しては、より具体的には、燐酸ランタン、焼成燐酸ラン
タン、セシウム、ルビジウム又はカリウム化合物と併用
した燐酸ランタン、焼成燐酸セリウム、セシウム、ルビ
ジウム又はカリウム化合物と併用した燐酸セリウム、セ
シウム、ルビジウム又はカリウム化合物と併用した燐酸
サマリウム、燐酸アルミニウム、セシウム、ルビジウム
又はカリウム化合物と併用した燐酸アルミニウム、焼成
燐酸ニオブ、セシウム、ルビジウム又はカリウム化合物
と併用した燐酸ニオブ、焼成一水素燐酸ジルコニウム、
及びセシウム、ルビジウム又はカリウム誘導体と併用し
た一水素燐酸ジルコニウムを挙げることができる。
【００２３】触媒は一般には粉末、タブレット、ビーズ
又は押出物の形態で使用されるが、これらの成形はバイ
ンダーの助けを借りて実施することが可能である。ある
場合には、反応体の気化及び分散を促進させるために反
応器の自由空間の少なくとも一部分が例えば石英のよう
な不活性固体によって占められるのが有益になる。
又は押出物の形態で使用されるが、これらの成形はバイ
ンダーの助けを借りて実施することが可能である。ある
場合には、反応体の気化及び分散を促進させるために反
応器の自由空間の少なくとも一部分が例えば石英のよう
な不活性固体によって占められるのが有益になる。
【００２４】閉環加水分解反応は水の存在を必要とす
る。導入されるアミノニトリルに対する水のモル比は、
０．５〜５０の間そして好ましくは１〜２０の間であ
る。
る。導入されるアミノニトリルに対する水のモル比は、
０．５〜５０の間そして好ましくは１〜２０の間であ
る。
【００２５】アミノアルコール及び水は、蒸気状態のそ
れらの混合物の形態で導入することができ、又は反応器
に別々に導入することもできる。これらの反応体の予備
気化を実施することができ、その後にこれらは混合室を
通過する。窒素、ヘリウム又はアルゴンのような任意の
不活性ガスをキャリヤーとして使用することができる
が、この場合にいかなる不利益も伴わない。
れらの混合物の形態で導入することができ、又は反応器
に別々に導入することもできる。これらの反応体の予備
気化を実施することができ、その後にこれらは混合室を
通過する。窒素、ヘリウム又はアルゴンのような任意の
不活性ガスをキャリヤーとして使用することができる
が、この場合にいかなる不利益も伴わない。
【００２６】本発明の方法を実施する際の温度は、各反
応体が完全に蒸気状態になるのに十分でなければならな
い。それは、一般には２００〜４５０℃そして好ましく
は２５０℃〜４００℃の間である。
応体が完全に蒸気状態になるのに十分でなければならな
い。それは、一般には２００〜４５０℃そして好ましく
は２５０℃〜４００℃の間である。
【００２７】アミノアルコールと触媒との間の接触時間
は厳密なものではない。それは、特に使用する装置に依
存して変動することができる。１〜２００秒の接触時間
が好ましくそして５０〜１００秒がより好ましい。
は厳密なものではない。それは、特に使用する装置に依
存して変動することができる。１〜２００秒の接触時間
が好ましくそして５０〜１００秒がより好ましい。
【００２８】圧力は、本法の厳密なパラメーターではな
い。かくして、１０-3バール〜２００バールの圧力で操
作するのが可能である。本法は、好ましくは、０．１〜
２０バールの圧力で実施される。
い。かくして、１０-3バール〜２００バールの圧力で操
作するのが可能である。本法は、好ましくは、０．１〜
２０バールの圧力で実施される。
【００２９】反応条件において不活性な溶剤、例えば、
アルカン、シクロアルカン、芳香族炭化水素又はこれら
の炭化水素のうちの１つのハロゲン化誘導体のような溶
剤を使用することも可能であり、かくして反応流れに液
相を維持することが可能である。
アルカン、シクロアルカン、芳香族炭化水素又はこれら
の炭化水素のうちの１つのハロゲン化誘導体のような溶
剤を使用することも可能であり、かくして反応流れに液
相を維持することが可能である。
【００３０】
【実施例】次の実施例は本発明を例示するものであっ
て、いかなる点においても本発明を限定するものではな
い。
て、いかなる点においても本発明を限定するものではな
い。
【００３１】例１〜６ パイレックスガラスから作られ、縦方向に配列され、そ
して加熱手段、ガス流れの導入口及び排出口並びに反応
体の装入装置を備えた２０ｍｌの円筒状反応器に、１０
ｍｌの石英、０．８〜１．２５μｍの粉末形態にある１
ｍｌの触媒（触媒の性状は以下の表１に記載する）そし
て再び１０ｍｌの石英を連続的に導入した。導入後に、
反応器を空気の流れ（１．５リットル／ｈｒの流量で）
下に４００℃に２時間加熱した。次いで、反応器を３２
０℃（選択された温度）に冷却しそして窒素の流れ（１
リットル／ｈｒの流量）下に置いた。
して加熱手段、ガス流れの導入口及び排出口並びに反応
体の装入装置を備えた２０ｍｌの円筒状反応器に、１０
ｍｌの石英、０．８〜１．２５μｍの粉末形態にある１
ｍｌの触媒（触媒の性状は以下の表１に記載する）そし
て再び１０ｍｌの石英を連続的に導入した。導入後に、
反応器を空気の流れ（１．５リットル／ｈｒの流量で）
下に４００℃に２時間加熱した。次いで、反応器を３２
０℃（選択された温度）に冷却しそして窒素の流れ（１
リットル／ｈｒの流量）下に置いた。
【００３２】次いで、ポンプの助けを借りて６−アミノ
カプロニトリル（ＡＣＮ）と水との混合物（５０／５０
重量比、即ち、６．２の水／ＡＣＮモル比）を注入し
た。混合物の注入速度は１．２ｍｌ／ｈであった。反応
器を出たときに、蒸気をガラストラップにおいて周囲温
度で２時間凝縮させた。最終反応混合物を気相クロマト
グラフィーによって定量分析した。アミノカプロニトリ
ルの転化度（ＤＣ）、転化されたアミノカプロニトリル
を基にしたカプロラクタム（ＣＰＬ）の収率（ＲＹ）及
び触媒の活性度（生成されたカプロラクタムのｇ数／触
媒ｍｌ×ｈｒ）を測定した。得られた結果を以下の表１
に記載する。
カプロニトリル（ＡＣＮ）と水との混合物（５０／５０
重量比、即ち、６．２の水／ＡＣＮモル比）を注入し
た。混合物の注入速度は１．２ｍｌ／ｈであった。反応
器を出たときに、蒸気をガラストラップにおいて周囲温
度で２時間凝縮させた。最終反応混合物を気相クロマト
グラフィーによって定量分析した。アミノカプロニトリ
ルの転化度（ＤＣ）、転化されたアミノカプロニトリル
を基にしたカプロラクタム（ＣＰＬ）の収率（ＲＹ）及
び触媒の活性度（生成されたカプロラクタムのｇ数／触
媒ｍｌ×ｈｒ）を測定した。得られた結果を以下の表１
に記載する。
【００３３】
【表１】
【００３４】例７〜９ 例１〜３を反復したが、各触媒の活性度の変化を３５時
間までの期間にわたって追跡した。各触媒及び反応時間
について得た活性の値を以下の表２に記載する（ＮＤ＝
値を測定せず）。
間までの期間にわたって追跡した。各触媒及び反応時間
について得た活性の値を以下の表２に記載する（ＮＤ＝
値を測定せず）。
【００３５】
【表２】
【００３６】例１０及び１１ 例１を同じ条件で実施したが、しかし閉環加水分解反応
を異なる温度で実施した。得られた結果を以下の表３に
記載するが、比較のために例１の結果も記載する。
を異なる温度で実施した。得られた結果を以下の表３に
記載するが、比較のために例１の結果も記載する。
【００３７】
【表３】
【００３８】比較例Ａ 例１を反復したが、燐酸Ｌａは、６００℃で１６時間焼
成されたシリカ（商品名“Aerosil 200”の下に市販さ
れる）で置き換えられた。操作条件は、例１におけると
同じであった（３２０℃の温度、６．２の水／ＡＣＮモ
ル比、２ｈの期間）。次の結果が得られた。 ・ＡＣＮのＤＣ： １７．６％ ・ＣＰＬのＲＹ： ５３％ ・触媒活性： ０．０４ｇＣＰＬ／ｍｌ触媒×
ｈ シリカは、低いカプロラクタム収率をもたらし、そして
極めて低い活性を示した。
成されたシリカ（商品名“Aerosil 200”の下に市販さ
れる）で置き換えられた。操作条件は、例１におけると
同じであった（３２０℃の温度、６．２の水／ＡＣＮモ
ル比、２ｈの期間）。次の結果が得られた。 ・ＡＣＮのＤＣ： １７．６％ ・ＣＰＬのＲＹ： ５３％ ・触媒活性： ０．０４ｇＣＰＬ／ｍｌ触媒×
ｈ シリカは、低いカプロラクタム収率をもたらし、そして
極めて低い活性を示した。
Claims (8)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） Ｎ≡Ｃ−Ｒ−ＮＨ２ （Ｉ） ［式中、Ｒは３〜１２個の炭素原子を含有するアルキレ
ン基を表わす］の脂肪族アミノニトリルを固体触媒の存
在下に水と共に気相反応させることによるラクタムの製
造法において、触媒が、一般式（ＩＩ） ＭＨｈ（ＰＯ４）ｎ（Ｉｍｐ）ｐ （ＩＩ） ［式中、 ・Ｍはランタン、セリウム、サマリウム、アルミニウ
ム、ニオブ、ジルコニウム、又はこれらの元素の幾つか
の混合物を表わし、又はこれらの元素と酸素との結合を
表わし、 ・Ｉｍｐは電気的中性を確保するために対陰イオンと組
み合わせて使用されるセシウム、ルビジウム、カリウム
又はこれらの金属の幾つかの混合物よりなる塩基性含浸
用化合物を表わし、 ・ｎは１、２又は３を表わし、 ・ｈは０、１又は２を表わし、 ・ｐは０〜１／３の数を表わしそして含浸用化合物Ｉｍ
ｐと被含浸化合物ＭＨｈ（ＰＯ４）ｎとのモル比に相当
する］の金属ホスフェートであることを特徴とするラク
タムの製造法。 - 【請求項２】 式（Ｉ）のアミノニトリルが６−アミノ
カプロニトリルであることを特徴とする請求項１記載の
方法。 - 【請求項３】 金属Ｍの幾つかの燐酸塩の混合物、又は
金属Ｍの幾つかの混成燐酸塩、又は金属Ｍの１種若しく
は幾つか及びアルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の
如き１種若しくは幾つかの他の金属を含有する混成燐酸
塩である式（ＩＩ）の金属ホスフェートが使用されるこ
とを特徴とする請求項１又は２のいずれか一項記載の方
法。 - 【請求項４】 含浸用化合物Ｉｍｐの式の一部分を構成
する対陰イオンが塩基性であり、そして水酸化、燐酸、
一水素燐酸、二水素燐酸、塩化物、弗化物、硝酸、安息
香酸及び蓚酸イオンから選択されることを特徴とする請
求項１〜３のいずれか一項記載の方法。 - 【請求項５】 モル比ｐが０．０２〜０．２の間である
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項記載の方
法。 - 【請求項６】 式（ＩＩ）の触媒が３００〜１００℃の
温度で焼成を受けることを特徴とする請求項１〜５のい
ずれか一項記載の方法。 - 【請求項７】 導入されるアミノニトリルに対する水の
モル比が０．５〜５０の間であることを特徴とする請求
項１〜６のいずれか一項記載の方法。 - 【請求項８】 ２００〜４５０℃の間であることを特徴
とする請求項１〜７のいずれか一項記載の方法。
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