JP2751376B2 - Solid-state imaging device - Google Patents
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Landscapes
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- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
Description
本発明は、ビデオカメラ又は医療用各種カメラ等の撮
影装置に使用される固体撮像素子に関するものである。The present invention relates to a solid-state imaging device used for an imaging device such as a video camera or various medical cameras.
一般に、この種の固体撮像素子は、種々の構成のもの
が知られており、基本的には例えば半導体ウエハから切
断したチップ状のシリコン基板上に多数個の受光素子群
を有し、その上面を透明な樹脂皮膜で覆ったものと、受
光素子群の上面に赤色、緑色及び青色からなる３色の色
相をずらして積層したカラーフィルター層を有する構成
のものとが知られている。更に、前記受光素子群の一部
をアルミニウム皮膜で被覆した構成のものも知られてい
る。いずれにしても、固体撮像素子の表面には表面層が
形成され、保護機能を付与した構成になっている。 例えば、アルミニウム皮膜を有し、且つカラーフィル
タ層を有する固体撮像素子としては、第４〜５図に示し
た構成を有している。同図において、１は例えば半導体
ウエハから所定の大きさに切断されたシリコン基板であ
り、該基板に多数の受光素子群２が設けられており、該
受光素子群の一部に所定厚さのアルミニウム皮膜３がフ
レーム状に被覆され、該アルミニウム皮膜３で囲まれた
内側に複数の色相のカラーフィルタ層４が設けられてい
る。前記アルミニウム皮膜３は、受光素子群２の一部を
遮光するために施されるものであり、この遮光された受
光素子群と前記カラーフィルタ層４で覆われている受光
素子群との間の電位差を見て、カラーフィルタ層４で覆
われている受光素子群が受光したかどうかを判定するよ
うになっている。 又、前記カラーフィルタ層４は、一般的に第５図に示
したようにして形成されている。即ち、アルミニウム皮
膜３が被覆された基板１上に第１層目の色相５を形成す
るためにゼラチンをスピンコートし、第１層目の色相と
して残す部分が露光される所定のパターンマスクを使用
して露光し現像すると、部分的に受光素子に対応する部
分が残り、その残った部分を公知の染色手段により例え
ば赤色に染色して第１層目の色相を形成する。次に透明
な樹脂をスピンコートして中間層６を形成し、表面を略
平坦にしてから第２層目の色相７を前記同様にして形成
する。この第２層目の色相７は緑色である。更に、前記
同様にして中間層８及び第３層目の青色の色相９が形成
され、その表面に保護を兼ねた透明な樹脂による表面層
10がスピンコートされている。尚、11は基板に設けられ
た複数の電極である。 そして、実際に使用される場合には、その１例として
第６図に示したようにして使用される。即ち、前記固体
撮像素子に所定のリード線12を接続し、所定のケース13
で全体を覆い、且つ該ケースの前面側、つまり固体撮像
素子の受光部側に、例えばガラス板等の透明な板材14を
施蓋して使用される。In general, various types of solid-state imaging devices of this type are known. Basically, for example, a solid-state imaging device has a large number of light-receiving elements on a chip-shaped silicon substrate cut from a semiconductor wafer, and has an upper surface. Is covered with a transparent resin film, and a structure having a color filter layer laminated on the upper surface of the light receiving element group with three hues of red, green and blue shifted from each other. Further, a configuration in which a part of the light receiving element group is covered with an aluminum film is also known. In any case, a surface layer is formed on the surface of the solid-state imaging device to provide a protection function. For example, a solid-state imaging device having an aluminum film and a color filter layer has a configuration shown in FIGS. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes, for example, a silicon substrate cut to a predetermined size from a semiconductor wafer, on which a large number of light receiving element groups 2 are provided, and a part of the light receiving element group having a predetermined thickness. The aluminum film 3 is covered in a frame shape, and a color filter layer 4 having a plurality of hues is provided inside the frame surrounded by the aluminum film 3. The aluminum film 3 is provided to shield a part of the light receiving element group 2 from light, and is provided between the light-shielded light receiving element group and the light receiving element group covered with the color filter layer 4. On the basis of the potential difference, it is determined whether the light receiving element group covered with the color filter layer 4 has received light. The color filter layer 4 is generally formed as shown in FIG. That is, a predetermined pattern mask is used in which gelatin is spin-coated on the substrate 1 covered with the aluminum film 3 to form the first color hue 5 and a portion to be left as the first color hue is exposed. After exposure and development, a part corresponding to the light receiving element remains partially, and the remaining part is dyed, for example, red by a known dyeing means to form a first layer hue. Next, the intermediate layer 6 is formed by spin-coating a transparent resin, the surface is made substantially flat, and then the second-layer hue 7 is formed in the same manner as described above. The hue 7 of the second layer is green. Further, the intermediate layer 8 and the third layer of blue hue 9 are formed in the same manner as described above, and the surface layer is made of a transparent resin which also serves as protection.
10 are spin coated. Incidentally, reference numeral 11 denotes a plurality of electrodes provided on the substrate. Then, when actually used, it is used as an example as shown in FIG. That is, a predetermined lead wire 12 is connected to the solid-state imaging device, and a predetermined case 13
And a transparent plate 14 such as a glass plate is used to cover the front side of the case, that is, the light receiving unit side of the solid-state imaging device.
前記従来例においては、固体撮像素子の表面が透明な
樹脂皮膜、即ち表面層10によって覆われた構成であっ
て、その表面層10により表面の保護機能は有している。
しかしながら、前記表面層10は表面の電極部分を除く全
域に亘って被覆しており、当然のことながらアルミニウ
ム皮膜３の上面も中間層6,8及び表面層10で被覆されて
いる。この様な状態で使用すると、矢印ａで示したよう
に、外部からの光が前記アルミニウム皮膜３で反射し、
更に板材14で反射して受光部側に入射する現象、即ち乱
反射の現象が生じ、それによって誤動作を行う虞があ
り、画像処理に不都合を生ずる。従って、従来例におい
ては使用時における乱反射の除去に課題を有している。In the above conventional example, the surface of the solid-state imaging device is covered with a transparent resin film, that is, the surface layer 10, and the surface layer 10 has a surface protection function.
However, the surface layer 10 covers the whole area except for the electrode portion on the surface. Naturally, the upper surface of the aluminum film 3 is also covered with the intermediate layers 6, 8 and the surface layer 10. When used in such a state, as shown by an arrow a, external light is reflected by the aluminum film 3,
Further, a phenomenon that the light is reflected by the plate member 14 and enters the light receiving unit side, that is, a phenomenon of irregular reflection occurs, which may cause a malfunction, thereby causing inconvenience in image processing. Therefore, the conventional example has a problem in removing diffuse reflection during use.
前記従来例の課題を解決する具体的手段として本発明
は、基板上の受光部と電極部とを除く表面全部を遮光膜
で被覆したことを特徴とする固体撮像素子を提供するも
のであって、更に前記遮光膜は、前記基板上の受光部に
カラーフィルター層を設けたものにおいては、該カラー
フィルター層と電極部とを除く表面全部を被覆し、もし
くはカラーフィルターに遮光部（ブラックストライプも
しくはブラックマトリックス）を除くカラーフィルター
層と電極部とを除く表面全部を被覆し、且つその遮光膜
は感光性の樹脂をスピンコートし、パターンマスクを用
いて露光．現像した後黒色に染色するものであり、黒色
の遮光膜の形成によって入光する光の乱反射現象が解消
されるのである。また、アルミニウム皮膜と略同一の厚
さで透明樹脂層を形成することにより、アルミニウム皮
膜の段差を解消しているため、該アルミニウム皮膜上に
形成される遮光膜を所望部の形状で形成されているた
め、遮光精度がより一層増す。尚、理想的には以上の通
りであるが、実際にはアンプ部等のように、検査などの
用途で遮光できない場合もある。As a specific means for solving the problems of the conventional example, the present invention provides a solid-state imaging device characterized in that the entire surface of the substrate except for a light receiving portion and an electrode portion is covered with a light shielding film. Further, in the case where a color filter layer is provided on the light receiving portion on the substrate, the light shielding film covers the entire surface except the color filter layer and the electrode portion, or the light shielding portion (black stripe or The entire surface excluding the color filter layer and the electrode portion except for the black matrix) is coated, and the light-shielding film is spin-coated with a photosensitive resin and exposed using a pattern mask. The color is dyed black after the development, and the irregular reflection phenomenon of the incoming light is eliminated by forming the black light shielding film. Also, since the step of the aluminum film is eliminated by forming the transparent resin layer with a thickness substantially the same as the aluminum film, the light-shielding film formed on the aluminum film is formed in a desired shape. Therefore, the light shielding accuracy is further increased. Although the above is ideal, there may be cases where light cannot be shielded in actual applications such as inspection, such as in an amplifier.
次に本発明を図示の実施例により更に詳しく説明す
る。尚、理解を容易にするため従来例と同一部分には同
一符号を付してその詳細を省略する。 第１〜２図においては、１はシリコン基板であり、該
基板に多数の受光素子群２が設けられており、該受光素
子群の一部に所定厚さのアルミニウム皮膜３がフレーム
状に被覆され、該アルミニウム皮膜３で囲まれた内側に
複数の色相のカラーフィルタ層４が設けられている。 前記カラーフィルタ層４は、第２図に示したよう形成
されている。このカラーフィルタ層４を形成するに先立
って、前記アルミニウム皮膜３で囲まれた内側に略同じ
厚さの透明な樹脂層15を形成し、前記カラーフィルタ層
４が形成される領域において、アルミニウム皮膜３と基
板１との間の段差を実質的になくしてから、カラーフィ
ルタ層４を形成する。この様にアルミニウム皮膜３と透
明な樹脂層15とを同一厚さに形成することで、その透明
な樹脂層15の上部に光学的に優れたカラーフィルタ層４
が形成できるのである。この透明な樹脂層15の形成に当
たっては、前記所定厚さのアルミニウム皮膜３がフレー
ム状に被覆された後に、感光性の透明な樹脂をスピンコ
ートし、カラーフィルタ層４が形成される領域のみが露
光するパターンマスクを使用して露光し、次に現像して
カラーフィルタ層４が形成される領域にのみ透明な樹脂
層15を形成する。 このようにして形成された透明な樹脂層15の上部に従
来例と同様な手段によりカラーフィルタ層４が形成され
る。即ち、アルミニウム皮膜３と透明な樹脂層15の上部
に第１層目の色相７を形成するためにゼラチンをスピン
コートし、第１層目の色相として残す部分が露光される
所定のパターンマスクを使用して露光し現像すると、部
分的に受光素子に対応する部分が残る。その残った部分
を公知の染色手段により緑色に染色して第１層目の色相
７を形成し、その上部に透明な樹脂をスピンコートして
中間層６を形成し、表面を略平坦にする。 次に前記同様の手段により第２層目の色相５を形成す
る。この第２層目の色相５は赤色である。更に、前記同
様にして中間層８及び第３層目の青色の色相９が順次積
層して形成され、その表面に保護を兼ねた表面層10がス
ピンコートされる。 このように、カラーフィルタ層４が形成される領域に
透明な樹脂層15を形成することによって、アルミニウム
皮膜３と基板１との間の段差をなくし、その透明な樹脂
層15の上部に色相及び中間層を順次積層することによ
り、特にアルミニウム皮膜３の境界部分に近接して形成
される色相の厚みが全体的に均一になり、該色相を通過
する光の屈折率に大きな変化がなくなり、光学的に優れ
たカラーフィルタ層となるのである。 次に、前記表面層10の上部に感光性の樹脂をスピンコ
ートして、所定厚さの皮膜を形成し、前記カラーフィル
タ層４の遮光所望部以外の領域、アンプ部17及び電極11
の部分を除いて、他の全部の表面が露光されるパターン
マスクを使用して露光し、その後現像することにより前
記カラーフィルター層４の遮光所望部以外の領域、アン
プ部17及び電極11の部分の皮膜が除去される。そして、
残った皮膜部分を黒色に染色することで黒色の遮光膜16
が形成されるのである。この遮光膜16は、前記アルミニ
ウム皮膜３に対応する部分に形成できれば充分である
が、この場合に、前記遮光所望部以外の領域と云うの
は、例えばカラーフィルター層４を形成する各色相に対
応する部分であり、この部分の皮膜が除去されることに
より、各色相の境界部分に対応する皮膜、即ち遮光部16
a（ブラックストライプもしくはブラックマトリック
ス）も同時に形成できることも意味するのである。 尚、前記アルミニウム皮膜３の厚みは6000〜11000Å
であり、前記緑色及び赤色の色相7,5並びに、前記遮光
膜16の染色前の厚みは10000〜13000Åで、染色後の厚み
が15000〜16000Åとなる。又、前記青色の色相９は、染
色前の厚みが約4000Åであり、染色後の厚みは約6000Å
となっている。更に、各中間層6,8及び表面層10の厚み
は10000〜11000Åである。 このように構成された本発明の固体撮像素子を、従来
例と同様に使用した例を第３図に示してある。同図にお
いて、前記固体撮像素子に所定のリード線12を接続し、
所定のケース13で全体を覆い、且つ該ケースの前面側、
つまり固体撮像素子の受光部側に、ガラス板等の透明な
板材14を施蓋して使用に供される。このように使用され
ても、入射する外光の内、受光部即ちカラーフィルタ層
４を除く他の部分に入射する光ａが、例えばアルミニウ
ム皮膜３に対応する部分に入射しても、前記黒色の遮光
膜16により吸収されて、乱反射が全く生じなくなり、受
光素子の誤動作が全面的に解消できるのである。Next, the present invention will be described in more detail with reference to the illustrated embodiment. For easy understanding, the same parts as those of the conventional example are denoted by the same reference numerals, and the details thereof are omitted. 1 and 2, reference numeral 1 denotes a silicon substrate, on which a large number of light receiving element groups 2 are provided, and a part of the light receiving element groups is covered with an aluminum film 3 having a predetermined thickness in a frame shape. A color filter layer 4 having a plurality of hues is provided inside the aluminum film 3. The color filter layer 4 is formed as shown in FIG. Prior to forming the color filter layer 4, a transparent resin layer 15 having substantially the same thickness is formed on the inside surrounded by the aluminum film 3, and an aluminum film is formed in a region where the color filter layer 4 is formed. After substantially eliminating a step between the substrate 3 and the substrate 1, the color filter layer 4 is formed. By forming the aluminum film 3 and the transparent resin layer 15 to have the same thickness in this manner, an optically excellent color filter layer 4 is formed on the transparent resin layer 15.
Can be formed. In forming the transparent resin layer 15, after the aluminum film 3 having the predetermined thickness is coated in a frame shape, a photosensitive transparent resin is spin-coated, and only the region where the color filter layer 4 is formed is formed. Exposure is performed using a pattern mask to be exposed, followed by development to form a transparent resin layer 15 only in a region where the color filter layer 4 is formed. The color filter layer 4 is formed on the transparent resin layer 15 thus formed by the same means as in the conventional example. That is, gelatin is spin-coated on the aluminum film 3 and the transparent resin layer 15 to form the first hue 7, and a predetermined pattern mask that exposes a portion to be left as the first hue is used. When used and exposed and developed, a part corresponding to the light receiving element partially remains. The remaining portion is dyed green by a known dyeing means to form a first-layer hue 7, and a transparent resin is spin-coated thereon to form an intermediate layer 6, and the surface is made substantially flat. . Next, the hue 5 of the second layer is formed by the same means as described above. The hue 5 of the second layer is red. Further, the intermediate layer 8 and the third layer of blue hue 9 are sequentially laminated in the same manner as described above, and a surface layer 10 also serving as protection is spin-coated on the surface. As described above, by forming the transparent resin layer 15 in the region where the color filter layer 4 is formed, the step between the aluminum film 3 and the substrate 1 is eliminated, and the hue and color are formed on the transparent resin layer 15. By sequentially laminating the intermediate layers, in particular, the thickness of the hue formed in the vicinity of the boundary portion of the aluminum film 3 becomes uniform as a whole, and the refractive index of light passing through the hue does not largely change. This results in an excellent color filter layer. Next, a photosensitive resin is spin-coated on the surface layer 10 to form a film having a predetermined thickness, and a region other than the desired light-shielding portion of the color filter layer 4, the amplifier 17 and the electrode 11.
Except for the portion, the entire surface is exposed using a pattern mask that is exposed, and then developed to form a region other than the light-shielding desired portion of the color filter layer 4, the portion of the amplifier portion 17 and the electrode 11. Film is removed. And
The remaining film is dyed black to give a black light-shielding film 16
Is formed. It is sufficient if the light-shielding film 16 can be formed in a portion corresponding to the aluminum film 3. In this case, the region other than the desired light-shielding portion corresponds to, for example, each hue forming the color filter layer 4. By removing the film in this portion, the film corresponding to the boundary portion of each hue, that is, the light shielding portion 16 is formed.
This means that a (black stripe or black matrix) can also be formed at the same time. The thickness of the aluminum coating 3 is 6000 to 11000〜
The thickness of the green and red hues 7, 5 and the light-shielding film 16 before dyeing is 10,000 to 13000 °, and the thickness after dyeing is 15,000 to 16000 °. The blue hue 9 has a thickness of about 4000 mm before dyeing and a thickness of about 6000 mm after dyeing.
It has become. Further, the thickness of each of the intermediate layers 6, 8 and the surface layer 10 is 10,000 to 11,000 °. FIG. 3 shows an example in which the solid-state image pickup device of the present invention thus configured is used in the same manner as the conventional example. In the figure, a predetermined lead wire 12 is connected to the solid-state imaging device,
Cover the whole with a predetermined case 13, and the front side of the case,
That is, a transparent plate material 14 such as a glass plate is covered on the light receiving section side of the solid-state imaging device, and is used. Even if used in this way, the light a incident on the light receiving portion, that is, the other portion except the color filter layer 4 of the incident external light, is incident on the portion corresponding to the aluminum film 3, for example. Absorbed by the light-shielding film 16, irregular reflection does not occur at all, and the malfunction of the light receiving element can be completely eliminated.
以上説明したように本発明に係る固体撮像素子は、基
板上の受光部と電極部とを除く表面全部を遮光膜で被覆
した構成にすることによって、固体撮像素子の受光部以
外に入射した外光が、前記遮光膜で吸収され、受光部近
傍における外光による乱反射がなくなって、誤動作を生
じさせないと云優れた効果を奏する。 又、前記遮光膜は、前記基板上の受光部にカラーフィ
ルター層を設けたものにおいても、該カラーフィルター
層と電極部とを除く表面全部を被覆してあるので、それ
によって前記同様に受光部近傍における乱反射現象を解
消させ、誤動作を生じさせないと云う優れた効果を奏す
る。そして、前記遮光膜は平滑面上の所望箇所に形成さ
れているため、外光の入射を必要とする所のみとするこ
とができる。 更に、前記遮光膜は感光性の樹脂をスピンコートし、
パターンマスクを用いて露光．現像した後黒色に染色す
るものであり、遮光膜の形成が正確に且つ簡単に形成で
きると云う優れた効果も奏する。 更に又、カラーフィルター層の遮光所望部に遮光部
（ブラックストライプもしくはブラックマトリックス）
を形成する場合には、前記遮光膜と同時に形成すること
ができ、工程を増やすことなく簡単に実施することがで
きるなどの種々の優れた効果も奏する。As described above, the solid-state imaging device according to the present invention has a configuration in which the entire surface excluding the light-receiving portion and the electrode portion on the substrate is covered with the light-shielding film. Light is absorbed by the light-shielding film, and irregular reflection due to external light in the vicinity of the light receiving portion is eliminated. Further, even when the light-shielding film is provided with a color filter layer on the light-receiving portion on the substrate, the light-shielding film covers the entire surface except for the color filter layer and the electrode portion. This provides an excellent effect that the irregular reflection phenomenon in the vicinity is eliminated and no malfunction occurs. Further, since the light-shielding film is formed at a desired position on the smooth surface, it can be provided only at a place where external light needs to be incident. Further, the light shielding film is spin-coated with a photosensitive resin,
Exposure using a pattern mask. It is dyed black after development, and has an excellent effect that the formation of the light-shielding film can be formed accurately and easily. Further, a light-shielding portion (black stripe or black matrix) is provided at a desired light-shielding portion of the color filter layer.
Is formed at the same time as the light-shielding film, and various excellent effects such as easy implementation without increasing the number of steps can be obtained.
第１図は本発明に係る固体撮像素子の平面図、第２図は
第１図のII−II線に沿う略示的拡大断面図、第３図は同
固体撮像素子の１使用例を示す略示的断面図、第４図は
従来例の固体撮像素子の平面図、第５図は第４図のＶ−
Ｖ線に沿う略示的拡大断面図、第６図は同従来例の固体
撮像素子の１使用例を示す略示的断面図である。 １……基板、２……受光素子群 ３……アルミニウム皮膜 ４……カラーフィルタ層 ５……赤色の色相、6,8……中間層 ７……緑色の色相、９……青色の色相 10……表面層、11……電極 12……リード線、13……ケース 14……透明な板材、15……透明な樹脂層 16……遮光膜、16a……遮光部 17……アンプ部FIG. 1 is a plan view of a solid-state imaging device according to the present invention, FIG. 2 is a schematic enlarged sectional view taken along line II-II of FIG. 1, and FIG. 3 shows one usage example of the solid-state imaging device. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view, FIG. 4 is a plan view of a conventional solid-state imaging device, and FIG.
FIG. 6 is a schematic enlarged cross-sectional view taken along a line V, and FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing one usage example of the conventional solid-state imaging device. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate 2, ... Light receiving element group 3 ... Aluminum film 4 ... Color filter layer 5 ... Red hue, 6, 8 ... Intermediate layer 7 ... Green hue, 9 ... Blue hue 10 ... surface layer, 11 ... electrode 12 ... lead wire, 13 ... case 14 ... transparent plate material, 15 ... transparent resin layer 16 ... light shielding film, 16a ... light shielding part 17 ... amplifier part
フロントページの続き 合議体 審判長 張谷 雅人 審判官 橋本 武 審判官 河口 雅英 (56)参考文献 特開 昭63−161667（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−261278（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−32487（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−10671（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−19885（ＪＰ，Ａ)Continuation of the front page Judge Masato Hariya Judge Takeshi Hashimoto Judge Masahide Kawaguchi (56) References JP-A-63-161667 (JP, A) JP-A-60-261278 (JP, A) JP-A 60 -32487 (JP, A) JP-A-60-10671 (JP, A) JP-A-55-19885 (JP, A)
Claims (4)
上には、前記受光素子のうち一部の受光素子上に形成さ
れているアルミニウム皮膜と、該アルミニウム皮膜が形
成されていない受光素子からなる受光素子群上に、前記
アルミニウム皮膜と略同一な厚さに形成された透明な樹
脂層とを有しており、該受光素子群上には、複数の色相
のカラーフィルター層が前記透明な樹脂層を介して形成
されており、更に、重ねて形成されている透明な樹脂か
らなる表面層によって、該カラーフィルター層上及びア
ルミニウム皮膜上の全面が略平滑面を構成しており、略
平滑面上において、前記受光素子群上の所望箇所及び前
記電極部とを除く表面全部が遮光膜で被覆されているこ
とを特徴とする固体撮像素子。An aluminum film formed on a part of light receiving elements of a light receiving element and a light receiving element having no aluminum film formed on a substrate on which a light receiving element and an electrode portion are formed. And a transparent resin layer formed at substantially the same thickness as the aluminum film, on the light receiving element group, and a color filter layer having a plurality of hues is provided on the light receiving element group. Are formed via a transparent resin layer, and furthermore, the entire surface on the color filter layer and the aluminum film constitutes a substantially smooth surface by a surface layer made of a transparent resin formed in an overlapping manner. A solid-state imaging device, wherein the entire surface of the smooth surface except for a desired portion on the light receiving element group and the electrode portion is covered with a light shielding film.
とともに、該アンプ部上を除いて遮光膜が被覆されてい
ることを特徴とする請求項１記載の固体撮像素子。2. The solid-state imaging device according to claim 1, wherein an amplifier section is formed on the substrate, and a light-shielding film is coated except on the amplifier section.
とによって形成されているとともに、各色相が、透明な
樹脂からなる中間層によって隔てられており、かつ、中
間層が、アルミニウム皮膜上にわたって形成されている
ことを特徴とする請求項１乃至２記載の固体撮像素子。3. The method according to claim 1, wherein the plurality of hues are formed by dyeing a dyeable resin, each hue is separated by an intermediate layer made of a transparent resin, and the intermediate layer is formed of an aluminum film. The solid-state imaging device according to claim 1, wherein the solid-state imaging device is formed over the upper surface.
トし、パターンマスクを用いて露光、現像した後黒色に
染色することにより形成されていることを特徴とする請
求項１乃至４記載の固体撮像素子。4. The light-shielding film according to claim 1, wherein the light-shielding film is formed by spin-coating a photosensitive resin, exposing and developing using a pattern mask, and then dyeing black. Solid-state imaging device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10819289A JP2751376B2 (en) | 1989-04-27 | 1989-04-27 | Solid-state imaging device |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP10819289A JP2751376B2 (en) | 1989-04-27 | 1989-04-27 | Solid-state imaging device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02285676A JPH02285676A (en) | 1990-11-22 |
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Family
ID=14478339
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
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Country Status (1)
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-
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- 1989-04-27 JP JP10819289A patent/JP2751376B2/en not_active Expired - Lifetime
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| JPH02285676A (en) | 1990-11-22 |
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