JP2744462B2 - ウェハ目合せ方法 - Google Patents

ウェハ目合せ方法

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JP2744462B2
JP2744462B2 JP1083326A JP8332689A JP2744462B2 JP 2744462 B2 JP2744462 B2 JP 2744462B2 JP 1083326 A JP1083326 A JP 1083326A JP 8332689 A JP8332689 A JP 8332689A JP 2744462 B2 JP2744462 B2 JP 2744462B2
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wafer
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wafer alignment
conduction
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JP1083326A
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Inventor
恭典 廣瀬
Original Assignee
関西日本電気株式会社
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は半導体製造工程のウェハ段階における目合せ
に利用される。
従来の技術 従来の特性チェック用プローバは、最終的には光学的
（非接触）方法により、目合せを行っていた。
発明が解決しようとする課題 光学的目合せの誤差は現状では数十μｍと大きく、誤
差のあるまま特性チェックを開始すると、良品を不良と
判定したり、ホンディングパット周辺をきずつけたりす
る不具合を生じていた。
課題を解決するための手段 前記課題を解決する手段として、本発明では部分的に
ある方向およびこれと直交する方向に次第に幅狭となる
導電部を持つ目合せパターンを少なくとも１個以上備え
たウェハを準備し、前記目合せパターンに、コンビュー
タ制御されたプロービング装置を接触させ、その導通の
有無を手かがりとして、順次接触箇所を移動し、コンピ
ュータによる理論的試行錯誤の結果として、導電部の最
狭部先端を検出する高精度の目合せ方法を特徴とする。
作用 部分的に導通を持つ目合せパターンは、その導通の有
無により、概略の位置関係の情報をプロービング装置に
与える。コンピュータ制御されたプロービング装置は、
概略の位置関係の情報を元にして、さらに詳細な位置関
係を求める。
実施例 実施例として、第２図に示す様に、ウェハＷに目合せ
パターン１を設ける。第１図は、第２図の目合せパター
ン１部分の拡大図である。斜線部３はＸ方向とＹ方向に
次第に幅狭となる導電部であり、その周囲は絶縁部とす
る。破線で示す円４は、光学的目合せによる誤差をカバ
ー可能な程度の大きさにとる。導電部３は別の領域の接
触容易な導電部（例えばウェハ裏面）と導通をとってお
く。
光学的目合せ完了後、円４内より順次接触箇所を移動
し、導通の有無を確認しながら導電部３のＸ方向の最狭
部先端である終点５を見つけることで、Ｘ軸（Ｙ＝０）
を確定する。同様にしてＹ方向終点６を見付けること
で、Ｙ軸（Ｘ＝０）を確定する。以上でウェハＷのパタ
ーン１とプロービング装置（の探針等）との正確な位置
関係を求めることができる。
さらに第２図の様に、複数個のチェックパターン1,2
を設けることによって、θ方向の確認、補正も可能とな
る。
発明の効果 本発明によって、光学的目合せに起因する誤差は全て
解消される。
【図面の簡単な説明】
第１図は目合せ用パターン部の拡大平面図、第２図は上
記の目合せ用パターン部を有するウェハの平面図であ
る。 1,2……目合せ用パターン、 ３……導電部。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】通常のペレット以外に、部分的にある方向
    およびこれと直行する方向に次第に幅狭となる導電部を
    持つ特性チェック用目合せパターンを、少なくとも１個
    以上備えたウェハを準備し、 前記目合せパターンに接触し、その導通の有無によって
    導電部先端を検出して目合せの補正を行うウェハ目合せ
    方法。
JP1083326A 1989-03-31 1989-03-31 ウェハ目合せ方法 Expired - Lifetime JP2744462B2 (ja)

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