JP2737475B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C17/00—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
- G11C17/08—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements
- G11C17/10—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements in which contents are determined during manufacturing by a predetermined arrangement of coupling elements, e.g. mask-programmable ROM
- G11C17/12—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements in which contents are determined during manufacturing by a predetermined arrangement of coupling elements, e.g. mask-programmable ROM using field-effect devices
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C7/10—Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
- G11C7/1051—Data output circuits, e.g. read-out amplifiers, data output buffers, data output registers, data output level conversion circuits
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- Read Only Memory (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶装置に関し、
特に読み出し専用記憶装置に関する。
特に読み出し専用記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の半導体記憶装置は図5に示すよう
に、ディスチャージ信号ADBおよび行選択信号ADx1
〜ADxlを入力信号とするNチャンネル型MOSFET
1(以下、NchMOSFETと称する)の直列回路に
より構成される記憶素子行列ROM1〜ROMnにより構
成される記憶素子行列を有しており、記憶素子行列RO
M1〜ROMnの出力端Di,j(i=1〜n,j=1〜m)
は列選択信号ADy1〜ADymにより列選択回路YSEL
1〜YSELnで選択される。列選択回路YSEL1〜Y
SELnの出力端YO1〜YOnは、それぞれプリチャー
ジ信号φP(オーハ゛ーライン)を入力信号とする1個のPチャン
ネル型MOSFET2と1個のインバータ回路3の入力
端に接続されており、出力端YO1〜YOnに接続されて
いるインバータ回路3から出力信号O1(オーハ゛ーライン)〜On
(オーハ゛ーライン)が外部に供給される。
に、ディスチャージ信号ADBおよび行選択信号ADx1
〜ADxlを入力信号とするNチャンネル型MOSFET
1(以下、NchMOSFETと称する)の直列回路に
より構成される記憶素子行列ROM1〜ROMnにより構
成される記憶素子行列を有しており、記憶素子行列RO
M1〜ROMnの出力端Di,j(i=1〜n,j=1〜m)
は列選択信号ADy1〜ADymにより列選択回路YSEL
1〜YSELnで選択される。列選択回路YSEL1〜Y
SELnの出力端YO1〜YOnは、それぞれプリチャー
ジ信号φP(オーハ゛ーライン)を入力信号とする1個のPチャン
ネル型MOSFET2と1個のインバータ回路3の入力
端に接続されており、出力端YO1〜YOnに接続されて
いるインバータ回路3から出力信号O1(オーハ゛ーライン)〜On
(オーハ゛ーライン)が外部に供給される。
【0003】図6は従来例の動作タイミングを示す。図
6中、1は接地電圧レベル(0V)、2は電源電圧レベ
ル(VDD)、3は電源電圧レベルよりNchMOSFE
Tのしきい値だけ低いレベル(VDD−Vth)、4は行線
Di,jと接地間のNchMOSFETがすべてオン状態
の電圧、5は行線Di,jと接地間のNchMOSFET
のうち少なくとも1つオフしたときの電圧を示す。プリ
チャージ信号φP(オーハ゛ーライン)とディスチャージ信号ADB
は互いに略同じ位相を有し、行選択信号ADx1〜ADxl
および列選択信号ADy1〜ADynは、プリチャージ信号
φP(オーハ゛ーライン)が低レベルの期間(プリチャージ期間)
に決定される。
6中、1は接地電圧レベル(0V)、2は電源電圧レベ
ル(VDD)、3は電源電圧レベルよりNchMOSFE
Tのしきい値だけ低いレベル(VDD−Vth)、4は行線
Di,jと接地間のNchMOSFETがすべてオン状態
の電圧、5は行線Di,jと接地間のNchMOSFET
のうち少なくとも1つオフしたときの電圧を示す。プリ
チャージ信号φP(オーハ゛ーライン)とディスチャージ信号ADB
は互いに略同じ位相を有し、行選択信号ADx1〜ADxl
および列選択信号ADy1〜ADynは、プリチャージ信号
φP(オーハ゛ーライン)が低レベルの期間(プリチャージ期間)
に決定される。
【0004】行選択信号ADx1〜ADxlおよび列選択信
号ADy1〜ADymが決定されると、列選択回路YSEL
1〜YSELnを構成するNchMOSFET1がオン状
態となった列線の電位は、プリチャージ信号φP(オーハ゛ーラ
イン)を入力信号とするPchMOSFET2により徐々
に上昇し、最終的に出力端YO1〜YOnは電源電圧レベ
ルVDDまで、列選択回路YSEL1〜YSELnがオン状
態の列線Di,jは電源電圧レベルより、NchMOSF
ETのしきい値(Vtn)だけ低いレベル(VDD−Vtn)
まで上昇する。
号ADy1〜ADymが決定されると、列選択回路YSEL
1〜YSELnを構成するNchMOSFET1がオン状
態となった列線の電位は、プリチャージ信号φP(オーハ゛ーラ
イン)を入力信号とするPchMOSFET2により徐々
に上昇し、最終的に出力端YO1〜YOnは電源電圧レベ
ルVDDまで、列選択回路YSEL1〜YSELnがオン状
態の列線Di,jは電源電圧レベルより、NchMOSF
ETのしきい値(Vtn)だけ低いレベル(VDD−Vtn)
まで上昇する。
【0005】次に、プリチャージ信号φP(オーハ゛ーライン)が
低レベルから高レベルに、ディスチャージ信号ADBが
高レベルから低レベルになると(時刻t2)、プリチャ
ージ期間は終了し、VDD−Vtnまで充電された列線D
i,jと接地電極との間に接続されたNchMOSFET
1がすべてオン状態であれば、列線Di,jの電位は徐々
に下降し、出力端YOiもそれにつれて下降し、出力端
YOiのレベルがインバータ回路3の論理しきい値より
も低い値になると、列出力信号Oiが低レベルから高レ
ベルへと反転する。
低レベルから高レベルに、ディスチャージ信号ADBが
高レベルから低レベルになると(時刻t2)、プリチャ
ージ期間は終了し、VDD−Vtnまで充電された列線D
i,jと接地電極との間に接続されたNchMOSFET
1がすべてオン状態であれば、列線Di,jの電位は徐々
に下降し、出力端YOiもそれにつれて下降し、出力端
YOiのレベルがインバータ回路3の論理しきい値より
も低い値になると、列出力信号Oiが低レベルから高レ
ベルへと反転する。
【0006】また、VDD−Vtnまで充電された列線D
i,jと接地電極との間に接続されたNchMOSFET
が、1つでもオフ状態であれば列線Di,jの電位はVDD
−Vtnの状態を保ち、出力端YOiの電位もVDDの状態
を保つ。したがって、出力信号Oiも低レベルの状態を
保つ。
i,jと接地電極との間に接続されたNchMOSFET
が、1つでもオフ状態であれば列線Di,jの電位はVDD
−Vtnの状態を保ち、出力端YOiの電位もVDDの状態
を保つ。したがって、出力信号Oiも低レベルの状態を
保つ。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】この従来の半導体記憶
装置では、プリチャージ期間終了後に列線Di,jの電位
をVDD−Vtnに、出力端YOiの電位をVDDに保たねば
ならない場合に、例えば接地電極にノイズが乗ったりす
ると、本来オフ状態でなければならない記憶素子行列R
OM1〜ROMの内のNchMOSFET1に電流が流
れてしまい、図7に示すように、列線Di,jの電位が下
がり始め、つれて出力端、YOiの電位も下がり始め
る。この場合、列線Di,jの電位が下がり始めてから次
のプリチャージ期間が始まるまでの時間t2よりも、出
力端YOiの電位が下がりはじめてからYOiを入力信号
とするインバータ回路3の論理しきい値41まで低下す
る時間t1が短いと、出力Oiが反転してしまい、保持抜
けという誤動作を招いてしまうという問題点があった。
装置では、プリチャージ期間終了後に列線Di,jの電位
をVDD−Vtnに、出力端YOiの電位をVDDに保たねば
ならない場合に、例えば接地電極にノイズが乗ったりす
ると、本来オフ状態でなければならない記憶素子行列R
OM1〜ROMの内のNchMOSFET1に電流が流
れてしまい、図7に示すように、列線Di,jの電位が下
がり始め、つれて出力端、YOiの電位も下がり始め
る。この場合、列線Di,jの電位が下がり始めてから次
のプリチャージ期間が始まるまでの時間t2よりも、出
力端YOiの電位が下がりはじめてからYOiを入力信号
とするインバータ回路3の論理しきい値41まで低下す
る時間t1が短いと、出力Oiが反転してしまい、保持抜
けという誤動作を招いてしまうという問題点があった。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は複数の列
線と、該列線と第1電源との間に行列状に配された記憶
素子と、該記憶素子の行を選択する行選択線と、列選択
信号に応答して列線上の電位を選択的に出力端に転送す
る列選択回路と、出力端をプリチャージするともに出力
端の電圧に対応した出力信号を形成する出力回路とを備
えた半導体記憶装置において、上記出力回路は出力端と
インバータとの間に接続されゲートに第2電源電圧を供
給される電界効果トランジスタと、プリチャージ制御信
号に応答して上記電界効果トランジスタのソースとドレ
インとを第2電源電圧にプリチャージするp−チャンネ
ル型電界効果トランジスタで構成されたプリチャージ手
段とを設けたことである。
線と、該列線と第1電源との間に行列状に配された記憶
素子と、該記憶素子の行を選択する行選択線と、列選択
信号に応答して列線上の電位を選択的に出力端に転送す
る列選択回路と、出力端をプリチャージするともに出力
端の電圧に対応した出力信号を形成する出力回路とを備
えた半導体記憶装置において、上記出力回路は出力端と
インバータとの間に接続されゲートに第2電源電圧を供
給される電界効果トランジスタと、プリチャージ制御信
号に応答して上記電界効果トランジスタのソースとドレ
インとを第2電源電圧にプリチャージするp−チャンネ
ル型電界効果トランジスタで構成されたプリチャージ手
段とを設けたことである。
【0009】
【発明の作用】出力回路によりプリチャージされた出力
端は選択された列線に接続され、行選択線で選択された
記憶素子の状態に応じて電圧レベルが変化する。ここ
で、第2電源のノイズ等により列線そして出力端の電圧
レベルが変化しても、電界効果トランジスタは直ちにオ
ンせず、出力端の電圧レベルの変化が所定の値に達する
までオフ状態を保つ。したがって、出力信号はノイズの
影響を受けにくい。
端は選択された列線に接続され、行選択線で選択された
記憶素子の状態に応じて電圧レベルが変化する。ここ
で、第2電源のノイズ等により列線そして出力端の電圧
レベルが変化しても、電界効果トランジスタは直ちにオ
ンせず、出力端の電圧レベルの変化が所定の値に達する
までオフ状態を保つ。したがって、出力信号はノイズの
影響を受けにくい。
【0010】
【実施例】次に本発明の実施例について図面を参照して
説明する。図1は本発明の第1実施例の半導体記憶装置
を示す回路図である。記憶素子行列ROM1〜ROMn
は、ディスチャージ信号ADBおよび行選択信号ADx1
〜ADxlを入力信号とするNchMOSFET1の直列
マトリクス回路によって構成されており、列選択回路Y
SEL1〜YSELnはそれぞれ列選択信号ADy1〜AD
ymを入力信号とするNchMOSFET1の並列回路に
より構成されている。記憶素子行列ROM1〜ROMnの
出力端Di,j(i=1〜n,j=1〜m)は、列選択回路
YSEL1〜YSELnを構成するm×n個のNchMO
SFET1のドレイン電極にそれぞれ接続されており、
列選択回路YSEL1〜YSELnの出力端YO1〜YOn
はそれぞれ、プリチャージ信号φP(オーハ゛ーライン)を入力信
号とし、ソース電極を電圧供給源5に接続された1個の
PchMOSFET2のドレイン電極と、ゲート電極を
電圧供給源5に、ソース電極をインバータ回路3の入力
端YODi(i=1〜n)に接続した1個のNchMOS
FET1のドレイン電極に接続されている。更に、出力
端インバータ回路3の入力端にはプリチャージ信号φP
(オーハ゛ーライン)を入力信号とし、ソース電極を電圧供給源5
に接続された1個のPchMOSFET2のドレイン電
極が接続されており、インバータ回路3の出力信号Oi
(i=1〜n)が半導体記憶装置の出力信号となってい
る。
説明する。図1は本発明の第1実施例の半導体記憶装置
を示す回路図である。記憶素子行列ROM1〜ROMn
は、ディスチャージ信号ADBおよび行選択信号ADx1
〜ADxlを入力信号とするNchMOSFET1の直列
マトリクス回路によって構成されており、列選択回路Y
SEL1〜YSELnはそれぞれ列選択信号ADy1〜AD
ymを入力信号とするNchMOSFET1の並列回路に
より構成されている。記憶素子行列ROM1〜ROMnの
出力端Di,j(i=1〜n,j=1〜m)は、列選択回路
YSEL1〜YSELnを構成するm×n個のNchMO
SFET1のドレイン電極にそれぞれ接続されており、
列選択回路YSEL1〜YSELnの出力端YO1〜YOn
はそれぞれ、プリチャージ信号φP(オーハ゛ーライン)を入力信
号とし、ソース電極を電圧供給源5に接続された1個の
PchMOSFET2のドレイン電極と、ゲート電極を
電圧供給源5に、ソース電極をインバータ回路3の入力
端YODi(i=1〜n)に接続した1個のNchMOS
FET1のドレイン電極に接続されている。更に、出力
端インバータ回路3の入力端にはプリチャージ信号φP
(オーハ゛ーライン)を入力信号とし、ソース電極を電圧供給源5
に接続された1個のPchMOSFET2のドレイン電
極が接続されており、インバータ回路3の出力信号Oi
(i=1〜n)が半導体記憶装置の出力信号となってい
る。
【0011】図2は一実施例の動作タイミングを示す。
プリチャージ信号φP(オーハ゛ーライン)とディスチャージ信号
ADBは、互いにほぼ同じ位相を持ち、行選択信号ADx
1〜ADxlおよび列選択信号ADy1〜ADymはプリチャ
ージ信号φP(オーハ゛ーライン)が低レベルの期間(プリチャー
ジ期間)に決定される。行選択信号ADx1〜ADxlおよ
び列選択信号ADy1〜ADymが決定されると、入力端Y
OD1〜YODnおよび出力端YO1〜YOnは電源電圧レ
ベルVDDにまで充電され、列選択回路YSELiがオン
状態の列線Di,jは電源電圧レベルVDDより、NchM
OSFETのしきい値Vthだけ低いレベル3(VDD−V
TN)まで充電される。
プリチャージ信号φP(オーハ゛ーライン)とディスチャージ信号
ADBは、互いにほぼ同じ位相を持ち、行選択信号ADx
1〜ADxlおよび列選択信号ADy1〜ADymはプリチャ
ージ信号φP(オーハ゛ーライン)が低レベルの期間(プリチャー
ジ期間)に決定される。行選択信号ADx1〜ADxlおよ
び列選択信号ADy1〜ADymが決定されると、入力端Y
OD1〜YODnおよび出力端YO1〜YOnは電源電圧レ
ベルVDDにまで充電され、列選択回路YSELiがオン
状態の列線Di,jは電源電圧レベルVDDより、NchM
OSFETのしきい値Vthだけ低いレベル3(VDD−V
TN)まで充電される。
【0012】次に、プリチャージ信号φP(オーハ゛ーライン)が
低レベルから高レベルに、ディスチャージ信号ADBが
高レベルから低レベルになったとき(プリチャージ期間
終了)、VDD−VTnまで充電された列線Di,jと接地電
極との間に接続されたNchMOSFET1が1つでも
オフ状態であれば、列線Di,jの電位はVDD−VTNの状
態を保ち、出力端YOiの電位は電源電圧レベルVDDの
状態を保つ。したがって出力信号Oiも低レベルの状態
を保つ。出力信号Oiを低レベルに保たねばならない期
間に、接地電極にノイズが乗ったりすることにより、本
来オフ状態でなければならない記憶素子行列ROM1〜
ROMn内のNchMOSFET1に電流が流れてしま
うと、図2に示すように列線Di,jの電位が下がり、つ
れて出力端YOiの電位も下がってくる。しかしなが
ら、出力端YOiと入力端YODiの間には、ゲート電極
を電圧供給源5に接続したNchMOSFET1が接続
されているので、出力端YOiの電位が、VDD−VTnに
下がるまで入力端YODiの電位は電源電圧レベルVDD
の状態を保つ。
低レベルから高レベルに、ディスチャージ信号ADBが
高レベルから低レベルになったとき(プリチャージ期間
終了)、VDD−VTnまで充電された列線Di,jと接地電
極との間に接続されたNchMOSFET1が1つでも
オフ状態であれば、列線Di,jの電位はVDD−VTNの状
態を保ち、出力端YOiの電位は電源電圧レベルVDDの
状態を保つ。したがって出力信号Oiも低レベルの状態
を保つ。出力信号Oiを低レベルに保たねばならない期
間に、接地電極にノイズが乗ったりすることにより、本
来オフ状態でなければならない記憶素子行列ROM1〜
ROMn内のNchMOSFET1に電流が流れてしま
うと、図2に示すように列線Di,jの電位が下がり、つ
れて出力端YOiの電位も下がってくる。しかしなが
ら、出力端YOiと入力端YODiの間には、ゲート電極
を電圧供給源5に接続したNchMOSFET1が接続
されているので、出力端YOiの電位が、VDD−VTnに
下がるまで入力端YODiの電位は電源電圧レベルVDD
の状態を保つ。
【0013】このため、この回路が保持抜けの誤動作を
起こすのは、出力端YOiの電位が下がり始めてから、
VDD−Vtnになるまでの時間t3と、出力端YOiまで電
位がVDD−Vtnになってから入力端YODiの電位がイ
ンバータ回路3の論理しきい値41まで低下する時間t
1を合計した時間t1+t3が、Di,jの電位が下がり始
めてから次のプリチャージ期間が始まるまでの時間t2
よりも短い場合(t1+t3<t2)であり、従来の例に
比べてt3の分マージンをとることができる。したがっ
て、本構成をとることによって、保持抜けに強い半導体
記憶装置を得ることができる。
起こすのは、出力端YOiの電位が下がり始めてから、
VDD−Vtnになるまでの時間t3と、出力端YOiまで電
位がVDD−Vtnになってから入力端YODiの電位がイ
ンバータ回路3の論理しきい値41まで低下する時間t
1を合計した時間t1+t3が、Di,jの電位が下がり始
めてから次のプリチャージ期間が始まるまでの時間t2
よりも短い場合(t1+t3<t2)であり、従来の例に
比べてt3の分マージンをとることができる。したがっ
て、本構成をとることによって、保持抜けに強い半導体
記憶装置を得ることができる。
【0014】図3は、本発明の第2実施例を示す半導体
記憶装置の回路図である。第1実施例との相異点は、出
力端YOiにドレイン電極を、入力端YODiにソース電
極を接続されたNchMOSFET1のゲート電極と電
圧供給源5との間に抵抗素子6が接続されていることで
ある。
記憶装置の回路図である。第1実施例との相異点は、出
力端YOiにドレイン電極を、入力端YODiにソース電
極を接続されたNchMOSFET1のゲート電極と電
圧供給源5との間に抵抗素子6が接続されていることで
ある。
【0015】図4に本発明の第2実施例の回路の動作タ
イミングを示す。行線Di,jの電位が下がり、つれて出
力端YOiの電位が下がってくるところまでは第1実施
例と同様である。しかしながら、出力端YOiと入力端
YODiの間に接続されているNchMOSFET1の
ゲート電位は、NchMOSFET1と電源電圧供給源
5および接地との間に接続された抵抗素子6により、電
源電圧レベルVDDよりも低いレベルを維持するので(仮
にこの電位をVDD−α(α>0)とする)、YOiの電
位が(VDD−α−Vtn)51に下がるまで、入力端YO
Diの電位は電源電圧レベルVDDの状態を保つ。よっ
て、この回路が保持抜けの誤動作を起こすのは、出力端
YOiの電位が下がり始めてから(VDD−α−Vtn)5
1になるまでの時間t4と、出力端YOiの電位が(VDD
−α−VTN)51になってから入力端YODiの電位が
インバータ回路3の論理しきい値41まで低下する時間
t1を合計した時間(t1+t4)が、行線Di,jの電位
が下がり始めてから次のプリチャージ期間が始まるまで
の時間t2よりも短い場合(t1+t4<t2)であり、t
4は第1の実施例のt3に比べ、YOiの電位がαだけ降
下する分長いので、第1実施例に比べてt4−t3の分だ
けマージンをとることができる。したがって本構成をと
ることによって、より保持抜けに強い半導体記憶装置を
得ることができる。
イミングを示す。行線Di,jの電位が下がり、つれて出
力端YOiの電位が下がってくるところまでは第1実施
例と同様である。しかしながら、出力端YOiと入力端
YODiの間に接続されているNchMOSFET1の
ゲート電位は、NchMOSFET1と電源電圧供給源
5および接地との間に接続された抵抗素子6により、電
源電圧レベルVDDよりも低いレベルを維持するので(仮
にこの電位をVDD−α(α>0)とする)、YOiの電
位が(VDD−α−Vtn)51に下がるまで、入力端YO
Diの電位は電源電圧レベルVDDの状態を保つ。よっ
て、この回路が保持抜けの誤動作を起こすのは、出力端
YOiの電位が下がり始めてから(VDD−α−Vtn)5
1になるまでの時間t4と、出力端YOiの電位が(VDD
−α−VTN)51になってから入力端YODiの電位が
インバータ回路3の論理しきい値41まで低下する時間
t1を合計した時間(t1+t4)が、行線Di,jの電位
が下がり始めてから次のプリチャージ期間が始まるまで
の時間t2よりも短い場合(t1+t4<t2)であり、t
4は第1の実施例のt3に比べ、YOiの電位がαだけ降
下する分長いので、第1実施例に比べてt4−t3の分だ
けマージンをとることができる。したがって本構成をと
ることによって、より保持抜けに強い半導体記憶装置を
得ることができる。
【0016】
【発明の効果】以上説明したように、出力バッファ回路
の電界効果トランジスタが第2電源のノイズの影響を遮
断するので保持抜けによる誤動作を起こしにくいという
効果を得られる。
の電界効果トランジスタが第2電源のノイズの影響を遮
断するので保持抜けによる誤動作を起こしにくいという
効果を得られる。
【図1】本発明の第1実施例を示す回路図である。
【図2】第1実施例の動作タイミング図である。
【図3】本発明の第2実施例を示す回路図である。
【図4】第2実施例の動作タイミング図である。
【図5】従来の半導体記憶装置を示す回路図である。
【図6】従来例の動作タイミング図である。
【図7】従来の半導体記憶装置が保持抜けによる誤動作
を起こした場合の動作タイミング図である。
を起こした場合の動作タイミング図である。
ROM1〜ROMn 記憶素子行列 ADx1〜ADxl 行選択線 YSEL1〜YSELn 列選択回路 ADy1〜ADym 列選択線 YO1〜YOn 出力端 SA1〜SAn 出力バッファ回路 1 Nチャンネル型MOSトランジスタ 2 Pチャンネル型MOSトランジスタ 3 インバータ 4 接地線(第1電源) 5 電源線(第2電源)
Claims (1)
- 【請求項1】 複数の列線と、該列線と第1電源との間
に行列状に配された記憶素子と、該記憶素子の行を選択
する行選択線と、列選択信号に応答して列線上の電位を
選択的に出力端に転送する列選択回路と、出力端をプリ
チャージするともに出力端の電圧に対応した出力信号を
形成する出力回路とを備えた半導体記憶装置において、
上記出力回路は出力端とインバータとの間に接続されゲ
ートに第2電源電圧を供給される電界効果トランジスタ
と、プリチャージ制御信号に応答して上記電界効果トラ
ンジスタのソースとドレインとを第2電源電圧にプリチ
ャージするp−チャンネル型電界効果トランジスタで構
成されたプリチャージ手段とを設けたことを特徴とする
半導体記憶装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24440191A JP2737475B2 (ja) | 1991-08-29 | 1991-08-29 | 半導体記憶装置 |
US07/932,701 US5309397A (en) | 1991-08-29 | 1992-08-20 | Read only memory device equipped with output data buffer circuits less affectable by noises on power voltage line |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24440191A JP2737475B2 (ja) | 1991-08-29 | 1991-08-29 | 半導体記憶装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0562491A JPH0562491A (ja) | 1993-03-12 |
JP2737475B2 true JP2737475B2 (ja) | 1998-04-08 |
Family
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