JP2732850B2 - 現像装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、感光部を有する基板を現像する現像装置の
改良に係る。

［従来の技術］ 従来より感光部を有する大型の基板を現像処理する場
合には、次のような現像装置が利用されている。

一般に、現像装置は現像液を基板上に供給する供給系
統と、基板を装置内に搬送される搬送手段とを備え、基
板を装置内に通過させながら現像液を吹付けて基板を現
像処理している。

このような現像装置の従来例を図面を参照して具体的
に説明する。

即ち、第３図に示すように、現像装置１は基板２に現
像液４を塗布する現像処理槽６、基板２に現像液４を定
着させるバッファ槽61及び基板２を洗浄する水洗槽62を
有しており、各槽を搬送ローラ３が回動自在に配設され
た支持板７が貫通している。

現像処理槽６には、現像液４を基板２に噴射するノズ
ル５が備えられており、このノズル５はパイプ13aに等
間隔に形成されており、このパイプ13aはバルブ14及び
ポンプ15を介して、現像液４の満たされたタンク16に接
続されている。

又、タンク16には現像液４を回収するパイプ13bが係
合されている。このパイプ13bは、現像処理槽６の床部6
aの中央部から垂直に延びており、床部6aは基板２に付
着する以外の現像液４が回収され易いように中央部に向
かって傾いて形成されている。

一方、第４図に示すように、搬送ローラ３は両端部に
フランジ3aを備え、このフランジ3aは支持板７の軸受９
に係合し、搬送ローラ３が回動自在となるようになって
いる。支持板７は、現像装置１を貫通する二枚の平行な
塩ビ板から形成され、その上縁部には等間隔に切欠き８
が形成され、この切欠き８に軸受９が設置されている。
なお、搬送ローラ３は軸受９に応じて支持板７に直交し
つつ等間隔に設置されるものであるが、この時搬送ロー
ラ３は搬送する基板２が間隙に落下しないよう充分に近
接して設けられていることは言うまでもない。更に、搬
送ローラ３のフランジ3aの一方には、搬送ローラ３と同
方向に回転するベベルギヤ10が付設され、このバベルギ
ヤ10に噛み合うベベルギヤ11が係合している。ベベルギ
ヤ11は搬送ローラ３に対応する回動自在な駆動軸12に備
えられ、この駆動軸12は支持板７に平行に近接して設け
られ、駆動装置（図示せず）によって回動するようにな
っている。

このような構成を有する現像装置１においては、搬送
ローラ３及び支持板７などが搬送系統、ノズル５、パイ
プ13、バルブ14、ポンプ15及びタンク16などが現像液の
回収を含む循環的な供給系統となり、搬送系統によって
基板２を装置内に搬送させつつ、現像処理槽６内では供
給系統によって現像液４を基板２上に塗布し、バッファ
槽61で現像を定着させ、水洗槽62で余分な現像液４を洗
い流して、自動的に現像処理を行うものである。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、上記の従来技術においては次のような
課題があった。

即ち、従来の現像装置１の現像供給系統は、ポンプ15
の吸引力によってタンク16からパイプ13を介してノズル
５に直接連結されているため、現像液４の吐出条件は全
ノズル同時に設定できるだけであった。従って、現像の
進行によって現像液４の供給をコントロールすることが
不可能であり、基板２が下方通過していない場合でも、
ノズル５が現像液４を吐出し続けることになり、大量の
現像液４が無駄になり、非常に不経済だった。

又、従来技術において、現像時間の調整は搬送ローラ
による基板搬送速度に頼る他なく、現像時間の異なる現
像をする場合には、現像処理の調整が困難となる傾向が
あった。

以上のように従来の技術においては、現像液の損失が
大きく、ノズルからの現像液吐出量による現像処理の設
定が固定化されているため、現像時間の異なる基板を現
像する場合に現像液の供給量が即座にできず、現像処理
のライン制御が困難であった。

本発明は、このような従来技術の課題を解決するため
に提案されたものであり、その目的は現像液の大幅な節
約を図ると共に、現像処理中の基板上に最適量の現像液
を供給することによって、ライン制御に適合した処理プ
ロセスを自在に設定可能とする現像装置を提供すること
である。

［課題を解決するための手段］ 上記の課題を解決するために、本発明の現像装置は、
表面に感光部を有する基板を送り出し、この基板に現
像、定着、安定、水洗の処理工程を施す現像装置におい
て、前記基板を一定間隔で同一方向に搬送する搬送手段
と、前記現像工程に設定された同一ゾーン内で、前記基
板上に現像液を散布するノズルを有する複数のノズル群
と、前記ノズル群を、基板が搬送される方向と直交する
方向へ移動する駆動手段と、前記ノズル群を上下方向へ
移動可能とする移動手段と、前記各ノズル群に独立して
個々に現像液を供給する複数の供給系統とを備えること
を特徴とする。

［作用］ 以上のような構成を有する本発明は、複数の供給系統
が独立して現像液量を調整可能なため、基板に最適量の
現像液を供給することができ、同時に基板が下方に通過
していない供給系統は、基板に現像液を吐出しないで済
むため、現像液を大量に節約することができる。

［実施例］ 以上説明したような本発明の一実施例を図面に基づい
て具体的に説明する。

なお、従来例と同様の部材については、同符号を付し
説明を省略する。

＊実施例の構成＊ 第１図（Ａ）に示すように、現像装置17は基板２の現
像処理を行う現像処理槽18を有している。この現像処理
槽18は底板18aにより上下に二分され、更に上部は壁板1
8bによって現像室18c及び駆動室18dに分割されている。

現像室18cには、搬送ローラ３が回動自在に連続的に
配置された二枚の支持板７が平行に設置されており、又
従来例と同様ベベルギヤ10,11によって搬送ローラ３が
回動するようになって、搬送ローラ３の上方には保持枠
19がガイド軸20によって支持されている。このガイド軸
20は、図中を左右方向に伸縮自在となっており、壁板18
bに設置された軸受21を貫通し、駆動室18dの天井に設置
された軸受22に係合している。更に、ガイド軸20には駆
動モータ23が設置されており、この駆動モータ23は駆動
室18dの壁面に設けられた支持板24によって支持されて
いる。

一方、保持枠19においては、ガイド軸20が係合してい
る側板19aと直交する両端板19b外側には、中央部から対
称の位置に２つの係合片25が設けられている。この４つ
の係合片25は開口部21aを形成しており、この開口部25a
には回動自在なボルト26が通され、係止片26aによって
係止されている。この４本のボルト26は、下方において
パイプ27に設けられたナット28に螺合しており、ボルト
26の回動によって上下動するパイプ27を枢支している。

第１図（Ｂ）に示すように、パイプ27は基板２の搬送
方向に伸びる３本の平行な縦パイプ27a及びこの縦パイ
プ27aに横設される12本の平行な横パイプ27bから構成さ
れるはしご状になっており、内部は現像液４が通過する
よう中空になっている。又、横パイプ27bは４本ごとに
一定の間隔を保って３グループに分かれている。このよ
うなパイプ27は第２図に示すように、各グループごとに
独立したパイプ29a,29b,29cにまとまり、各々バルブ30
a,30b,30cを介してポンプ15に接続されている。このポ
ンプ15は現像処理槽18の下部に設置され、隣接するタン
ク16に連結されている。又、横パイプ27bには下方に向
けられたノズル５が４ヶ所設けられている。

＊実施例の作用＊ 以上のような構成を有する本実施例の作用は次の通り
である。

即ち、駆動モータ23の駆動力によって、ガイド軸20が
現像装置17の軸方向に摺動し、それに伴い保持枠19及び
パイプ27が同方向に移動する。又、保持枠19に設置され
た４本のボルト26を均一に回動させることによって、パ
イプ27は上下動する。従って、パイプ27に設けられたノ
ズル５は上下左右に移動でき、基板２に対して現像液４
の噴射される範囲は調整可能となり、現像処理の多用化
が実現できる。

又、パイプ27の横パイプ7bは、３グループら分かれ、
各グループが独自に供給系統を有しているため、バルブ
30a（30b,30c）の開閉により、独立して現像液４の吐出
量を制御できる。そのため、基板２に対して現像液４の
最適量を常に塗布することが可能であり、現像装置１の
現像処理能力の安定化及び再現性を向上させるものであ
る。このような現像処理能力の安定化や再現性は、前述
のパイプ27の上下動と搬送ローラ３の速度調整とを組合
せることにより、より信頼性を高めることができ、同時
に複雑な現像処理を行う基板の現像や現像時間の異なる
様々な処理プレセスを同一の現像装置で行うことができ
る。

［発明の効果］ 以上述べたとおり特に、現像工程に設定された同一ゾ
ーン内で、基板上に現像液を散布するノズルを有する複
数のノズル群を備え、且つこれらの各ノズル群に対して
独立して個々に現像液を供給する複数の供給系統を備え
ることによって、基板に最適な現像液を吐出し、且つ不
要な現像液の吐出を防止することが可能となるため、高
価な現像液を大量に節約できる優れた現像装置を提供す
ることができる。また、基板の搬送方向に対して上下左
右の方向にノズル群を移動させることが可能であるた
め、現像液を節約しつつ確実に塗布するという効果を得
ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図（Ａ）及び（Ｂ）は本実施例の正面図、平面図、
側面図であり、第２図は本実施例の構成を示す説明図、
第３図は従来例の構成を示す説明図、第４図は従来例の
A-A′の側面図である。 １……現像装置、２……基板、３……搬送ローラ、４…
…現像液、５……ノズル、６……現像処理槽、７……支
持板、８……切欠き、９……軸受、10……ベベルギヤ、
11……ベベルギヤ、12……駆動軸、13……パイプ、14…
…バルブ、15……ポンプ、16……タンク、17……現像装
置、18……現像処理槽、19……保持枠、20……ガイド
軸、21……軸受、22……軸受、23……駆動モータ、24…
…支持板、25……係合片、26……ボルト、27……パイ
プ、28……ナット、29……パイプ、30……バルブ。

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】表面に感光部を有する基板を送り出し、こ
   の基板に現像、定着、安定、水洗の処理工程を施す現像
   装置において、 前記基板を一定間隔で同一方向に搬送する搬送手段と、 前記現像工程に設定された同一ゾーン内で、前記基板上
   に現像液を散布するノズルを有する複数のノズル群と、 前記ノズル群を、基板が搬送される方向と直交する方向
   へ移動する駆動手段と、 前記ノズル群を上下方向へ移動可能とする移動手段と、 前記各ノズル群に独立して個々に現像液を供給する複数
   の供給系統と、 を備えることを特徴とする現像装置。