KR101650439B1 - 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치를 개시한다.
개시된 워싱 장치는 워싱 입구와 워싱 출구가 마련된 워싱 챔버 내부에서 이동되는 플로트 유리의 표면을 세척하기 위한 플로트 유리 세정 시스템용 플로트 유리 워싱(washing) 장치에 있어서, 플로트 유리의 적어도 하나의 표면에 잔존하는 연마 슬러리를 포함하는 미리 결정된 크기의 입자를 제거하기 위한 아쿠아 나이프(aqua knife)를 구비한다.

Description

플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치{Washing apparatus for cleaning system of float glass}

본 발명은 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 플로트 법에 의해 제조되는 플로트 유리를 연마한 후 연마액 등의 불순물을 클리닝하기 위한 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치에 관한 것이다.

일반적으로, 플로트법에 의해 제조되는 플로트 유리는 LCD, PDP 등의 디스플레이 장치에 주로 사용된다. 이러한 플로트 유리는 리본 형태의 유리 원판을 절단, 면취 및 연마, 세정, 및 건조 공정 등을 거치게 된다.

플로트 유리는 고도의 평면도와 두께의 정밀도가 요구된다. 따라서, 플로트 유리는 면취 및 연마 공정을 통하여 플로트 유리의 표면은 매우 정밀하게 연마되어야 한다. 한편, 위와 같은 연마 공정에서, 플로트 유리의 표면에는 유리 분진, 연마 공구의 분진 및 슬러리 등을 포함하는 입자들이 부착될 가능성이 높다. 따라서, 플로트 유리의 표면에 부착되어 있거나 잔존하는 오염 입자들은 세정 공정을 통해 제거되어야 한다. 특히, 최근에는, 박막, 대면적의 유리 기판에 대한 수요가 높기 때문에, 종래보다 상대적으로 사이즈가 큰 대면적 유리 기판의 표면을 손상없이 유리 기판 상에 부착된 오염 입자를 깨끗하게 세정할 수 있는 고정밀, 고효율의 플로트 유리 세정 시스템이 요구된다.

한편, 종래의 퓨전법에 의해 제조되는 유리판은 연마 공정을 거칠 필요가 없기 때문에 플로트법에 의한 플로트 유리의 세정 시스템과 근본적으로 구별된다. 또한, 다른 종래 기술에 따른 플로트 유리의 세정 시스템은 유리 표면에 존재하는 얼룩 등을 1차 세정하고, 검사 공정을 거친 후 2차 세정을 하는 구조이다. 이러한 종래기술에 따른 플로트 유리의 세정 시스템은, 연마 공정에서 사용된 화학 약액을 제거할 필요성이 있고, 이와 별도로 다량의 물이 사용되어야 하기 때문에 과도한 비용이 소요되며, 세정 공정시에 발생하는 폐수의 양도 많기 때문에 폐수 처리도 큰 문제가 된다. 또한, 예를 들어, 7-8세대 디스플레이에 부응할 수 있도록 유리 기판의 사이즈가 점점 대형화됨에 따라 생산되는 디스플레이용 유리 기판의 정밀도와 균일도 조건들을 만족시켜야 하므로, 유리 기판의 단위 면적 당 오염 입자의 양 역시 이러한 요구되는 수준에 맞게 유지할 수 있는 설비를 채택하는 것이 필요하게 되었다. 그리고, 오염 입자를 충분히 제거하기 위하여 세척 강도를 높이게 되면 유리의 파손을 야기하게 되거나, 강한 압력 때문에 플로트 유리를 세정 시스템 내부에서 이송시키는 것이 용이하지 않은 문제가 있다.

유리의 사이즈가 커짐에 따라, 최근의 세정 공정은 유리를 소정 기울기로 기울인 상태에서 세정 시스템 내부를 이송시키는 소위 '틸팅 세정 방식'을 채택하고 있다. 그러나, 종래의 세정 시스템들은 수평으로 공급되는 유리 기판을 경사지게 변환하는 과정에서 작업시간이 과다하게 소요되는 문제점이 있었다.

본 발명은 상기와 같은 문제점들을 해결하기 위해 착생된 것으로서, 세정 시스템의 수율을 향상시키고, 유리 기판 상에 잔존하는 오염 입자들 중 가장 큰 단위의 입차를 1차적으로 제거할 수 있도록 구조가 개선된 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.

상기와 같은 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 바람직한 예시적 실시예에 따른 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치는, 워싱 입구와 워싱 출구가 마련된 워싱 챔버 내부에서 이동되는 플로트 유리의 표면을 세척하기 위한 플로트 유리 세정 시스템용 워싱(washing) 장치에 있어서, 상기 플로트 유리의 적어도 하나의 표면에 잔존하는 연마 슬러리를 포함하는 미리 결정된 크기의 입자를 제거하기 위한 아쿠아 나이프(aqua knife)를 구비한다.

바람직하게, 상기 아쿠아 나이프는 상기 플로트 유리의 폭 방향으로 길게 형성된 슬릿 타입 노즐을 구비한다.

바람직하게, 상기 노즐은 상기 플로트 유리의 진행 방향을 향하여 0° 내지 90°각도로 경사지게 배치될 수 있다.

바람직하게, 상기 아쿠아 나이프는 상기 플로트 유리의 진행 방향의 적어도 일면 또는 양면에 배치된다.

바람직하게, 상기 워싱 입구는 지면과 평행하게 마련되고, 상기 워싱 출구는 지면에 대해 미리 결정된 각도로 경사지게 형성되며; 상기 워싱 입구를 통해 수평으로 진입하는 상기 플로트 유리를 상기 워싱 챔버 내부에서 상기 워싱 출구의 경사 각도만큼 틸팅시킬 수 있는 틸팅 부재를 더 구비한다.

바람직하게, 상기 틸팅 부재는: 상기 워싱 챔버 내부에서 상기 플로트 유리를 미리 결정된 속도로 이송시키기 위해 회전 가능한 다수의 피딩 롤러들의 회전축의 일단을 지지하는 틸팅 베이스; 및 상기 다수의 피딩 롤러들의 회전축의 타단을 소정 각도로 회동시킬 수 있는 틸팅 액츄에이터를 구비한다.

바람직하게, 상기 다수의 피딩 롤러들은 서로 분리되어 작동되는 적어도 두 개 이상의 틸팅 영역들에 구획되고; 상기 틸팅 부재는 각각의 틸팅 영역의 피딩 롤러들의 회전축의 양단에 각각 설치되는 적어도 두 개 이상의 틸팅 베이스들 및 틸팅 엑츄에이터들을 구비한다.

바람직하게, 상기 아쿠아 나이프는 상기 워싱 챔버의 입구에 실질적으로 근접되게 배치된다.

바람직하게, 상기 아쿠아 나이프는 상기 틸팅 부재에 의해 틸팅될 수 있다.

바람직하게, 상기 입자의 미리 결정된 크기는 대략 10마이크로미터 이상이다.

바람직하게, 상기 워싱 입구에 설치된 에어 커튼을 더 구비한다.

바람직하게, 상기 아쿠아 나이프에 의해 세정된 상기 플로트 유리의 표면을 추가적으로 워싱하기 위한 분사 부재를 더 구비한다.

바람직하게, 상기 분사 부재는 상기 워싱 챔버와 인접되게 배치되며, 제2 입구와 제2 출구를 가진 제2 챔버; 및 상기 제2 챔버 내부에 설치되며, 물과 공기가 혼합된 2류체를 분사할 수 있는 적어도 하나 또는 그 이상의 분사기들을 구비한다.

바람직하게, 상기 분사기는 상기 플로트 유리의 양면들 중 적어도 일면에 배치된다.

바람직하게, 상기 분사기는 상기 플로트 유리의 진행 방향에 대향하여 0° 내지 90°각도로 경사지게 배치될 수 있다.

바람직하게, 상기 물은 초순수(Ultra Pure Water)이고, 상기 공기는 청정 건조 공기(Clean Dry Air)이다.

바람직하게, 상기 분사기의 공기의 분사 압력은 0~10 kg/cm²이다.

바람직하게, 상기 플로트 유리가 상기 제2 출구를 통해 배출되기 전에 상기 플로트 유리의 적어도 어느 하나의 면을 씻어내기 위한 린스 부재를 더 구비한다.

바람직하게, 상기 린스 부재는 상기 플로트 유리의 적어도 어느 하나의 면에 물을 분사할 수 있도록 배치되고, 다수의 물 분사 노즐들이 마련된 워싱 샤워기를 구비한다.

바람직하게, 상기 린스 부재는 상기 워싱 샤워기를 지지할 수 있는 샤워기 지지체를 더 구비한다.

바람직하게, 상기 샤워기 지지체는: 상기 플로트 유리의 진행 방향을 따라 상기 린싱 챔버의 사이드에 배치된 한 쌍의 린스 브라켓들; 상기 워싱 샤워기를 고정 지지할 수 있는 지지 프레임; 및 상기 지지 프레임을 상기 린스 브라켓들에 연결하기 위한 프레임 컨넥터들을 구비한다.

바람직하게, 상기 제2 챔버의 상기 제2 입구 부분과 상기 제2 출구 부분 중 적어도 어느 한 부분에 설치된 에어 커튼을 더 구비한다.

바람직하게, 각각의 상기 제2 챔버 내부에서 상기 플로트 유리의 이송을 보강하기 위한 적어도 하나 또는 그 이상의 피딩 보강부재들을 더 구비한다.

바람직하게, 각각의 상기 피딩 보강부재는 상기 플로트 유리의 양측 가장자리의 상면에 각각 접촉되어 회전될 수 있는 한 쌍의 피딩 보강 롤러들을 구비한다.

본 발명에 따른 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치는 다음과 같은 효과를 가진다.

첫째, 물을 많이 사용하지 않고서도 플로트 유리 표면에 잔존하는 오염 입자를 충분히 제거할 수 있다.

둘째, 유리 기판의 얼라이닝이 용이하면서도 유리 기판 상의 각 부분을 균일한 정도로 세정할 수 있다.

셋째, 오염 입자의 충분한 제거와 유리 기판의 용이한 이송을 모두 만족시킬 수 있다.

넷째, 오염 입자를 단계적으로 제거하여 세정 공정의 효율성 및 수율을 높일 수 있다.

다섯째, 개선된 틸팅 시스템(예, 분할 틸팅)을 채택함으로써 수율을 향상시킬 수 있다.

여섯째, 플로트 유리를 틸팅된 상태로 진행시킴으로써 얼라이닝(aligning) 작업을 용이하게 할 수 있다.

전술한 본 발명의 요약뿐만 아니라 이어지는 본 발명의 바람직한 실시예들의 상세한 설명은 첨부된 도면들과 함께 읽혀질 때 더 잘 이해될 것이다. 본 출원의 바람직한 예시적 실시예에 따른 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치를 설명하기 위한 목적으로, 바람직한 실시예들의 도면들이 도시된다. 그러나, 본 출원은 그러한 도면들에 도시된 정확한 장치 및 수단에 한정되지 않는 것으로 이해되어야 한다.
도 1은 본 발명의 바람직한 예시적 제1 실시예에 따른 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치의 구성을 개략적으로 도시한 사시도이다.
도 2는 도 1에 워싱 챔버 내부의 피딩 롤러 부위를 발췌 도시한 평면도이다.
도 3은 도 2의 정면 구성도이다.
도 4는 도 2의 우측면 구성도이다.
도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 워싱 장치의 동작을 설명하기 위한 우측면도로서, 샤워기 및 틸팅부재가 작동되고, 피딩 롤러가 경사진 상태를 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 도 5에 도시된 틸팅 부재를 발췌 도시한 도면이다.
도 7 내지 도 9는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 워싱 장치의 틸팅 부재의 '분할 틸팅' 동작을 각각 설명하기 위한 도면들이다.
도 10은 도 1에 도시된 아쿠아 나이프 및 에어 커튼 부위를 발췌 도시한 평면 구성도이다.
도 11은 도 10은 정면 구성도이다.
도 12는 도 10의 우측면 구성도이다.
도 13은 본 발명의 바람직한 예시적 실시예에 따른 아쿠아 나이프의 작동을 설명하는 개념도이다.
도 14는 도 1에 도시된 샤워기 부위를 발췌 도시한 평면 구성도이다.
도 15는 도 14의 정면 구성도이다.
도 16은 도 14의 우측면 구성도이다.
도 17은 본 발명의 바람직한 예시적 제2 실시예에 따른 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치에 사용되는 제2 챔버를 발췌 도시한 사시도이고, 도 18은 도 17의 우측면도이다.
도 19는 도 17에 도시된 피딩 롤러들을 발췌 도시한 평면 구성도이다.
도 20은 도 19의 우측면 구성도이다.
도 21은 도 17에 도시된 분사부재 부위를 발췌 도시한 평면 구성도이다.
도 22는 도 21의 일부 발췌 정면도이다.
도 23은 도 21의 측면도이다.
도 24는 본 발명의 변형된 실시예에 따른 분사부재의 작동을 설명하기 위한 개념도이다.
도 25는 도 17에 도시된 린스 부재 부위를 발췌 도시한 평면 구성도이다.
도 26은 도 25의 우측면 구성도이다.

이어지는 상세한 설명에서 사용된 특정의 용어는 편의를 위한 것이지 제한적인 것은 아니다. "우", "좌", "상면" 및 "하면"의 단어들은 참조가 이루어진 도면들에서의 방향을 나타낸다. "내측으로" 및 "외측으로"의 단어들은 각각 지정된 장치, 시스템 및 그 부재들의 기하학적 중심을 향하거나 그로부터 멀어지는 방향을 나타낸다. "전방", "후방", "상방", "하방" 및 그 관련 단어들 및 어구들은 참조가 이루어진 도면에서의 위치들 및 방위들을 나타내며 제한적이어서는 아니된다. 이러한 용어들은 위에서 열거된 단어들, 그 파생어 및 유사한 의미의 단어들을 포함한다.

본 발명의 특정의 예시적 실시예들은 도면들을 참조하여 설명될 것이다. 각각의 도면들에서 동일한 구성요소는 동일한 참조부호를 부여하였다.

도 1은 본 발명의 바람직한 예시적 제1 실시예에 따른 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치의 구성을 개략적으로 도시한 사시도이다.

도 1을 참조하면, 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치(100)는, 워싱 입구(12)와 워싱 출구(14)가 마련된 워싱 챔버(10), 워싱 챔버(10) 내부에서 이동되는 플로트 유리(G)의 표면을 세척하기 위한 것으로서, 플로트 유리(G)의 적어도 하나의 표면에 잔존하는 연마 슬러리를 포함하는 미리 결정된 크기의 입자(예, 대략 10마이크로미터)를 제거하기 위한 아쿠아 나이프(aqua knife)(20)를 구비한다.

워싱 챔버(10)는 플로트 유리(G)의 폭 방향 중심이 양측 가장자리 보다 더 높게 형성된 지붕(3: 도 5 참조)과 측면 벽들(16)에 의해 실질적으로 밀폐되는 구조를 가진다. 워싱 챔버(10)의 지붕(3)의 구조는 워싱 챔버(10) 내부에서 플로트 유리(G)의 표면을 워싱하기 위해 사용되는 물, 수증기 등이 외부로 방출되는 것을 방지하고 지붕(3)의 천정에 고이는 물이 바닥(7: 도 5 참조)으로 떨어지게 하는 기능을 가진다. 워싱 챔버(10)의 내부에는 플로트 유리(G)가 접촉되어 이동될 수 있는 다수의 피딩 롤러들(R)이 설치된다. 또한, 워싱 챔버(10)의 바닥에는 플로트 유리(G)의 표면을 세정한 물을 배출시킬 수 있는 배수구(미도시)가 마련된다.

워싱 챔버(10)의 워싱 입구(12)는 플로트 유리 제조 설비의 연마 공정에서 연마된 후, 수평으로 배치된 로딩 컨베이어(미도시)를 통해 공급되는 플로트 유리(G)를 공급받기 위한 것으로서, 워싱 챔버(10)의 워싱 입구측 벽면에 플로트 유리(G)가 진입할 수 있을 만큼의 폭과 높이로 지면과 평행하게 형성된다. 한편, 워싱 챔버(10)의 워싱 출구(14)는 후술하는 틸팅 부재(30)가 형성하는 틸팅 각도만큼 지면에 대해 소정 각도 경사지도록 워싱 챔버(10)의 워싱 출구측 벽면에 마련된다. 워싱 챔버(10)의 워싱 출구(14)의 경사 각도는, 대부분의 플로트 유리 세정 시스템이 플로트 유리(G)의 폭 방향으로 경사지게 이송시키면서 플로트 유리(G)를 세정하기 때문에 그러한 경사도에 부응시키기 위한 것이다. 이러한 방식의 경사진 상태에서의 플로트 유리를 세정하게 되면, 세정에 사용되는 물의 배수 효율이 증대되고, 별도의 물을 위한 탱크가 불필요하거나 탱크의 용량을 줄일 수 있으며, 세정 시스템에서 사용되는 세정제 및/또는 물의 량을 줄일 수 있다. 뿐만 아니라, 이러한 경사 세정 방식은, 세정에 사용된 물등이 유리의 표면 장력에 의해 유리 표면에 붙어 있을 가능성이 상대적으로 높은 '수평 세정 방식'에 비해 유리의 경사도에 의해 물등이 자연스럽게 낙하하기 때문에 공정에 있어서 '액절 성능'을 향상시킬 수 있다.

도 2는 도 1에 워싱 챔버 내부의 피딩 롤러 부위를 발췌 도시한 평면도이고, 도 3은 도 2의 정면 구성도이고, 도 4는 도 2의 우측면 구성도이다.

도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 실시예에 따른 워싱 장치(100)에 있어서, 워싱 입구(12)를 통해 공급되는 플로트 유리(G)는 플로트 유리(G)의 하면에 접촉될 수 있도록 경사지게 설치된 다수의 피딩용 오링들(4)을 포함하는 다수의 피딩 롤러들(R)에 의해 워싱 출구(14) 측으로 이송된다.

각각의 피딩 롤러(R)는 피딩 모터들(9)에 의해 회전될 수 있는 피딩 샤프트(2), 및 플로트 유리(G)의 하면에 접촉될 수 있도록 피딩 샤프트(2)의 길이 방향으로 소정 간격 이격되게 배치되며 다수의 피딩용 오링들(4)을 구비한다. 각각의 피딩 샤프트(2)의 양단은 후술하는 제1 및 제2 피딩 브라켓들(6)(8)에 설치된다.

도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 워싱 장치의 동작을 설명하기 위한 우측면도로서, 샤워기 및 틸팅부재가 작동되고, 피딩 롤러가 경사진 상태를 설명하기 위한 도면이고, 도 6은 도 5에 도시된 틸팅 부재를 발췌 도시한 도면이다.

도 1 내지 도 6을 참조하면, 본 실시예에 따른 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치(100)는 워싱 챔버(10)의 워싱 입구(12)를 통해 수평으로 진입된 플로트 유리(G)를 워싱 챔버(10)의 워싱 출구(14)의 경사도와 동일한 각도로 틸팅시킬 수 있는 틸팅 부재(30)를 구비한다.

틸팅 부재(30)는 피딩 샤프트(2)의 일단이 설치된 제1 피딩 브라켓(6)을 지지할 수 있는 회동축이 마련된 틸팅 베이스(32), 및 피딩 샤프트(2)의 타단이 설치된 제2 피딩 브라켓(8)을 소정 각도로 상,하 회동시킬 수 있는 틸팅 액츄에이터(34)를 구비한다. 틸팅 액츄에이터(34)는 유압 또는 공압 실린더 등이 채택될 수 있다. 틸팅 부재(30)는 틸팅 액츄에이터(34)의 작동에 의해 틸팅 베이스(32)에 지지된 제1 피딩 브라켓(6)을 기준으로 제2 피딩 브라켓(8)이 상승됨으로써, 피딩 샤프트(2)가 기울어지게 함으로써, 피딩 샤프트(2)의 피딩 오링들(4)에 접촉되어 진행되는 플로트 유리(G)를 경사지게 하기 위한 것이다.

대안적 실시예에 있어서, 틸팅 부재(30)는 진행하는 플로트 유리(G)의 일측면 하방에 설치된 에어 플로터에 의해 플로트 유리(G)의 한 측면을 경사지게 하거나, 플로트 유리를 지지하는 오링들의 크기를 서로 다르게 함으로써 플로트 유리를 경사지게 할 수도 있다.

한편, 틸팅 부재(30)에 의해 플로트 유리(G)가 경사지는 각도 즉, 틸팅 각도(θ)는 5°~8°인 것이 바람직하다. 틸팅 부재(30)의 경사 각도(θ)가 5° 보다 작으면 틸팅의 효율이 반감되고, 8°보다 큰 경우에는 플로트 유리(G)의 낮은 측부분보다 높은 측 부분이 더 빨리 건조될 위험성이 있다.

틸팅 부재(30)는 워싱 챔버(10)에 설치된 모든 피딩 롤러들(R)을 동시에 경사지게 할 수도 있지만, 본 실시예에서는, 다수의 피딩 롤러들(R)을 시간 및 공간적으로 서로 분리시켜 작동시킬 수 있는 소위, '분할 틸팅' 방식을 채용한다. 즉, 분할 틸팅 방식은 수평 상태로 진입된 플로트 유리를 경사 상태로 전환하는 과정에서 발생되는 '택 타임'을 최소화시키기 위한 것이다. 즉, 틸팅 작업을 위해 워싱 장치(100)에서 플로트 유리(G)의 이송의 중단시킴으로써, 전체 작업 속도가 느려지는 것을 방지하기 위한 것이다.

워싱 챔버(10) 내부의 피딩 롤러들(R)은 서로 분리된 5개의 틸팅 영역들(TA1~TA5)로 구획되어 배치된다. 각각의 틸팅 영역(TA1~TA5)은 서로 소정 간격 이격된 6개의 피딩 롤러들(R)이 양단에 설치된 제1 피딩 브라켓(6)과 제2 피딩 브라켓(8)을 구비한다. 또한, 틸팅 부재(30)는 각각의 틸팅 영역(TA1~TA5)에 존재하는 각각의 틸팅 베이스(32) 및 틸팅 액츄에이터(34)를 구비한다. 또한, 틸팅 부재(30)는 각각의 틸팅 영역(TA1~TA5)에 배치된 틸팅 센서들(35)을 구비한다. 틸팅 센서(35)는 발광부(31)와 수광부(33)를 구비한다. 각각의 틸팅 센서(35)는 틸팅 베이스(32)를 기준으로 틸팅 엑츄에이터(34)가 피딩 롤러(R)를 기울이는 과정에서 피딩 롤러(R)가 미리 결정된 각도에 도달할 경우, 틸팅 액츄에이터(34)의 작동을 멈추게 하기 한 것이다.

통상의 틸팅 방식을 채택하는 세정 시스템의 경우, 틸팅을 위해 플로트 유리의 이송을 멈출 필요가 있는가 하면, 플로트 유리의 이송과정에서 플로트 유리를 가,감속시키는 과정이 필연적으로 수반되므로, 이러한 과정에서 피딩 샤프트(2)에 설치된 피딩용 오링(4)에 의해 플로트 유리(G)의 표면에 스크래치 등이 발생될 가능성이 높았다. 그러나, 본 실시예에 있어서, 틸팅 부재(30)는 '분할 틸팅'방식을 취함으로써, 통상의 틸팅 방식에 비해 연속적으로 공급되는 플로트 유리들(G)의 이송을 멈추거나, 플로트 유리(G)의 속도의 가감속이 불필요해진다.

이하에서는 도 1에 도시된 틸팅 부재의 작동을 각각 설명하기 위한 도면들인 도 7 내지 도 9를 참조하여 '분할 틸팅'의 구체적인 작동을 설명한다.

도 1 및 도 7에 도시된 바와 같이, 워싱 챔버(10)의 워싱 입구(12)를 통해 플로트 유리(G)가 진입하기 전, 모든 틸팅 영역들(TA1~TA5)은 수평 상태로 유지되기 때문에 각각의 틸팅 영역들(TA1~TA5)에 배치된 피딩 롤러들(R) 역시 수평 상태로 유지된다.

이 상태에서, 플로트 유리(G)가 워싱 챔버(10) 내부로 완전히 진입하는 순간 틸팅 부재(30)를 작동시켜, 5개의 틸팅 영역들(TA1~TA5)에 설치된 틸팅 액츄에이터(34)를 동시에 작동시켜 제2 피딩 브라켓(8)을 상승시킨다. 이 과정에서 발광부(31)와 수광부(33)로 구성된 틸팅 센서(35)는 피딩 롤러(R)의 설정 각도에 따라 틸팅 액츄에이터(34)의 동작을 멈추게 할 수 있다. 또한, 틸팅 부재(30)의 작동 과정은 피딩 롤러들(R)을 계속해서 회전시키면서 즉, 플로트 유리(G)가 움직이는 과정에서 시행된다.

그러면, 도 5, 도 6, 및 도 8에 도시된 바와 같이, 모든 틸팅 영역들(TA1~TA5)에 설치된 피딩 롤러들(R)은 틸팅 베이스(32)를 기준으로 틸팅 액츄에이터(34)가 상승되어 제1 피딩 브라켓(6)보다 제2 피딩 브라켓(8)이 상승되면서 피딩 샤프트(2)가 경사지게 되면서, 플로트 유리(G) 역시 경사를 형성한다.

이어서, 도 9에 도시된 바와 같이, 피딩 롤러들(R)의 회전력에 의해 플로트 유리(G)는 워싱 챔버(10)의 워싱 출구(14)를 통해 빠져나간다. 이 과정에서, 각각의 틸팅 영역(TA)은 플로트 유리(G)의 이송 끝단(Gt)의 접촉이 해제되는 순간 개별적으로 하강하도록 제어된다. 도 9를 참조하면, 예를 들어, 플로트 유리(G)의 이송 끝단(Gt)이 제3 틸팅 영역(TA3)에 걸쳐 있으므로, 제3 내지 제5 틸팅 영역들(TA3~TA5)은 여전히 상승된 상태로 플로트 유리(G)의 이송을 가이드하고 있지만, 제1 틸팅 영역(TA1)과 제2 틸팅 영역(TA2)은 하강되어 수평 상태를 유지하면서 연속해서 공급되는 다음의 플로트 유리(G)를 가이드할 준비를 한다. 또한, 틸팅 액츄에이터(34)가 하강되어 피딩 롤러들(R)이 수평 상태를 유지하고 있는 제1 틸팅 영역(TA1)의 경우 워싱 입구(12)를 통해 새로운 플로트 유리(G)가 진입되고 있음을 알 수 있다. 새로운 플로트 유리(G)가 제5 틸팅 영역(TA5)까지 진입하게 되면 전술한 바와 같이, 플로트 유리(G)의 진행과 동시에 모든 틸팅 영역들(TA1~TA5)이 동시에 상승되어 패스 라인을 통해 클리닝 모듈로 진행하는 과정을 반복한다.

도 1 내지 4를 참조하면, 전술한 바와 같이, 플로트 유리(G)는 워싱 챔버(10) 내부에서 틸팅 부재(30)에 의해 기울어질 뿐만 아니라, 경사진 상태로 이송될 필요성이 있기 때문에, 워싱 챔버(10)는 틸팅 베이스(32) 부근의 플로트 유리(G)의 사이드(GS)의 위치를 확인할 수 있는 다수의 제1센서들(37), 및 이동되는 플로트 유리(G)의 위치를 보정하기 위해 상기 제1센서들(37)과 연동하여 작동될 수 있는 다수의 얼라이너들(39)를 구비한다. 여기서, 각각의 틸팅 영역(TA1~TA5)은 하나의 얼라이너(39)와 2개의 제1센서(37)를 구비한다. 각각의 제1센서(37)는 플로트 유리(G)의 일측 사이드(GS)에 접촉되어 회전될 수 있는 제1센싱 롤러를 포함한다. 얼라이너(104)는 플로트 유리(G)의 하면에 접촉되어 회전되도록 설치되고, 서로 간격 조절이 가능하며 플로트 유리(G)에 접촉되게 설치된다. 또한, 필요에 따라 플로트 유리(G)의 타측을 가이드 할 수 있도록 틸팅 액츄에이터(34) 측에 마련된 제2 센서 롤러들(38)을 구비한다. 제2 센서 롤러들(38)은 전술한 제1 센서들(37)을 구성하는 제1센서 롤러들과 피딩 롤러(R)의 길이 방향에 대해 중복되지 않고 지그 재그 형태로 배치된다. 또한, 제1센서들(37)을 구성하는 제1 센서 롤러들과 제2 센서 롤러들(38)의 설치 위치는 이동되는 플로트 유리(G)의 사이즈에 따라 변경될 수 있음은 물론이다.

도 10은 도 1에 도시된 아쿠아 나이프 및 에어 커튼 부위를 발췌 도시한 평면 구성도이고, 도 11은 도 10은 정면 구성도이고, 도 12는 도 10의 우측면 구성도이고, 도 13은 본 발명의 바람직한 예시적 실시예에 따른 아쿠아 나이프의 작동을 설명하는 개념도이다.

도 1, 도 10 내지 도 13을 참조하면, 전술한 바와 같이, 아쿠아 나이프(20)는 플로트 유리(G)가 워싱 챔버(10)의 워싱 입구(12)를 통해 진입하여 워싱 출구(14)를 통해 배출되는 동안 플로트 유리(G)의 표면에 잔존하는 연마 슬러리를 포함하는 대략 10마이크로미터 이상의 입자를 제거하기 위한 것이다.

아쿠아 나이프(20)는 다수의 틸팅 영역들(TA) 중 한 영예(예, 제2 틸팅 영역(TA2))에 배치된다. 여기서, 아쿠아 나이프(20)는 제2 틸팅 영역(TA2)을 형성하는 제1 피딩 브라켓(6)과 제2 피딩 브라켓(8)에 각각 마련된 아쿠아 나이프의 지지대(22) 사이에 설치된다. 따라서, 피딩 롤러(R)의 틸팅 동작을 위해 틸팅 부재(30)가 작동되면, 피딩 롤러(R) 및 후술하게 될 샤워기(50)와 함께 아쿠아 나이프(20)도 동시에 틸팅 및 언틸팅될 수 있다.

아쿠아 나이프(20)는 플로트 유리(G)의 폭 방향으로 길게 형성된 슬릿 타입 노즐(24)이 형성된 아쿠아 본체(26), 연결관들(28)에 아쿠아 본체(26)에 연결되고 입구 포트(21)가 마련된 공급 파이프(23)를 구비한다. 또한, 아쿠아 나이프(20)는 플로트 유리의 진행 방향의 상,하부 중 적어도 어느 한면 이상에 배치될 수 있지만 한 쌍으로 배치되는 것이 바람직하다. 아쿠아 나이프(20)의 슬릿 타입 노즐(24)은 플로트 유리(G)의 진행 방향을 향하여 0° 내지 90° 각도(α1)로 경사지는 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 0° 내지 45°각도로 경사져 있다. 아쿠아 나이프(20)의 슬릿 타입 노즐(24)을 플로트 유리(G)의 진행 방향을 향하여 전술한 각도(α1)만큼 기울어지게 배치하는 것은, 워싱 입구(12) 쪽을 향하여 물이 튀는 현상을 방지하기 위한 목적도 함께 가진다.

아쿠아 나이프(20)의 노즐(24)을 슬릿 타입으로 구성하게 되면, 노즐(24)로부터 분출되는 물줄기의 균일도가 높아지고 물줄기가 갈라지게 될 위험이 더욱 적어지게 된다. 이를 위해, 아쿠아 나이프(20)의 슬릿 타입 노즐(24)은 분사되는 물의 균일도(uniformity)를 대략 90% 이상으로 유지시킬 수 있고, 분사되는 물의 유량이 적은 경우에도 물줄기가 갈라지지 않는 구조를 가진다 슬릿 타입 노즐(24)에 마련된 슬릿의 폭은 대략 0.1mm 내지 대략 0.2mm인 것이 좋고, 더욱 바람직하게는 0.15mm이다.

아쿠아 나이프(20)의 설치에 있어서, 피딩 롤러(R)에 의하여 이송되는 플로트 유리(G)의 상면과 노즐(24) 끝단 사이의 간격(h1)은 대략 15mm 이내인 것이 바람직하다. 만약, 이러한 간격(h1)이 너무 커지게 되면 아쿠아 나이프(20)로부터 분출되는 물의 균일도가 떨어지게 되고, 플로트 유리(G)의 표면에 원하는 균일한 압력을 유지하기 어려워지기 때문이다.

도 1, 도 5, 도 10 내지 도 12를 참조하면, 워싱 장치(100)는 워싱 챔버(10)의 내부와 외부 사이를 구획하기 위해 워싱 입구(12)를 기준으로 상,하부에 대칭되게 배치되도록 측벽(16)에 설치된 한 쌍의 에어 커튼(40)을 구비한다. 에어 커튼(40)은 각각 워싱 입구(12)의 중심측으로 소정 압력의 공기를 분사하여 공기막을 형성함으로써, 그러한 공기막에 의해 워싱 챔버(10) 내부의 물방울 등이 워싱 입구(12)를 통해 외부로 빠져나가거나 외부의 이물질이 워싱 입구(12)를 통해 워싱 챔버(10) 내부로 유입되는 것을 차단하기 위한 것이다.

에어 커튼(40)은 외부로부터 공기를 공급받을 수 있는 공급 포트(42)가 마련된 공급 파이프(44), 워싱 챔버(10)의 워싱 입구(12) 측 내벽면(16)에 각각 설치되어 공기를 분사할 수 있는 에어 배출부(46), 및 공급 파이프(44)와 에어 배출부(46)를 연결하는 연결 통로(48)를 구비한다.

도 14는 도 1에 도시된 샤워기 부위를 발췌 도시한 평면 구성도이고, 도 15는 도 14의 정면 구성도이고, 도 16은 도 14의 우측면 구성도이다.

도 1, 도 5, 및 도 14 내지 도 16을 참조하면, 본 실시예에 따른 워싱 장치(100)는 워싱 챔버(10) 내부의 다수의 틸팅 영역들(TA2~TA5) 중 워싱 입구(12)와 인접한 제1 틸팅 영역(TA1)을 제외한 제2 내지 제5 틸팅 영역(TA2~TA5)의 대략 중앙 지점에는 플로트 유리(G)의 상,하면에 물을 분사할 수 있도록 피딩 롤러들(R)과 실질적으로 평행한 방향으로 설치된 4개의 샤워기들(50)을 구비한다. 각각의 샤워기(50)는 플로트 유리(G)가 아쿠아 나이프(20)에 의해 세정된 후에 플로트 유리(G)에 남아 있는 다른 입자를 추가적으로 제거하고, 플로트 유리(G) 표면에 어느 정도의 수분을 제공하여 건조되는 것을 방지하기 위한 것이다.

각각의 샤워기(50)는 플로트 유리 세정 시스템에서 사용되었던 초순수 상당의 물 또는 공장의 메인 유틸리티(미도시)로부터 공급되는 초순수를 공급 받을 수 있는 입구 포트(52)와 다수의 샤워 노즐들(54)이 마련된 파이프 형태의 샤워기 본체(56), 샤워기 본체(56)의 양단을 지지할 수 있도록 대응되는 제1 및 제2 피딩 브라켓들(6)(8)에 설치된 샤워기 본체의 지지대(58)를 구비한다. 따라서, 틸팅 부재(30)가 작동되면, 피딩 롤러(R)와 함께 샤워기(50)도 동시에 경사지게 된다. 또한, 예를 들어, 제2 틸팅 영역(TA2)의 아쿠아 나이프가 적용된 틸팅 영역의 경우, 틸팅 부재(30)가 작동되면, 피딩 롤러(R), 전술한 아쿠아 나이프(20), 및 샤워기(50)가 동시에 경사지게 된다.

도 5를 참조하면, 워싱 장치(100)의 워싱 챔버(10)는 챔버 서포트(90)에 의해 평행하게 배치된다. 챔버 서포트(90)는 이동 가능한 워싱 챔버(10)의 이동을 위한 다수의 이동 휠들(91), 워싱 챔버(10)의 위치 고정을 위한 다수의 서포트들(92), 유지, 보수를 위해 작업자 등이 통과할 수 있는 측면 통로들(93), 작업자의 안전을 위한 측면 가이드들(94), 및 워싱 챔버(10)의 바닥을 지탱하기 위한 지지 프레임들(95)을 구비한다.

본 발명의 제1 실시예에 따른 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치의 동작을 설명하면 다음과 같다. 여기서, 플로트 유리의 틸팅 과정은 전술한 바와 같으므로 틸팅 동작은 중복되지 않는 범위내에서 설명하기로 한다.

먼저, 피딩 롤러들(G)이 수평으로 유지되어 회전되는 상태에서 플로트 유리(G)가 워싱 챔버(10)의 워싱 입구(12)를 통해 공급되면, 플로트 유리(G)는 피딩 롤러들(R)의 구동력에 의해 소정 속도로 이송된다. 이러한 이송 과정에서 플로트 유리(G)의 상,하면에 존재하는 대략 10마이크로미터 이상의 불순물은 제2 틸팅 영역(TA2)에 설치된 아쿠아 나이프(20)의 슬릿 타입 노즐(26)로부터 분사되는 소정 압력의 물에 의해 제거된다. 한편, 플로트 유리(G)는 제2 틸팅 영역(TA2) 내지 제5 틸팅 영역(TA5)을 거치는 동안 샤워기(50)의 샤워 노즐(54)로부터 분사되는 물에 의해 다시 세정된다.

플로트 유리(G)가 워싱 챔버(10) 내부로 완전히 진입하게 되면, 피딩 롤러들(R)의 회전이 정지되고, 틸팅 부재(30)가 동시에 작동되어 모든 틸팅 영역들(TA1~TA5)을 동시에 틸팅시켜, 플로트 유리(G)를 소정의 기울기로 경사지게 한다.

다음, 틸팅과 동시에 피딩 롤러들(R)이 계속 구동되면서 세정이 완료된 플로트 유리(G)는 워싱 출구(14)를 통해 배출되고, 새로운 플로트 유리(G)가 워싱 입구(12)를 통해 공급된다.

도 17은 본 발명의 바람직한 예시적 제2 실시예에 따른 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치에 사용되는 제2 챔버를 발췌 도시한 사시도이고, 도 18은 도 17의 우측면도이다. 도 1 내지 도 16에서 설명된 참조부호와 동일한 구성요소는 동일한 기능을 가진 동일부재이다.

도 16 및 도 17을 참조하면, 본 실시예에 따른 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치(100')의 제2 챔버(70)는 전술한 제1 실시예의 워싱 챔버(10)에 인접하게 배치된다. 제2 챔버(70)의 내부에는 워싱 챔버(10)의 아쿠아 나이프(20)에 의해 세정된 플로트 유리(G)의 표면을 추가적으로 워싱하기 위해 물과 공기가 혼합된 2류체를 분사할 수 있는 분사부재(60), 제2 출구(74)를 통해 플로트 유리(G)가 배출되기 전에 플로트 유리(G)의 표면을 씻어낼 수 있는 린스 부재(80), 및 제2 입구(72) 부근과 제2 출구(74) 부근에 각각 설치된 에어 커튼(미도시)을 구비한다.

제2 챔버(70)는 워싱 챔버(10)의 워싱 출구(14)와 동일한 사이즈 및 각도로 경사지게 형성된 제2 입구(72) 및 제2 출구(74)를 구비하고, 내부에는 다수의 피딩 롤러들(R)이 배치된다. 제2 챔버(70) 내부에 배치되는 피딩 롤러들(R)은 전술한 각도와 동일한 각도(θ: 예, 5°~8°)로 경사지게 배치된다. 이를 위해, 제2 챔버(70)는 전술한 실시예의 챔버 서포트(90)와 다른 구조의 챔버 서포트(96)를 구비한다.

도 18에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 챔버 서포트(96)는 제2 챔버(70)의 바닥을 지지하기 위한 지지 프레임들(97a, 97b, 97c)의 높이가 서로 다르게 구성된다. 즉, 도 17의 좌측에서 우측으로 갈수록 지지 프레임들(97a, 97b, 97c)의 높이가 높아지도록 구성함으로써, 제2 챔버(70)의 우측이 좌측보다 높게 유지시킨다. 따라서, 제2 챔버(70)의 제2 입구(72)와 제2 출구(74)는 제2 챔버(70)의 바닥면과 평행하게 형성되지만, 제2 챔버(70)의 바닥면이 지지 프레임들(97a, 97b, 97c)에 의해 경사지게 지지됨으로써, 제2 챔버(70) 내부에 구성되는 후술하는 모든 구성요소들이 비록 제2 챔버(70)의 바닥면에 대해 평행하게 배치되어 있지만, 제2 챔버(70) 내부의 플로트 유리(G)는 경사진 상태로 제2 입구(72)를 통해 진입하고, 경사진 상태로 제2 출구(74)를 통해 배출될 수 있다.

도 19는 도 17에 도시된 피딩 롤러들을 발췌 도시한 평면 구성도이고, 도 20은 도 19의 우측면 구성도이다.

도 17, 도 19, 및 도 20을 참조하면, 전술한 실시예와 유사하게, 제2 챔버(70) 내부에는 플로트 유리(G)를 이송시킬 수 있도록 다수의 피딩용 오링들(4)이 마련되고 구동 모터(71)에 의해 회전 가능한 피딩 샤프트(2)를 구비하는 피딩 롤러들(R)이 소정 간격으로 배치된다.

또한, 후술하는 분사부재(60)에 의한 마찰력에 의해 플로트 유리(G)가 감속되는 경우를 대비하여, 제2 챔버(70)는 플로트 유리(G)의 가장자리 상면에 각각 접촉되도록 배치된 2개의 피딩 보강 롤러들(76)을 포함하는 피딩 보강부재(78)를 구비한다.

각각의 피딩 보강 롤러들(76)은, 플로트 유리(G)의 하면에 접촉되어 회전되는 통상의 피딩 롤러(R)와 달리, 플로트 유리(G)의 상면에 피딩 롤러(R)의 피딩용 오링(4)과 동시에 접촉되어 시스템이 요구하는 플로트 유리(G)의 속도 조건을 만족시키고 분사부재(60)의 분사 압력 특히, 배치 방향에 의해 플로트 유리(G)의 슬립 발생 또는 속도 저하 가능성을 차단시키기 위한 것이다.

전술한 바와 같이, 피딩 보강부재(78)는 플로트 유리(G)의 양측 가장자리의 상면에 접촉되어 회전될 수 있으며, 서로 소정 간격(예, 분사부재(60)가 위치될 수 있는 간격) 이격 배치된 2개 피딩 보강 롤러들(76)을 구비한다. 각각의 피딩 보강 롤러(76)는 피딩 샤프트(2)의 양측 끝단들에 설치되고 하측의 피딩용 오링(4)과 대칭되게 설치된 한 쌍의 보강용 오링들(77)을 포함한다. 보강용 오링(77)의 설치 위치는 플로트 유리(G)의 품질에 영향을 미치지 않도록 플로트 유리(G)의 양측 가장자리에 접촉될 수 있도록 설정된다. 즉, 피딩 롤러들(R) 및 피딩 보강부재(78)는 워싱 장치(100')가 제2 챔버(70) 내부에서 필요한 속도로 플로트 유리(G)를 안정되게 이송시킬 수 있다. 또한, 제2 챔버(70)는 전술한 실시예의 다수의 센서들(37), 하나의 얼라이너(39)를 구비한다.

도 21은 도 17에 도시된 분사부재 부위를 발췌 도시한 평면 구성도이고, 도 22는 도 21의 일부 발췌 정면도이고, 도 23은 도 21의 측면도이고, 도 24는 본 발명의 변형된 실시예에 따른 분사부재의 작동을 설명하기 위한 개념도이다.

도 17, 도 21 내지 도 24를 참조하면, 분사부재(60)는 물과 공기가 혼합된 상태의 고압 2류체를 플로트 유리(G)의 표면에 그 폭방향으로 각각 분사할 수 있고, 서로 나란하게 설치된 제1 분사기(62)와 제2 분사기(64)를 구비한다. 제1 분사기(62)와 제2 분사기(64)는 플로트 유리(G)의 상,하부 양측에 한 쌍으로 배치된다. 제1 분사기(62)와 제2 분사기(64)의 공기의 분사 압력은 0 내지 10 kg/cm²이다. 제1 및 제2 분사기(62)(64)의 공기 분사 압력이 10 kg/cm²을 넘게 되면, 플로트 유리(G)의 이송에 문제가 발생할 수도 있고, 2류체의 강한 압력에 플로트 유리(G)가 손상될 염려도 있다.

제1 및 제2 분사기들(62)(64)은 외부로부터 물과 공기를 각각 공급받을 수 있는 물 공급 포트(61a)와 공기 공급 포트(61b)를 구비한다. 도 23에 도시된 바와 같이, 제1 및 제2 분사기들(62)(64)은 내부에 2개의 유로들(63a)(63b)이 마련되고 끝단에 슬릿 타입의 노즐부(63c)를 가진 노즐 본체(65)를 가진다. 제1 및 제2 분사기(62)(64)는 플로트 유리(G)의 진행 방향에 대향되는 방향으로 0° 내지 90°각도로 경사지게 배치된다. 이와 같이, 제1 및 제2 분사기(62)(64)가 플로트 유리(G)의 진행 방향에 대해 역방향으로 소정 각도 경사지게 배치하게 되면, 플로트 유리(G)가 진행하는 속도에 대한 분사기(62)의 분사 압력의 함수 관계에 의해 플로트 유리(G)의 표면을 보다 정밀하게 세정할 수 있다. 또한, 제1 및 제2 분사기(62)(64)의 노즐부(63a)를 통해 2류체가 플로트 유리(G)에 분사되면, 2류체에 포함되어 있는 물방울이 터지면서 발생되는 미세한 충격파에 의하여 아쿠아 나이프(20)에 의하여 미처 제거되지 못한 오염 입자가 제거될 수 있다.

도 25는 도 17에 도시된 린스 부재 부위를 발췌 도시한 평면 구성도이고, 도 26은 도 25의 우측면 구성도이다.

도 17, 도 25 및 도 26을 참조하면, 린스 부재(80)는 플로트 유리(G)의 일면 또는 양면에 초순수를 분사할 수 있도록 배치되고, 다수의 물 분사 노즐들(81)이 마련된 워싱 샤워기(82), 워싱 샤워기(82)을 지지할 수 있는 샤워기 지지체(83)를 구비한다. 린스 부재(80)의 워싱 샤워기(82)는 공장의 메인 유틸리티(미도시)로부터 공급되는 초순수(예, 18 ㏁) 또는 린싱 장치(미도시)에서 사용된 물을 공급받기 위한 입구 포트(84)가 마련된다. 샤워기 지지체(83)는 플로트 유리(G)의 진행 방향을 따라 제2 챔버(70)의 양측 사이드들에 배치된 한 쌍의 샤워기 브라켓들(85)과, 워싱 샤워기(82)를 고정 지지할 수 있는 지지 프레임(86), 지지 프레임(86)을 샤워기 브라켓들(85)에 연결하기 위한 프레임 컨넥터들(87)를 구비한다.

한편, 제2 챔버(70)의 제2 입구(72)와 제2 출구(74)에는 전술한 실시예의 에어 커튼(40)과 동일한 구조와 동일한 기능을 가진 에어 커튼들이 마련된다.

전술한 상세한 설명 및 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예들을 나타내는 한편, 첨부된 청구항들에서 정의된 바와 같이 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않는 한 다양한 부가물, 변형물, 조합들 및/또는 대체물들이 만들어 질 수 있음을 이해해야 한다. 특히, 본 발명은 다른 요소들, 물질들, 성분들을 이용하여 본 발명의 정신 필수 특징들로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 다른 특정한 형태, 구조, 배열, 비율들로 구현될 수 있음을 당업자는 이해할 것이다. 본 발명의 원칙을 벗어나지 않는 한 특정의 환경 및 작동 조건들에 특히 적합하도록 된 구조, 배열, 비율, 물질, 성분의 많은 변형과 함께 본 발명이 사용될 수 있음을 당업자는 이해할 것이다. 또한, 본 명세서에서 설명된 특징들은 단독적으로 사용될 수도 있고 다른 특징들과 조합하여 사용될 수도 있다. 예를 들어, 하나의 실시예와 관련하여 설명된 특징들은 다른 실시예에서 설명된 특징들과 함께 및/또는 상호 교체되어 사용될 수 있다. 따라서, 현재 개시된 실시예들은 모든 면에서 제한적이 아닌 설명적인 것으로 간주되어야 하며, 발명의 범위는 첨부된 청구범위에 의해 표시되며, 전술한 상세한 설명에 한정되어서는 아니된다.

첨부된 청구범위의 넓은 범위를 벗어나지 않는 한 본 발명의 다양한 변형들 및 변경들이 가능함을 당업자는 이해할 것이다. 이러한 것들의 몇몇은 위에서 논의되었으며 다른 것들은 당업자에게 명백할 것이다.

G…플로트 유리 R…피딩 롤러
2…피딩 샤프트 3…지붕
4…피딩용 오링 6,8…피딩 브라켓
10…워싱 챔버 12…워싱 입구
14…워싱 출구 16…측벽
20…아쿠아 나이프 21…입구 포트
22…아쿠아 나이프 지지대 23…공급 파이프
24…노즐 26…아쿠아 본체
28…연결관 30…틸팅 부재
31…발광부 32…틸팅 베이스
33…수광부 34…틸팅 액츄에이터
35…틸팅 센서 37…센서
38…제2 센서 롤러 39…얼라이너
40…에어 커튼 42…공급 포트
44…공급 파이프 46…에어 배출부
48…연결 통로 50…샤워기
54…샤워 노즐 56…샤워기 본체
58…샤워기 본체의 지지대 60…분사부재
62,64…분사기 71…구동 모터
70…제2 챔버 72…제2 입구
74…제2 출구 76…피딩 보강롤러
78…피딩 보강부재 80…린스 부재
82…워싱 샤워기 83…샤워기 지지체
85…샤워기 브라켓 90,96…챔버 서포트
91…이동 휠 92…서포트
93…측면 통로 94…측면 가이드
95…지지 프레임 100,100'…워싱 장치

Claims (24)

1. 워싱 입구와 워싱 출구가 마련된 워싱 챔버 내부에서 이동되는 플로트 유리의 표면을 세척하기 위한 플로트 유리 세정 시스템용 플로트 유리 워싱(washing) 장치에 있어서,
   상기 워싱 입구는 지면과 평행하고 워싱 출구는 지면에 대해 미리 결정된 각도로 경사지게 형성되고,
   상기 워싱 챔버 내부는 상기 플로트 유리의 진행 방향을 따라 복수의 틸팅 영역으로 구획되고,
   각 틸팅 영역은, 복수의 피딩 롤러들과, 상기 복수의 피딩 롤러들의 양단이 회동 가능하도록 설치되는 제1 피딩 브라켓 및 제2 피딩 브라켓과, 상기 제1 피딩 브라켓을 지지할 수 있는 회동축이 마련된 틸팅 베이스와, 상기 틸팅 베이스를 기준으로 상기 제2 피딩 브라켓을 소정의 틸팅 각도로 상하 회동시킬 수 있는 틸팅 엑츄에이터와, 상기 틸팅 베이스 측에 마련되어 상기 플로트 유리의 일측 사이드의 위치를 확인할 수 있도록 상기 일측 사이드와 접촉하여 회전하는 제1 센서 롤러와, 상기 플로트 유리의 타측 사이드를 가이드할 수 있도록 상기 틸팅 엑츄에이터 측에 마련된 제2 센서 롤러와, 상기 틸팅 베이스 측에 마련되어 상기 플로트 유리의 하면에 접촉한 상태로 회전되고 상기 제1센서 롤러와 연동하여 상기 플로트 유리의 위치를 보정하는 얼라이너를 구비하고,
   복수의 틸팅 영역 중 상기 워싱 입구 근처의 틸팅 영역에 구비된 제1피딩 브라켓 및 제2피딩 브라켓에는, 물을 분사하는 아쿠아 나이프와 초순수를 분사하는 샤워기가 상기 플로트 유리의 진행 방향을 따라 지지대를 통해 순차적으로 결합되어 있고,
   상기 워싱 입구 근처의 틸팅 영역의 후단에 위치한 각 틸팅 영역에 구비된 제1피딩 브라켓 및 제2피딩 브라켓에는 초순수를 분사하는 샤워기가 지지대를 통해 결합되고,
   각 틸팅 영역에 구비된 틸팅 엑츄에이터는 상기 워싱 입구를 통해 상기 플로트 유리의 진입이 완료되면 상기 워싱 출구의 경사에 해당하는 각도만큼 대응되는 제2 피딩 브라켓의 틸팅 각도를 증가시키는 것을 특징으로 하는 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치.
   
2. 제1항에 있어서,
   상기 아쿠아 나이프는 상기 플로트 유리의 폭 방향으로 길게 형성된 슬릿 타입 노즐을 구비하는 것을 특징으로 하는 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치.
   
3. 제2항에 있어서,
   상기 슬릿 타입 노즐은 상기 플로트 유리의 진행 방향을 향하여 0° 내지 90°각도로 경사지게 배치될 수 있는 것을 특징으로 하는 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치.
   
4. 제1항에 있어서,
   상기 아쿠아 나이프는 상기 플로트 유리의 진행 방향의 적어도 일면 이상 배치된 것을 특징으로 하는 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치.
   
5. 삭제
6. 삭제
7. 삭제
8. 제1항에 있어서,
   상기 아쿠아 나이프와 상기 샤워기는 각각이 설치되어 있는 제2 피딩 브라켓의 회전에 의해 동시에 틸팅될 수 있는 것을 특징으로 하는 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치.
   
9. 삭제
10. 제1항에 있어서,
    상기 아쿠아 나이프는 10마이크로미터 이상의 입자를 제거하는 것을 특징으로 하는 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치.
    
11. 제1항에 있어서,
    상기 워싱 입구에 설치된 에어 커튼을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치.
    
12. 제1항에 있어서,
    상기 아쿠아 나이프에 의해 세정된 상기 플로트 유리의 표면을 추가적으로 워싱하기 위한 분사 부재를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치.
    
13. 제12항에 있어서,
    상기 분사 부재는 상기 워싱 챔버와 인접되게 배치되며, 제2 입구와 제2 출구를 가진 제2 챔버; 및
    상기 제2 챔버 내부에 설치되며, 물과 공기가 혼합된 2류체를 분사할 수 있는 적어도 하나 또는 그 이상의 분사기들을 구비하는 것을 특징으로 하는 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치.
    
14. 제13항에 있어서,
    상기 분사기는 상기 플로트 유리의 양면들 중 적어도 일면에 배치된 것을 특징으로 하는 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치.
    
15. 제13항에 있어서,
    상기 분사기는 상기 플로트 유리의 진행 방향에 대향하여 0° 내지 90°각도로 경사지게 배치될 수 있는 것을 특징으로 하는 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치.
    
16. 제13항에 있어서,
    상기 물은 초순수(Ultra Pure Water)이고, 상기 공기는 청정 건조 공기(Clean Dry Air)인 것을 특징으로 하는 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치.
    
17. 제13항에 있어서,
    상기 분사기의 공기의 분사 압력은 0~10 kg/cm²인 것을 특징으로 하는 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치.
    
18. 제13항에 있어서,
    상기 플로트 유리가 상기 제2 출구를 통해 배출되기 전에 상기 플로트 유리의 적어도 어느 하나의 면을 씻어내기 위한 린스 부재를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치.
    
19. 제18항에 있어서,
    상기 린스 부재는 상기 플로트 유리의 적어도 어느 하나의 면에 물을 분사할 수 있도록 배치되고, 다수의 물 분사 노즐들이 마련된 워싱 샤워기를 구비하는 것을 특징으로 하는 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치.
    
20. 제19항에 있어서,
    상기 린스 부재는 상기 워싱 샤워기를 지지할 수 있는 샤워기 지지체를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치.
    
21. 제20항에 있어서,
    상기 샤워기 지지체는:
    상기 플로트 유리의 진행 방향을 따라 상기 제2 챔버의 사이드에 배치된 한 쌍의 린스 브라켓들;
    상기 워싱 샤워기를 고정 지지할 수 있는 지지 프레임; 및
    상기 지지 프레임을 상기 린스 브라켓들에 연결하기 위한 프레임 컨넥터들을 구비하는 것을 특징으로 하는 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치.
    
22. 제13항에 있어서,
    상기 제2 챔버의 상기 제2 입구 부분과 상기 제2 출구 부분 중 적어도 어느 한 부분에 설치된 에어 커튼을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치.
    
23. 제13항에 있어서,
    각각의 상기 제2 챔버 내부에서 상기 플로트 유리의 이송을 보강하기 위한 적어도 하나 또는 그 이상의 피딩 보강부재들을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치.
    
24. 제23항에 있어서,
    각각의 상기 피딩 보강부재는 상기 플로트 유리의 양측 가장자리의 상면에 각각 접촉되어 회전될 수 있는 한 쌍의 피딩 보강 롤러들을 구비하는 것을 특징으로 하는 플로트 유리 세정 시스템용 워싱 장치.

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