JP2724137B2 - 記録媒体用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
記録媒体用ガラス基板の製造方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体、光
磁気記録媒体及び光記録媒体等の記録媒体の製造方法に
関するものである。
磁気記録媒体及び光記録媒体等の記録媒体の製造方法に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の記録媒体として、特開昭
６２ー１４３２４３号公報に記載されているものがあ
る。すなわち、化学強化された円板状のガラス基板上に
ＡｓーＴｅーＳｅ系の記録層を設けた光記録媒体が知ら
れている。また、一般に化学強化されたガラス基板とし
て、ＳｉＯ2 を主成分とし、イオン交換されるイオンと
してナトリウムイオンを含有したソーダライムガラスか
らなる基板を出発材料とし、この出発材料をＫＮＯ3 溶
融塩中に浸漬して、ＮａイオンとＫイオンとを置換し
て、このガラス基板表面に圧縮応力屈を形成することに
より強化したものが知られている。したがってソーダラ
イムガラスを出発材料とし、化学強化されたガラス基板
上に記録層を設けた記録媒体は知られている。
６２ー１４３２４３号公報に記載されているものがあ
る。すなわち、化学強化された円板状のガラス基板上に
ＡｓーＴｅーＳｅ系の記録層を設けた光記録媒体が知ら
れている。また、一般に化学強化されたガラス基板とし
て、ＳｉＯ2 を主成分とし、イオン交換されるイオンと
してナトリウムイオンを含有したソーダライムガラスか
らなる基板を出発材料とし、この出発材料をＫＮＯ3 溶
融塩中に浸漬して、ＮａイオンとＫイオンとを置換し
て、このガラス基板表面に圧縮応力屈を形成することに
より強化したものが知られている。したがってソーダラ
イムガラスを出発材料とし、化学強化されたガラス基板
上に記録層を設けた記録媒体は知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
記録媒体は、そのガラス基板が化学強化されていること
から、表面疵（クラック）に基づく破壊に対して未強化
のガラス基板上に記録層を設けた記録媒体よりも高い強
度を有するが、それでもクラックが基板の厚さ方向にお
いて２０μｍも深く入りこむと高回転速度では破壊して
しまう問題点がある。例えば、圧縮応力層の深さが２０
μｍ未満で直径が１３０ｍｍ、厚さ１．９ｍｍのソーダ
ライムガラスを強化したガラス基板上に磁性層を設けた
記録媒体は、３０，０００ｒ ｐｍの高速回転で破壊さ
れてしまう。また、記録媒体用基板は、長期間にわたっ
て極めて高い信頼性を要求されるが、従来の化学強化さ
れたガラス基板は未だこの要求を満たすものではなかっ
た。
記録媒体は、そのガラス基板が化学強化されていること
から、表面疵（クラック）に基づく破壊に対して未強化
のガラス基板上に記録層を設けた記録媒体よりも高い強
度を有するが、それでもクラックが基板の厚さ方向にお
いて２０μｍも深く入りこむと高回転速度では破壊して
しまう問題点がある。例えば、圧縮応力層の深さが２０
μｍ未満で直径が１３０ｍｍ、厚さ１．９ｍｍのソーダ
ライムガラスを強化したガラス基板上に磁性層を設けた
記録媒体は、３０，０００ｒ ｐｍの高速回転で破壊さ
れてしまう。また、記録媒体用基板は、長期間にわたっ
て極めて高い信頼性を要求されるが、従来の化学強化さ
れたガラス基板は未だこの要求を満たすものではなかっ
た。
【０００４】本発明は、上述の背景のもとでなされたも
のであり、長期間の使用によってもクラック等に起因す
るトラブルの発生のおそれがなく、記録媒体用基板とし
て十分な信頼性を有する記録媒体用ガラス基板を製造す
ることができる記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供
することを目的とする。
のであり、長期間の使用によってもクラック等に起因す
るトラブルの発生のおそれがなく、記録媒体用基板とし
て十分な信頼性を有する記録媒体用ガラス基板を製造す
ることができる記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供
することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに、本発明にかかる記録媒体用ガラス基板の製造方法
は、（構成１） 表面側から厚さ方向に内部に向かって
順次圧縮応力層及び引張応力層を形成する記録媒体用ガ
ラス基板の製造方法において、予めクラックに起因する
破壊を抑制し得る前記引張応力層の引張応力の最大値
を、化学強化の際の基準設計値として求め、引張応力層
の最大引張応力が前記基準設計値以下になるように前記
圧縮応力層と引張応力層とを化学強化によって形成する
ことを特徴とする構成とし、この構成１の態様として、
（構成２） 前記基準設計値は、前記引張応力層に記録
媒体用基板として使用可能な範囲の小さなクラックが存
在する状態において記録媒体用基板としての使用をした
場合に該ガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板と
して使用できない状態になるにいたるまでの時間が記録
媒体用基板として必要とされる耐用時間以上になる場合
の引張応力値であることを特徴とする構成とし、構成１
又は２の態様として、（構成３） 前記設定する基準設
計値が４Ｋｇ／ｍｍ2 以下であることを特徴とする構成
とし、構成１ないし３のいずれかの態様として、（構成
４） 前記圧縮応力層の厚さを５０μｍ以上としたこと
を特徴とする構成とし、構成１ないし４のいずれかの態
様として、（構成５） 前記ガラス基板をその組成中に
少なくともＳｉＯ2 、Ｎａ2 Ｏ及びＬｉＯ2 を含むガラ
ス材料で構成したことを特徴とする構成とし、構成１な
いし５のいずれかの態様として、（構成６） 前記ガラ
ス材料のＮａ2 Ｏの含有量が１０重量％以上であり、か
つ、ＬｉＯ2 の含有量が５重量％以上であることを特徴
とする構成とした。
めに、本発明にかかる記録媒体用ガラス基板の製造方法
は、（構成１） 表面側から厚さ方向に内部に向かって
順次圧縮応力層及び引張応力層を形成する記録媒体用ガ
ラス基板の製造方法において、予めクラックに起因する
破壊を抑制し得る前記引張応力層の引張応力の最大値
を、化学強化の際の基準設計値として求め、引張応力層
の最大引張応力が前記基準設計値以下になるように前記
圧縮応力層と引張応力層とを化学強化によって形成する
ことを特徴とする構成とし、この構成１の態様として、
（構成２） 前記基準設計値は、前記引張応力層に記録
媒体用基板として使用可能な範囲の小さなクラックが存
在する状態において記録媒体用基板としての使用をした
場合に該ガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板と
して使用できない状態になるにいたるまでの時間が記録
媒体用基板として必要とされる耐用時間以上になる場合
の引張応力値であることを特徴とする構成とし、構成１
又は２の態様として、（構成３） 前記設定する基準設
計値が４Ｋｇ／ｍｍ2 以下であることを特徴とする構成
とし、構成１ないし３のいずれかの態様として、（構成
４） 前記圧縮応力層の厚さを５０μｍ以上としたこと
を特徴とする構成とし、構成１ないし４のいずれかの態
様として、（構成５） 前記ガラス基板をその組成中に
少なくともＳｉＯ2 、Ｎａ2 Ｏ及びＬｉＯ2 を含むガラ
ス材料で構成したことを特徴とする構成とし、構成１な
いし５のいずれかの態様として、（構成６） 前記ガラ
ス材料のＮａ2 Ｏの含有量が１０重量％以上であり、か
つ、ＬｉＯ2 の含有量が５重量％以上であることを特徴
とする構成とした。
【０００６】また、本発明にかかる記録媒体用ガラス基
板の製造方法は、（構成７） 表面側から厚さ方向に内
部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成した
記録媒体用ガラス基板を、化学強化法で製造する記録媒
体用ガラス基板の製造方法において、前記引張応力層に
記録媒体として使用可能な程度の小さいクラックを形成
させた状態において記録媒体用基板としての使用試験を
行い、前記引張応力層の引張応力の最大値を変化させて
それぞれの場合においてガラス基板の前記クラックが記
録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるま
での時間を求め、その求めた時間が記録媒体用基板とし
て必要とされる耐用時間を満たす範囲になる場合の前記
引張応力の最大値を求め、前記記録媒体用基板に形成さ
れる引張応力層の引張応力の最大値がこの求めた値の範
囲内になるように化学強化を施すことを特徴とする構成
とした。
板の製造方法は、（構成７） 表面側から厚さ方向に内
部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成した
記録媒体用ガラス基板を、化学強化法で製造する記録媒
体用ガラス基板の製造方法において、前記引張応力層に
記録媒体として使用可能な程度の小さいクラックを形成
させた状態において記録媒体用基板としての使用試験を
行い、前記引張応力層の引張応力の最大値を変化させて
それぞれの場合においてガラス基板の前記クラックが記
録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるま
での時間を求め、その求めた時間が記録媒体用基板とし
て必要とされる耐用時間を満たす範囲になる場合の前記
引張応力の最大値を求め、前記記録媒体用基板に形成さ
れる引張応力層の引張応力の最大値がこの求めた値の範
囲内になるように化学強化を施すことを特徴とする構成
とした。
【０００７】上述の構成によれば、ガラス基板表面から
入る一般的なクラックに対して圧縮応力層の作用により
回転等による破壊の防止が可能になり、かつ、この圧縮
応力層の厚さを超えるクラックが生じても圧縮応力層よ
りさらに基板内部にある引張応力層の引張応力の最大値
を４Ｋｇ／ｍｍ2 以下としたことにより、十分な強度を
維持することが可能になった。また、圧縮応力層の厚さ
を５０μｍ以上にすれば、通常のクラックに十分に対応
できるものが得られる。さらに、ガラス基板をその組成
中に少なくともＳｉＯ2 、Ｎａ2 Ｏ及びＬｉＯ2 を含む
ガラス材料で構成した場合により効果的である。また、
ガラス基板を構成するガラス材料の組成として、ＳｉＯ
2 の含有量が１０重量％以上であり、かつ、ＬｉＯ2 の
含有量が５重量％以上であることがより望ましい。
入る一般的なクラックに対して圧縮応力層の作用により
回転等による破壊の防止が可能になり、かつ、この圧縮
応力層の厚さを超えるクラックが生じても圧縮応力層よ
りさらに基板内部にある引張応力層の引張応力の最大値
を４Ｋｇ／ｍｍ2 以下としたことにより、十分な強度を
維持することが可能になった。また、圧縮応力層の厚さ
を５０μｍ以上にすれば、通常のクラックに十分に対応
できるものが得られる。さらに、ガラス基板をその組成
中に少なくともＳｉＯ2 、Ｎａ2 Ｏ及びＬｉＯ2 を含む
ガラス材料で構成した場合により効果的である。また、
ガラス基板を構成するガラス材料の組成として、ＳｉＯ
2 の含有量が１０重量％以上であり、かつ、ＬｉＯ2 の
含有量が５重量％以上であることがより望ましい。
【０００８】
【実施の形態】以下、本発明の実施の形態にかかる磁気
記録媒体用ガラス基板の製造方法を図１〜図３に基づき
詳細に説明する。
記録媒体用ガラス基板の製造方法を図１〜図３に基づき
詳細に説明する。
【０００９】本実施の形態によって製造される磁気記録
媒体１は、図１に示すように、外径１３０ｍｍ、内径
（中央に形成された穴の直径）４０ｍｍ及び厚さ１．９
ｍｍの円板状に加工され、かつその主表面（後記する磁
性層１３を設ける側の表面）を酸化セリウムにより研摩
され（表面粗さＲａ＝１０〜２０μｍ）、さらに後述す
る方法により化学強化され、引張応力が３．７Ｋｇ／ｍ
ｍ2 であり、圧縮応力層が基板表面から厚さ方向（深
さ）で１１５μｍまで至っているガラス基板１１と、こ
のガラス基板１１上に順次積層された、クロム（Ｃｒ）
からなる下地層１２（膜厚：２０００オングストロー
ム）、コバルト（Ｃｏ）とニツケル（Ｎｉ）とクロムと
からなる記録層である磁性層１３（膜厚：７００オング
ストローム）、炭素（Ｃ）からなる保護層１４（膜厚：
３００オングストローム）及びフルオロカーボン系の潤
滑剤（例えば、Ｍｏｎｔｅｆｌｏｕｓ社製のＦｏｍｂｌ
ｉｎ ＡＭ２００１）からなる潤滑層１５（膜厚：３０
オングストローム）からなる多層膜１６とからなるもの
である。
媒体１は、図１に示すように、外径１３０ｍｍ、内径
（中央に形成された穴の直径）４０ｍｍ及び厚さ１．９
ｍｍの円板状に加工され、かつその主表面（後記する磁
性層１３を設ける側の表面）を酸化セリウムにより研摩
され（表面粗さＲａ＝１０〜２０μｍ）、さらに後述す
る方法により化学強化され、引張応力が３．７Ｋｇ／ｍ
ｍ2 であり、圧縮応力層が基板表面から厚さ方向（深
さ）で１１５μｍまで至っているガラス基板１１と、こ
のガラス基板１１上に順次積層された、クロム（Ｃｒ）
からなる下地層１２（膜厚：２０００オングストロー
ム）、コバルト（Ｃｏ）とニツケル（Ｎｉ）とクロムと
からなる記録層である磁性層１３（膜厚：７００オング
ストローム）、炭素（Ｃ）からなる保護層１４（膜厚：
３００オングストローム）及びフルオロカーボン系の潤
滑剤（例えば、Ｍｏｎｔｅｆｌｏｕｓ社製のＦｏｍｂｌ
ｉｎ ＡＭ２００１）からなる潤滑層１５（膜厚：３０
オングストローム）からなる多層膜１６とからなるもの
である。
【００１０】なお、Ｃｒからなる下地層１２、ＣｏＮｉ
Ｃｒからなる磁性層１３及びＣからなる保護層１４は何
れもＤＣマグネトロンスパツタ法により成膜され、それ
ぞれＣｒからなるターゲット、ＣｏＮｉＣｒからなるタ
ーゲツト及びＣからなるターゲットが用いられる。ま
た、潤滑層１５は、保護層１４まで積層されガラス基板
１１をスピンコータ上に設置し、保護層１４上に前述し
た潤滑剤を滴下してスピンコート法により塗布して形成
する。
Ｃｒからなる磁性層１３及びＣからなる保護層１４は何
れもＤＣマグネトロンスパツタ法により成膜され、それ
ぞれＣｒからなるターゲット、ＣｏＮｉＣｒからなるタ
ーゲツト及びＣからなるターゲットが用いられる。ま
た、潤滑層１５は、保護層１４まで積層されガラス基板
１１をスピンコータ上に設置し、保護層１４上に前述し
た潤滑剤を滴下してスピンコート法により塗布して形成
する。
【００１１】次に、強化されたガラス基板１１の強化方
法について説明する。なお、強化されたガラス基板１１
の出発材料のガラス基板は、ＳｉＯ2 を約６４ｗｔ％、
Ｎａ2 Ｏを約１０ｗｔ％及びＬｉＯ2 を約６ｗｔ％含む
ものであり、Ｋ2 Ｏは含んでいない。
法について説明する。なお、強化されたガラス基板１１
の出発材料のガラス基板は、ＳｉＯ2 を約６４ｗｔ％、
Ｎａ2 Ｏを約１０ｗｔ％及びＬｉＯ2 を約６ｗｔ％含む
ものであり、Ｋ2 Ｏは含んでいない。
【００１２】（工程１） 先ず前述した方法で、円板状
に加工しその主表面を研摩した、出発材料からなるガラ
ス基板を予熱炉中に入れる。
に加工しその主表面を研摩した、出発材料からなるガラ
ス基板を予熱炉中に入れる。
【００１３】（工程２） 次に予熱炉中の雰囲気を室温
から約１時間で約３００℃まで昇温し、出発材料からな
るガラス基板を予熱する。
から約１時間で約３００℃まで昇温し、出発材料からな
るガラス基板を予熱する。
【００１４】（工程３）約４００℃のＫＮＯ3 ６０％と
ＮａＮＯ3 ４０％との混合溶融塩中に約４時間浸漬して
出発材料のガラス基板を化学強化する。なお、この強化
において、先ず出発材料のガラス基板中のＬｉイオンが
混合溶融塩中のＮａイオンと一部イオン交換される。次
に出発材料のガラス基板中のＮａイオン（先にＬｉイオ
ンと交換したＮａイオンも含む）が混合溶融塩中のＫイ
オンと一部イオン交換される。
ＮａＮＯ3 ４０％との混合溶融塩中に約４時間浸漬して
出発材料のガラス基板を化学強化する。なお、この強化
において、先ず出発材料のガラス基板中のＬｉイオンが
混合溶融塩中のＮａイオンと一部イオン交換される。次
に出発材料のガラス基板中のＮａイオン（先にＬｉイオ
ンと交換したＮａイオンも含む）が混合溶融塩中のＫイ
オンと一部イオン交換される。
【００１５】（工程４）イオン交換された（強化され
た）ガラス基板１１は混合溶融塩から取り出され徐冷さ
れる。
た）ガラス基板１１は混合溶融塩から取り出され徐冷さ
れる。
【００１６】その後、強化されたガラス基板１１は、純
水、イソブロピルアルコール及びフロン（デュポン社商
標）により順次洗浄・乾燥する。そして、前述した下地
層１２等からなる多層膜１６を積層する工程を行なう。
水、イソブロピルアルコール及びフロン（デュポン社商
標）により順次洗浄・乾燥する。そして、前述した下地
層１２等からなる多層膜１６を積層する工程を行なう。
【００１７】前述した工程１〜工程４を経て強化された
ガラス基板１１は、第２図の曲線Ａに示すような応力分
布を有し、引張応力は最大で３．７Ｋｇ／ｍｍ2 、圧縮
応力層はガラス基板１１の基板表面から深さ１１５μｍ
まで形成されている。また、引張応力は、圧縮応力層よ
りさらにガラス基板１１の内部に生じている。したがっ
てクラックの深さが基板表面から１１５μｍであっても
十分に耐久性を有する。また、クラックが１１５μｍよ
りも１μｍや２μｍ大きくても十分に耐久性を有する。
ガラス基板１１は、第２図の曲線Ａに示すような応力分
布を有し、引張応力は最大で３．７Ｋｇ／ｍｍ2 、圧縮
応力層はガラス基板１１の基板表面から深さ１１５μｍ
まで形成されている。また、引張応力は、圧縮応力層よ
りさらにガラス基板１１の内部に生じている。したがっ
てクラックの深さが基板表面から１１５μｍであっても
十分に耐久性を有する。また、クラックが１１５μｍよ
りも１μｍや２μｍ大きくても十分に耐久性を有する。
【００１８】ここで、図３に示す引張応力ー破壊時間と
の関係を示す図は、一例として１μｍの深さのクラック
が４Ｋｇｍ／ｍｍ2 の引張応力によって成長し、ガラス
基板が破壊する時間が１０年であることを示している。
すなわち、図３を、例えばクラックの深さが１１６μｍ
であっても、圧縮応力層の深さ１１５μｍを超えた値Ｃ
＝１μｍを有するガラス基板に引張応力を付加したとき
破壊するまでの時間を示すものとみることができる。そ
れゆえ、クラックの深さが１１６μｍであって引張応力
が４Ｋｇ／ｍｍ2 であっても約１０年間十分に耐えるこ
とから、若干圧縮応力層よりも深いクラックがあっても
十分に耐久性を有する。
の関係を示す図は、一例として１μｍの深さのクラック
が４Ｋｇｍ／ｍｍ2 の引張応力によって成長し、ガラス
基板が破壊する時間が１０年であることを示している。
すなわち、図３を、例えばクラックの深さが１１６μｍ
であっても、圧縮応力層の深さ１１５μｍを超えた値Ｃ
＝１μｍを有するガラス基板に引張応力を付加したとき
破壊するまでの時間を示すものとみることができる。そ
れゆえ、クラックの深さが１１６μｍであって引張応力
が４Ｋｇ／ｍｍ2 であっても約１０年間十分に耐えるこ
とから、若干圧縮応力層よりも深いクラックがあっても
十分に耐久性を有する。
【００１９】以上のような特性を有するガラス基板１１
上に磁性層１３を設けた本例の磁気記録媒体１を、モー
タのシャフトに媒体１の穴を嵌合・挿入して回転し、そ
の回転破壊試験をした結果、３５，０００ ｒｐｍでも
破懐を生じない。なお、同様の形状、大きさを有する従
来のガラス基板（ソーダライムガラスを化学強化したも
の）上に本例と同様の多層膜１６を積層した従来の磁気
記録媒体では２６，０００〜２８，０００ ｒｐｍの回
転で破壊してしまう。また、本例の磁気記録媒体１と前
述した従来の磁気記録媒体とをそれぞれ落下試験した結
果、本例の磁気記録媒体１は１０，０００回以上繰り返
し落下させても破壊せず、一方、従来の磁気記録媒体は
３００〜５００回の繰り返し落下で破壊してしまう。な
お、この落下試験方法は、プラスティックタイル（例え
ば田島応用化工（株）製Ｐタイル厚さ２．０ｍｍ）で覆
ったコンクリート床の上方よりガラス基板の中心で１ｍ
の高さから落下させ、ガラス基板の側部が床と衝突す
る、つまり、ガラス基板面と床面が直角になる様に自由
落下衝撃テストを行うものであり、基板破損検知にて破
損を確認する迄、約１５秒に１回の割合で操り返し落下
を行うものである。
上に磁性層１３を設けた本例の磁気記録媒体１を、モー
タのシャフトに媒体１の穴を嵌合・挿入して回転し、そ
の回転破壊試験をした結果、３５，０００ ｒｐｍでも
破懐を生じない。なお、同様の形状、大きさを有する従
来のガラス基板（ソーダライムガラスを化学強化したも
の）上に本例と同様の多層膜１６を積層した従来の磁気
記録媒体では２６，０００〜２８，０００ ｒｐｍの回
転で破壊してしまう。また、本例の磁気記録媒体１と前
述した従来の磁気記録媒体とをそれぞれ落下試験した結
果、本例の磁気記録媒体１は１０，０００回以上繰り返
し落下させても破壊せず、一方、従来の磁気記録媒体は
３００〜５００回の繰り返し落下で破壊してしまう。な
お、この落下試験方法は、プラスティックタイル（例え
ば田島応用化工（株）製Ｐタイル厚さ２．０ｍｍ）で覆
ったコンクリート床の上方よりガラス基板の中心で１ｍ
の高さから落下させ、ガラス基板の側部が床と衝突す
る、つまり、ガラス基板面と床面が直角になる様に自由
落下衝撃テストを行うものであり、基板破損検知にて破
損を確認する迄、約１５秒に１回の割合で操り返し落下
を行うものである。
【００２０】本発明は前記実施例に限らず以下のもので
あってもよい。先ず、強化されたガラス基板の引張応力
の値及び圧縮応力層の深さはそれぞれ３．７Ｋｇ／ｍｍ
2 及び１１５μｍに限らず、４Ｋｇ／ｍｍ2 以下及び少
なくとも５０μｍであれば、一般に生ずる深さ５０μｍ
までのクラック及ぴこれより若干大きいクラックに対し
て破壊防止効果を有する。また、強化されたガラス基板
の出発材料のガラス基板の組成は、前記実施例の組成に
限らず、イオン交換処理し化学強化されだ後、引張応力
４Ｋｇ／ｍｍ2 以下及び圧縮応層が発生している深さが
少なくとも５０μｍとなる組成であればよい。なお、Ｓ
ｉＯ2 とＮａ2 ＯとＬｉＯ2 とを含有し、Ｎａ2 Ｏが少
なくとも１０ｗｔ％及びＬｉＯ2 が少なくとも５ｗｔ％
含有しているガラスが出発材料として望ましい。また、
イオン交換する条件も前記実施例に限らず、溶融塩の温
度３６０℃、時間１６時間等の他の条件でもよい。すな
わち、前述しているように引張応力が４Ｋｇ／ｍｍ2 以
下、圧縮応力層の深さが少なくとも５０μｍとなる条件
であればよい。また、前記実施例の磁気記録媒体のみな
らず、磁性層がＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＰｔ及びＣｏＮｉＣ
ｒＰｔ等からなるもの等の他の磁気記録媒体でもよい。
また記録層がＴｅ、Ｓｅ、ＧｅＴｅ等からなる光記録媒
体やＧｄＦｅ、ＴｂＦｅ、ＴｂＦｅＣｏ、ＮｄＤｙＦ
ｅ、ＮｄＤｙＦｅＣｏ等からなる記録層を有する光磁気
記録媒体にも適用することができる。さらに、ガラス基
板は円板状であったが、他の形状のものにも適用できる
ことはいうまでもない。
あってもよい。先ず、強化されたガラス基板の引張応力
の値及び圧縮応力層の深さはそれぞれ３．７Ｋｇ／ｍｍ
2 及び１１５μｍに限らず、４Ｋｇ／ｍｍ2 以下及び少
なくとも５０μｍであれば、一般に生ずる深さ５０μｍ
までのクラック及ぴこれより若干大きいクラックに対し
て破壊防止効果を有する。また、強化されたガラス基板
の出発材料のガラス基板の組成は、前記実施例の組成に
限らず、イオン交換処理し化学強化されだ後、引張応力
４Ｋｇ／ｍｍ2 以下及び圧縮応層が発生している深さが
少なくとも５０μｍとなる組成であればよい。なお、Ｓ
ｉＯ2 とＮａ2 ＯとＬｉＯ2 とを含有し、Ｎａ2 Ｏが少
なくとも１０ｗｔ％及びＬｉＯ2 が少なくとも５ｗｔ％
含有しているガラスが出発材料として望ましい。また、
イオン交換する条件も前記実施例に限らず、溶融塩の温
度３６０℃、時間１６時間等の他の条件でもよい。すな
わち、前述しているように引張応力が４Ｋｇ／ｍｍ2 以
下、圧縮応力層の深さが少なくとも５０μｍとなる条件
であればよい。また、前記実施例の磁気記録媒体のみな
らず、磁性層がＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＰｔ及びＣｏＮｉＣ
ｒＰｔ等からなるもの等の他の磁気記録媒体でもよい。
また記録層がＴｅ、Ｓｅ、ＧｅＴｅ等からなる光記録媒
体やＧｄＦｅ、ＴｂＦｅ、ＴｂＦｅＣｏ、ＮｄＤｙＦ
ｅ、ＮｄＤｙＦｅＣｏ等からなる記録層を有する光磁気
記録媒体にも適用することができる。さらに、ガラス基
板は円板状であったが、他の形状のものにも適用できる
ことはいうまでもない。
【００２１】
【発明の効果】 本発明は、表面側から厚さ方向に内部
に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成する記
録媒体用ガラス基板の製造方法において、予めクラック
に起因する破壊を抑制し得る前記引張応力層の引張応力
の最大値を、化学強化の際の基準設計値として求め、引
張応力層の最大引張応力が前記基準設計値以下になるよ
うに前記圧縮応力層と引張応力層とを化学強化によって
形成することを特徴とするもので、これにより、長期間
の使用によってもクラック等に起因するトラブルの発生
のおそれがなく、記録媒体用基板として十分な信頼性を
有する記録媒体用ガラス基板を得ることを可能にしたも
のである。
に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成する記
録媒体用ガラス基板の製造方法において、予めクラック
に起因する破壊を抑制し得る前記引張応力層の引張応力
の最大値を、化学強化の際の基準設計値として求め、引
張応力層の最大引張応力が前記基準設計値以下になるよ
うに前記圧縮応力層と引張応力層とを化学強化によって
形成することを特徴とするもので、これにより、長期間
の使用によってもクラック等に起因するトラブルの発生
のおそれがなく、記録媒体用基板として十分な信頼性を
有する記録媒体用ガラス基板を得ることを可能にしたも
のである。
【図１】本発明の実施の形態にかかる製造方法で製造し
た磁気記録媒体を示す部分断面図である。
た磁気記録媒体を示す部分断面図である。
【図２】本発明の実施の形態にかかる製造方法で製造し
たガラス基板の応力分布を示す図である。
たガラス基板の応力分布を示す図である。
【図３】ガラス基板クラックの大きさによる付加した引
張応力に対する破壊時間を示す図である。
張応力に対する破壊時間を示す図である。
１…磁気記録媒体（記録媒体）、１１…強化されたガラ
ス基板、１３…磁性層（記録層）。
ス基板、１３…磁性層（記録層）。
Claims (7)
- 【請求項１】 表面側から厚さ方向に内部に向かって順
次圧縮応力層及び引張応力層を形成する記録媒体用ガラ
ス基板の製造方法において、 予めクラックに起因する破壊を抑制し得る前記引張応力
層の引張応力の最大値を、化学強化の際の基準設計値と
して求め、引張応力層の最大引張応力が前記基準設計値
以下になるように前記圧縮応力層と引張応力層とを化学
強化によって形成することを特徴とする記録媒体用ガラ
ス基板の製造方法。 - 【請求項２】 前記基準設計値は、前記引張応力層に記
録媒体用基板として使用可能な範囲の小さなクラックが
存在する状態において記録媒体用基板としての使用をし
た場合に該ガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板
として使用できない状態になるにいたるまでの時間が記
録媒体用基板として必要とされる耐用時間以上になる場
合の引張応力値であることを特徴とする請求項１に記載
の記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 【請求項３】 前記設定する基準設計値が４Ｋｇ／ｍｍ
2 以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の
記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 【請求項４】 前記圧縮応力層の厚さを５０μｍ以上と
したことを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記
載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 【請求項５】 前記ガラス基板をその組成中に少なくと
もＳｉＯ2 、Ｎａ2Ｏ及びＬｉＯ2 を含むガラス材料で
構成したことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか
に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 【請求項６】 前記ガラス材料のＮａ2 Ｏの含有量が１
０重量％以上であり、かつ、ＬｉＯ2 の含有量が５重量
％以上であることを特徴とする請求項５に記載の記録媒
体用ガラス基板の製造方法。 - 【請求項７】 表面側から厚さ方向に内部に向かって順
次圧縮応力層及び引張応力層を形成した記録媒体用ガラ
ス基板を、化学強化法で製造する記録媒体用ガラス基板
の製造方法において、 前記引張応力層に記録媒体として使用可能な程度の小さ
いクラックを形成させた状態において記録媒体用基板と
しての使用試験を行い、前記引張応力層の引張応力の最
大値を変化させてそれぞれの場合においてガラス基板の
前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態
になるにいたるまでの時間を求め、その求めた時間が記
録媒体用基板として必要とされる耐用時間を満たす範囲
になる場合の前記引張応力の最大値を求め、前記記録媒
体用基板に形成される引張応力層の引張応力の最大値が
この求めた値の範囲内になるように化学強化を施すこと
を特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5522897A JP2724137B2 (ja) | 1997-03-10 | 1997-03-10 | 記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5522897A JP2724137B2 (ja) | 1997-03-10 | 1997-03-10 | 記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63182465A Division JP2657967B2 (ja) | 1988-07-20 | 1988-07-20 | 記録媒体用ガラス基板及び記録媒体並びにそれらの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09249432A JPH09249432A (ja) | 1997-09-22 |
| JP2724137B2 true JP2724137B2 (ja) | 1998-03-09 |
Family
ID=12992759
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5522897A Expired - Lifetime JP2724137B2 (ja) | 1997-03-10 | 1997-03-10 | 記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2724137B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4326825B2 (ja) * | 2002-03-27 | 2009-09-09 | Ｈｏｙａ株式会社 | 化学強化ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
| EP3286152B1 (en) | 2015-04-21 | 2023-05-10 | Corning Incorporated | Edge and corner-strengthened articles and methods for making same |
-
1997
- 1997-03-10 JP JP5522897A patent/JP2724137B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09249432A (ja) | 1997-09-22 |
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